JP7480484B2 - 樹脂組成物 - Google Patents
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Description
即ち、本発明は式(1)で表される残基単位と、式(2)で表される残基単位を含む樹脂(A)と、エチレン性不飽和単量体残基単位を含むフッ素系樹脂(B)を含む樹脂組成物。
式(1)中、R1におけるC1~C6のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
式(1)中、S1は-O-または-C(O)-を示す。
式(1)中、pは0または1を示す。
式(1)中、A1はC6~C19のアリール基を示す。式(1)中のA1におけるC6~C19のアリール基としては特に制限がなく、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、ビフェニル基等が挙げられる。
式(1)中、Y1はハロゲン原子、シアノ基、カルボキシアルキル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、C1~C18のアルキル基、フルオロアルキル基、またはシクロアルキル基からなる群の1種を表す。
式(1)中、Y1におけるハロゲン原子としては特に制限がなく、例えば、塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。
式(1)中、Y1におけるカルボキシアルキル基としては特に制限がなく、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基等が挙げられる。
式(1)中、Y1におけるアルキルエーテル基としては特に制限がなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
式(1)中、Y1におけるC1~C18のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
式(1)中、Y1におけるフルオロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、1,1,1-トリフルオロエチル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、1,1,1,2,2,3,3-ヘプタフルオロブチル基等が挙げられる。
式(1)中、Y1におけるシクロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる
式(1)中、kは0~(s-1)の整数を表す。ここで、sはA1を構成する炭素数を表す。
式(2)中、R2におけるC1~C6のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
式(2)中、S2は-O-または-C(O)-を示す。
式(2)中、qは0または1を示す。
式(2)中、A2はC6~C19のアリール基を示す。
式(2)中のA2におけるC6~C19のアリール基としては特に制限がなく、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、ビフェニル基等が挙げられる。
式(2)中、Y2はハロゲン原子、シアノ基、カルボキシアルキル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、C1~C18のアルキル基、フルオロアルキル基、またはシクロアルキル基からなる群の1種を表す。
式(2)中、Y2におけるハロゲン原子としては特に制限がなく、例えば、塩素原子、フッ素原子等が挙げられる。
式(2)中、Y2におけるカルボキシアルキル基としては特に制限がなく、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基等が挙げられる。
式(2)中、Y2におけるアルキルエーテル基としては特に制限がなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
式(2)中、Y2におけるC1~C18のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
式(2)中、Y2におけるフルオロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、1,1,1-トリフルオロエチル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、1,1,1,2,2,3,3-ヘプタフルオロブチル基等が挙げられる。
式(2)中、Y2におけるシクロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
式(2)中、mは1~(r-j-1)の整数を表す。ここで、rはA2を構成する炭素数を表し、jは0~(r-2)の整数を表す。
式(2)中、Zは式(3)~(6)から選ばれる少なくとも1つの有機基を表す。
式(3)~式(6)中、R3及びR4におけるC1~C6のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中、R3及びR4におけるアリール基としては特に制限がなく、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、ビフェニル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中、R3及びR4におけるカルボキシアルキル基としては特に制限がなく、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるカルボキシアルキル基としては特に制限がなく、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるアルキルエーテル基としては特に制限がなく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるアリールエーテル基としては特に制限がなく、例えば、フェノキシ基、p-メチルフェノキシ基、p-エチルフェノキシ基、p-メトキシフェノキシ基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるC1~C18のアルキル基としては特に制限がなく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基、n-オクタデシル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるフルオロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、1,1,1-トリフルオロエチル基、1,1,1,2,2-ペンタフルオロプロピル基、1,1,1,2,2,3,3-ヘプタフルオロブチル基等が挙げられる。
