JPH02273656A - 置換不飽和二反応性二環式イミド及びその用途 - Google Patents
置換不飽和二反応性二環式イミド及びその用途Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アリル基又はメタリル基で及びまたアクリロ
イルオキシ、メタクリロイルオキシ又はシンナモイル基
で置換されたビシクロ[2゜2.1〕ヘプテ−5−エン
−2,3−ジカルボキシイミドに、それらの製造方法に
、加熱により又は光重合によりそれから得られるポリマ
ーに、そしてフォトレジストとして又はプレプレグ製造
のためのマトリックス樹脂としての上記イミドの用途に
関する。
イルオキシ、メタクリロイルオキシ又はシンナモイル基
で置換されたビシクロ[2゜2.1〕ヘプテ−5−エン
−2,3−ジカルボキシイミドに、それらの製造方法に
、加熱により又は光重合によりそれから得られるポリマ
ーに、そしてフォトレジストとして又はプレプレグ製造
のためのマトリックス樹脂としての上記イミドの用途に
関する。
米国特許第4,515,962号及び米国特許第4.7
42,166号明細書には、アリル−置換又はメタリル
−置換ビシクロ[2,2,1]へ7’f−5−エン−2
,3−ジカルボキシイミド及び加熱によシそれから得ら
れるポリマーが記載されている。
42,166号明細書には、アリル−置換又はメタリル
−置換ビシクロ[2,2,1]へ7’f−5−エン−2
,3−ジカルボキシイミド及び加熱によシそれから得ら
れるポリマーが記載されている。
米国特許第4.72aj42号明細書には、ヒドロキシ
ル基を含有するアリル−置換又はメタリル−1ll換に
’シクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3
−ジカルボキシイミド及び、適当であれば他のコモノマ
ーの存在下で加熱することによシそれから得られるポリ
マーが記載されている。
ル基を含有するアリル−置換又はメタリル−1ll換に
’シクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3
−ジカルボキシイミド及び、適当であれば他のコモノマ
ーの存在下で加熱することによシそれから得られるポリ
マーが記載されている。
米国特許第4.709.047号明細書にはスルホニル
基を含有するアリル−置換又はメタリル−置換ビシクロ
[2,2,1コ ヘプテ−5−エン−2゜3−ジカルボ
キシイミド及びそのカチオンN ’=性モノマーの熱架
橋用触媒としての用途が記載されている。
基を含有するアリル−置換又はメタリル−置換ビシクロ
[2,2,1コ ヘプテ−5−エン−2゜3−ジカルボ
キシイミド及びそのカチオンN ’=性モノマーの熱架
橋用触媒としての用途が記載されている。
米国特許第4,44(L850号明細書には、同分子中
にアクリロイル又はメタクリロイル基と、置換又は非置
換ビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2−イ
ル又は7−オキサビシクロ[2゜2.1コヘプテー5−
エン−2−イル基の両方を含有する化合物を7オトレジ
ストとして用いる画像形成方法が記載されている。これ
らはビシクロへブテンモノカルボン酸のエステル、ビシ
クロへブチ/ジカルボン酸のモノエステルもしくはジエ
ステル及び後者の酸のイミドであシ得る。ビシクロへブ
テニル基は非置換であっても、また置換分として1ない
し4個のメチル基又はアリル基を含有していてもよい。
にアクリロイル又はメタクリロイル基と、置換又は非置
換ビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2−イ
ル又は7−オキサビシクロ[2゜2.1コヘプテー5−
エン−2−イル基の両方を含有する化合物を7オトレジ
ストとして用いる画像形成方法が記載されている。これ
らはビシクロへブテンモノカルボン酸のエステル、ビシ
クロへブチ/ジカルボン酸のモノエステルもしくはジエ
ステル及び後者の酸のイミドであシ得る。ビシクロへブ
テニル基は非置換であっても、また置換分として1ない
し4個のメチル基又はアリル基を含有していてもよい。
アリル−置換ビシクロ[2,2,1] ヘプf −5−
エン−2,3−ジカルボキシイミドは米国特許第4,4
40,850号明細書に特に開示されてはいない。米国
特許第4,440,850号による製法に用いられてい
る化合物は、化学線の作用により単独に重合する。これ
ら化合物の熱による重合はそこには述べられていない。
エン−2,3−ジカルボキシイミドは米国特許第4,4
40,850号明細書に特に開示されてはいない。米国
特許第4,440,850号による製法に用いられてい
る化合物は、化学線の作用により単独に重合する。これ
ら化合物の熱による重合はそこには述べられていない。
本発明は、次式
〔式中、
R1、R8及びR4は互に独立して水素原子又はメチル
基を表わし、 R3は直接納会を表わすか、0原子で中断されていても
よい炭素原子数2ないし2oの脂肪族基又は単核もしく
は多核の炭素原子数5ないし20の環式脂肪族もしくは
炭素原子数6ないし20の芳香族基を表わすか、或は次
式■(式中、Tはメチレン基、イングロビリデン基、C
O,OlS又はSO,を表わす) で表わされる基を表わし、そして R8は水素原子又はフェニル基を表わす〕で表わされる
イミドに関する。
基を表わし、 R3は直接納会を表わすか、0原子で中断されていても
よい炭素原子数2ないし2oの脂肪族基又は単核もしく
は多核の炭素原子数5ないし20の環式脂肪族もしくは
炭素原子数6ないし20の芳香族基を表わすか、或は次
式■(式中、Tはメチレン基、イングロビリデン基、C
O,OlS又はSO,を表わす) で表わされる基を表わし、そして R8は水素原子又はフェニル基を表わす〕で表わされる
イミドに関する。
驚ろくべきことに、非常に反応性の二重結合の蓄積にも
かかわらず、本発明の化合物は蒸留により純粋な状態で
製造され得るし、また早期ゲル化無しに加工され得る。
かかわらず、本発明の化合物は蒸留により純粋な状態で
製造され得るし、また早期ゲル化無しに加工され得る。
本発明のイミドは化学線の作用によるか熱によるかのど
ちらかにょシ重合させることのできる二反応性モノマー
(bireactive monomers )である
、そうして得られた架橋ポリマーは、特に高いガラス転
移温度及び高い耐熱性で特徴、づけられる。従って本発
明はまた式■で表わされるイミドを180ないし300
℃の温度で6ないし60時間加熱することにより得られ
るポリマーに及び式Iで表わされるイミドを適当であれ
ば光開始剤の存在下で化学線に曝すことにより得られる
ポリマーに関する。
ちらかにょシ重合させることのできる二反応性モノマー
(bireactive monomers )である
、そうして得られた架橋ポリマーは、特に高いガラス転
移温度及び高い耐熱性で特徴、づけられる。従って本発
明はまた式■で表わされるイミドを180ないし300
℃の温度で6ないし60時間加熱することにより得られ
るポリマーに及び式Iで表わされるイミドを適当であれ
ば光開始剤の存在下で化学線に曝すことにより得られる
ポリマーに関する。
本発明の式■で表わされる好ましいイミドは、R1及び
R,が各々水素原子を表わすものである。
R,が各々水素原子を表わすものである。
不飽和カルボン酸7、好ましくは桂皮酸、メタクリル酸
又は特にアクリル酸に由来する。それ故、式!で表わさ
れる好ましいイミドはs R4が水素原子を表わし、そ
してR,がフェニル基を表わすイミド、或はR,が水素
原子を表わし、セしてR4がメチル基又は好ましくは水
素原子を表わすイミドである。
又は特にアクリル酸に由来する。それ故、式!で表わさ
れる好ましいイミドはs R4が水素原子を表わし、そ
してR,がフェニル基を表わすイミド、或はR,が水素
原子を表わし、セしてR4がメチル基又は好ましくは水
素原子を表わすイミドである。
R,は、1個又はそれ以上の酸素原子で鎖が中断されて
いてもよい二価の線状又は枝分れ状の炭素原子数2ない
し20の、好ましくは2ないし10の、特には2ないし
6の脂肪族基を表わす、適当な脂肪族基Rsの例は、エ
チレン、1,2−フロピレン、1.5−フロピレン、メ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘブチレイ
、オクチシン、デシシン、ドデシシン、ヘキサメチレン
又はネオペンチシン基である。酸素原子で中断された脂
