本発明の目的、特色、および利点は、下記の詳細な説明と図面とからより明確になるであろう。
まず、本開示の表示装置が基礎とする構成について説明する。従来から、複数の表示装置を平面状に並べてタイリングして構成される、マルチディスプレイまたはタイリングパネルとも呼ばれる大型の複合型表示装置が知られている。複合型表示装置を構成する複数の自発光型の表示装置は、有効表示領域の外側の非表示領域となる額縁部を、極力小さくするかなくすことが要望されている。また、個々の表示装置は、発光素子を一方主面(表面)側に搭載するための基板と、基板の他方主面(裏面)側に設置される駆動部と、発光素子と駆動部を電気的に接続し、基板の側面に配置される側面配線と、を備える場合がある。この場合、基板の一方主面上の端縁部に、側面配線に接続される一方主面側の側面配線接続パッドが位置し、基板の他方主面上の端縁部に、側面配線に接続される他方主面側の側面配線接続パッドが位置している。
上記の構成は、発光素子としてマイクロLED(μLED)素子を備えた自発光型の表示装置に適用される場合があった。また従来、有機EL(Electroluminescence)素子を備えた有機EL表示装置も提案されている。有機EL表示装置を構成する基板の第1面(表面であり表示側の面)には、有機EL素子を駆動制御する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を含む画素回路を備えた複数の画素部が、マトリクス状に配置されている(例えば、前述の特許文献1~5を参照。)
上記の構成の自発光型の表示装置の複数を結合させて複合型表示装置、所謂マルチディスプレイを構成する場合、以下の点が重要である。即ち、一つの表示装置における結合される辺部の最外配列部に配列された複数の画素部と、上記一つの表示装置に結合される他の表示装置における結合される辺部の最外配列部に配列された複数の画素部と、の間の画素ピッチ(結合部画素ピッチともいう)を、最外配列部以外に配列された複数の画素部の画素ピッチ(非結合部画素ピッチともいう)に近似させるか、非結合部画素ピッチと同じにすることが望まれる。それは、結合部画素ピッチが非結合部画素ピッチよりも大きいと、結合部での表示画像の連続性が失われやすくなり、視認者が表示画像に違和感を感じたり、結合部が目視されやすくなる、という理由による。
自発光型の表示装置において、複数の画素部の各画素部は、発光素子の発光/非発光を制御する発光制御信号を供給する発光制御信号線が接続される。そして、発光制御信号線に接続される接続パッドが、基板の一方主面上における、複数の画素部を含む表示部(有効部)の外側の額縁部(非有効部)に配置される。この接続パッドは、導電性ペーストを塗布し焼成して形成される側面配線にも接続されることから、薄膜形成法によって形成される発光制御信号線、発光素子に接続される画素部の電極パッド等と比較して、微細化することが難しい。従って、複数の接続パッドを、基板の一辺において、狭ピッチ化された画素ピッチに対応づけて配置しようとすると、接続パッド間の間隔が小さくなり、複数の接続パッドの全体の配置が困難になる場合があった。また、接続パッドの面積を小さくすると、側面配線との接続面積が小さくなり、接続抵抗が大きくなる。それにより、表示ムラ等が生じて表示品位が劣化する場合があった。また、複数の接続パッド間の間隔が小さくなると、接続パッド同士の間で電気的な短絡を生じるおそれがあった。
そこで、基板の一辺において、複数の接続パッドの全てを、画素ピッチに厳密に対応づけずに額縁部に配置しようとすると、額縁部の幅および長さが大きくなりやすい。額縁部の幅が大きくなると、結合部画素ピッチが狭ピッチ化された非結合部画素ピッチよりも大きくなりやすい。即ち、結合部画素ピッチを非結合部画素ピッチと同等にすることが難しくなる。また、基板の一辺に沿った方向における額縁部の長さが長くなると、結果的に基板の一辺に隣接する辺における額縁部の幅が大きくなる。
