JPH01100145A - アクリル酸エステル誘導体 - Google Patents
アクリル酸エステル誘導体Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光学材料に適した耐熱性、低吸水性、低複屈折
性を有する透明な重合体を提供する新規なアクリル酸エ
ステル系誘導体に関するものである。
性を有する透明な重合体を提供する新規なアクリル酸エ
ステル系誘導体に関するものである。
[従来の技術]
従来、光学材料に適した透明性の熱可塑性樹脂として、
ポリメチルメタクリレ−) (PMMA)樹脂、ポリス
チレン樹脂などが知られ、汎用用途に用いられてきた。
ポリメチルメタクリレ−) (PMMA)樹脂、ポリス
チレン樹脂などが知られ、汎用用途に用いられてきた。
また、さらに耐熱性を高めた透明樹脂としてポリカーボ
ネー)(PC)樹脂が知られている。近年においては、
本来の透明性に加え、低複屈折性などの光学的性質や低
吸水性、耐熱性など、従来の透明性樹脂では満足できな
い高度の機能が要求されつつある。
ネー)(PC)樹脂が知られている。近年においては、
本来の透明性に加え、低複屈折性などの光学的性質や低
吸水性、耐熱性など、従来の透明性樹脂では満足できな
い高度の機能が要求されつつある。
例えば、PMMA系樹脂の吸水性を低減するためにメチ
ルメタクリレート(MMA)に嵩高い炭化水素基を有し
たメタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル
などの単量体を共重合させる方法などが知られている。
ルメタクリレート(MMA)に嵩高い炭化水素基を有し
たメタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル
などの単量体を共重合させる方法などが知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
上述の光学材料用樹脂は、特に光ディスクの基板材料と
して要求される低複屈折性、低吸湿性、機械的強度のす
べてを満足するものではない。
して要求される低複屈折性、低吸湿性、機械的強度のす
べてを満足するものではない。
例えば、複屈折性が大きいポリスチレン樹脂やポリカー
ボネート樹脂は、レーザー光による情報再生時にエラー
が多くなり、また吸湿性の大きいポリメチルメタクリレ
ート樹脂は、吸湿によって変形が生ずるために情報再生
時にエラーが多くなると共に、吸湿による記録膜の変質
が生ずるおそれが大きい。またポリシクロへキシルメタ
クリレート樹脂は、吸湿性の点はともかくとしても、ガ
ラス転移点が低いため耐熱性が劣るという問題点があり
、シクロへキシルメタクリレートとメチルメタクリレー
トとの共重合体は耐熱性が十分でなく、一方シクロへキ
シルメタクリレートとスチレンとの共重合体は、複屈折
性が増大して光学的性質が劣ったものとなる。
ボネート樹脂は、レーザー光による情報再生時にエラー
が多くなり、また吸湿性の大きいポリメチルメタクリレ
ート樹脂は、吸湿によって変形が生ずるために情報再生
時にエラーが多くなると共に、吸湿による記録膜の変質
が生ずるおそれが大きい。またポリシクロへキシルメタ
クリレート樹脂は、吸湿性の点はともかくとしても、ガ
ラス転移点が低いため耐熱性が劣るという問題点があり
、シクロへキシルメタクリレートとメチルメタクリレー
トとの共重合体は耐熱性が十分でなく、一方シクロへキ
シルメタクリレートとスチレンとの共重合体は、複屈折
性が増大して光学的性質が劣ったものとなる。
以上のように、従来、十分な光学的性質、低吸湿性およ
び耐熱性を有する光学材料用樹脂として好適なものは殆
ど得られていないのが現状である。
び耐熱性を有する光学材料用樹脂として好適なものは殆
ど得られていないのが現状である。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、優れた光学的性質、低吸湿性および耐熱性を
有する光学材料として有用な重合体の原料となる新規な
アクリル系単量体とその製造法を提供するものである。
有する光学材料として有用な重合体の原料となる新規な
アクリル系単量体とその製造法を提供するものである。
すなわち、本発明は下記一般式(I)で表わされるアク
リル酸エステル誘導体である。
リル酸エステル誘導体である。
一般式(I)
(式中、Rは水素原子またはメチル基、R1、R2は水
素原子またはアルキル基、nは0〜2の整数1.XはC
N、COOR3または0COR4、R3、R4は炭素数
1〜10の炭化水素基を表わす。) 本発明に係る上記一般式(I)で表わされる化合物の具
体例としては、XがCNであるものとして、5−または
6−ジアツビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メ
タ)アクリレート、8−またデシル−4−(メタ)アク
リレート、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体
を挙げることができる。
素原子またはアルキル基、nは0〜2の整数1.XはC