肪族基は例えばエチレングリコールから又は1,2−プ
ロピレングリコ−1,しくは1.3−プロピレングリコ
ールから誘導されてよく、また次式−CH,CH,÷0
CHzCHz桶。
いてもよい二価の線状又は枝分れ状の炭素原子数2ない
し20の、好ましくは2ないし10の、特には2ないし
6の脂肪族基を表わす、適当な脂肪族基Rsの例は、エ
チレン、1,2−フロピレン、1.5−フロピレン、メ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘブチレイ
、オクチシン、デシシン、ドデシシン、ヘキサメチレン
又はネオペンチシン基である。酸素原子で中断された脂
肪族基は例えばエチレングリコールから又は1,2−プ
ロピレングリコ−1,しくは1.3−プロピレングリコ
ールから誘導されてよく、また次式−CH,CH,÷0
CHzCHz桶。
CHs CHs (m = 1
〜8 )で表わされる基に該当し得る。
〜8 )で表わされる基に該当し得る。
R3がエチレングリコールから誘導される場合、mは1
〜8、特に1〜4が適当である。R1がプロピレングリ
コールから誘導される場合smd例えば1〜5、特には
1〜3である。
〜8、特に1〜4が適当である。R1がプロピレングリ
コールから誘導される場合smd例えば1〜5、特には
1〜3である。
R3はまた単核又は多核の炭素原子数5ないし20の環
式脂肪族二価基、例えばシクロペンチシン、シクロヘキ
シレン、シクロヘキシレン、シクロヘキシレン、ビス(
シクロヘキシレン)メタン、2.2−ビス(シクロヘキ
シレン)プロパン及びデカリニシン基である。シクロヘ
キシ” ” 基、トリb ケ’e ’−シクロヘキシレ
y基が特に好ましい。
式脂肪族二価基、例えばシクロペンチシン、シクロヘキ
シレン、シクロヘキシレン、シクロヘキシレン、ビス(
シクロヘキシレン)メタン、2.2−ビス(シクロヘキ
シレン)プロパン及びデカリニシン基である。シクロヘ
キシ” ” 基、トリb ケ’e ’−シクロヘキシレ
y基が特に好ましい。
R,が芳香族基である場合、それらは1.3−7エニレ
ン、1,4−フェニレン又ハナフチシン基テあるのが好
ましく、各々所望により1個又はそれ以上の炭素原子数
1ないし4のアルキル基、例えばメチル、エチル又はプ
ロピル基で置換されていてよい、#基は非置換であるの
が好ましい。1.3−フェニレン及0=1.a−フェニ
レン基が芳香族基として特に好ましい。
ン、1,4−フェニレン又ハナフチシン基テあるのが好
ましく、各々所望により1個又はそれ以上の炭素原子数
1ないし4のアルキル基、例えばメチル、エチル又はプ
ロピル基で置換されていてよい、#基は非置換であるの
が好ましい。1.3−フェニレン及0=1.a−フェニ
レン基が芳香族基として特に好ましい。
R3が式■で表わされる基である場合、Tは0、SO8
、メチレン又はインプロピリデン基であるのが好ましい
。
、メチレン又はインプロピリデン基であるのが好ましい
。
特に好ましい式Iのイミドは、R3が直接結合、炭素原
子数21にいし10の脂肪族基、又は基CH,CH3 (式中、mは1又は2t−表わす)、炭素原子数5ない
し6の環式脂肪族基、炭素原子数6ないし10の芳香族
基又は式■(式中、Tはメチレン又はインプロピリデン
基を表わす)で表わされる基を表わすものである。
子数21にいし10の脂肪族基、又は基CH,CH3 (式中、mは1又は2t−表わす)、炭素原子数5ない
し6の環式脂肪族基、炭素原子数6ないし10の芳香族
基又は式■(式中、Tはメチレン又はインプロピリデン
基を表わす)で表わされる基を表わすものである。
非常に好ましい式夏のイミドは、R3が直接結CH。
合、−CH鵞CH,−、−C)1クーC−CH,−、−
CH,CH,OCR,C)I2−CH。
CH,CH,OCR,C)I2−CH。
1.3−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキシレン
、1.5−7エニレン511.4−7エニレン基を表わ
すものである。
、1.5−7エニレン511.4−7エニレン基を表わ
すものである。
最も好ましい式1のイミドは、R1、R,及びR3が各
々水素原子を表わし、R,が直接結合又は基−CH2−
CIh−を表わし、セしてR4が水素原子又はメチル基
を表わすイミドであり、特にはR,%R2、R4及びR
6が各々水素原子を表わし、セしてR3が基−CI(、
CH,−を表わすイミドである。
々水素原子を表わし、R,が直接結合又は基−CH2−
CIh−を表わし、セしてR4が水素原子又はメチル基
を表わすイミドであり、特にはR,%R2、R4及びR
6が各々水素原子を表わし、セしてR3が基−CI(、
CH,−を表わすイミドである。
本発明のイミドは、それ自体公知の方法で、例えばヒド
ロキシル基を含有スる次式mR,CCR4=CHR,(
IV) で表わされる化合物(各式中、R重、R2、R3、R4
及びR6は上記の意味を表わし、そして島はOH。
ロキシル基を含有スる次式mR,CCR4=CHR,(
IV) で表わされる化合物(各式中、R重、R2、R3、R4
及びR6は上記の意味を表わし、そして島はOH。
水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
わす)を°反応させることにより製造することができる
。
わす)を°反応させることにより製造することができる
。
弐■の化合物及びその製造方法は米国特許第a、y2B
a2号明細書に記載されている1式■の化合物は公知で
あり、また市販されている。R6がハロゲンである場合
、対応する酸ブロマイド及び特にクロライドが好ましい
。R6がアルコキシ基OR,である場合、メチルエステ
ルが好ましい。
a2号明細書に記載されている1式■の化合物は公知で
あり、また市販されている。R6がハロゲンである場合
、対応する酸ブロマイド及び特にクロライドが好ましい
。R6がアルコキシ基OR,である場合、メチルエステ
ルが好ましい。
アルコール又はフェノールト、エステル形成用酸誘導体
例えば式■で表わされる化合物とのエステル化のための
好適な反応条件は当業者に知られている。もし式■で表
わされるカルボン酸又はカルボン酸工°ステルが弐mの
化合物のエステル化に用いられる場合、適当であれば溶
媒との共沸混合物の形で、反応中に生じる水又はアルコ
ールを反応中に留去しなから反応混合物を還流下で加熱
するのが好ましい。
例えば式■で表わされる化合物とのエステル化のための
好適な反応条件は当業者に知られている。もし式■で表
わされるカルボン酸又はカルボン酸工°ステルが弐mの
化合物のエステル化に用いられる場合、適当であれば溶
媒との共沸混合物の形で、反応中に生じる水又はアルコ
ールを反応中に留去しなから反応混合物を還流下で加熱
するのが好ましい。
もしヒドロキシル基を含有する弐■のイミドのエステル
化が式■の酸ハライドで行なわれる場合、その反応は、
冷却しながら酸受容体の存在下例えば第三アミン例えば
トリエチルアミン、ピリジン又はN、N−ジメチルアニ
リンの存在下で行なうのが好ましい、後者の式■のイミ
ドと式■の酸ハライド特に酸りaライドとの反応は、本
発明化合物の製造方法として好ましい。
化が式■の酸ハライドで行なわれる場合、その反応は、
冷却しながら酸受容体の存在下例えば第三アミン例えば
トリエチルアミン、ピリジン又はN、N−ジメチルアニ
リンの存在下で行なうのが好ましい、後者の式■のイミ
ドと式■の酸ハライド特に酸りaライドとの反応は、本
発明化合物の製造方法として好ましい。
本発明の化合物は、高い反応性によりまたそれらの低粘
性ゆえの容易加工性により特徴づけられる液体又は低融
点固体物質であり、それは重合して高いガラス転移温度
を有する固体製品となる。そのポリマーは非常に高い耐
熱性を有しており、また非常に低い収縮又は高温度での
低い重量損失を示す。
性ゆえの容易加工性により特徴づけられる液体又は低融
点固体物質であり、それは重合して高いガラス転移温度
を有する固体製品となる。そのポリマーは非常に高い耐
熱性を有しており、また非常に低い収縮又は高温度での
低い重量損失を示す。
二つの異なる反応性基、オレフィン性二重結合及びアク
リロイル、メタクリロイル又はシンナモイル基のおかげ
で、本発明のイミドは様々なタイプのポリマーの製造の
ための遊離体(educt ) 又は中間体として使
用され得る。それらの低い粘性のために、本発明のイミ
ドはまた重合性溶媒として又は不飽和イミド樹脂用反応
性シンナーとして使用するのにも適している。
