JP7508585B2 - オレフィン重合又は共重合用の触媒成分、その製造方法及び使用 - Google Patents
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Description
本発明はオレフィン重合触媒に関し、具体的には、オレフィン重合又は共重合用の触媒成分、製造方法、触媒及びその使用に関する。
オレフィン重合用の高性能Ziegler-Natta触媒は、主触媒と助触媒の2つの部分からなることが知られている。主触媒は周期律表の第14族~第18主族の遷移金属の化合物で構成され、助触媒は周期律表の第1族~第13族元素の金属の有機化合物である。通常、主触媒はまた、不活性担体とそれに担持された活性成分との2つの部分に分けることができる。主触媒は一般的にチタンのハロゲン化物と格子欠陥のあるマグネシウムのハロゲン化物を反応させて成形するか、不活性担体に担持して製造する。このうち、マグネシウムの化合物は、格子欠陥のあるマグネシウムのハロゲン化物であることが好ましく、格子欠陥のあるマグネシウムのハロゲン化物は、マグネシウムの化合物で生成してもよいし、マグネシウムのハロゲン化物とアルコール、エーテル、エステルなどの電子ドナーと反応させた後、前記アルコール、エーテル、エステルなどの電子ドナーの一部を除去してもよい。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の技術に存在する問題を解決するために、本発明は、オレフィン重合又は共重合用の触媒成分、その製造方法及び使用を提供した。当該触媒はオレフィン重合、特にエチレンとα-オレフィンの重合に用いられる場合、活性が高く、水素による分子量調節性や共重合性に優れ、得られた重合体粉体の嵩密度が高く、重合体粉体の微粉末含有量が低いという特徴を有する。
本発明の第1態様により、チタン元素、マグネシウム元素、電子ドナー、有機ケイ素重合体及び無機酸化物担体を含み、前記有機ケイ素重合体の分子組成が[RxSiO(4-x)/2]m(Rはアルキル基、芳香族基、オレフィン基及び水素から選ばれ、xは0以上2以下であり、mの値は前記有機ケイ素重合体の数平均分子量が1×103~1×106g/molであるようにする。)であるオレフィン重合又は共重合用の触媒成分を提供する。
チタン元素換算のチタン0.1~5wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム0.2~10.2wt%と、
電子ドナー15~40wt%と、
有機ケイ素重合体0.01~15wt%と、
無機酸化物担体1~70wt%とを含む。
チタン元素換算のチタン0.5~4wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム4~8wt%と、
電子ドナー20~35wt%と、
有機ケイ素重合体0.1~10wt%と、
無機酸化物担体10~60wt%とを含む。
チタン含有化合物、ハロゲン化マグネシウム、電子ドナー、有機ケイ素重合体及び無機酸化物担体を含む原料を混合し、スラリー懸濁液を得るステップ1と、
噴霧乾燥して、前記触媒成分を得るステップ2とを含む本発明の触媒成分の製造方法を提供する。
(A)本発明の前記触媒成分又は本発明の製造方法で得られる触媒成分と、
(B)一般式A1RbX’3-b(Rは水素又は炭素数1~20の炭化水素基であり、X’はハロゲンであり、0<b≦3である。)の有機アルミニウム化合物と、を含むオレフィン重合又は共重合用の触媒を提供する。
上記技術案により、本発明はオレフィン重合又は共重合用の触媒成分、その製造方法及び使用を提供する。当該触媒は、オレフィン重合、特にエチレンとα-オレフィンの重合に用いられる場合、活性が高く、水素による分子量調節性や共重合性に優れ、得られた重合体粉体の嵩密度が高く、重合体粉体の微粉末含有量が低いという特徴を有する。
本明細書で開示された範囲の端点と任意の値はこの正確な範囲又は値に限定されるものではなく、これらの範囲又は値はこれらの範囲又は値に近い値を含むものとして理解すべきである。数値の範囲の場合、各範囲の端点値同士、各範囲の端点値と個別の点値、及び個別の点値同士は互いに組み合わせられて1つ又は複数の新しい数値範囲を構成してもよく、これらの数値範囲は本明細書で具体的に開示されたものとみなされるべきである。
前記ハロゲン化チタンは、好ましくは臭化チタン及び/又は塩化チタンから選ばれ、より好ましくは、三臭化チタン、四臭化チタン、三塩化チタン及び四塩化チタンから選ばれる少なくとも1種であり、さらに好ましくは三塩化チタン及び/又は四塩化チタンから選ばれる。
チタン元素換算のチタン0.1~5wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム0.2~10.2wt%と、
電子ドナー15~40wt%と、
有機ケイ素重合体0.01~15wt%と、
