JP6992546B2 - 光架橋性重合体、絶縁膜、平坦化膜、親撥パターニング膜及びこれを含む有機電界効果トランジスタデバイス - Google Patents
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Description
以下に本発明を詳細に説明する。
式(1)中、kは0~(s-1)の整数を表す。ここで、sはA1を構成する炭素数を表す。
式(1)及び式(2)の反復単位を有する樹脂に対する前述の酸クロリドの仕込み量は、得られる樹脂の有機溶剤に対する溶解性、及び保存安定性を高めるため、該樹脂が含有する芳香族基1モルに対し0.2~2.0モルであることが好ましく、さらに好ましくは0.2~1.5モルである。反応で芳香族基に導入される光反応性基の量は、有機溶剤に対する溶解性、保存安定性、光架橋のし易さ、及び光架橋後の樹脂層の耐溶剤性(耐クラック性)の観点から、0.2~1.0モルであることが好ましく、更に好ましくは0.2~0.7モルである。
また、式(1)及び式(2)の反復単位を有する樹脂は、例えば、下記に示すような光反応性基の2量化物を含んでいても良い。
上式(1)及び上式(2)の反復単位を有する樹脂を溶剤に溶解させた溶液を用いて種々の基材上に塗工又は印刷することが出来る。
<NMR>
JNM-ECZ400S FT-NMR(日本電子(株)製)を用いて測定した。なお、芳香族基中の光環化基のモル分率Xは1H-NMR測定により得られたピークの積分強度を用いて下記式により求めることが出来る。
(ここで、I1はδ0.8~δ2.04ppmに存在するピークの積分値を、I2はδ6.50~δ7.6ppmに存在するピークの積分値を表し、Pは光環化基に存在する水素の総数を、Nはメチレン、メチン、及びメチル基の総数を、Mは芳香族基の水素の総数を表す。)
<スピンコート>
ミカサ株式会社製MS―A100を用いた。
<膜厚測定>
ブルカー社製DektakXTスタイラスプロファイラーを用いて測定した。
<ディスペンサー印刷>
武蔵エンジニアリング(株)製IMAGE MASTER 350PC SMARTを用いた。
<UV照射>
(株)ジーエス・ユアサ コーポレーション製UV-System、CSN-40A-2を用い、UV強度4.0kWの条件で、搬送速度を変えてUV照射時間を調整した。
<真空蒸着>
アルバック機工社製 小型真空蒸着装置VTR-350M/ERHを用いた。
<架橋に必要なUV照射量>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(コーニング社製Eagle XG)上に樹脂の溶液を膜厚500nmとなるようにスピンコート製膜し、十分に乾燥させた。この時点の初期膜厚(A)を測定した上で、UV照射量を変えて得られた架橋膜をトルエンに1時間浸漬、乾燥後の膜厚(B)を測定した。これらの膜厚を用い、下記式
残膜率=膜厚(B)/初期膜厚(A)×100
で与えられる残膜率が95%以上となるUV照射量を架橋に必要な照射量とした。
<高分子誘電体層の溶剤に対する濡れ性>
樹脂の架橋膜上に表面張力が異なる5種の溶剤(トルエン、テトラリン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン)をそれぞれ1μl滴下した。S電極及びD電極を覆う適量の有機半導体溶液を塗布したとき、液滴を塗布した瞬間の形状を維持するか、又は濡れ広がれば、電極上をくまなく覆うことが出来るため、この場合を良好(1点)として評価した。一方、該液滴が収縮する場合、及び/又は移動する場合には電極上を覆うことが出来なくなるため、液が収縮及び/又は移動した場合を不良(0点)として評価した。全ての溶剤で良好な結果が得られた場合5点となる。
<絶縁破壊強度>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(コーニング社製Eagle XG)に銀を真空蒸着し、厚み30nmの電極を形成した。その後、電極を形成した基材上に誘電体(絶縁体)を製膜し、誘電体層上に金電極を真空蒸着してMIMコンデンサを作製して上記の銀-金電極間に電圧をかけて、絶縁破壊により電流が誘電体層内部を流れ始める電圧を測定し、誘電体層の厚みで割った値を絶縁破壊強度とした。
<FET素子の評価>
有機電界効果トランジスタの一形態であるボトムゲート・ボトムコンタクト(BGBC)型素子を作製し、ケースレイ社製半導体パラメータアナライザーSCS4200を用い、ソース・ドレイン間電圧をマイナス60ボルトとして、ゲート電圧を変化させることにより、移動度、漏洩電流、オン電流/オフ電流比、ソース・ドレイン間電流のヒステリシス、閾値電圧を評価した。
<耐溶剤性(耐クラック性)>
サイズ5cm×5cm、厚み100ミクロンのPETフィルム(帝人デュポンフィルム製)上に、スピンコータ―を用いて厚み600nmの絶縁膜を形成後、光環化(光架橋)を行った。このフィルムをトルエンに1時間浸漬後、取り出して常温でトルエンを揮発させ、フィルム表面を形状測定レーザーマイクロスコープ((株)キーエンス製VK-X100)によりフィルム表面上のミクロクラックの有無を確認した。
<VUV照射>
ウシオ電機株式会社製SUS740を用いて照射時間を調整して照射した。
<ブレードコート>
オールグッド株式会社製自動フィルムアプリケーター100-5と膜厚調整機能付フィルムアプリケーター064-13とを用いてブレードコートした。
<ポリパラキシリレン(パリレン)膜の形成>
日本パリレン合同会社製PDS2010にパリレンダイマーを投入し、化学気相成長法により膜を形成した。
<親撥パターニング性能の評価>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(基材)(コーニング社製Eagle XG)に樹脂のキシレン溶液(3wt%)を500rpm×5秒、1500rpm×20秒の条件でスピンコートし、50℃で1分間乾燥した後、紫外線を照射して架橋した平坦化膜を形成した。その後、ライン・アンド・スペースが5ミクロンから50ミクロンのクロムパターンを有するフォトマスクを介して真空紫外線(VUV)を照射し平坦化膜の表面を親液部と撥液部にパターニングした。本基板を70℃に加熱した自動フィルムアプリケーター本体に設置し、Agナノインクを滴下後、140mm/sの速さで膜厚調整機能付フィルムアプリケーターを移動させて塗工し、120℃で30分焼成した。形成された全パターンを観察し、欠陥なく形成されたパターンの中で最も小さいライン・アンド・スペースの値を解像度とした。
(実施例1)
<樹脂の合成>
