JP7480876B1 - 静電チャック及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
100:誘電体基板
140:ガス穴
142:開口
200:ベースプレート
230:絶縁膜
240:ガス穴
241:開口
300:接合層
340:連通路
Claims (6)
- 第1ガス穴が形成された誘電体基板と、
第2ガス穴が形成されたベースプレートと、
前記誘電体基板と前記ベースプレートとの間に設けられ、絶縁性の材料により形成された接合層と、を備え、
前記誘電体基板のうち前記接合層側の面には、前記第1ガス穴の端部である第1開口が形成されており、
前記ベースプレートのうち前記接合層側の面には、前記第1開口とは異なる位置において、前記第2ガス穴の端部である第2開口が形成されており、
前記接合層には、前記第1開口と前記第2開口との間を連通させる連通路が形成されており、
前記ベースプレートのうち前記接合層側の面には、絶縁膜が設けられていることを特徴とする、静電チャック。 - 前記第2開口が、前記連通路を介して複数の前記第1開口に連通されていることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
- 前記絶縁膜が溶射により形成された膜であることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
- 前記接合層が、予め前記連通路が形成された固形の接着剤シートを硬化させたものであることを特徴とする、請求項1に記載の静電チャック。
- 第1ガス穴が形成された誘電体基板と、
第2ガス穴が形成されたベースプレートと、
前記誘電体基板と前記ベースプレートとの間に設けられ、絶縁性の材料により形成された接合層と、を備え、
前記誘電体基板のうち前記接合層側の面には、前記第1ガス穴の端部である第1開口が形成されており、
前記ベースプレートのうち前記接合層側の面には、前記第1開口とは異なる位置において、前記第2ガス穴の端部である第2開口が形成されており、
前記接合層には、前記第1開口と前記第2開口との間を連通させる連通路が形成されており、
前記ベースプレートのうち前記連通路と対向する表面は、前記接合層によって覆われていることを特徴とする、静電チャック。 - 第1ガス穴が形成された誘電体基板を準備する工程と、
第2ガス穴が形成されたベースプレートを準備する工程と、
絶縁性の部材であって、予め連通路が形成された固形の接着剤シートを準備する工程と、
前記誘電体基板のうち、前記第1ガス穴の端部である第1開口が形成されている面と、前記ベースプレートのうち、前記第2ガス穴の端部である第2開口が形成されている面と、を互いに対向させ、互いに異なる位置にある前記第1開口と前記第2開口との間が前記連通路によって連通されるように、前記誘電体基板と前記ベースプレートとの間に前記接着剤シートを挟み込む工程と、
前記接着剤シートを硬化させる工程と、を含み、
前記ベースプレートのうち前記接着剤シートによって接合される面には、予め絶縁膜が形成されていることを特徴とする、静電チャックの製造方法。
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