また、額縁部を小さくするために、基板の一辺において、最外部の画素部間に接続パッドを配置する構成も考えられる。しかしながら、基板の一辺に沿って配置できる接続パッドの数は(画素数-1)個であり、基板の一辺にすべての接続パッドを配置することができない、という課題が生ずる。従来から、上述した各種の課題を解決し得る技術が求められている。
以下、添付図面を参照して、本開示の表示装置の各種実施形態について説明する。
本開示の表示装置は、図1に示すように、第1辺m1およびそれに隣接する第2辺m2を有する基板2と、基板2上に位置する複数の発光素子6(図3に示す)と、基板2上に位置し、発光素子6の発光/非発光を制御する複数の発光制御信号線L1,L2と、基板2上の第1辺m1側の端縁部2e1および第2辺m2側の端縁部2e2に位置し、複数の発光制御信号線L1,L2のそれぞれに接続される接続パッド8と、を備える構成である。なお、図1において、符号3は画素部を示し、複数の画素部3のそれぞれには発光素子6が備わっている。複数の画素部3は、基板2の第1面2a上の有効領域Aに、例えばマトリクス状に配列されている。
本開示の表示装置は、上記の構成により以下の効果を奏する。微細化が難しい複数の接続パッド8を、基板2上の第1辺m1側の端縁部2e1および第2辺m2側の端縁部2e2に配置することから、複数の接続パッド8同士の間の間隔を、電気的な短絡が生じにくい間隔として配置することができる。その結果、複数の接続パッド8同士の間で電気的な短絡が生じること、および額縁部(端縁部2e1,2e2にほぼ相当する)が大きくなることを抑えて、基板2上に配置することができる。また、複数の接続パッド8を、額縁部をより小さくして基板2上に配置することも可能となる。
端縁部2e1は、第1辺m1に沿った辺縁部であり、基板2の第1面2a上における第1辺m1から第1面2aの中央側に向かって10μm~500μm程度の幅を有する部位であるが、この幅の値に限らない。また端縁部2e1の幅は、画素ピッチの1/2程度以下であってもよい。端縁部2e2および端縁部2e3(図2に示す)も、端縁部2e1と同様の構成である。接続パッド8は、1辺の長さが50μm~500μm程度、好適には70μm~300μm程度の矩形状であるが、1辺の長さはこれらの値に限らない。また、接続パッド8の形状は、5角形状等の多角形状、台形状、円形状、楕円形状等の種々の形状であってもよい。なお、「~」は「乃至」を意味し、以下同様とする。
本開示の表示装置は、発光素子6の発光/非発光を制御する複数の発光制御信号線L1,L2を有しており、発光制御信号線L1,L2は以下のような構成および機能を有する。図11に示すように、表示装置は、基板2の第1面2a上の所定の方向(例えば、行方向)に配置された走査信号線(ゲート信号線)102と、走査信号線102と交差させて所定の方向と交差する方向(例えば、列方向)に配置された発光制御信号線L1(L2)と、走査信号線102と発光制御信号線L1(L2)によって区分けされた複数の画素部3と、各画素部3に備わった発光素子6と、を有する。走査信号線102及び発光制御信号線L1(L2)は、基板2の側面2cに配置された側面配線10を介して基板2の第2面(裏面)2bにある裏面配線に接続される。裏面配線は、第2面2bに設置されたIC,LSI等の駆動素子等の駆動部に接続される。即ち、表示装置は基板2の裏面にある駆動部によって表示が駆動制御される。
各画素部3には、発光素子6の発光、非発光、発光強度等を制御するための発光制御部122が配置されている。発光制御部122は、発光素子6のそれぞれに発光信号を入力するためのスイッチ素子としての薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)112と、発光制御信号(発光制御信号線L1(L2)を伝達する信号)の電圧レベルに応じた、正電圧(アノード電圧:3~15V程度)と負電圧(カソード電圧:-3V~3V程度)の電位差(発光信号)に基づいて発光素子6を電流駆動するための駆動素子としてのTFT113と、を含む。即ち、発光制御信号線L1(L2)は、TFT112のソース電極に接続されており、発光制御信号の電圧レベルによってTFT113のゲート電圧が制御され、ゲート電圧レベルに応じたTFT113ソース-ドレイン間電流によって、発光素子6の輝度を制御する。TFT113のゲート電極とソース電極とを接続する接続線上には容量素子が配置されており、容量素子はTFT113のゲート電極に入力された発光制御信号の電圧を次の書き換えまでの期間(1フレームの期間)保持する保持容量として機能する。