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に重量平均分子量28万のポリスチレン(以下、「原料ポリマーA」という)5.0g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド4.0gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した30mLの滴下ロートにトリフルオロメタンスルホン酸(以下、「TFMS」という)9.0gを仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートからTFMSを10分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で28時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム10.6gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過後、1.5Lのメタノールで再沈殿させ、ポリマーを濾過により単離する操作を2回行った後、50℃で減圧乾燥して6.8gの樹脂1を得た。
<FET素子の作成及び評価>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(基材)(コーニング社製Eagle XG)にアルミニウムを真空蒸着し、厚み50nmのゲート電極を形成した。電極が形成された基材の上に、得られた樹脂1のトルエン溶液(3wt%)を500rpm×5秒、1000rpm×20秒の条件でスピンコートし、50℃で5分間乾燥した後(絶縁膜の形成)、400mJ/cm2の紫外線を照射して架橋した膜厚520nmの高分子誘電体層を形成した。ゲート電極及び高分子誘電体層が形成された基材上に金を真空蒸着して厚み50nm、チャンネル長100μm、電極幅500μmのソース電極、及びドレイン電極を形成した。その後、直ちにペンタフルオロベンゼンチオール30mmolのイソプロパノール溶液に浸漬し、5分間経過した時点で取り出し、イソプロパノールで洗浄後、ブロー乾燥した。その後、有機半導体(ジ-n-ヘキシルジチエノベンゾジチオフェン)の0.8wt%トルエン溶液60nLをディスペンサにより印刷した。溶剤を揮発させ50℃で1時間乾燥した後、ボトムゲート・ボトムコンタクト(BGBC)型の有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に示す。
(実施例2)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマーA110g、脱水した塩化メチレン260mL、桂皮酸クロリド19.2gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した100mLの滴下ロートにTFMS26gを仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートからTFMSを10分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で55時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム36gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過した。引き続き、本濾液をシリカゲルカラムに通して不純物を除去、脱色した後、3Lのメタノールで再沈殿させた。更に、ポリマーを再沈殿により精製し、50℃で減圧乾燥して18.2gの樹脂2を得た。
実施例2により製造した樹脂2を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例3)
桂皮酸クロリドをクマリン-6-カルボン酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂3を得た。
得られた樹脂3を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例4)
桂皮酸クロリドをクマリン-6-カルボン酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂4を得た。
得られた樹脂4を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例5)
桂皮酸クロリドをピリジニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂5を得た。
得られた樹脂5を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例6)
桂皮酸クロリドをピリジニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂6を得た。
得られた樹脂6を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例7)
桂皮酸クロリドをフェニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂7を得た。
得られた樹脂7を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例8)
桂皮酸クロリドをフェニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、実施例1と同様の手法で、樹脂8を得た。
得られた樹脂8を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(実施例9)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に重量平均分子量15万、ポリスチレン含有量が65wt%のポリスチレン-b-ポリ(エチレン・プロピレン)-b-ポリスチレン(SEPS)(以下、「原料ポリマーB」という)4.01g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド4.5gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。次に、シュレンク管を0℃以下に冷却し、TFMS6.2gを注射器を用いて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で24時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム6.9gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過した。引き続き、本濾液をシリカゲルカラムに通して不純物を除去、脱色した後、1.5Lのメタノールで再沈殿させた。更に、ポリマーを2回再沈殿により精製し、40℃で減圧乾燥して5.6gの樹脂9を得た。