リロイル、メタクリロイル又はシンナモイル基のおかげ
で、本発明のイミドは様々なタイプのポリマーの製造の
ための遊離体(educt ) 又は中間体として使
用され得る。それらの低い粘性のために、本発明のイミ
ドはまた重合性溶媒として又は不飽和イミド樹脂用反応
性シンナーとして使用するのにも適している。
式lのイミドに、不活性で安定な物質例えば充填剤、顔
料、染料及びその他の添加剤を、上記イミドが架橋構造
体に重合される前に加えることは、勿論可能である。
料、染料及びその他の添加剤を、上記イミドが架橋構造
体に重合される前に加えることは、勿論可能である。
本発明の化合物は他の処理なしに使用され重合されても
、或はそれらは初めに有機溶媒例えバドルエン、キシレ
ン、メチルエチルケトン、アルキル基中に1ないし4個
の炭素原子を有するエチレンダリコールモノアルキル及
びジアルキルエーテル、又は同様な慣用溶媒中に溶解さ
れてもよい、そのような溶液は含浸剤として又はコーテ
ィング剤として又は需要者への発送手段として用いるこ
とができる。
、或はそれらは初めに有機溶媒例えバドルエン、キシレ
ン、メチルエチルケトン、アルキル基中に1ないし4個
の炭素原子を有するエチレンダリコールモノアルキル及
びジアルキルエーテル、又は同様な慣用溶媒中に溶解さ
れてもよい、そのような溶液は含浸剤として又はコーテ
ィング剤として又は需要者への発送手段として用いるこ
とができる。
適当であれば、本発明のイミドはまた他の共重合性化合
物の存在下でも重合させることができる。他の不飽和イ
ミド、特に米国特許第4.515,962号及び米国特
許第4.742.166号明細書記載の置換不飽和二環
式イミドがこの目的のために特に適している。他の適当
な共重合性化合物は二個又はそれ以上のアクリロイル又
はメタクリロイル基を含有する化合物、例えば生成物が
もはや実質的にエポキシド基を含まないほど、化学量論
的量のアクリル酸又はメタクリル識でいわゆるアドバン
スト(advanced )化されうるエポキシ樹脂の
反応生成物である。このタイプの生成物は例えばダウ
ケミカル カンパニー (DOW Chemical
Company )によりデラケン(Derakane
■)という商品名で売られている。
物の存在下でも重合させることができる。他の不飽和イ
ミド、特に米国特許第4.515,962号及び米国特
許第4.742.166号明細書記載の置換不飽和二環
式イミドがこの目的のために特に適している。他の適当
な共重合性化合物は二個又はそれ以上のアクリロイル又
はメタクリロイル基を含有する化合物、例えば生成物が
もはや実質的にエポキシド基を含まないほど、化学量論
的量のアクリル酸又はメタクリル識でいわゆるアドバン
スト(advanced )化されうるエポキシ樹脂の
反応生成物である。このタイプの生成物は例えばダウ
ケミカル カンパニー (DOW Chemical
Company )によりデラケン(Derakane
■)という商品名で売られている。
適当であれば本発明のイミドに又はこれらイミドを含む
混合物に硬化剤を加えることもできる。熱硬化に特に適
する触媒は、米国特許第4゜709、047号明細書に
記載されているスルホニルオキシ基を含有するアリル−
置換又はメタリル−置換不飽和二環式イミド、特にアリ
ルビシクロ[2,2,1コ ヘプテ−5−エン−2,3
−ジカルボン酸N−ベンゼンスルホニルオキシイミドで
ある。熱架橋のための他の適当な触媒の例は、ベンゾイ
ルパーオキサイド、第三ブチルパーベンゾエート、クメ
ンヒドロパーオキサイド、ジ第三ブチルパーオキサイド
、ビスー第三ブチルパーオキシブタン、メチルエチルケ
トンヒドロパーオキサイド及びジクミルパーオキサイド
である。使用できる触媒の濃度は、式1のイミドと混合
物中に存在していてよい他の不飽和イミドの総重量に対
して、約α1ないし1&0、好ましくは(L25ないし
!LO1そして特に好ましくはα5ないし2.0重量%
である。
混合物に硬化剤を加えることもできる。熱硬化に特に適
する触媒は、米国特許第4゜709、047号明細書に
記載されているスルホニルオキシ基を含有するアリル−
置換又はメタリル−置換不飽和二環式イミド、特にアリ
ルビシクロ[2,2,1コ ヘプテ−5−エン−2,3
−ジカルボン酸N−ベンゼンスルホニルオキシイミドで
ある。熱架橋のための他の適当な触媒の例は、ベンゾイ
ルパーオキサイド、第三ブチルパーベンゾエート、クメ
ンヒドロパーオキサイド、ジ第三ブチルパーオキサイド
、ビスー第三ブチルパーオキシブタン、メチルエチルケ
トンヒドロパーオキサイド及びジクミルパーオキサイド
である。使用できる触媒の濃度は、式1のイミドと混合
物中に存在していてよい他の不飽和イミドの総重量に対
して、約α1ないし1&0、好ましくは(L25ないし
!LO1そして特に好ましくはα5ないし2.0重量%
である。
本発明のイミドの光化学重合における触媒として、適当
な光開始剤を用いるのが好ましい。
な光開始剤を用いるのが好ましい。
適当な光開始剤の例は、α−ハロゲン置換アセトフェノ
ン例えばトリクロロメチル−4′−第三ブチルフェニル
ケトン、α−ヒドロキシ−α−アルキル置換アセトフェ
ノンflLtば2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、ベンゾイン及びそれらのアルキルエ
ーテル(例えばn−ブチルエーテル)、α−メチルペン
ツイン又はα、α−ジアルコキシーα−ペンソイル酢酸
のアルキルエステル、ベンゾフェノン例えばベンゾフェ
ノン自身及び4.4′−ビス−(ジメチルアミノ)−ベ
ンゾフェノン、ベンジル(benzil )のオキシム
の又i1−フェニルプロパン−1,2−ジオンの0−ア
ルコキシカルボニル訪導体例えばベンジル−(0−エト
キシカルボニル)α−モノオキシム及び1−7エールプ
ロパン−1,2−ジオン−2−(〇−エトキシカルボニ
ル)オキシム、ベンジルケタール例えばそのジメチルケ
タール、置換チオキサントン例えば2−クロロチオキサ
ントン、アンスラキノン、フェニルグリオキサル酸のエ
ステル、2−ベンゾイル−2−フェニル−1,3−ジオ
キソラン及び4−ベンゾイル−4−フェニル−1,3−
ジオキソラン、及びまたフェノチアジン染料(例えばメ
チレンブルー)又はキノキサリン〔例え’Id 2−(
m−又はp−メトキシフェニル)−キノキサリン−6′
−又は−7′−スルホン酸の金属塩〕と電子供与体例え
ばベンゼンスルフィン酸又は他のスルフィン酸又はそれ
らの塩例えばナトリウム塩との混仕物からなる光酸化還
元系(photoredox systems ) 、
或はアルシン、ホスフィン又はチオ尿素でアル。
ン例えばトリクロロメチル−4′−第三ブチルフェニル
ケトン、α−ヒドロキシ−α−アルキル置換アセトフェ
ノンflLtば2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、ベンゾイン及びそれらのアルキルエ
ーテル(例えばn−ブチルエーテル)、α−メチルペン
ツイン又はα、α−ジアルコキシーα−ペンソイル酢酸
のアルキルエステル、ベンゾフェノン例えばベンゾフェ
ノン自身及び4.4′−ビス−(ジメチルアミノ)−ベ
ンゾフェノン、ベンジル(benzil )のオキシム
の又i1−フェニルプロパン−1,2−ジオンの0−ア
ルコキシカルボニル訪導体例えばベンジル−(0−エト
キシカルボニル)α−モノオキシム及び1−7エールプ
ロパン−1,2−ジオン−2−(〇−エトキシカルボニ
ル)オキシム、ベンジルケタール例えばそのジメチルケ
タール、置換チオキサントン例えば2−クロロチオキサ
ントン、アンスラキノン、フェニルグリオキサル酸のエ
ステル、2−ベンゾイル−2−フェニル−1,3−ジオ
キソラン及び4−ベンゾイル−4−フェニル−1,3−
ジオキソラン、及びまたフェノチアジン染料(例えばメ
チレンブルー)又はキノキサリン〔例え’Id 2−(
m−又はp−メトキシフェニル)−キノキサリン−6′
−又は−7′−スルホン酸の金属塩〕と電子供与体例え
ばベンゼンスルフィン酸又は他のスルフィン酸又はそれ
らの塩例えばナトリウム塩との混仕物からなる光酸化還
元系(photoredox systems ) 、
或はアルシン、ホスフィン又はチオ尿素でアル。
α−アミノアセトフェノン誘導体、例えば2−メチル−
1−[a−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリ
ノプロパン−j −;に74,4た適当な光開始剤であ