N、COOR3または0COR4、R3、R4は炭素数
1〜10の炭化水素基を表わす。) 本発明に係る上記一般式(I)で表わされる化合物の具
体例としては、XがCNであるものとして、5−または
6−ジアツビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メ
タ)アクリレート、8−またデシル−4−(メタ)アク
リレート、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体
を挙げることができる。
また、XがCOOR3の化合物としては5−または6−
カルボキシメチルビシクロ(2,2,1)へブチル−2
−(メタ)アクリレート、5−または6−カルボキシエ
チルビシクロて2,2.l)へブチル−2−(メタ)ア
クリレート、5−または6−カルボキシプロピルビシク
ロ[2,2,13へブチル−2−(メタ)アクリレート
、5−または6−カルボキシシクロペンチルビシクロ〔
2゜2.1〕へブチル−2−(メタ)アクリレート、5
−または6−カルボキシシクロへキシルビシクロ(2,
2,1)へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−ま
たは6−カルボキシメチルシクロへキシルビシクロ[2
,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−
または6−カルボキシノルボニルビシクロ(2,2,1
)へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−または6
−カルボキシメンチルビシクロ(2,2,1)へブチル
−2−(メタ)アクリレート、5−または6−カルボキ
シボルニルビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メ
タ)アクリレート、5−または6−カルボキシイソボル
ニルビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メタ)ア
クリレート、5−または6−カルボキシアダマンチルビ
シクロ(2,2゜1〕へブチル−2−(メタ)アクリレ
ート、5−または6−カルボキシトリシクロ(5,2,
1゜02°6〕デシルビシクロ(2,2,1)へブチル
−2−(メタ)アクリレート、8−または9−カルボキ
シメチルテトラシクロ(4,4,0,12゜5.17°
10〕 ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8−
または9−カルボキシエチルテトラシフ2.5 7.
10 口(4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)
アクリレート、8−または9−カルボキシプロピルテト
ラシクロ[4,4,0,1”5゜17°10〕 ドデ
シル−3−(メタ)アクリレート、8−または9−カル
ボキシブチルテトラシクロ2.5 7.10 [4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)ア
クリレート、8−またはり−力ルボキシペンチルテトラ
シクロ[4,4,0,12”。
カルボキシメチルビシクロ(2,2,1)へブチル−2
−(メタ)アクリレート、5−または6−カルボキシエ
チルビシクロて2,2.l)へブチル−2−(メタ)ア
クリレート、5−または6−カルボキシプロピルビシク
ロ[2,2,13へブチル−2−(メタ)アクリレート
、5−または6−カルボキシシクロペンチルビシクロ〔
2゜2.1〕へブチル−2−(メタ)アクリレート、5
−または6−カルボキシシクロへキシルビシクロ(2,
2,1)へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−ま
たは6−カルボキシメチルシクロへキシルビシクロ[2
,2,1]へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−
または6−カルボキシノルボニルビシクロ(2,2,1
)へブチル−2−(メタ)アクリレート、5−または6
−カルボキシメンチルビシクロ(2,2,1)へブチル
−2−(メタ)アクリレート、5−または6−カルボキ
シボルニルビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メ
タ)アクリレート、5−または6−カルボキシイソボル
ニルビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(メタ)ア
クリレート、5−または6−カルボキシアダマンチルビ
シクロ(2,2゜1〕へブチル−2−(メタ)アクリレ
ート、5−または6−カルボキシトリシクロ(5,2,
1゜02°6〕デシルビシクロ(2,2,1)へブチル
−2−(メタ)アクリレート、8−または9−カルボキ
シメチルテトラシクロ(4,4,0,12゜5.17°
10〕 ドデシル−3−(メタ)アクリレート、8−
または9−カルボキシエチルテトラシフ2.5 7.