<親撥パターニング性能の評価>
5~50ミクロンのライン・アンド・スペースのパターン全てで良好な描画ができており、5ミクロンの解像度があることを確認した。また得られた膜の表面粗さは0.3nmであり平坦性にも優れていた。
<有機TFT素子の作成及び評価>
洗浄、乾燥した30×30mm2のガラス(基材)(コーニング社製Eagle XG)に得られた樹脂9のキシレン溶液(3wt%)を500rpm×5秒、1500rpm×20秒の条件でスピンコートし、50℃で1分間乾燥した後、100mJ/cm2の紫外線を照射して架橋した膜厚100nmの下地膜を形成した。その後、フォトマスクを介してVUVを180秒照射し下地膜の表面を親液性と撥液性にパターニングした。本基板を70℃に加熱した自動フィルムアプリケーター本体に設置し、Agナノインクを滴下後、140mm/sの速さで膜厚調整機能付フィルムアプリケーターを移動させて塗工し、120℃30分焼成することで、厚さ500nm、チャネル長5μm、チャネル長500μm、電極幅100μmのソース電極、及びドレイン電極を形成した。その後、直ちにペンタフルオロベンゼンチオール30molのイソプロパノール溶液に浸漬し、5分間経過した時点で取り出し、イソプロパノールで洗浄後、ブロー乾燥した。その後、有機半導体(ジ-n-ヘキシルジチエノベンゾチオフェン)の0.8wt%キシレン/テトラリン混合溶液をスピンコートにより成膜した。溶剤を揮発させるため90℃で20分間乾燥した。その後、得られた基板とパリレンダイマー0.6gを真空蒸着器中に入れ、真空中で加熱してパリレンダイマーを気化させ、基板上で重合させて厚さ430nmのポリパラキシリレンからなるゲート絶縁層を成膜した。その後、フォトマスクを介してVUVを180秒照射しゲート絶縁膜の表面を親液性と撥液性にパターニングした。本基板を70℃に加熱した自動フィルムアプリケーター本体に設置し、Agナノインクを滴下後、140mm/sの速さで塗工し、90℃20分焼成することで、厚さ500nmのゲート電極を形成し、トップゲート・ボトムコンタクト(TGBC)型の有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタの構成を図4、評価結果を表1に合わせて示す。
(実施例10)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマーB4.01g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド5.99gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。次に、シュレンク管を0℃以下に冷却し、TFMS8.2gを注射器を用いて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で25時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム9.14gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過した。引き続き、本濾液をシリカゲルカラムに通して不純物を除去、脱色した後、1.5Lのメタノールで再沈殿させた。更に、ポリマーを再沈殿により精製し、40℃で減圧乾燥して6.0gの樹脂10を得た。
<親撥パターニング性能の評価>
実施例9と同様の手法により評価し、5~50ミクロンのライン・アンド・スペースのパターン全てで良好な描画ができており、5ミクロンの解像度があることを確認した。得られた膜の表面粗さは0.3nmであり平坦性にも優れていた。
<有機TFT素子の作成及び評価>
実施例9と同様の手法によりトップゲート・ボトムコンタクト(TGBC)型の有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタの評価結果を表1に合わせて示す。
(実施例11)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマーB3.0g、脱水した塩化メチレン150mL、桂皮酸クロリド6.3gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。次に、シュレンク管を0℃以下に冷却し、TFMS8.44gを注射器を用いて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で29時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム9.45gを溶解させた飽和水溶液を添加してTFMS及び系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過した。引き続き、本濾液をシリカゲルカラムに通して不純物を除去、脱色した後、1.5Lのメタノールで再沈殿させた。更に、ポリマーを再沈殿により精製し、40℃で減圧乾燥して4.9gの樹脂11を得た。
<親撥パターニング性能の評価>
実施例9と同様の手法により評価し、5~50ミクロンのライン・アンド・スペースのパターン全てで良好な描画ができており、5ミクロンの解像度があることを確認した。た得られた膜の表面粗さは0.3nmであり平坦性にも優れていた。
<有機TFT素子の作成及び評価>
実施例9と同様の手法によりトップゲート・ボトムコンタクト(TGBC)型の有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタの評価結果を表1に合わせて示す。