式(3)~式(6)中のR5~R29におけるシクロアルキル基としては特に制限がなく、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
式(1)で表される残基単位 15mol%以上90mol%以下
式(2)で表される残基単位 10mol%以上70mol%以下
その他 30mol%以上70mol%以下
であることが好ましい。
ここで、分子量とは、数平均分子量を表し、標準ポリスチレン換算のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定することができる。
Qは、存在しないか、または、-OCONH-、-CONH-、-O-、-NH-、-CO-O-、-O-CO-、-NHCONH-もしくは-C6H4-である。なお、Qが-C6H4-の場合、オルト体、メタ体、パラ体が例示できるが、パラ体が好ましい。
式(18)におけるR33及び/またはR34は水素原子であることが好ましい。
エチレン性不飽和単量体残基単位 10mol%以上95mol%以下
式(16)~(18)の残基単位 5mol%以上90mol%以下
その他 4mol%以上85mol%以下
であることが好ましい。
有機半導体層を有機溶剤に溶解させた溶液を用いて塗布、または印刷する場合の溶液濃度は有機半導体の構造および用いる溶剤により異なるが、より均一な半導体層の形成および層の厚みの低減の観点から、0.5%~5重量%であることが好ましい。この際の有機溶剤としては有機半導体が製膜可能な一定の濃度で溶解する限り何ら制限はなく、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、デカリン、インダン、1-メチルナフタレン、2-エチルナフタレン、1,4-ジメチルナフタレン、ジメチルナフタレン異性体混合物、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、1,2,4-トリメチルベンゼン、メシチレン、イソプロピルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、テトラリン、オクチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、1,4-ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、1,2-ジメトキシベンゼン、1,3-ジメトキシベンゼン、γ-ブチロラクトン、1,3-ブチレングリコール、エチレングリコール、ベンジルアルコール、グリセリン、シクロヘキサノールアセテート、3-メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン、3-メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、1,6-ヘキサンジオールジアセテート、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,4-ブタンジオールジアセテート、エチルアセテート、フェニルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-N-プロピルエーテル、テトラデカヒドロフェナントレン、1,2,3,4,5,6,7,8-オクタヒドロフェナントレン、デカヒドロ-2-ナフトール、1,2,3,4-テトラヒドロ-1-ナフトール、α-テルピネオール、イソホロントリアセチンデカヒドロ-2-ナフトール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、2,6-ジメチルアニソール、1,2-ジメチルアニソール、2,3-ジメチルアニソール、3,4-ジメチルアニソール、1-ベンゾチオフェン、3-メチルベンゾチオフェン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン、ジオキサン、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン、アセトフェノン、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、リモネン等が例示されるが、好ましい性状の結晶膜を得るためには有機半導体の溶解力が高く、沸点が100℃以上の溶剤が適しており、キシレン、イソプロピルベンゼン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン、1,2-ジクロロベンゼン、3,4-ジメチルアニソール、ペンチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、デカヒドロ-2-ナフトールが好ましい。また、前述の溶剤2種以上を適切な割合で混合した混合溶剤も用いることが出来る。
本発明の有機トランジスタは、有機トランジスタ素子の実用性の観点から、オン電流/オフ電流比が105以上であることが好ましい。
本発明の有機トランジスタは、有機トランジスタ素子の実用性の観点から、ソース・ドレイン間電流のヒステリシスが無いことが好ましい。
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM-ECZ400S)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H-NMR)スペクトル分析より求めた。
<分子量>
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用い、40℃条件下、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定した。