発光素子6は、その下方にある絶縁層を貫通するスルーホール等の貫通導体123a,123bを介して、発光制御部122、正電源(VDD)入力線116、負電源(VSS)入力線117に電気的に接続されている。即ち、発光素子6の正電極は、貫通導体123a及び発光制御部122を介して正電源入力線116に接続されており、発光素子6の負電極は、貫通導体123bを介して負電源入力線117に接続されている。
図1は、本開示の一実施形態の表示装置1aの概略的構成を示す平面図である。自発光型の表示装置1aは以下の構成を有する。複数の接続パッド8は、基板2上の第1辺m1側の端縁部2e1に第1辺m1に沿って位置し、複数の発光素子6のうち第1群3aの発光素子6のそれぞれの発光/非発光を制御する第1発光制御信号線L1に接続される複数の第1接続パッド81と、基板2上の第2辺m2側の端縁部2e2に位置し、複数の発光素子6のうち第2群3bの発光素子6の発光/非発光を制御する第2発光制御信号線L2に接続される第2接続パッド82と、を含む。この構成の場合、複数の接続パッド8のうち大部分である複数の第1接続パッド81を、短絡が生じにくい間隔でもって端縁部2e1に配置し、端縁部2e1に配置しきれなかった第2接続パッド82を端縁部2e2に配置することができる。その結果、複数の接続パッド8同士の間で電気的な短絡が生じること、および額縁部が大きくなることを確実に抑えて、基板2上に配置することができる。短絡が生じにくい間隔は、30μm~100μm程度であるが、これらの値に限らず適宜設定することができる。第2群3bの発光素子6は、マトリクス状に配列された複数の画素部3のうち、第2辺m2に最も近い1列に含まれる画素部3の群に備わった発光素子6であってもよい。例えば、第2群3bの発光素子6が、マトリクス状に配列された複数の画素部3のうち、第2辺m2に最も近い2列に含まれる画素部3の群に備わった発光素子6である場合、第2接続パッド82は2つあってもよい。さらに第2接続パッド82は3つ以上あってもよい。
図1の表示装置において、基板2上の第2辺m2側の端縁部2e2に、第2発光制御信号線L2以外の配線に接続される他の接続パッドが位置しており、第2接続パッド82は、他の接続パッドよりも第1辺に近接する位置にある構成であってもよい。この構成の場合、図5に示すように、第1発光制御信号線L1における第1接続パッド8と直近の画素部3(発光素子6)とを接続する接続部位の長さ(長さL1cとする)と、第2発光制御信号線L2における第2接続パッド82と直近の画素部3b1とを接続する接続部位の長さ(長さL2cとする)と、を近づけることができる。即ち、L1cとL2cとの差をほぼ最小にすることができる。その結果、第1発光制御信号線L1の長さと第2発光制御信号線L2の長さとを、ほぼ同じとすることができ、第1発光制御信号線L1の抵抗と第2発光制御信号線L2の抵抗をほぼ同じにすることができる。従って、第1発光制御信号線L1と第2発光制御信号線L2とに、同じ発光制御信号を入力したときに、第1発光制御信号線L1を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルと、第2発光制御信号線L2を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルとが、異なるという問題点が発生することを抑えることができる。その結果、表示装置の表示品位が向上する。また、第2接続パッド82の存在によって、基板2の第2面2bの側に位置する各種配線のレイアウトの自由度が妨げられることを抑えることができる。したがって、基板2の第2面2bの側に位置する各種配線のレイアウトが容易になる。