無機酸化物担体1~70wt%と、を含む。
チタン元素換算のチタン0.5~4wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム4~8wt%と、
電子ドナー20~35wt%と、
有機ケイ素重合体0.1~10wt%と、
無機酸化物担体10~60wt%と、を含む。
チタン元素換算のチタン1~3.5wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム5.5~8wt%と、
電子ドナー23~35wt%と、
有機ケイ素重合体0.6~8wt%と、
無機酸化物担体15~53wt%と、を含む。
チタン含有化合物、ハロゲン化マグネシウム、電子ドナー、有機ケイ素重合体及び無機酸化物担体を含む原料を混合し、スラリー懸濁液を得るステップ1と、
噴霧乾燥して、前記触媒成分を得るステップ2と、を含む。
1、活性:触媒1gあたり得られた樹脂の重量で表される。
500ml三つ口フラスコにキシレン100ml、アセトン50ml、ジメチルジクロロシラン11.5g、メチルトリクロロシラン30.8gを加え、激しく撹拌しながら、氷水浴にて、アセトン50mlと水20gからなる溶液をゆっくりと滴下した(r/s値は1.3である)。反応液が25℃にゆっくりと昇温した後、24時間撹拌した。脱イオン水で反応液を中性となるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて24時間乾燥した。乾燥剤を濾過により除去した後、真空乾燥により溶媒を除去し、白色固体として網目構造の有機ケイ素重合体を81%の収率で得た。生成物構造はゲル浸透クロマトグラフィー及び29Si-NMRにより表される。ゲル浸透クロマトグラフィーから分かるように、生成物の数平均分子量は2×105g/molで、分子量分布は2.1であり、29Si-NMRから分かるように、生成物には29.5mol%の-Me2SiO-単位、70.5mol%のMeSiO3/2単位が含まれており、分子組成は[RxSiO(4-x)/2]m(xは1.295であり、Rはメチル基であり、mは、得た有機ケイ素重合体の数平均分子量に対応する値である。)である。得た有機ケイ素重合体はS1と命名した。
500ml三つ口フラスコにキシレン100ml、アセトン50ml、ジメチルジクロロシラン11.5g、フェニルトリクロロシラン43.6gを加え、激しく撹拌しながら、氷水浴にて、アセトン50mlと水22gからなる溶液をゆっくりと滴下した(r/s値は1.3である)。反応液が25℃にゆっくりと昇温した後、24時間撹拌した。脱イオン水で反応液を中性となるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて24時間乾燥した。乾燥剤を濾過により除去した後、真空乾燥により溶媒を除去し、白色固体としての網目構造の有機ケイ素重合体を82%の収率で得た。生成物構造はゲル浸透クロマトグラフィー及び29Si-NMRによって表される。ゲル浸透クロマトグラフィーから分かるように、生成物の数平均分子量は5×105g/molで、分子量分布は2.5であり、29Si-NMRから分かるように、生成物には29.7mol%の-Me2SiO-単位、70.3mol%のPhSiO3/2単位が含まれており、分子組成は[RxSiO(4-x)/2]m(xは1.297であり、Rはメチル基及びフェニル基であり、mは得た有機ケイ素重合体の数平均分子量に対応する値である。)である。得た有機ケイ素重合体はS2と命名した。
500ml三つ口フラスコにキシレン100ml、アセトン50ml、ジメチルジクロロシラン36.0gを加え、激しく撹拌しながら、氷水浴にて、アセトン50mlと水22gからなる溶液をゆっくりと滴下した(r/s値は2である)。反応液が25℃にゆっくりと昇温した後、24時間撹拌した。脱イオン水で反応液を中性となるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて24時間乾燥した。乾燥剤を濾過により除去した後、真空乾燥により溶媒を除去し、固体の線形構造の有機ケイ素重合体を86%の収率で得た。生成物構造はゲル浸透クロマトグラフィー及び29Si-NMRによって表される。ゲル浸透クロマトグラフィーから分かるように、生成物の数平均分子量は1×105g/molで、分子量分布は1.3であり、29Si-NMRから分かるように、生成物には100mol%の-Me2SiO-単位が含まれており、分子組成は[RxSiO(4-x)/2]m(xは2であり、Rはメチル基であり、mは得た有機ケイ素重合体の数平均分子量に対応する値である。)である。得た有機ケイ素重合体はS3と命名した。