10 口(4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)
アクリレート、8−または9−カルボキシプロピルテト
ラシクロ[4,4,0,1”5゜17°10〕 ドデ
シル−3−(メタ)アクリレート、8−または9−カル
ボキシブチルテトラシクロ2.5 7.10 [4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)ア
クリレート、8−またはり−力ルボキシペンチルテトラ
シクロ[4,4,0,12”。
17°10〕 ドデシル−3−(メタ)アクリレート
、8−または9−カルボキシヘキシルテトラシクロ2.
5 7.10 [4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)ア
クリレート、11−または12−カルボキシメチルへキ
サシクロC6,6,1,1”’。
、8−または9−カルボキシヘキシルテトラシクロ2.
5 7.10 [4,4,0,1,1) ドデシル−3−(メタ)ア
クリレート、11−または12−カルボキシメチルへキ
サシクロC6,6,1,1”’。
10.13 2,7 、09,14) 、、プタデ、
ルー4−1.0 (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
エチルへキサシクロ[6,6,1,1”°6゜10.1
3 2,7 、09,14) 、、プタデえ/L=−
4−1.0 (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
エチルへキサシクロ[6,6,1,1”6゜10.13
2.7 9.141.0.03ヘプタデシル
−4− (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
プロピルへキサシクロ(6,6,1,13’6 1
0.13 2,7 9.14.1,0.03
ヘプタデシル− 4−(メタ)アクリレート、11−または12−カルボ
キシブチルへキサシクロ(6,6,1,13,810,
132,79,14 ,1,0,03ヘプタデシル −4−(メタ)アクリレート、11−または12−カル
ボキシペンチルヘキサシクロ[6,6,1゜3.6
10,13 2.7 9.141.1,0,0:]
ヘプタデシ ル−4−(メタ)アクリレート、11−または12−カ
ルボキシヘキシルへキサシクロ(6,6゜3.6 1
0,13 2,7 9.141.1 .1
、O、O)ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート
、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体を挙げる
ことができる。
ルー4−1.0 (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
エチルへキサシクロ[6,6,1,1”°6゜10.1
3 2,7 、09,14) 、、プタデえ/L=−
4−1.0 (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
エチルへキサシクロ[6,6,1,1”6゜10.13
2.7 9.141.0.03ヘプタデシル
−4− (メタ)アクリレート、11−または12−カルボキシ
プロピルへキサシクロ(6,6,1,13’6 1
0.13 2,7 9.14.1,0.03
ヘプタデシル− 4−(メタ)アクリレート、11−または12−カルボ
キシブチルへキサシクロ(6,6,1,13,810,
132,79,14 ,1,0,03ヘプタデシル −4−(メタ)アクリレート、11−または12−カル
ボキシペンチルヘキサシクロ[6,6,1゜3.6
10,13 2.7 9.141.1,0,0:]
ヘプタデシ ル−4−(メタ)アクリレート、11−または12−カ
ルボキシヘキシルへキサシクロ(6,6゜3.6 1
0,13 2,7 9.141.1 .1
、O、O)ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート
、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体を挙げる
ことができる。
また、Xが一〇〇OR4の化合物としては、5−(また
は6−)ホルミルオキシビシクロ〔2゜2.1〕へブチ
ル−2−(メタ)アクリレート、5−(または6−)ア
セトキシビシクロビシクロ(2,2,13へブチル−2
−(メタ)アクリレ−)、5− (または6−)プロピ
オニルオキシビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(
メタ)アクリレート、8−(または9−)ホルミルオキ
シ2.5 7.10 テトラシクロ(4,4,0,1,1] ]ドデシルー3
−メタ)アクリレート、8−(または9−)アセトキシ
テトラシクロ(4,4,0゜2.5 7.10 1 .1 〕 〕ドデシルー3−メタ)アクリレート
、8−(または9−)プロピオニルオキシ2.5 7
.10 テトラシクロ[4,4,0,1,1)ドデシル−3−(
メタ)アクリレート、11−(または12−)ホルミル
オキシヘキサシクロ〔6゜3.8 10,13 2
,7 9,146.1.1 .1 .0 、O)
ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート、11−(ま
たは12−)アセトキシヘキサシクロ〔6゜3.6
10,13 2.7 9,146.1,1 .1
.0 .0 3ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレ
ート、11−(または12二)プロピオニルオキシへキ
サシフ3.6 10,13 2.7 0I”6.6.1.1 .1 .0 .09.14)
ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレートおよび、これ
らのメチル置換体、エチル置換体を挙げることができる
。
は6−)ホルミルオキシビシクロ〔2゜2.1〕へブチ
ル−2−(メタ)アクリレート、5−(または6−)ア
セトキシビシクロビシクロ(2,2,13へブチル−2
−(メタ)アクリレ−)、5− (または6−)プロピ
オニルオキシビシクロ(2,2,1)へブチル−2−(
メタ)アクリレート、8−(または9−)ホルミルオキ
シ2.5 7.10 テトラシクロ(4,4,0,1,1] ]ドデシルー3
−メタ)アクリレート、8−(または9−)アセトキシ
テトラシクロ(4,4,0゜2.5 7.10 1 .1 〕 〕ドデシルー3−メタ)アクリレート
、8−(または9−)プロピオニルオキシ2.5 7
.10 テトラシクロ[4,4,0,1,1)ドデシル−3−(
メタ)アクリレート、11−(または12−)ホルミル
オキシヘキサシクロ〔6゜3.8 10,13 2
,7 9,146.1.1 .1 .0 、O)
ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレート、11−(ま
たは12−)アセトキシヘキサシクロ〔6゜3.6
10,13 2.7 9,146.1,1 .1
.0 .0 3ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレ
ート、11−(または12二)プロピオニルオキシへキ
サシフ3.6 10,13 2.7 0I”6.6.1.1 .1 .0 .09.14)
ヘプタデシル−4−(メタ)アクリレートおよび、これ
らのメチル置換体、エチル置換体を挙げることができる
。
本発明のアクリル酸エステル誘導体は、XがCNの場合
は(メタ)アクリロニトリルを用い、XがCOOR3の
場合は(メタ)アクリル酸エステルを用い、またXが0
COR4の場合はカルボン酸ビニルエステルを用い、こ
れらの少なくとも1種と(アルキル置換)シクロペンタ
ジェンまたは(アルキル置換)ジシクロペンタジェンの
分解物とのディールス・アルダ−反応により付加物を得
、環内二重結合を酸触媒により(メタ)アクリル酸を直
接付加させて製造することができる。また、別法として
(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステ
ル、もしくはカルボン酸ビニルエステルと(アルキル置
換)シクロペンタジェンまたは(アルキル置換)ジシク
ロペンタジェンの分解物とのディールス・アルダ−反応
により付加物を得、環内二重結合を (1)エポキシ化し、還元 に)ハイドロボレーション、酸化的加水分解(3)ギ酸
または酢酸などの低級有機カルボン酸を付加後、加水分
解 (4)酢酸第二水銀の付加後、還元(オキシマーキュレ
ーション舎デマーキュレーション反応)などの反応によ
ってアルコールとすることができる。
は(メタ)アクリロニトリルを用い、XがCOOR3の
場合は(メタ)アクリル酸エステルを用い、またXが0
COR4の場合はカルボン酸ビニルエステルを用い、こ
れらの少なくとも1種と(アルキル置換)シクロペンタ
ジェンまたは(アルキル置換)ジシクロペンタジェンの