<スピンコート>
ミカサ株式会社製MS―A100を用いた。
<膜厚測定>
ブルカー社製Dektak XT スタイラスプロファイラーを用いて測定した。
<UV照射>
(株)ジーエス・ユアサ コーポレーション製UV-System、CSN-40A-2を用い、UV強度4.0kW/cm2の条件で、搬送速度を変えてUV照射時間を調整した。
<耐溶剤性(残膜率)>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス基材(コーニング社製Eagle XG)上に、スピンコータ―を用いて組成物の溶液を乾燥後の膜厚が500nmとなるようにスピンコート製膜し、十分に乾燥させた。この絶縁膜に100mJ/cm2の紫外線を照射して組成物膜を光架橋した。この膜の厚みをブルカー社製Dektak XT スタイラスプロファイラーにより測定し、T0とした。次に、この光架橋した組成物膜がコーティングされたガラス板を組成物の良溶剤であるキシレンに1分浸漬後、取り出してホットプレート用いて100℃で1分乾燥した後の膜厚を測定してT1とした。これらの膜厚測定値を用いて、残膜率(R)を下記の式により算出した。
R=T1/T0×100(%)
ここで、溶剤としてはm-キシレンを用いた。
残膜率が高いほどUVによる組成物の架橋度が高く、耐溶剤性に優れることを示す。一方、残膜率Rが0の場合には組成物膜が完全に溶解し、耐溶剤性に劣ることを示す。
液体、及び基材の表面張力をそれぞれγL、及びγSとするとき、γL>γSの場合には液体は基材にはじかれ、接触角θは大きくなる(例えば、接触角θ≧60)。一方、γL<γSの場合には液体は基材上に濡れ広がり、接触角θは小さくなる(例えば、接触角θ<50)。
接触角は協和界面科学(株)製の接触角計ドロップマスターDM300を用いて測定した。なお、組成物の表面張力γsは下記(1)~(3)の手順に従い求めた。
(1)ガラス上に組成物をスピンコートして成膜した組成物膜へγL dとγL pが既知である水、及びジヨードメタンの接触角θを測定した。
(ここで、γL dは表面張力の分散項、γL pは表面張力の極性項を表す)
(2)得られた水とジヨードメタン、それぞれの接触角をθ1、θ2とする。下記のOwens Wendtの式を用いて組成物膜の表面張力の分散項(γS d)、及び極性項(γS p)を求めた。
(3)γS d、及びγS pから下記の式によって組成物膜の表面張力γSを求めた。
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(コーニング社製Eagle XG)上の表面張力を上記の接触角測定方法で測定した後、ガラス上にスピンコータ―を用いて組成物の溶液を乾燥後の膜厚が100nmとなるようにスピンコート製膜し、100mJ/cm2の紫外線を照射した後、上記の方法で表面張力を算出、表面張力25mN/m以下は撥液性ありで判断した。
<隔壁の形成>
10cm×10cmの石英ガラスに、一辺が10ミクロンの正方形を縦に10個、横に10個配列した形状をクロムでパターニングしたマスク(隔壁形成用マスク)を用いた。基材上に印刷した厚み100nmの組成物膜上にマスクを配置し、100mJ/cm2の紫外線を照射した後、未架橋部分を組成物のm-キシレンで洗浄除去することにより、膜上に50×50μm2サイズの穴が100個空いた形状の隔壁を形成した。
<残渣評価>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス基材(コーニング社製Eagle XG)上の表面張力を上記の接触角測定方法で測定した後、ガラス上にスピンコータ―を用いて組成物の溶液を乾燥後の膜厚が100nmとなるようにスピンコート製膜し、十分に乾燥させた。この組成物膜がコーティングされたガラス板をm-キシレンに1分間洗浄後、取り出してアセトンとIPAでリンスしホットプレート用いて十分乾燥させた。乾燥したガラス板を上記の接触角測定方法で測定し下記の式を用いて表面張力差が3mN/m以下は残渣なし、3mN/m超過は残渣ありで判断した。
表面張力差 : 基材の表面張力-洗浄後の表面張力
反応、精製、乾燥は全てイエローライト下、又は遮光下で行った。なお、合成例において、イエローライト下又は遮光下で行ったのは、光二量化性化合物の架橋反応、及び光二量化性化合物が導入された重合体の光架橋反応を防ぐためである。
容量10mLのガラスアンプルに式(20)に表される化合物 1.58g(2.1ミリモル)、メタクリル酸メチル 0.63g(6.3ミリモル)およびメタクリル酸グリシジル 1.78g(1.8ミリモル)、連鎖移動剤として2,4-ジフェニル-4-メチル-1-ペンテン 0.08g(0.36ミリモル)、重合開始剤としてパーヘキシルND(日油製) 0.08g(過酸化物分子として0.30ミリモル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを45℃の恒温槽に入れ、8時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、2-ブタノン15gで溶解させた。このポリマー溶液を、メタノール50mL中に滴下して析出させた後、メタノール50mLで2回洗浄した。さらに30℃で8時間真空乾燥することにより、フッ素系樹脂前駆体1を1.62g得た(収率:40%)。また、1H-NMR測定により、共重合体組成は、式(20)に由来する残基単位/メタクリル酸メチル残基単位/メタクリル酸グリシジル残基単位=7.9/24.1/68.0(モル%)であることを確認した。
容量50mLのシュレンク管を加熱乾燥後、窒素雰囲気下、フッ素系樹脂前駆体1を1g、けい皮酸クロリド0.75g、触媒としてテトラエチルアンモニウムクロリド0.25g、脱水テトラヒドロフラン10mL加え、活栓で密封した。フッ素系樹脂前駆体2が溶解するまで室温で攪拌した後、75℃のオイルバス中10時間攪拌した。得られた樹脂溶液を、メタノール50mL中に滴下して析出させた後、メタノール50mLで2回洗浄した。さらに30℃で4時間真空乾燥することにより、フッ素系樹脂を1.2g得た。また、1H-NMR測定により、原料のメタクリル酸グリシジル残基単位が減少し、式(22)に表される残基単位に変換されていることを確認した。その結果、1H-NMR測定によりフッ素系樹脂1の共重合組成は、式(20)に由来する残基単位/メタクリル酸メチル残基単位/式(21)に表される残基単位=8.5/26.1/65.4(モル%)であることを確認した。