る。このタイプの化合物は例えば米国特許第4.31a
791号、米国特許第4、582.862号及び米国特
許第4.739.052号明細書に記載されている。好
ましい光開始剤はベンジルジメチルケタール、1−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン及び2−メチル−
・1−[4−(メチル+、t)−フェニル]−2−モル
ホリノプロパン−1−オンである。−船釣に、本発明の
イミドと、適当であれば混合物中に存在していてよい他
のアクリロイル又はメタクリロイル基含有化合物の総重
量に対して約α15ないし10重量%、好ましくは約2
.5ないし5重量%の光開始剤が加えられる。
1−[a−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリ
ノプロパン−j −;に74,4た適当な光開始剤であ
る。このタイプの化合物は例えば米国特許第4.31a
791号、米国特許第4、582.862号及び米国特
許第4.739.052号明細書に記載されている。好
ましい光開始剤はベンジルジメチルケタール、1−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン及び2−メチル−
・1−[4−(メチル+、t)−フェニル]−2−モル
ホリノプロパン−1−オンである。−船釣に、本発明の
イミドと、適当であれば混合物中に存在していてよい他
のアクリロイル又はメタクリロイル基含有化合物の総重
量に対して約α15ないし10重量%、好ましくは約2
.5ないし5重量%の光開始剤が加えられる。
本発明のイミドの高い反応性により、またそれらが二反
応性モノマーであるという事実からして、これら化合物
は数多くの応用において、例えばラミネート用又は電気
用樹脂として、高温接着剤として又は塗料もしくは成形
品、プレプレグ及び複合材の製造のために使用するのに
適している。このことについては、多くの応用につき、
初めに液体の化せ物又Fi混合物を化学線照射の作用に
より固化させ、次いでそれらを反応させて架橋ポリマー
にするのが有利であり得る。
応性モノマーであるという事実からして、これら化合物
は数多くの応用において、例えばラミネート用又は電気
用樹脂として、高温接着剤として又は塗料もしくは成形
品、プレプレグ及び複合材の製造のために使用するのに
適している。このことについては、多くの応用につき、
初めに液体の化せ物又Fi混合物を化学線照射の作用に
より固化させ、次いでそれらを反応させて架橋ポリマー
にするのが有利であり得る。
本発明のイミドの好ましい応用分野は、それらのフォト
レジストとしての使用である。
レジストとしての使用である。
それゆえ本発明は画像形成方法にも関し、それは担体に
適用した式■のアミドを含有する層を化学線に、予め決
められたパターンで像状に霧光させて核層の露光領域を
光重合させ、次いで溶媒中で層の非露光領域を溶解する
ことにより現像することからなる。
適用した式■のアミドを含有する層を化学線に、予め決
められたパターンで像状に霧光させて核層の露光領域を
光重合させ、次いで溶媒中で層の非露光領域を溶解する
ことにより現像することからなる。
所望により、現像後の形成された画像に、例えば10口
ないし200℃で1ないし5時間加熱することにより、
連続した熱処理を施すこともできる。この方法に゛より
400℃以上の温度でのみ重量損失が始まる耐熱性写真
平板(photol 1tho −graphs )が
得られる。式lの液体イミド又はそれを含む液体組成物
は慣用方法、例えば噴霧塗布法、遠心回転塗布法、ロー
ル塗布法、カスケード塗布法及び特にカーテン塗布法に
より適当な担体に適用することができる。典型的なケー
スでは、担体は層が1ないし250μm1好ましくは1
0ないし30μmの厚さとなるように塗布される。担体
は、例えば銅、アルミニウム、他の金属、紙、甘酸樹脂
又はガラスからなるものであってよい。
ないし200℃で1ないし5時間加熱することにより、
連続した熱処理を施すこともできる。この方法に゛より
400℃以上の温度でのみ重量損失が始まる耐熱性写真
平板(photol 1tho −graphs )が
得られる。式lの液体イミド又はそれを含む液体組成物
は慣用方法、例えば噴霧塗布法、遠心回転塗布法、ロー
ル塗布法、カスケード塗布法及び特にカーテン塗布法に
より適当な担体に適用することができる。典型的なケー
スでは、担体は層が1ないし250μm1好ましくは1
0ないし30μmの厚さとなるように塗布される。担体
は、例えば銅、アルミニウム、他の金属、紙、甘酸樹脂
又はガラスからなるものであってよい。
本発明プロセスの光重合段階において、波長200〜6
00 nmの化学線を用いるのが好ましい。
00 nmの化学線を用いるのが好ましい。
適当な化学線源は、なかんづ〈炭素アーク灯、水銀蒸気
灯、紫外線を出す発光物質を含む螢光灯、アルゴン及び
キセノン白熱灯、タングステン灯、及び写真用投光照明
灯である。これら水銀蒸気灯の中で特に太陽灯、螢光太
陽灯及び金属ハライドランプが最も適している。式1の
イミド又はそれを含む組成物の露光に要する時間は、様
々な因子、なかんずく例えば用いられる個々の化合物、
光源の性質、及び照射層から光源までの距離に依存する
。適当な時間は、光重合法に精通している当業者により
容易に決定される。例えばイミド又はその組成物は光源
から10〜1003の距離で1ないし10分照射される
。
灯、紫外線を出す発光物質を含む螢光灯、アルゴン及び
キセノン白熱灯、タングステン灯、及び写真用投光照明
灯である。これら水銀蒸気灯の中で特に太陽灯、螢光太
陽灯及び金属ハライドランプが最も適している。式1の
イミド又はそれを含む組成物の露光に要する時間は、様
々な因子、なかんずく例えば用いられる個々の化合物、
光源の性質、及び照射層から光源までの距離に依存する
。適当な時間は、光重合法に精通している当業者により
容易に決定される。例えばイミド又はその組成物は光源
から10〜1003の距離で1ないし10分照射される
。
現像に適する溶媒は連続テストにより容易に見い出すこ
とができる:これらは特にはシクロヘキサノン、トリメ
チルシクロヘキサノン、エタノール、トルエン、2−エ
トキシエタノール、1.1.1−)リクロロエタン及び
それらの混合物である。溶媒の作用を攪拌又は緩やかな
ブラッシングにより補助することが必要であろう、もし
担体が重合した組成物に直接接触する適当な導電性金属
、通常鋼又は銀の層を有している場合、適当であれば非
架橋ポリマーを、金属が覆われないようにするために除
去できる。このようにして被覆されていない金属は、次
いでプリント回路を形成させるために、エツチング液、
例えば塩化第二鉄又はアンモニウム過硫酸溶液による非
露光領域でのエツチングにより除去され得る。
とができる:これらは特にはシクロヘキサノン、トリメ
チルシクロヘキサノン、エタノール、トルエン、2−エ
トキシエタノール、1.1.1−)リクロロエタン及び
それらの混合物である。溶媒の作用を攪拌又は緩やかな
ブラッシングにより補助することが必要であろう、もし
担体が重合した組成物に直接接触する適当な導電性金属
、通常鋼又は銀の層を有している場合、適当であれば非
架橋ポリマーを、金属が覆われないようにするために除
去できる。このようにして被覆されていない金属は、次
いでプリント回路を形成させるために、エツチング液、
例えば塩化第二鉄又はアンモニウム過硫酸溶液による非
露光領域でのエツチングにより除去され得る。
本発明のイミドにとっての他の好ましい応用分野は複合
材用マトリックス樹脂としての使用である。従って本発
明はプレプレグ製造のための式!のイミドの用途に及び
プレプレグの製造方法に関し、それは繊維状材料に式I
のイミド又は式lのイミドを含む混合物を含浸させ、次
いで含浸材料を化学線に照射して、イミド又はイミド含
有混合物を光重合により固化し、実質的に不粘着性とな
ってもまだ熱架橋性が残っているようにすることからな
る。
材用マトリックス樹脂としての使用である。従って本発
明はプレプレグ製造のための式!のイミドの用途に及び
プレプレグの製造方法に関し、それは繊維状材料に式I
のイミド又は式lのイミドを含む混合物を含浸させ、次
いで含浸材料を化学線に照射して、イミド又はイミド含
有混合物を光重合により固化し、実質的に不粘着性とな
ってもまだ熱架橋性が残っているようにすることからな
る。
適当な繊維材料の例は、ガラス繊維、炭素繊維又はアラ