500ml三つ口フラスコにキシレン100ml、アセトン50ml、(CH2=CH)SiHCl2 33.6gを加え、激しく撹拌しながら、氷水浴にて、アセトン50mlと水22gからなる溶液をゆっくりと滴下した(r/s値は2である)。反応液が25℃にゆっくりと昇温した後、24時間撹拌した。脱イオン水で反応液を中性となるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて24時間乾燥した。乾燥剤を濾過により除去した後、真空乾燥により溶媒を除去し、固体の線形構造の有機ケイ素重合体を80%の収率で得た。生成物構造はゲル浸透クロマトグラフィー及び29Si-NMRによって表される。ゲル浸透クロマトグラフィーから分かるように、生成物の数平均分子量は2×103g/molで、分子量分布は1.2であり、29Si-NMRから分かるように、生成物には100mol%の-(CH2=CH)HSiO-単位が含まれており、分子組成は[R1R2SiO(4-x)/2]m(xは2であり、R1及びR2はビニル基と水素であり、mは得た有機ケイ素重合体の数平均分子量に対応する値である。)である。得た有機ケイ素重合体はS4と命名した。
500ml三つ口フラスコにキシレン100ml、アセトン50ml、ジメチルジクロロシラン1.8g、メチルトリクロロシラン16.4g、フェニルトリクロロシラン59.2gを加え、激しく撹拌しながら、氷水浴にて、アセトン50mlと水22gからなる溶液をゆっくりと滴下した(r/s値は1.03である)。反応液が25℃にゆっくりと昇温した後、16時間撹拌した。脱イオン水で反応液を中性となるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて24時間乾燥した。乾燥剤を濾過により除去した後、真空乾燥により溶媒を除去し、固体の網目構造の有機ケイ素重合体を83%の収率で得た。生成物構造はゲル浸透クロマトグラフィー及び29Si-NMRによって表される。ゲル浸透クロマトグラフィーから分かるように、生成物の数平均分子量は7.8×105g/molで、分子量分布は6.1であり、29Si-NMRから分かるように、生成物には3.4mol%の-Me2SiO-単位、28.0mol%のMeSiO3/2単位、68.6mol%のPhSiO3/2単位が含まれており、分子組成は[RxSiO(4-x)/2]m(xは1.034であり、Rはメチル基及びフェニル基であり、mは、得た有機ケイ素重合体の数平均分子量に対応する値である。)である。得た有機ケイ素重合体はS5と命名した。
(1)触媒成分の製造
温度コントローラ、撹拌器、還流コンデンサーを装備した、窒素ガスでパージして保護した250mLの4つ口フラスコに、テトラヒドロフラン(THF)120mL、塩化マグネシウム4.2g及びTiCl4 1.0mLを撹拌しながら順次に加え、撹拌しながら68℃に昇温し、この温度で保温して4時間還流反応させ、母液を得た。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末(つまり、ステップ1)で製造された固体触媒成分)20mgを加え、70℃に昇温して0.28MPaとなるまで水素ガスを加え、水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。エチレンのスラリー重合の結果を表2に示す。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末80mgを加え、70℃に昇温して水素ガスを0.68MPaとなるまで加え、水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。エチレンスラリーの高水素含有量重合の結果を表3に示す。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「シリカゲル(Cabot Corporation TS-610、粒子径は1μm未満である)5.5gと有機ケイ素重合体S1 1.0gを加え、シリカゲルと有機ケイ素重合体S1との重量比を5.5とする」を「シリカゲル(Cabot Corporation TS-610、粒子径は1μm未満である)6.4gと有機ケイ素重合体S1 0.1gを加え、シリカゲルと有機ケイ素重合体S1との重量比を64とする」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体S1の含有量は0.585wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「シリカゲル(Cabot Corporation TS-610、粒子径は1μm未満である)5.5gと有機ケイ素重合体S1 1.0gを加え、シリカゲルと有機ケイ素重合体S1との重量比を5.5とする」を「シリカゲル(Cabot Corporation TS-610、粒子径は1μm未満である)6.0gと有機ケイ素重合体S1 