分解物とのディールス・アルダ−反応により付加物を得
、環内二重結合を酸触媒により(メタ)アクリル酸を直
接付加させて製造することができる。また、別法として
(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステ
ル、もしくはカルボン酸ビニルエステルと(アルキル置
換)シクロペンタジェンまたは(アルキル置換)ジシク
ロペンタジェンの分解物とのディールス・アルダ−反応
により付加物を得、環内二重結合を (1)エポキシ化し、還元 に)ハイドロボレーション、酸化的加水分解(3)ギ酸
または酢酸などの低級有機カルボン酸を付加後、加水分
解 (4)酢酸第二水銀の付加後、還元(オキシマーキュレ
ーション舎デマーキュレーション反応)などの反応によ
ってアルコールとすることができる。
得られたアルコールを(メタ)アクリル酸と触媒存在下
でエステル化反応、または上記の(3)の反応で得られ
たエステル化物と(メタ)アクリル酸メチルなどの低級
アルキルエステル化物とエステル交換反応によっても製
造することができる。
でエステル化反応、または上記の(3)の反応で得られ
たエステル化物と(メタ)アクリル酸メチルなどの低級
アルキルエステル化物とエステル交換反応によっても製
造することができる。
以上の反応のうち、(3)を経由する反応が選択性、収
率などの観点から好ましい。本反応で使用される低級有
機カルボン酸としては炭素数1〜5の有機カルボン酸を
挙げることができる。なかでもギ酸、酢酸などの低級カ
ルボン酸が好ましく、ギ酸が反応性の点から特に好まし
い。また、用いられる酸触媒としてはブレンステッド酸
、ルイス酸を挙げることができる。なかでもスルホン酸
が反応収率、反応速度、選択性の点で優れた触媒である
。
率などの観点から好ましい。本反応で使用される低級有
機カルボン酸としては炭素数1〜5の有機カルボン酸を
挙げることができる。なかでもギ酸、酢酸などの低級カ
ルボン酸が好ましく、ギ酸が反応性の点から特に好まし
い。また、用いられる酸触媒としてはブレンステッド酸
、ルイス酸を挙げることができる。なかでもスルホン酸
が反応収率、反応速度、選択性の点で優れた触媒である
。
具体的にはベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸を挙げることができる。これらのう
ち、特にトリフルオロメタンスルホン酸が反応収率、選
択性の点で好ましい。
酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸を挙げることができる。これらのう
ち、特にトリフルオロメタンスルホン酸が反応収率、選
択性の点で好ましい。
また上記反応のうち、Xが−COOR3の場合には、(
メタ)アクリル酸エステルと(アルキル置換)シクロペ
ンタジェンと、またはその二重体とのディールス・アル
ダ−反応付加物の環内二重結合に酸触媒の存在下、(メ
タ)アクリル酸を直接付加させるのが反応ステップが短
く、経済的に有利となるので好ましい。本反応に用いる
酸触媒としてブレンステッド酸、ルイス酸を挙げること
ができる。このうちルイス酸が反応の選択性、収率の点
から好ましい。
メタ)アクリル酸エステルと(アルキル置換)シクロペ
ンタジェンと、またはその二重体とのディールス・アル
ダ−反応付加物の環内二重結合に酸触媒の存在下、(メ
タ)アクリル酸を直接付加させるのが反応ステップが短
く、経済的に有利となるので好ましい。本反応に用いる
酸触媒としてブレンステッド酸、ルイス酸を挙げること
ができる。このうちルイス酸が反応の選択性、収率の点
から好ましい。
このルイス酸としては、具体的にはアルミニウム、鉄、
タンタル、ジルコニウム、亜鉛、スズ、チタニウム、ベ
リリウム、ホウ素、アンチモン、ガリウム、ビスマス、
モリブデンなどのハロゲン化物で代表されるルイス酸を
挙げることができる。
タンタル、ジルコニウム、亜鉛、スズ、チタニウム、ベ
リリウム、ホウ素、アンチモン、ガリウム、ビスマス、
モリブデンなどのハロゲン化物で代表されるルイス酸を
挙げることができる。
これらのうち、三弗化ホウ素または三弗化ホウ素のジエ
チルエーテル、メタノール、n−ブタノール、フェノー
ルなどの錯体が好ましい。
チルエーテル、メタノール、n−ブタノール、フェノー
ルなどの錯体が好ましい。
本発明のアクリル酸エステル系誘導体は、単独で、もし
くはそれと(メタ)アクリル酸やそのエステルなど他の
不飽和化合物との共重合体とすることができ、その(共
)重合体は透明性および均質な光学的性質を要求される
ような光学材料、例えば、一般カメラ用レンズ、ビデオ