ミド繊維織物、例えばケブラー(Kevlar’)とい
う商品名で知られているボIJ−(1,4−7エニレン
テトラフタラミド)からなる繊維織物である。
ミド繊維織物、例えばケブラー(Kevlar’)とい
う商品名で知られているボIJ−(1,4−7エニレン
テトラフタラミド)からなる繊維織物である。
以下、本発明の詳細な説明する。
製造実施例
アリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−
2,3−ジカルボン酸N−(2’−ヒドロキシエチル)
−イミドを米国特許筒4.72a742号明細書の実施
例2のようにして製造する。
2,3−ジカルボン酸N−(2’−ヒドロキシエチル)
−イミドを米国特許筒4.72a742号明細書の実施
例2のようにして製造する。
該化合物37α5f及びトリエチルアミン16&96r
’i)ルzン1200mA’Kg解し、その混合物乞5
℃に冷却する。激しく攪拌しつつ外部冷却しながら、こ
の溶液にアクリロイルクロライド135.759を、温
度が4ないし7℃に保たれるような速度で滴下して加え
る。次いで反応混合物を室温で一夜攪拌し、次の朝に脱
イオン水600ゴ金加え、I N −HClでpHを4
7に調整する。該溶液を水500−づつで2度洗浄し、
Na2SO4で乾燥し、そしてトルエンを50℃及び1
五3Paにてロータリーエバポレータで留去する。これ
によシ粗生成物4062が淡褐色油状物の形で得られ、
それは理論値の9五8チの収率に相当する。
’i)ルzン1200mA’Kg解し、その混合物乞5
℃に冷却する。激しく攪拌しつつ外部冷却しながら、こ
の溶液にアクリロイルクロライド135.759を、温
度が4ないし7℃に保たれるような速度で滴下して加え
る。次いで反応混合物を室温で一夜攪拌し、次の朝に脱
イオン水600ゴ金加え、I N −HClでpHを4
7に調整する。該溶液を水500−づつで2度洗浄し、
Na2SO4で乾燥し、そしてトルエンを50℃及び1
五3Paにてロータリーエバポレータで留去する。これ
によシ粗生成物4062が淡褐色油状物の形で得られ、
それは理論値の9五8チの収率に相当する。
蒸留による精製のための安定剤として該粗生成物にメチ
レンブルー15チを加える。27Paでの沸点=180
〜190℃、収量3a08f(理論値の845% )。
レンブルー15チを加える。27Paでの沸点=180
〜190℃、収量3a08f(理論値の845% )。
分析: 計算値 実測値
CITH19NO4として
チC: 67.76 67.49
%H: &36 &3B
チN: 4.65 4.76
nD= 1.5227
ηis = 650mpa−5
このモノマーの重合は、575.75J/f の熱遊
離(1iberation )を伴ないながら進行する
。
離(1iberation )を伴ないながら進行する
。
示差熱分析(Mettler Ta205 ) −r:
反応ノ極大ハ164℃で観察され、それはアクリル性重
合によるものと考えられ、そしてまた他の極大はアリル
ナト酸基(allylnadic group )に相
当する251及び295℃で観察された。250℃での
6時間の重合後、322℃のガラス転移温度を有する透
明で強靭な固体が得られる。
反応ノ極大ハ164℃で観察され、それはアクリル性重
合によるものと考えられ、そしてまた他の極大はアリル
ナト酸基(allylnadic group )に相
当する251及び295℃で観察された。250℃での
6時間の重合後、322℃のガラス転移温度を有する透
明で強靭な固体が得られる。
N −(2’−メタクリロイルオキシエチル)−イミド
メチル メタクリレート
ヒドロキノン
フェノチアジン
ナトリウム メチラート
50t
llL157?
[10829
1、02f
を、リング(d = 3 ym、鋼線)でパックした長
さ30cMのカラム下で加熱する。1,4038 の屈
折率を有しメタノール15チを含有する留出物が、10
2℃の内部温度にて得られる。メタノール50チ及びメ
チルメタクリレートsobからなる共沸混合物を110
℃で蒸留する( n!5−1.3768)。2時間の連
続的なエステル化の後に、別にNa0CHB tQ 2
fを、セして工5時間後に更にα3tを加える。全部
で54fの留出物が得られる。
さ30cMのカラム下で加熱する。1,4038 の屈
折率を有しメタノール15チを含有する留出物が、10
2℃の内部温度にて得られる。メタノール50チ及びメ
チルメタクリレートsobからなる共沸混合物を110
℃で蒸留する( n!5−1.3768)。2時間の連
続的なエステル化の後に、別にNa0CHB tQ 2
fを、セして工5時間後に更にα3tを加える。全部
で54fの留出物が得られる。
次いで混合物を冷却し、トルエン200dを加え、そし
てCL 25 N−NaOH200tと振盪させること
によシ抽出する。その混合物を水で2度洗浄し、Na1
SO4で乾燥し、そしてトルエンを60℃及び減圧下で
、最終的に15Paで、ロータリーエバポレータで除去
する。これにより次の元素組成: 計算値 実測値 C1□H,、N o、とじて %C: 6a55 6a55 チH: 471 &75 チN: 4.44 4.49を有する黄色油
状物12sr(理論値の79.3Ls)が得られる。
てCL 25 N−NaOH200tと振盪させること
によシ抽出する。その混合物を水で2度洗浄し、Na1
SO4で乾燥し、そしてトルエンを60℃及び減圧下で
、最終的に15Paで、ロータリーエバポレータで除去
する。これにより次の元素組成: 計算値 実測値 C1□H,、N o、とじて %C: 6a55 6a55 チH: 471 &75 チN: 4.44 4.49を有する黄色油
状物12sr(理論値の79.3Ls)が得られる。
その油状物を145〜146℃及び(L4Paで精留す
る。留出物の収率HysB%。
る。留出物の収率HysB%。
nD= 1.5211
ηIB =908 mP a ” ’S熱重合の過程に
おいて、122℃の反応極大で91168J/?、そし
て290℃の反応極大で304.58J/f熱遊離する
。250℃で6時間の硬化後、TQは295℃である。
おいて、122℃の反応極大で91168J/?、そし
て290℃の反応極大で304.58J/f熱遊離する
。250℃で6時間の硬化後、TQは295℃である。
分析:
俤 C:
チH:
4N:
計算値
C−らNO4として
7五19
&14
&71
実測値
72.68
五71
桂皮#R29,5r
50チ次亜燐酸水溶g α6
dキシVン異性体混合物 2
0s+jを沸騰させて加熱する。キシレン/水共沸混合
物を160〜165℃で8時間留去する。水を分離し、
キシレンを再循環させる。更に16時間後、混合物を炭
酸す) IJウム溶液及び水で洗浄し、Na1SO4で
乾燥し、次いでキシレンをロータリーエバポレータで留
去する。これにより、80℃で2.8Pa−sの粘度を
有する淡黄色樹脂7sy(=理論値の90チ)が残る。
dキシVン異性体混合物 2
0s+jを沸騰させて加熱する。キシレン/水共沸混合
物を160〜165℃で8時間留去する。水を分離し、
キシレンを再循環させる。更に16時間後、混合物を炭
酸す) IJウム溶液及び水で洗浄し、Na1SO4で
乾燥し、次いでキシレンをロータリーエバポレータで留
去する。これにより、80℃で2.8Pa−sの粘度を
有する淡黄色樹脂7sy(=理論値の90チ)が残る。
ヒドロキシルアミン塩酸塩6952を水に溶解し、そし
てアリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン
−2,3−ジカルボン酸無水物204tを加える。次い
で攪拌しながら50%水酸化ナトリウム水溶液80fi
滴下して加え、混合物を還流温度で1時間加熱し、次い
で全ての揮発成分を留去し、残渣をトルエンに溶かし、
溶解しない塩化ナトリウム1に:濾過により除き、そし
て溶媒ヲロータリーエバボレータで、150C及び20
00Paにて除く。
てアリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン
−2,3−ジカルボン酸無水物204tを加える。次い
で攪拌しながら50%水酸化ナトリウム水溶液80fi
滴下して加え、混合物を還流温度で1時間加熱し、次い
で全ての揮発成分を留去し、残渣をトルエンに溶かし、
溶解しない塩化ナトリウム1に:濾過により除き、そし
て溶媒ヲロータリーエバボレータで、150C及び20
00Paにて除く。
ンrRNごヒドロキシイミド 12.