また第2接続パッド82は、複数の第1接続パッド8のうち最も第2辺m2の近くに位置する第1接続パッド81aに隣接する構成であってもよい。この構成の場合、上記の各種の効果がより向上する。
上記の他の接続パッドは、発光素子6に電源電流を供給する電源配線に接続される電源接続パッド181(図9に示す)であってもよく、ゲート信号線4に接続される第5接続パッド18(図9に示す)であってもよい。
図1の表示装置1aにおいて、図5に示すように、複数の発光素子6は、基板2上の第1辺m1側の端縁部2e1に第1辺m1に沿って位置する複数の最外部発光素子6mを含み、第1接続パッド81は、複数の最外部発光素子6m同士の間に位置している構成であってもよい。この構成の場合、基板2の第1辺m1において、最外部の画素部3間に第1接続パッド81を配置することができることから、第1辺m1における額縁部をより小さくすることができる。ただし、基板2の第1辺m1に沿って配置できる接続パッド8の数は(画素数-1)個であり、基板2の第1辺m1にすべての接続パッド8を配置できない。そこで、余った1個の接続パッド8(第2接続パッド82)を第2辺m2の側の端縁部2e2に配置する。
また図5に示すように、表示装置1aにおいて、第2群3bの発光素子6は、第2辺m2側の端縁部2e2に沿って位置し、第2接続パッド82は、第2群3bの発光素子6同士の間に位置している構成であってもよい。この構成の場合、基板2の第2辺m2において、最外部の画素部3間に第2接続パッド82を配置することができることから、第2辺m2における額縁部をより小さくすることができる。
また図7に示すように、表示装置1bにおいて、第2接続パッド82の大きさが第1接続パッド81の大きさよりも大きい構成であってもよい。この構成の場合、第2発光制御信号線L2における第2接続パッド82と直近の画素部3b1とを接続する接続部位の長さL2cを短くして、L1cにより近づけることができる。L1cとL2cをほぼ同じにすることもできる。その結果、第1発光制御信号線L1の長さと第2発光制御信号線L2の長さとを、より同じに近づけることができ、第1発光制御信号線L1の抵抗と第2発光制御信号線L2の抵抗を、より同じに近づけることができる。従って、第1発光制御信号線L1と第2発光制御信号線L2とに、同じ発光制御信号を入力したときに、第1発光制御信号線L1を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルと、第2発光制御信号線L2を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルとが、異なるという問題点が発生することをより抑えることができる。それにより、表示装置1bの表示品位が向上する、という効果も奏する。
上記の目的効果をより効果的に達成するために、第2接続パッド82の第2辺m2に沿った方向の長さが、第1接続パッド81の第1辺m1に沿った方向の長さよりも長い構成であってもよい。さらに、図7に示すように、第2接続パッド82は、第1辺m1と第2辺m2間の角部側に延出する延出部を有していてもよい。すなわち、第2接続パッド82は、第2辺m2に沿って第1辺m1側に向かって延出する延出部82eを有していてもよい。延出部82eの幅が第2接続パッド82の本体部の幅よりも小さくてもよい。この構成の場合、第2辺m2における額縁部の幅が大きくなることを抑えることができる。
表示装置1aにおいて、図3に示すように、基板2は、複数の発光素子6が位置する側の第1面2aと、第1面2aと反対側の第2面2b(図4に示す)と、第1面2aと第2面2bをつなぐ側面2cと、第1面2aの端縁部から側面2cを介して第2面2bの端縁部にかけて位置する側面配線10と、を有し、第1接続パッド81および第2接続パッド82は、それぞれ側面配線10に接続されている構成であってもよい。この構成の場合、基板2の第2面2bの側に駆動部を配置し、側面配線10を介して画素部3と駆動部とを電気的に接続することができる。その結果、従来額縁部に配置する場合があった駆動部を第2面2bの側に配置することができることから、狭額縁化に有利である。