カメラ用レンズ、望遠鏡用レンズ、レーザービーム用レ
ンズなどのレンズ、光学式ビデオディスク、オーディオ
ディスク、文書ファイルディスク、メモリーディスクな
どの用途に最適である。
くはそれと(メタ)アクリル酸やそのエステルなど他の
不飽和化合物との共重合体とすることができ、その(共
)重合体は透明性および均質な光学的性質を要求される
ような光学材料、例えば、一般カメラ用レンズ、ビデオ
カメラ用レンズ、望遠鏡用レンズ、レーザービーム用レ
ンズなどのレンズ、光学式ビデオディスク、オーディオ
ディスク、文書ファイルディスク、メモリーディスクな
どの用途に最適である。
また、照明部品、自動車部品、電気機器部品などの透明
性や耐熱性を要求される用途にも適している。
性や耐熱性を要求される用途にも適している。
[実 施 例]
以下、本発明の実施例について述べるが、本発明がこれ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
実施例1
ギ酸320g、)リフルオロメタンスルホン酸23.9
Kをフラスコに入れ、10℃以下で5−シアノビシクロ
(2,2,1)2−ヘプテン185.6gを滴下した。
Kをフラスコに入れ、10℃以下で5−シアノビシクロ
(2,2,1)2−ヘプテン185.6gを滴下した。
100℃で4時間反応後、反応溶液をトルエン抽出を行
なった。油層を水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄後、減圧蒸留により、無色透明の液体5−または6−
シアノビシクロ(2,2,1)へブチル−2−ホルター
)105gを得た。
なった。油層を水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄後、減圧蒸留により、無色透明の液体5−または6−
シアノビシクロ(2,2,1)へブチル−2−ホルター
)105gを得た。
該化合物の沸点は80〜94℃10. 2++uaHg
であった。
であった。
(1)で得られた5−または6−シアノビシクロ(2,
2,1)へブチル−2−ホルメート129g1テトラヒ
ドロフラン185−の混合物に155gの水酸化ナトリ
ウムを370dの水に溶解した水溶液を加え、70℃で
1時間加熱後、後処理を行ない、減圧蒸留により、無色
透明の液体5−または6−シアノビシクロ[2,2,1
32−ヘプタツール93gを得た。
2,1)へブチル−2−ホルメート129g1テトラヒ
ドロフラン185−の混合物に155gの水酸化ナトリ
ウムを370dの水に溶解した水溶液を加え、70℃で
1時間加熱後、後処理を行ない、減圧蒸留により、無色
透明の液体5−または6−シアノビシクロ[2,2,1
32−ヘプタツール93gを得た。
該化合物の沸点は103〜106℃10.4mmHgで
あった。
あった。
(2)で得られた5−または6−シアノビシクロ(2,
2,1)2−ヘプタツール20g1メタクリル酸61g
5p−トルエンスルホン酸2.8.。
2,1)2−ヘプタツール20g1メタクリル酸61g
5p−トルエンスルホン酸2.8.。
トルエン110gを加え、ニスデル化によって生成する
水をトルエンとの共沸によって蒸留した。
水をトルエンとの共沸によって蒸留した。
反応後を後処理し、減圧蒸留により、無色透明の液体5
−または6−シアノビシクロ[2,2,1]へブチル−
2−メタクリレート18gを得た。
−または6−シアノビシクロ[2,2,1]へブチル−
2−メタクリレート18gを得た。
該化合物の沸点は111〜112℃10.45mmHg
であった。
であった。
また、IRスペクトル(第1図)は1720cm’にメ
タクリルエステル基のCC−0伸縮振動、2240cm
′″1にニトリル基の−C=N伸縮振動が観測された。
タクリルエステル基のCC−0伸縮振動、2240cm
′″1にニトリル基の−C=N伸縮振動が観測された。
NMRスペクトル(第2図)はビニル水素が5.51〜
5.64ppm 、 6.01〜6゜20ppmにそれ
ぞれIHずつ、ノルボルネン環の2位の水素4.58〜
4.76ppa+にIH,メタグリル基のメチル基の水
素が1.89〜1.941)l)fflに3Hの吸収を
示していた。ノルボルネン環のシアノ基の置換した炭素
上の水素は2.43〜2.60ppmに吸収を示し、そ
の他のノルボルネン環上の水素は1〜2.3ppmにブ
ロードな吸収を示した。
5.64ppm 、 6.01〜6゜20ppmにそれ
ぞれIHずつ、ノルボルネン環の2位の水素4.58〜
4.76ppa+にIH,メタグリル基のメチル基の水