9f及びトリエチルアミン
65.7?を) ルx 7 4
7 cLOffに溶解する。この溶液を4℃に冷却する
。激しく攪拌し外部を冷却しながら、アクリロイルクロ
ライド5五42を、温度が4ないし6℃に保たれるよう
な速度で滴下して加える。混合換金室温で一夜攪拌し、
次いで水200gJ’i加え、そしてIN−)(Ct6
0rによりpH金5.4の値に調整する。実施例1と同
様に後処理すると、次の元素組成及び分子量二 計算値 Cl6H15o、 Nとして S92 !i53 !5.16 M : Mw: を有する褐色油状物 が得られる。
9f及びトリエチルアミン
65.7?を) ルx 7 4
7 cLOffに溶解する。この溶液を4℃に冷却する
。激しく攪拌し外部を冷却しながら、アクリロイルクロ
ライド5五42を、温度が4ないし6℃に保たれるよう
な速度で滴下して加える。混合換金室温で一夜攪拌し、
次いで水200gJ’i加え、そしてIN−)(Ct6
0rによりpH金5.4の値に調整する。実施例1と同
様に後処理すると、次の元素組成及び分子量二 計算値 Cl6H15o、 Nとして S92 !i53 !5.16 M : Mw: を有する褐色油状物 が得られる。
少量のサンプルを
チH:
% C:
実測値
65.80
5.62
5.13
271 (GCP in THF)
14&7f(理論値の91チ)
%N :
12時間加熱すると、’r0
=340℃の架橋ポリマーが得られる。
ネオペンタノールアミン 25.79
Pを下向き凝縮器のもとて3時間、130〜150℃で
加熱する。この過程で4.5dの水を留去する。
Pを下向き凝縮器のもとて3時間、130〜150℃で
加熱する。この過程で4.5dの水を留去する。
次いでヒドロキシネオペンチルイミドを181〜185
℃713Paにて精留する。
℃713Paにて精留する。
上記の反応生成物 252及びトリエタ
ノールアミン 9.21 ?をトルエン
60?に溶解し、その混合物を
3℃に冷却する。
ノールアミン 9.21 ?をトルエン
60?に溶解し、その混合物を
3℃に冷却する。
アクリロイルクロライド 7.429を激
しく攪拌し外部を冷却しながら、温度が3ないし7℃に
保たれるような速度で滴下して加える。次いで温度を2
0℃まで上昇させ、混合物を一夜攪拌する。
しく攪拌し外部を冷却しながら、温度が3ないし7℃に
保たれるような速度で滴下して加える。次いで温度を2
0℃まで上昇させ、混合物を一夜攪拌する。
実施例1に記載されているように反応混合物を後処理し
、そして淡褐色油状物29. s y (定量的収率に
相当)を得る。メチレンブルー(12)チの存在下、1
67〜b まり下記元素組成及び性質を有する粘性液体11、35
1/ (理論値の34.2チ)が得・られる;計算値
実測値 C21H,NO,とじて チC: 7158 チ)(: 7.62 69、06 7.70 4.30 355 (GPC%THF) % I5− 二 A92 M:357 nD = 1.5081 η2B = 2−88P−s 重合熱(DTA): 反応極大: 420 J/f 182℃(アクリル基) 265℃)(アリルナト酸基) 315℃ 架橋ポリマーのガラス転移温度: 202℃。
、そして淡褐色油状物29. s y (定量的収率に
相当)を得る。メチレンブルー(12)チの存在下、1
67〜b まり下記元素組成及び性質を有する粘性液体11、35
1/ (理論値の34.2チ)が得・られる;計算値
実測値 C21H,NO,とじて チC: 7158 チ)(: 7.62 69、06 7.70 4.30 355 (GPC%THF) % I5− 二 A92 M:357 nD = 1.5081 η2B = 2−88P−s 重合熱(DTA): 反応極大: 420 J/f 182℃(アクリル基) 265℃)(アリルナト酸基) 315℃ 架橋ポリマーのガラス転移温度: 202℃。
N−(4’−アクリロイルオキシフェ
ニル)−イミド
トリエチルアミン 10&2fをトル
エン 4509に溶解する。激
しく攪拌し冷却しながら該溶液にアクリロイルクロライ
ド 90L5?f加える。混合物
を室温で一夜放置して反応を完了させ、水400−を加
え、I N −HClでpHを4.0に調整し、溶液を
デカンチーシコンし、40091づつの水で二度繰り返
し洗浄し、セしてNa1SO4で乾燥する。トルエン溶
液を蒸発させると結晶のモロミ(mash)が生成する
が、これを冷却し、吸引排水し、セしてヘプタンで洗浄
する。結晶を40℃で真空乾燥し、融点62〜65℃の
アクリレ−) 29F3.49 (理論値の85.5チ
)を得る。
エン 4509に溶解する。激
しく攪拌し冷却しながら該溶液にアクリロイルクロライ
ド 90L5?f加える。混合物
を室温で一夜放置して反応を完了させ、水400−を加
え、I N −HClでpHを4.0に調整し、溶液を
デカンチーシコンし、40091づつの水で二度繰り返
し洗浄し、セしてNa1SO4で乾燥する。トルエン溶
液を蒸発させると結晶のモロミ(mash)が生成する
が、これを冷却し、吸引排水し、セしてヘプタンで洗浄
する。結晶を40℃で真空乾燥し、融点62〜65℃の
アクリレ−) 29F3.49 (理論値の85.5チ
)を得る。
元素分析 計算値 実測値
C21H111NO4として
%C: 72.19 71.92チH:
5.48 5.55チN: 4.0
1 五88M : 549
354(GPC%T)1F)250℃で製造されたポリ
マーは262℃のガラス転移温度を有する。
5.48 5.55チN: 4.0
1 五88M : 549
354(GPC%T)1F)250℃で製造されたポリ
マーは262℃のガラス転移温度を有する。
全4.5時量線合させ、そして混合物を蒸留する(1.
6Paでの沸点196〜197℃)。生成物:対応ヒド
ロキシエトキシエチルイミド99.5J。
6Paでの沸点196〜197℃)。生成物:対応ヒド
ロキシエトキシエチルイミド99.5J。
トリエチルアミン 957yアクリロイ
ルクロライド 7.78 r及びトルエン
6[LOf/全実施例1に示されて
いる方法により反応させる。
ルクロライド 7.78 r及びトルエン
6[LOf/全実施例1に示されて
いる方法により反応させる。
176〜180℃及び35Paで精留すると、粗生成物
3α8?からアクリレート1Z022(理論値の514
%)が淡黄色油状物、 +725=440mPa−sの
形で得られる。
3α8?からアクリレート1Z022(理論値の514
%)が淡黄色油状物、 +725=440mPa−sの
形で得られる。
元素分析 計算値 実測値
CI9 H2S N o、とじて
チC: 6407 65.10csH:
&71 &89チN: 406
4.19Mn: 345 383(
GPC,THF)nzs= 1.
5189重合熱: 30&56J/S’反応極
大 195.4℃ 25部7℃ 303℃ 250℃で6時間の重合後のTQ:167℃アリルビシ
クロ[2,2,B ヘプテ−5−エン−2,3−ジカル
ボン酸N−(4′−ヒドロキシシクロヘキシル)−イミ
ド(米国特許第4.72a742号明細書の一般的な指
示に従い、アリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−
5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物と4−アミノシ
クロヘキサノールとを反応させることにより夷造)15
(L5り及びトリエチルアミン5S79にトルエ150
0vに溶解する。アクリロイルクロライド45.259
をゆっくりと滴下して加える。遊離体(educts
)の反応及び後処理は実施例1に記載されているように
行う。これにより透明な黄色粘性樹脂892(理論値の
512%)が得られる。
&71 &89チN: 406
4.19Mn: 345 383(
GPC,THF)nzs= 1.