図2は、他の実施形態の表示装置1bの概略的構成を示す平面図である。なお、前述の実施形態と対応する部分には同一参照符を付す。本実施形態に係る自発光型の表示装置1bは以下の構成を有する。基板2は、第1辺m1に隣接するとともに第2辺m2に対向する第3辺m3を有し、基板2上の第3辺m3側の端縁部2e3に位置し、複数の発光素子6のうち第3群3cの発光素子6の発光/非発光を制御する第3発光制御信号線L3に接続される第3接続パッド83を備える構成であってもよい。この構成の場合、複数の接続パッド8のうち大部分である複数の第1接続パッド81を、短絡が生じにくい間隔でもって端縁部2e1に配置し、端縁部2e1に配置しきれなかった、第2接続パッド82および第3接続パッド83を端縁部2e2,2e3に配置することができる。その結果、複数の接続パッド8同士の間で電気的な短絡が生じること、および額縁部が大きくなることをより確実に抑えて、基板2上に配置することができる。第3群3cの発光素子6は、マトリクス状に配列された複数の画素部3のうち、第3辺m3に最も近い1列に含まれる画素部3の群に備わった発光素子6であってもよい。例えば、第3群3cの発光素子6が、マトリクス状に配列された複数の画素部3のうち、第3辺m3に最も近い2列に含まれる画素部3の群に備わった発光素子6である場合、第3接続パッド83は2つあってもよい。さらに第2接続パッド82は3つ以上あってもよい。
表示装置1bにおいて、図6に示すように、基板2上の第3辺m3側の端縁部2e3に、第3発光制御信号線L3以外の配線に接続される他の接続パッドが位置しており、第3接続パッド83は、他の接続パッドよりも第1辺m1に近接する位置にある構成であってもよい。この構成の場合、上記の長さL1cと、第3発光制御信号線L3における第3接続パッド83と直近の画素部3c1とを接続する接続部位の長さ(長さL3cとする)と、を近づけることができる。即ち、L1cとL3cとの差をほぼ最小にすることができる。その結果、第1発光制御信号線L1の長さと第3発光制御信号線L3の長さとを、ほぼ同じとすることができ、第1発光制御信号線L1の抵抗と第3発光制御信号線L3の抵抗をほぼ同じにすることができる。従って、第1発光制御信号線L1と第3発光制御信号線L3とに、同じ発光制御信号を入力したときに、第1発光制御信号線L1を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルと、第3発光制御信号線L3を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルとが、異なるという問題点が発生することを抑えることができる。それにより、表示装置1bの表示品位が向上する、という効果も奏する。また、第3接続パッド83の存在によって、基板2の第2面2bの側に位置する各種配線のレイアウトの自由度が妨げられることを抑えることができる。したがって、基板2の第2面2bの側に位置する各種配線のレイアウトが容易になる。
また第3接続パッド83は、複数の第1接続パッド8のうち最も第3辺m3の近くに位置する第1接続パッド81bに隣接する構成であってもよい。この構成の場合、上記の各種の効果がより向上する。
上記の他の接続パッドは、発光素子6に電源電流を供給する電源配線に接続される電源接続パッドであってもよく、ゲート信号線4に接続される接続パッドであってもよい。
表示装置1bは、図6に示すように、第3群3cの発光素子6は、第3辺m3側の端縁部2e3に沿って位置し、第3接続パッド83は、第3群3cの発光素子6同士の間に位置している構成であってもよい。この構成の場合、基板2の第3辺m3において、最外部の画素部3間に第3接続パッド83を配置することができることから、第3辺m3における額縁部をより小さくすることができる。