合成例2
光架橋性樹脂の合成は特開2018-154814の方法を参照して合成した。
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に重量平均分子量28万のポリスチレン5.0g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド4.0gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した30mLの滴下ロートにトリフルオロメタンスルホン酸(以下、「TFMS」という)9.0gを仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートからTFMSを10分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で28時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム10.6gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過後、1.5Lのメタノールで再沈殿させ、ポリマーを濾過により単離する操作を2回行った後、50℃で減圧乾燥して6.8gの樹脂1を得た。
1H-NMRによる分析の結果、得られた樹脂1(下記式)は式(1)及び式(2)で表される構造単位をそれぞれ59モル%、及び41モル%有していることを確認した。
光架橋性樹脂の合成は特開2018-154814の方法を参照して合成した。
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管にポリスチレン-b-ポリ(エチレン・プロピレン)-b-ポリスチレン((株)クラレ製、商品名:セプトン2104) 3.0g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド6.3gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。次に、シュレンク管を0℃以下に冷却し、TFMS8.44gを注射器を用いて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で29時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム9.45gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過した。引き続き、本濾液をシリカゲルカラムに通して不純物を除去、脱色した後、1.5Lのメタノールで再沈殿させた。更に、ポリマーを再沈殿により精製し、40℃で減圧乾燥して4.9gの樹脂2を得た。
1H-NMRによる分析の結果、得られた樹脂2(下記式)は式(1)及び式(2)で表される構造単位をそれぞれ39モル%、及び61モル%有していることを確認した。
光架橋性樹脂の合成は特開2018-154814の方法を参照して合成した。
桂皮酸クロリドをクマリン-6-カルボン酸クロリドに変えた以外は、合成例2と同様の手法で、樹脂3を得た。
1H-NMRによる分析の結果、得られた樹脂3(下記式)は式(1)及び式(2)で表される構造単位をそれぞれ75モル%、及び25モル%有していることを確認した。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例2で得られた樹脂 24mg、合成例1で得られたフッ素系樹脂 6mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例3で得られた樹脂 24mg、合成例1で得られたフッ素系樹脂 6mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例4で得られた樹脂 24mg、合成例1で得られたフッ素系樹脂6mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例1で得られたフッ素系樹脂30mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例2で得られた樹脂 30mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例3で得られた樹脂 30mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
空気下、2mlサンプル管に、m-キシレン2g、合成例4で得られた樹脂 30mgを加え常温で溶解させることで、組成物溶液を調製した。その後、上記の耐溶剤性、撥液性、隔壁形成、残渣評価を行った。耐溶剤性、撥液性、隔壁形成の結果は表1と残渣評価の結果は表2に示す。
Claims (6)
- 式(1)で表される残基単位及び式(2)で表される残基単位を含む樹脂(A)と、
エチレン性不飽和単量体残基単位を含む式(7)で表される残基単位を有するフッ素系樹脂(B)を含む樹脂組成物。
- 樹脂(A)が、式(2)で表される残基単位を5モル%以上80モル%以下含む請求項1に記載の樹脂組成物。
- フッ素系樹脂(B)が、エチレン性不飽和単量体残基単位を10モル%以上95モル%以下含む請求項1乃至2いずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 樹脂(A)を50wt%以上95wt%以下含み、かつ、フッ素系樹脂(B)を5wt%以上50wt%以下含む請求項1乃至3いずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 有機溶媒をさらに含む請求項1乃至4いずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 請求項1乃至5いずれか一項に記載の樹脂組成物の光架橋物を含む電子デバイス。
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