素が1.89〜1.941)l)fflに3Hの吸収を
示していた。ノルボルネン環のシアノ基の置換した炭素
上の水素は2.43〜2.60ppmに吸収を示し、そ
の他のノルボルネン環上の水素は1〜2.3ppmにブ
ロードな吸収を示した。
以上のスペクトル結果より、得られた化合物の構造は以
下のように帰属された。
下のように帰属された。
実施例2
5−カルボキシメチルビシクロ(2,2,1)ヘプト−
2−エン83.7g、メタクリル酸56゜8g、三弗化
ホウ素ジ・n〜ブチルエーテル錯体10.9gおよび二
塩化エチレン150dを混合し、3時間還流しながら反
応させた。反応後、水および5%炭酸水素ナトリウムで
洗浄し、油層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し
、減圧蒸留によって、5−または6−カルボキシメチル
ビシクロ(2,2,1)へブチル−2−メタアクリレー
ト60gを得た。
2−エン83.7g、メタクリル酸56゜8g、三弗化
ホウ素ジ・n〜ブチルエーテル錯体10.9gおよび二
塩化エチレン150dを混合し、3時間還流しながら反
応させた。反応後、水および5%炭酸水素ナトリウムで
洗浄し、油層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し
、減圧蒸留によって、5−または6−カルボキシメチル
ビシクロ(2,2,1)へブチル−2−メタアクリレー
ト60gを得た。
得られた化合物は無色液体で沸点97〜107℃10.
3mmHgであった。該化合物のIRスペクトル(第
3図)は1740cm−’および1720cm−1にそ
れぞれメチキシカルボニル基とメタクリルエステル基の
〉C=0伸縮振動に基づく吸収が観測された。また、N
MRスペクトル(第4図)はビニル水素が5.95.5
.45ppmにそれぞれIHずつ、ノルボルネン環の2
位の水素が4.6pI)ffiにIH,メタクリル基の
メチル基の水素が1゜95ppa+に3Hの吸収を示し
ていた。ノルボルネン環のメトキシカルボニル基の置換
した炭素上の水素は2. 5ppmに吸収を示し、同置
換基のメチル基の水素は3.6ppm、その他のノルボ
ルネン環上の水素は1〜2 ppa+にブロードな吸収
を示した。
3mmHgであった。該化合物のIRスペクトル(第
3図)は1740cm−’および1720cm−1にそ
れぞれメチキシカルボニル基とメタクリルエステル基の
〉C=0伸縮振動に基づく吸収が観測された。また、N
MRスペクトル(第4図)はビニル水素が5.95.5
.45ppmにそれぞれIHずつ、ノルボルネン環の2
位の水素が4.6pI)ffiにIH,メタクリル基の
メチル基の水素が1゜95ppa+に3Hの吸収を示し
ていた。ノルボルネン環のメトキシカルボニル基の置換
した炭素上の水素は2. 5ppmに吸収を示し、同置
換基のメチル基の水素は3.6ppm、その他のノルボ
ルネン環上の水素は1〜2 ppa+にブロードな吸収
を示した。
以上のスペクトル結果より、得られた化合物の構造は次
のように帰属された。
のように帰属された。
応用例1
5−または6−カルボキシメチルジクロ〔2゜2.1〕
〜へブチル−2−メタアクリレート・・・90重量部 メチルアクリレート ・・・10重量部アゾ
ビスイソブチロニトリル・・・0.02重量部トルエン
・・・100重全部を窒素雰囲気
下において、還流冷却器および攪拌機を備えたセパラブ
ルフラスコに入れ、攪拌しながら80℃で8時間反応さ
せた。得られた共重合体を凝固させ、乾燥して回収した
。この共重合体中の化合物Iの含有量は95重量%であ
った。またポリスチレン換算分子量は約35,000で
あった。
〜へブチル−2−メタアクリレート・・・90重量部 メチルアクリレート ・・・10重量部アゾ
ビスイソブチロニトリル・・・0.02重量部トルエン
・・・100重全部を窒素雰囲気
下において、還流冷却器および攪拌機を備えたセパラブ
ルフラスコに入れ、攪拌しながら80℃で8時間反応さ
せた。得られた共重合体を凝固させ、乾燥して回収した
。この共重合体中の化合物Iの含有量は95重量%であ
った。またポリスチレン換算分子量は約35,000で
あった。
この共重合体により、0.1オンス射出成形機を用いて
試験用試料を調製した。物性を表−1に示す。
試験用試料を調製した。物性を表−1に示す。
応用例2
5−(または6−)シアノビシクロ(2,2゜1〕−へ
ブチル−2−メタアクリレート90重量部、メチルアク
リレート10重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.