表示装置1bにおいて、図7に示すように、第3接続パッド83の大きさが第1接続パッド81の大きさよりも大きい構成であってもよい。この構成の場合、第3発光制御信号線L3における第3接続パッド83と直近の画素部3c1とを接続する接続部位の長さL3cを短くして、L1cにより近づけることができる。L1cとL3cをほぼ同じにすることもできる。その結果、第1発光制御信号線L1の長さと第3発光制御信号線L3の長さとを、より同じに近づけることができ、第1発光制御信号線L1の抵抗と第3発光制御信号線L3の抵抗を、より同じに近づけることができる。従って、第1発光制御信号線L1と第3発光制御信号線L3とに、同じ発光制御信号を入力したときに、第1発光制御信号線L1を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルと、第3発光制御信号線L3を伝送される発光制御信号の電流値および電圧レベルとが、異なるという問題点が発生することをより抑えることができる。
上記の目的効果をより効果的に達成するために、第3接続パッド83の第3辺m3に沿った方向の長さが、第1接続パッド81の第1辺m1に沿った方向の長さよりも長い構成であってもよい。さらに、図7に示すように、第3接続パッド83は、第1辺m1と第3辺m3間の角部側に延出する延出部を有していてもよい。すなわち、第3接続パッド83は、第3辺m3に沿って第1辺m1側に向かって延出する延出部83eを有していてもよい。延出部83eの幅が第3接続パッド83の本体部の幅よりも小さくてもよい。この構成の場合、第3辺m3における額縁部の幅が大きくなることを抑えることができる。
図12は、図7の表示装置の変形例について要部の配線構造を示す部分平面図である。第1接続パッド81は、第1辺m1に沿った方向の長さよりも第1辺m1に沿った方向と直交する方向の長さが長い構成であってもよい。この場合、第1接続パッド81が直近の画素部3(発光素子6)に近接することから、第1接続パッド81と直近の画素部3とを接続する接続部位の長さL1cをより短くすることができる。その結果、第1接続パッド81と直近の画素部3との間の信号伝送経路長が短くなり、第1接続パッド81から画素部3に信号を効率よく伝送させることができる。また、側面配線10を形成するための導電性ペーストが第1接続パッド81の奥行方向に伸展しやすくなり、その結果、側面配線10と第1接続パッド81との接触面積が増大し、側面配線10と第1接続パッド81との接続抵抗が小さくなる。第1接続パッド81は、長方形、帯状、楕円形、長円形等の長手方向と短手方向を有する形状であってよい。第1接続パッド81における第1辺m1に沿った方向と直交する方向の長さは、第1接続パッド81における第1辺m1に沿った方向の長さの1倍を超え3倍以下程度であってもよいが、この範囲に限らない。図12に示す第1接続パッド81の構成は、図3,図5,図6に示す表示装置にも適用できる。
図13は、図7の表示装置の変形例について要部の配線構造を示す部分平面図である。第1接続パッド81は、第1辺m1側の部位(例えば、辺部)の長さが第1辺m1と反対側の部位(例えば、辺部)の長さよりも長い構成であってもよい。より具体的には、第1接続パッド81は、第1辺m1側の端に、第1辺m1に沿った方向に延出する延出部81eを有する構成であってもよい。この場合、側面配線10を形成するための導電性ペーストが第1接続パッド81に効果的に引き込まれ、第1接続パッド81の奥行方向に伸展しやすくなる。その結果、側面配線10と第1接続パッド81との接触面積が増大し、側面配線10と第1接続パッド81との接続抵抗が小さくなる。延出部81eは、基板2上の第1辺m1側の端縁部2e1に第1辺m1に沿って位置する最外部発光素子6mと、基板2の端と、の間(額縁部)に配置され得る。この場合、導電性ペーストが最外部発光素子6mに達することを抑えることができる。第1接続パッド81は、台形状等の形状であってもよい。第1接続パッド81における第1辺m1側の部位の長さは、第1接続パッド81における第1辺m1と反対側の部位の長さの1倍を超え3倍程度以下あってもよいが、この範囲に限らない。図13に示す第1接続パッド81の構成は、図3,図5,図6に示す表示装置にも適用できる。