5189重合熱: 30&56J/S’反応極
大 195.4℃ 25部7℃ 303℃ 250℃で6時間の重合後のTQ:167℃アリルビシ
クロ[2,2,B ヘプテ−5−エン−2,3−ジカル
ボン酸N−(4′−ヒドロキシシクロヘキシル)−イミ
ド(米国特許第4.72a742号明細書の一般的な指
示に従い、アリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−
5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物と4−アミノシ
クロヘキサノールとを反応させることにより夷造)15
(L5り及びトリエチルアミン5S79にトルエ150
0vに溶解する。アクリロイルクロライド45.259
をゆっくりと滴下して加える。遊離体(educts
)の反応及び後処理は実施例1に記載されているように
行う。これにより透明な黄色粘性樹脂892(理論値の
512%)が得られる。
分析二 計算値
C□H25NO4として
チC: 7α96
チH: 7.09
チN: 五94
η@61: : 908mPa−5使用実施例
実測値
7 1、 1 4
7、2 1
五65
アリルビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−
2,3−ジカルボン酸N −(2’−アクリロイルオキ
シエチル)−イミド(実施例1のようにしてm造)1g
とベンジル(benzil)ジメチルケタールα05部
の混合物金銅被覆ラミネート(copper−coat
ed laminate )に、層として12μmの厚
さで適用する。その層i 5 kW金属ノ・ライドラン
プにネガを通して2分間、75譚の距離から露光させる
。トンエン中での現像によりネガ画像が生じる。画像す
なわち硬化物質の窒素ガス下での示差熱分析は、重量損
失が395℃で始まることを示す。
2,3−ジカルボン酸N −(2’−アクリロイルオキ
シエチル)−イミド(実施例1のようにしてm造)1g
とベンジル(benzil)ジメチルケタールα05部
の混合物金銅被覆ラミネート(copper−coat
ed laminate )に、層として12μmの厚
さで適用する。その層i 5 kW金属ノ・ライドラン
プにネガを通して2分間、75譚の距離から露光させる
。トンエン中での現像によりネガ画像が生じる。画像す
なわち硬化物質の窒素ガス下での示差熱分析は、重量損
失が395℃で始まることを示す。
実施例A2:
画像が現像された後に、それを150℃で2時間加熱す
ること以外は実施例1の操作を繰り返す。窒素ガス下で
の画像の示差熱分析は、重量損失が415℃で始まるこ
とを示す。
ること以外は実施例1の操作を繰り返す。窒素ガス下で
の画像の示差熱分析は、重量損失が415℃で始まるこ
とを示す。
実施例A3:
実施例1の生成物1部、1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン[103部及びアリルビシクロ[2,2
,i] ヘプテ−5−エン−2,3−ジカルボン酸N
−ヘンゼンスルホニルオキシイミド(米国特許第4.7
09.047号明細書の実施例1のようにして製造)α
05部の混合物金銅被覆ラミネートに12μmの厚さの
層として適用する。該層15kW金属ノ・ライドランプ
に、ネガ全通して75画の距離から3時間露光させる。
フェニルケトン[103部及びアリルビシクロ[2,2
,i] ヘプテ−5−エン−2,3−ジカルボン酸N
−ヘンゼンスルホニルオキシイミド(米国特許第4.7
09.047号明細書の実施例1のようにして製造)α
05部の混合物金銅被覆ラミネートに12μmの厚さの
層として適用する。該層15kW金属ノ・ライドランプ
に、ネガ全通して75画の距離から3時間露光させる。
窒素ガス下での画像の示差熱分析は、重量損失が430
℃で始まることを示す。
℃で始まることを示す。
実施例A4:
実施例1の生成物1部、ビス−[4−(アリルビシクロ
[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2゜3−ジカル
ボキシイミドフェニル)コメタン(米国特許第4,51
5,962号明細書の実施例 11のようにして製造)
2部及び2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ルコー2−モルホリノグロバン−1−オン(103部の
混合物をジメチルホルムアミド2部に溶解する。その溶
液を、銅被覆ラミネートに12μmの厚さの層として適
用し、110℃で5分間乾燥するとその過程f不活iフ
ィルムが生成する。そのフィルムを5 kW金属ハライ
ドランプに、ネガを通して751の距離から2分間露光
させる。エタノール中で現像するとネガ画像が生じる。
[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2゜3−ジカル
ボキシイミドフェニル)コメタン(米国特許第4,51
5,962号明細書の実施例 11のようにして製造)
2部及び2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ルコー2−モルホリノグロバン−1−オン(103部の
混合物をジメチルホルムアミド2部に溶解する。その溶
液を、銅被覆ラミネートに12μmの厚さの層として適
用し、110℃で5分間乾燥するとその過程f不活iフ
ィルムが生成する。そのフィルムを5 kW金属ハライ
ドランプに、ネガを通して751の距離から2分間露光
させる。エタノール中で現像するとネガ画像が生じる。
現像した1儂を次いで150℃で2時間加熱する。窒素
ガス下での画像の示差熱分析は、重量損失が180℃(
10重tS以下:残留ジメチルホルムアミド溶媒の蒸発
)及び405℃で始まることを示す。
ガス下での画像の示差熱分析は、重量損失が180℃(
10重tS以下:残留ジメチルホルムアミド溶媒の蒸発
)及び405℃で始まることを示す。
実施例1の生成物1部、ビス−[4−アリルビシクロ[
2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3−ジカルボキ
シイミドフェニル)]−メタン(米国特許第4,515
,962号明細書の実施例11のようにして製造)2部
、2−メチル−1−口4−(メチルチオ)フェニル]−
2−モルホリノプロパン−1−オンα05部及びアリル
ビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3−
ジカルボン酸N−ベンゼンスルホニルオキシイミド(米
国特許第4.709.047号明細書の実施例1のよう
にして製造)115部の混合物をジメチルホルムアミド
2部に溶解する。この溶液のノーを銅被覆ラミネートに
12μmの厚さで適用し、110℃で5分間乾燥すると
、その過程で不粘着フィルムが形成される。そのフィル
ムを5 kW金属ハライドランプに、ネガ全通して75
cIRの距離から5分間露光させる。エタノール中での
現イ象でネガ画像が生じる。次いでそのネガ画像を15
0℃で2時間加熱する。窒素ガス下での画像の示差熱分
析は、重量損失が180℃(10重1=2以下;残留ジ
メチルホルムアミド溶媒の蒸発)及び405℃で始まる
ことを示す。
2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3−ジカルボキ
シイミドフェニル)]−メタン(米国特許第4,515
,962号明細書の実施例11のようにして製造)2部
、2−メチル−1−口4−(メチルチオ)フェニル]−
2−モルホリノプロパン−1−オンα05部及びアリル
ビシクロ[2,2,1] ヘプテ−5−エン−2,3−
ジカルボン酸N−ベンゼンスルホニルオキシイミド(米
国特許第4.709.047号明細書の実施例1のよう
にして製造)115部の混合物をジメチルホルムアミド
2部に溶解する。この溶液のノーを銅被覆ラミネートに
12μmの厚さで適用し、110℃で5分間乾燥すると
、その過程で不粘着フィルムが形成される。そのフィル
ムを5 kW金属ハライドランプに、ネガ全通して75
cIRの距離から5分間露光させる。エタノール中での
現イ象でネガ画像が生じる。次いでそのネガ画像を15
0℃で2時間加熱する。窒素ガス下での画像の示差熱分
析は、重量損失が180℃(10重1=2以下;残留ジ
メチルホルムアミド溶媒の蒸発)及び405℃で始まる
ことを示す。
実施例A6:
実施例1の生成物1部、ビスフェノールA(エポキシ価
1.55当量/m)とアクリル!’にベースとするいわ
ゆるアドバンストエポキシ樹脂の反応生成物2部及びベ
ンジルジメチルケタールCLOA部の混合物をシクロへ
キサノン2部に溶解する。該溶液の層を24μmの厚さ
で銅被覆ラミネートに適用し、110℃で5分間乾燥す
ると、その過程で不粘着フィルムが形成される。このフ
ィルムを5kW金属ハライドランプに、ネガを通して、
75cWIの距離から5分間露光させる。1,1.1−
トリクロルエタン中での現像によりネガ画像が生じる。
1.55当量/m)とアクリル!’にベースとするいわ
ゆるアドバンストエポキシ樹脂の反応生成物2部及びベ
ンジルジメチルケタールCLOA部の混合物をシクロへ
キサノン2部に溶解する。該溶液の層を24μmの厚さ
で銅被覆ラミネートに適用し、110℃で5分間乾燥す
ると、その過程で不粘着フィルムが形成される。このフ
ィルムを5kW金属ハライドランプに、ネガを通して、
75cWIの距離から5分間露光させる。1,1.1−
トリクロルエタン中での現像によりネガ画像が生じる。
次いで現像された画像を150℃で2時間加熱する。窒
素ガス下での画像の示差熱分析は、重量損失が375℃
で始まることを示す。
素ガス下での画像の示差熱分析は、重量損失が375℃
で始まることを示す。
実施例1の生成物12部、実施例A6に記載されている
エポキシ樹脂とアクリル酸の反応生成物2部、ペンジル
ジメ6鷺ルケタールα06部及びアリルビシクロ[2,
2,1] ヘフ7−5−エン−2,3−ジカルボン酸
N−ベンゼンスルホニルオキシイミド(米国特許第4.