(比較例1)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマー5.0g、脱水した塩化メチレン150mL、無水塩化アルミニウム3.9gを仕込み、室温、撹拌下で溶解させた。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した30mLの滴下ロートに桂皮酸クロリド4.0gの塩化メチレン溶液30mlを仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートから桂皮酸クロリドを10分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で28時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、35%塩酸水溶液20mlを滴下した。この状態で5時間撹拌後、反応溶液を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。この塩化メチレン層を4回繰り返し水洗した。水層は塩化メチレンで3回抽出し、分液した。得られた塩化メチレン層を合わせて3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過後、1.5Lのメタノールで再沈殿させ、ポリマーを濾過により単離する操作を2回行った後、50℃で減圧乾燥して5.9gの樹脂12を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例2)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマー5.0g、脱水した塩化メチレン150mL、無水塩化アルミニウム1.2gを仕込んだ。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した30mLの滴下ロートに桂皮酸クロリド1.3gを塩化メチレン20mLに溶解させた溶液を仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートから桂皮酸クロリドを10分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で28時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム2.1gを溶解させた飽和水溶液を添加して系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過後、1.5Lのメタノールで再沈殿させ、ポリマーを濾過により単離する操作を2回行った後、50℃で減圧乾燥して4.7gの樹脂13を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例3)
窒素ボックス内で300mLのシュレンク管に原料ポリマー5g、脱水した塩化メチレン150mL、無水塩化アルミニウム2.2gを仕込んだ。上部に3方コックを取り付け、下部を密閉した20mLの滴下ロートに桂皮酸クロリド2.3gを塩化メチレン50mLに溶解させた溶液を仕込んだ。上記のシュレンク管と滴下ロートを窒素ボックスから取り出し、窒素シールした状態でシュレンク管と滴下ロートを連結させた。シュレンク管への窒素フローを停止し、滴下ロート上部の3方コックを塩化カルシウム管に連結後、窒素フローを停止した。次に、シュレンク管を氷水で冷却し、滴下ロートから桂皮酸クロリドを9分かけて滴下した。滴下とともにポリマー溶液の色は赤紫色に着色した。滴下終了後、氷水浴を除き、室温で28時間反応させた。反応溶液を再度、氷水で冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム3.9gを溶解させた飽和水溶液を添加して系内の塩酸を中和した。反応物を分液ロートに移し、塩化メチレン層を分離した。更に水層を塩化メチレンで3回洗浄、分液してポリマーの塩化メチレン溶液を得た。この溶液を3μmのテフロン(登録商標)フィルターで濾過後、1.5Lのメタノールで再沈殿させ、ポリマーを濾過により単離する操作を2回行った後、50℃で減圧乾燥して4.9gの樹脂14を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例4)
桂皮酸クロリドをクマリン-6-カルボン酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂15を得た。以下に1H-NMR(400MHz,CDCl3)による分析結果、及びポリマーの構造式を示す。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例5)
桂皮酸クロリドをクマリン-6-カルボン酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂16を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例6)
桂皮酸クロリドをピリジニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂17を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例7)
桂皮酸クロリドをピリジニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂18を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例8)
桂皮酸クロリドをフェニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂19を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
(比較例9)
桂皮酸クロリドをフェニルエテニル安息香酸クロリドに変えた以外は、比較例1と同様の手法で、樹脂20を得た。
得られた樹脂を用いて実施例1と同様の手法を用いて絶縁膜を形成後、有機電界効果トランジスタデバイスを作製した。作製した有機電界効果トランジスタデバイスの構成、評価結果等を表1に合わせて示す。
Claims (5)
- 式(1)及び式(2)で表される反復単位からなる樹脂又は式(1)及び式(2)で表される反復単位及びエチレン・プロピレンからなる樹脂であって、式(1)及び式(2)の反復単位の総数に対して式(2)の反復単位を20モル%以上含む樹脂。
- 請求項1に記載の樹脂の架橋物を含有することを特徴とする絶縁膜。
- 基板上に、ソース電極及びドレイン電極を付設した有機半導体層とゲート電極とをゲート絶縁層を介して積層した有機電界効果トランジスタデバイスにおいて、該ゲート絶縁層が請求項2に記載の絶縁膜であることを特徴とする有機電界効果トランジスタデバイス。
- 請求項1に記載の樹脂および/または請求項1に記載の樹脂の架橋物を含有することを特徴とする平坦化膜。
- 請求項1に記載の樹脂および/または請求項1に記載の樹脂の架橋物を含有することを特徴とする親撥パターニング膜。
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