0.5gを加え、シリカゲルと有機ケイ素重合体S1との重量比を12とする」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体S1の含有量は2.75wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「有機ケイ素重合体S1 1.0g」を「有機ケイ素重合体S2 1.0g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体S2の含有量は5.56wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「有機ケイ素重合体S1 1.0g」を「有機ケイ素重合体S3 1.0g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体S3の含有量は5.56wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「有機ケイ素重合体S1 1.0g」を「有機ケイ素重合体S4 1.0g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体S4の含有量は5.56wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「TiCl4 1.0mL」を「TiCl3・1/3AlCl3 1.4g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。有機ケイ素重合体の含有量は6.00wt%である。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「TiCl4 1.0mL」を「TiCl3・1/2MgCl2 1.5g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。有機ケイ素重合体の含有量は5.76wt%である。
(1)触媒成分の製造
温度コントローラ、撹拌器、還流コンデンサーを装備した、窒素ガスでパージして保護した250mLの4つ口フラスコに、テトラヒドロフラン(THF)100mL、塩化マグネシウム4.2g及びTiCl4 4mLを撹拌しながら順次に加え、撹拌しながら85℃に昇温し、この温度で保温して3時間還流反応し、母液を得た。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末20mgを加え、70℃に昇温して0.28MPaとなるまで水素ガスを加える。水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。
(1)触媒成分の製造
温度コントローラ、撹拌器、還流コンデンサーを装備した、窒素ガスでパージして保護した500mLの4つ口フラスコに、酢酸エチル160mL、臭化マグネシウム8.1g及びTiCl4 2.5mLを撹拌しながら順次に加え、撹拌しながら75℃に昇温し、この温度で保温して2時間還流反応させ、母液を得た。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末20mgを加え、70℃に昇温して0.28MPaとなるまで水素ガスを加える。水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。
(1)触媒成分の製造
温度コントローラ、撹拌器、還流コンデンサーを装備した、窒素ガスでパージして保護した250mLの4つ口フラスコに、エチルプロピルエーテル72mL、フッ化マグネシウム2.75g及びTiCl4 0.5mLを撹拌しながら順次に加え、撹拌しながら50℃に昇温し、この温度で保温して10時間還流反応し、母液を得た。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末20mgを加え、70℃に昇温して0.28MPaとなるまで水素ガスを加える。水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「有機ケイ素重合体S1 1.0g」を「有機ケイ素重合体DS1((CH3)2SiCl2と(CH3)3SiClを混合単量体とし、r/s値を2.5に制御し、単量体を加水分解して、数平均分子量700g/mol、分子量分布1.2の低分子量有機ケイ素重合体を得る)1.0g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体の含有量は5.45wt%であり、ほかの成分の含有量の分析は表1に示されており、残量は担体である。また、エチレンのスラリー重合の結果を表2に示し、エチレンスラリーの高水素含有量重合の結果を表3に示す。