709.047号明細書の実施例1のようにして製造)
C105部の混合物をシクロへキサノン2部に溶解する
。この溶液の層を24μmの厚さで銅被檀ラミネートに
適用し、110℃で5分間乾燥するとその過程で不粘着
フィルムが形成される。このフィルム’i 5 kW金
属ハライドランプに、ネガケ通して75cPIIの距離
から5分間露光させる。1.1.1−トリクロロエタン
中での現像でネガ画像が生じる0次いで現像された画像
を150℃で2時間加熱する。窒素ガス下での画像の示
差熱分析は、重量損失が385℃で始まることを示す。
エポキシ樹脂とアクリル酸の反応生成物2部、ペンジル
ジメ6鷺ルケタールα06部及びアリルビシクロ[2,
2,1] ヘフ7−5−エン−2,3−ジカルボン酸
N−ベンゼンスルホニルオキシイミド(米国特許第4.
709.047号明細書の実施例1のようにして製造)
C105部の混合物をシクロへキサノン2部に溶解する
。この溶液の層を24μmの厚さで銅被檀ラミネートに
適用し、110℃で5分間乾燥するとその過程で不粘着
フィルムが形成される。このフィルム’i 5 kW金
属ハライドランプに、ネガケ通して75cPIIの距離
から5分間露光させる。1.1.1−トリクロロエタン
中での現像でネガ画像が生じる0次いで現像された画像
を150℃で2時間加熱する。窒素ガス下での画像の示
差熱分析は、重量損失が385℃で始まることを示す。
曲げ強さ(ISO178) :
外繊維伸び(0uter f ibreelongat
ion : ISO17B) :衝撃強さ(IS
O179) : 513 N /m+” 1、69 q6 2.88kJ/−6
ion : ISO17B) :衝撃強さ(IS
O179) : 513 N /m+” 1、69 q6 2.88kJ/−6
Claims (12)
- (1)次式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R_1、R_2及びR_4は互に独立して水素原子又は
メチル基を表わし、 R_3は直接結合を表わすか、O原子で中断されていて
もよい炭素原子数2ないし20の脂肪族基又は単核もし
くは多核の炭素原子数5ないし20の環式脂肪族もしく
は炭素原子数6ないし20の芳香族基を表わすか、或は
次式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Tはメチレン基、イソプロピリデン基、CO、
O、S又はSO_2を表わす) で表わされる基を表わし、そして R_5は水素原子又はフェニル基を表わす〕で表わされ
るイミド。 - (2)R_1及びR_2が各々水素原子を表わす請求項
1記載のイミド。 - (3)R_4が水素原子を表わし、そしてR_5がフェ
ニル基を表わす請求項1記載のイミド。 - (4)R_5が水素原子を表わし、そしてR_4がメチ
ル基又は好ましくは水素原子を表わす請求項1記載のイ
ミド。 - (5)R_3が直接結合、炭素原子数2ないし10の脂
肪族基又は基▲数式、化学式、表等があります▼もしく は▲数式、化学式、表等があります▼(式中、mは1又
は 2を表わす)、炭素原子数5ないし6の環式脂肪族もし
くは炭素原子数6ないし10の脂肪族基又は式II(式中
、Tはメチレン又はイソプロピリデン基を表わす)で表
わされる基を表わす請求項1記載のイミド。 - (6)R_3が直接結合、−CH_2CH_2−、▲数
式、化学式、表等があります▼、−CH_2CH_2O
CH_2CH_2−、1,3−シクロヘキシレン、1,
4−シクロヘキシレン、1,3−フェニレン又は1,4
−フェニレン基を表わす請求項1記載のイミド。 - (7)R_1、R_2及びR_5が各々水素原子を表わ
し、R_3が直接結合又は基−CH_2−CH_2−を
表わし、そしてR_4が水素原子又はメチル基を表わす
、特にはR_1、R_2、R_4及びR_5が各々水素
原子を表わし且つR_3が基−CH_2−CH_2−を
表わす請求項1記載のイミド。 - (8)ヒドロキシル基を含有している次式III▲数式、
化学式、表等があります▼(III) で表わされるイミドと、次式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) で表わされる化合物とを反応させる(式中、基R_1、
R_2、R_3、R_4及びR_5は請求項1で定義し
た通りであり、そしてR_6はOH、ハロゲン原子又は
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表わす)ことに
よる請求項1記載の式 I で表わされる化合物の製造方
法。 - (9)請求項1記載のイミドを180ないし300℃の
温度で6ないし60時間加熱して得られるポリマー。 - (10)請求項1記載のイミドを、適当ならば光開始剤
の存在下で、化学線に曝すことにより得られるポリマー
。 - (11)フォトレジストとして請求項1記載のイミドを
使用する方法。 - (12)プレプレグの製造のために請求項1記載のイミ
ドを使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH82989 | 1989-03-07 | ||
CH829/89-3 | 1989-03-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02273656A true JPH02273656A (ja) | 1990-11-08 |
Family
ID=4196168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2056310A Pending JPH02273656A (ja) | 1989-03-07 | 1990-03-07 | 置換不飽和二反応性二環式イミド及びその用途 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5075456A (ja) |
EP (1) | EP0387193A1 (ja) |
JP (1) | JPH02273656A (ja) |
CA (1) | CA2011451A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001253870A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Manac Inc | イミド化合物の製造方法及びその新規誘導体 |
KR100732284B1 (ko) * | 2000-06-15 | 2007-06-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 신규의 포토레지스트용 단량체, 그의 공중합체 및 이를함유하는 포토레지스트 조성물 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100220953B1 (ko) * | 1996-12-31 | 1999-10-01 | 김영환 | 아미드 또는 이미드를 도입한 ArF 감광막 수지 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4440850A (en) * | 1981-07-23 | 1984-04-03 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerisation process with two exposures of a single layer |
US4515962A (en) * | 1982-08-05 | 1985-05-07 | Ciba Geigy Corporation | Allyl or methallyl-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid imides and bisimides |
US4604437A (en) * | 1984-01-31 | 1986-08-05 | Ciba-Geigy Corporation | Polymer from substituted, unsaturated, bicyclic imide |
US4728742A (en) * | 1984-06-27 | 1988-03-01 | Ciba-Geigy Corporation | Substituted, unsaturated, bicyclic imides containing hydroxyl groups, and polymers thereof |
US4709047A (en) * | 1985-01-29 | 1987-11-24 | Ciba-Geigy Corporation | Substituted unsaturated, sulfonyloxy group-containing bicyclic imides as catalysts for cationic polymerization |
GB8628003D0 (en) * | 1986-11-22 | 1986-12-31 | Ciba Geigy Ag | Polymerisable compounds |
-
1990
- 1990-02-27 EP EP90810149A patent/EP0387193A1/de not_active Withdrawn
- 1990-02-27 US US07/485,685 patent/US5075456A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-05 CA CA002011451A patent/CA2011451A1/en not_active Abandoned
- 1990-03-07 JP JP2056310A patent/JPH02273656A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001253870A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-09-18 | Manac Inc | イミド化合物の製造方法及びその新規誘導体 |
KR100732284B1 (ko) * | 2000-06-15 | 2007-06-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 신규의 포토레지스트용 단량체, 그의 공중합체 및 이를함유하는 포토레지스트 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0387193A1 (de) | 1990-09-12 |
US5075456A (en) | 1991-12-24 |
CA2011451A1 (en) | 1990-09-07 |
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