図12に示す第1接続パッド81の構成と図13に示す第1接続パッド81の構成を組み合わせた構成を採用していてもよい。
図2に示すように、表示装置1bにおいて、基板2は、複数の発光素子6が位置する側の第1面2aと、第1面2aと反対側の第2面2bと、第1面2aと第2面2bをつなぐ側面2cと、第1面2aの端縁部から側面2cを介して第2面2bの端縁部にかけて位置する側面配線10と、を有し、第3接続パッド83は、側面配線10に接続されている構成であってもよい。この構成の場合、基板2の第2面2bの側に駆動部を配置し、側面配線10を介して画素部3と駆動部とを電気的に接続することができる。その結果、従来額縁部に配置する場合があった駆動部を第2面2bの側に配置することができることから、狭額縁化に有利である。
駆動部は、例えば、基板2の第2面2b上にCOG(Chip On Glass)方式によって搭載されたIC、LSI等の駆動素子であってもよい。また駆動部は、基板2の第2面2b上に化学気相成長(Chemical Vapor Deposition:CVD)法等の薄膜形成法によって形成された、低温多結晶シリコン(Low Temperature Poly Silicon:LTPS)から成る半導体層を有する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を備えた薄膜回路であってもよい。また駆動部は、基板2の第2面2b上に位置する外部接続端子に接続されたフレキシブル配線基板に備わった駆動素子であってもよい。また駆動部は、フレキシブル配線基板の配線に電気的に接続された外部の駆動素子であってもよい。
表示装置1a,1bにおいて、図1及び図2に示すように、第2辺m2側の端縁部2e2に、複数の発光素子6に電源電流を供給する電源配線に接続される電源接続パッド181が位置する構成であってもよい。この構成の場合、接続パッド8の群と電源接続パッド181の群とが異なる辺に位置していることから、配線構造が簡易化され、また狭額縁化に有利である。
表示装置1a,1bは、複数の画素部3それぞれは、発光素子として、平面視で一辺の長さが1μm以上100μm以下である矩形状のマイクロ発光ダイオード素子を備えている構成であってもよい。この構成の場合、高精細化に有利である。
本開示に係る実施形態の複合型表示装置は、前述の複数の表示装置1a(1b)の側面同士を結合させることによって構成される複合型表示装置であって、複数の表示装置1a(1b)は、第1表示装置1a(1b)およびそれと同一構成の第2表示装置1a(1b)を含み、第1表示装置1a(1b)における第1辺m1に隣接する第1側面の部位と、第2表示装置1a(1b)における第1側面と対向する第2側面と、が結合されている構成である。なお、表示装置1a(1b)は、表示装置1aまたは表示装置1bであることを示す。複合型表示装置は、上記の構成により以下の効果を奏する。複数の接続パッド8を、それらの間で電気的な短絡が生じることを抑えて配置することができることから、信頼性が向上する。また、狭額縁部を有する表示装置1a(1b)を用いることから、額縁部が目立ちにくくなり、表示品位が向上する。
本開示の表示装置の具体的構成について、以下に詳細に説明する。図3は、図1の表示装置1aの要部の構成を模式的に示す部分平面図であり、図4は、図3の表示装置1aを切断面線IV-IVから見た断面図であり、図8は図3の表示装置1aを切断面線V-Vから見た断面図である。図5は、図1の表示装置1aの要部の配線構造を示す部分平面図であり、図6は、図2の表示装置1bの要部の配線構造を示す部分平面図であり、図7は、図2の表示装置1bの変形例について要部の配線構造を示す部分平面図である。なお、図4および図8において、図解を容易にするため、基板2の第2面2b側の回路構成は省略している。