02重世部、トルエン100重合部を実施例1と同様に
重合し、重合体を得た。この重合体中の化合物■成分の
含有世は94重合%であった。また重合体のポリスチレ
ン換算分子量は78,000であった。
ブチル−2−メタアクリレート90重量部、メチルアク
リレート10重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.
02重世部、トルエン100重合部を実施例1と同様に
重合し、重合体を得た。この重合体中の化合物■成分の
含有世は94重合%であった。また重合体のポリスチレ
ン換算分子量は78,000であった。
実施例1と同様にして測定した物性値を表−1に示す。
以下余白
第1図および第2図は、実施例1で得られた化合物の赤
外線吸収スペクトル(第1図)およびNMRスペクトル
(第2図)を示し、第3図および第4図は、実施例2で
得られた化合物の赤外線吸収スペクトル(第3図)およ
びNMRスペクトル(第4図)を示す。
外線吸収スペクトル(第1図)およびNMRスペクトル
(第2図)を示し、第3図および第4図は、実施例2で
得られた化合物の赤外線吸収スペクトル(第3図)およ
びNMRスペクトル(第4図)を示す。
Claims (2)
- (1)下記一般式( I )で表わされるアクリル酸エス
テル誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素原子またはメチル基、R_1、R_2
は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、nは0
〜2の整数、Xは−CN、−COOR_3または−OC
OR_4、但しR_3、R_4は炭素数1〜10の炭化
水素基を表わす。) - (2)Rがメチル基、R_1、R_2が水素原子、R_
3がメチル基、nが0または1である特許請求の範囲第
(1)項記載のアクリル酸エステル誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25771987A JPH01100145A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | アクリル酸エステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25771987A JPH01100145A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | アクリル酸エステル誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01100145A true JPH01100145A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17310152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25771987A Pending JPH01100145A (ja) | 1987-10-13 | 1987-10-13 | アクリル酸エステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01100145A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6559337B2 (en) * | 1997-04-16 | 2003-05-06 | Nec Corporation | (Meth)acrylate, polymer, photoresist composition, and pattern forming process making use of the composition |
JP2005263757A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
JP2006151924A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
JP2007045787A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Central Glass Co Ltd | α−置換アクリル酸ノルボルナニル類及びその製造方法、並びにそれを用いた共重合体 |
JP2008162946A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
US7575846B2 (en) | 2003-01-31 | 2009-08-18 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Resist polymer and resist composition |
-
1987
- 1987-10-13 JP JP25771987A patent/JPH01100145A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6559337B2 (en) * | 1997-04-16 | 2003-05-06 | Nec Corporation | (Meth)acrylate, polymer, photoresist composition, and pattern forming process making use of the composition |
US7575846B2 (en) | 2003-01-31 | 2009-08-18 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Resist polymer and resist composition |
JP2005263757A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
JP2006151924A (ja) * | 2004-12-01 | 2006-06-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
JP2007045787A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Central Glass Co Ltd | α−置換アクリル酸ノルボルナニル類及びその製造方法、並びにそれを用いた共重合体 |
JP2008162946A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
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