実施例1と比較して、ステップ(1)において触媒成分を製造する際には、「有機ケイ素重合体S1 1.0g」を「有機ケイ素重合体DS2((CH3CH2)(CH3)SiCl2と(CH3)3SiClを混合単量体とし、r/s値を2.3に制御し、単量体を加水分解して、数平均分子量800g/mol、分子量分布7.9の低分子量有機ケイ素重合体を得る)1.0g」に変更した以外、残りは実施例1と同様であった。計算したところ触媒中の有機ケイ素重合体の含有量は5.45wt%であり、ほかの成分の含有量分析は表1に示されており、残量は担体である。また、エチレンのスラリー重合の結果を表2に示し、エチレンスラリーの高水素含有量重合結果を表3に示す。
触媒成分を製造する際に有機ケイ素重合体を加えなかった以外、実施例1のプロセスを繰り返した。
温度コントローラ、撹拌器、還流コンデンサーを装備した、窒素ガスでパージして保護した250mLの4つ口フラスコに、テトラヒドロフラン(THF)120mL、塩化マグネシウム4.2g及びTiCl4 1.0mLを撹拌しながら順次に加え、撹拌しながら68℃に昇温し、この温度で保温して4時間還流反応させ、母液を得た。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末20mgを加え、70℃に昇温して0.28MPaとなるまで水素ガスを加える。水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。エチレンのスラリー重合の結果を表2に示す。
窒素ガスと水素ガスを用いて順番にパージを行った2L重合釜にヘキサン1Lを加え、トリエチルアルミニウム(1M)1mLと触媒乾燥粉末80mgを加え、70℃に昇温して水素ガスを0.68MPaとなるまで加える。水素添加終了後、エチレンを1.03MPaとなるまで加えて、85℃に昇温し、85℃で保温、保圧して2時間反応させた後、降温して取り出した。エチレンスラリーの高水素含有量重合の結果を表3に示す。
実施例4の有機ケイ素重合体の代わりに有機ケイ素単量体(CH3)2SiCl2 1.0gを直接加えた以外、実施例4のプロセスを繰り返した。得た触媒構造の分析を表1、エチレンのスラリー重合の結果を表2に示す。
実施例1の有機ケイ素重合体の代わりに、シランカップリング剤KH550(アミノプロピルトリエトキシシラン)1.0gを直接加えた以外、実施例1のプロセスを繰り返した。得た触媒構造の分析を表1、エチレンのスラリー重合の結果を表2に示す。
Claims (25)
- チタン元素、マグネシウム元素、電子ドナー、有機ケイ素重合体及び無機酸化物担体を含むオレフィン重合又は共重合用の触媒成分であって、
前記有機ケイ素重合体の分子組成が[RxSiO(4-x)/2]m(Rはアルキル基、芳香族基、オレフィン基及び水素から選ばれ、xは0以上2未満であり、mの値は前記有機ケイ素重合体の数平均分子量が1×103~1×106g/molであるようにする。)であり、且つ前記有機ケイ素重合体は網目構造であることを特徴とするオレフィン重合又は共重合用の触媒成分。 - 全量100wt%に対して、前記有機ケイ素重合体の含有量が0.01~15wt%である請求項1に記載の触媒成分。
- Rは炭素数1~6のアルキル基、炭素数6~9の芳香族基、炭素数1~6のオレフィン基及び水素から選ばれる請求項1に記載の触媒成分。
- Rはメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、ビニル基及び水素から選ばれる請求項1に記載の触媒成分。
- 前記網目構造の有機ケイ素重合体の数平均分子量が2×103~1×106g/molで、分子量分布が1~9である請求項1~4のいずれか1項に記載の触媒成分。
- 前記有機ケイ素重合体は一般式RySiCl(4-y)(Rはアルキル基、芳香族基、ビニル基及び水素から選ばれ、yは0~3の整数である。)の1種又は複数種の単量体を加水分解、重縮合したものであり、単量体のR/Siモル比が2未満である請求項1~5のいずれか1項に記載の触媒成分。
- 前記チタン元素はチタン含有化合物由来であり、
前記チタン含有化合物はハロゲン化チタン、ハロゲン化チタンをアルミニウムで還元した生成物及びハロゲン化チタンをマグネシウムで還元した生成物から選ばれる少なくとも1種である請求項1~6のいずれか1項に記載の触媒成分。 - 前記ハロゲン化チタンは臭化チタン及び/又は塩化チタンから選ばれ、及び/又は、
前記ハロゲン化チタンをアルミニウムで還元した生成物の一般式はTiX m ・nAlX p (0<n≦1、0<m≦3、0<p≦3、Xはハロゲンである。)であり、及び/又は、
前記ハロゲン化チタンをマグネシウムで還元した生成物の一般式はTiX m ・qMgXr(0<q≦1、0<m≦3、0<r≦3、Xはハロゲンである。)である請求項7に記載の触媒成分。 - 前記マグネシウム元素はハロゲン化マグネシウム由来であり、
前記ハロゲン化マグネシウムはフッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム及びヨウ化マグネシウムから選ばれる少なくとも1種であり、及び/又は
前記電子ドナーはエステル系化合物、エーテル系化合物及びケトン系化合物から選ばれる少なくとも1種である請求項1~8のいずれか1項に記載の触媒成分。 - 前記ハロゲン化マグネシウムは塩化マグネシウムであり、及び/又は
前記電子ドナーはC 1 ~C 4 飽和脂肪族カルボン酸のアルキルエステル、C 7 ~C 8 芳香族カルボン酸アルキルエステル、C 2 ~C 6 脂肪エーテル、C 3 ~C 4 環状エーテル及びC 3 ~C 6 飽和脂肪ケトンから選ばれる少なくとも1種である請求項9に記載の触媒成分。 - 前記電子ドナーはギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸イソプロピル、ギ酸n-プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、エチルエーテル、プロピルエーテル、ヘキシルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン及びメチルイソブチルケトンから選ばれる少なくとも1種である請求項10に記載の触媒成分。
- 前記無機酸化物担体はシリコンの酸化物及び/又はアルミニウムの酸化物から選ばれ、及び/又は、
前記無機酸化物担体の粒子径は0.01~10μmであり、及び/又は、
前記無機酸化物担体と有機ケイ素重合体との重量比が(1~100):1である請求項1~11のいずれか1項に記載の触媒成分。 - 前記無機酸化物担体はシリカであり、及び/又は、
前記無機酸化物担体の粒子径は0.1~1μmであり、及び/又は、
前記無機酸化物担体と有機ケイ素重合体との重量比が(2~80):1である請求項1~11のいずれか1項に記載の触媒成分。 - 全量100wt%を基準に、
チタン元素換算のチタン0.1~5wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム0.2~10.2wt%と、
電子ドナー15~40wt%と、
有機ケイ素重合体0.01~15wt%と、
無機酸化物担体1~70wt%とを含む請求項1~13のいずれか1項に記載の触媒成分。 - 全量100wt%を基準に、
チタン元素換算のチタン0.5~4wt%と、
マグネシウム元素換算のマグネシウム4~8wt%と、
電子ドナー20~35wt%と、
有機ケイ素重合体0.1~10wt%と、
無機酸化物担体10~60wt%とを含む請求項14に記載の触媒成分。 - チタン含有化合物、ハロゲン化マグネシウム、電子ドナー、有機ケイ素重合体及び無機酸化物担体を含む原料を混合し、スラリー懸濁液を得るステップ1と、
噴霧乾燥して、前記触媒成分を得るステップ2とを含むことを特徴とする請求項1~15のいずれか1項に記載の触媒成分の製造方法。 - ステップ1で、まず、チタン含有化合物、ハロゲン化マグネシウム及び電子ドナーを混合し、母液を得て、前記母液の製造中又は製造後に無機酸化物担体及び有機ケイ素重合体を加えて、前記スラリー懸濁液を得る請求項16に記載の製造方法。
- 前記電子ドナーとハロゲン化マグネシウムとのモル比が5.0~50:1であり、前記有機ケイ素重合体とハロゲン化マグネシウムとの質量比が0.01~1.0:1であり、前記チタン含有化合物とハロゲン化マグネシウムとのモル比が0.1~1.0:1であり、前記無機酸化物とハロゲン化マグネシウムとのモル比が1.0~5.0:1である請求項16に記載の製造方法。
- 前記ステップ1の混合は常温~85℃で0.1h以上行われ、前記常温は25±5℃であり、及び/又は
ステップ2では、前記噴霧乾燥の条件は、入口温度100~240℃、出口温度60~130℃である請求項16~18のいずれか1項に記載の製造方法。 - (A)請求項1~15のいずれか1項に記載の触媒成分と、
(B)一般式A1RbX’3-b(Rは水素又は炭素数1~20の炭化水素基であり、X’はハロゲンであり、0<b≦3である。)の有機アルミニウム化合物とを含むことを特徴とするオレフィン重合又は共重合用の触媒。 - X’は塩素、臭素又はヨウ素であり、1<b≦3である請求項20に記載の触媒。
- 前記有機アルミニウム化合物はトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニウム、トリ-N-オクチルアルミニウム及びクロロジエチルアルミニウムから選ばれる少なくとも1種であり、及び/又は
前記有機アルミニウム化合物と前記触媒成分とのモル量の比が5~1000:1である請求項20に記載の触媒。 - 前記有機アルミニウム化合物と前記触媒成分とのモル量の比が10~200:1である請求項22に記載の触媒。
- 請求項20~23のいずれか1項に記載の触媒のオレフィン重合における使用。
- 請求項20~23のいずれか1項に記載の触媒のエチレンホモ重合又は共重合反応における使用。
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