本実施形態の表示装置1a,1bは、例えば、母基板をレーザ光照射によって裏面側から切断し、複数層の金属遮光層を具備した、タイリング用の狭額縁の複数の基板を用いて、実現されてもよい。この場合、母基板の切断用のレーザ光としては、高出力のCO2レーザまたはYAGレーザ等を採用することができる。レーザ光L(図4に示す)のビーム径は、5μm~5mm程度である。なお、以下の説明において表示装置1a,1bを総称する場合、表示装置1と表記する。
次に、金属遮光層を備えた前述の表示装置1の具体的構成について述べる。表示装置1は、基板2と、基板2の第1面2a上における一辺側の端縁部Wに積層される第1金属遮光層31と、第1金属遮光層31上、および第1面2a上における第1金属遮光層31から露出する領域2a1に、積層される第1絶縁層31iと、第1絶縁層31i上における第1金属遮光層31に重ならない領域2a1に積層される第2金属遮光層32と、第2金属遮光層32上、および第1絶縁層31i上における第1金属遮光層31に重なる領域23aに、積層される第2絶縁層32iと、を備えている。
上記の構成により、第1金属遮光層31と、その上方に第1金属遮光層31に重ならない部位2a1に位置する第2金属遮光層32と、を備えることから、タイリングパネル作製時の母基板の裏面側からのレーザ光照射による母基板の分割時に、レーザ光の照射部に発生する熱の絶縁層(特に第2絶縁層32i)への影響を効果的に抑えることができる。その結果、レーザ光照射による絶縁層の昇華物質が周囲の配線等に付着することを抑えることができる。また、レーザ光による切断位置のばらつきによって、側面配線10が第1金属遮光層31の露出部である端面を介して異なる信号を伝送する接続パッド8同士が短絡することを抑えることができる。また、金属遮光層が第1金属遮光層31と第2金属遮光層32とに分割されていることから、静電気放電が発生しにくい構成の金属遮光層となる。
また表示装置1は、基板2の第1面2a上にマトリックス状に配列された画素部3と、基板2の第2面2b上に位置する電源供給回路7と、基板2の第1面2a上の端縁部W付近に位置し、側面配線10に電気的に接続される複数の第1接続パッド8と、基板2の第2面2b上の端縁部W付近に位置し、側面配線10に電気的に接続される複数の裏面側の第7接続パッド80と、複数の側面配線10と、を備えていてもよい。第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の幅は、例えば50μm~200μm程度である。
表示装置1は、さらに、基板2の第1面2a上における第1辺m1側の端縁部Wに、第1辺m1が延びる方向に互いに間隔ΔL1をあけて積層される複数の第1金属遮光層31と、複数の第1金属遮光層31上および基板2の第1面2a上における複数の第1金属遮光層31の間から露出する領域2a1に積層される第1絶縁層31iと、第1絶縁層31i上における、平面視において第1辺m1が延びる方向に互いに隣接する2つの第1金属遮光層31の間の領域2a1に積層される複数の第2金属遮光層32と、複数の第2金属遮光層32上および平面視において第1絶縁層31iの、複数の第2金属遮光層32の間から露出する領域23aに積層される第2絶縁層32iと、を備える。
レーザ光Lの遮光層としての第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の材料は、アルミニウム、クロム、モリブデン、あるいはこれら金属の合金であってもよい。また第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、それぞれ単層であってもよいが、複数層を積層した積層構造であってもよい。第1および第2金属遮光層31,32の材料が、反射率の高いアルミニウムである場合、第1および第2金属遮光層31,32のレーザ光Lの照射側に、透明な絶縁層を設けてもよい。この場合、第1および第2金属遮光層31,32によって反射率が低下することなくレーザ光Lが反射されるとともに、透明な絶縁層によって熱吸収が低減される。その結果、レーザ光Lは、基板2の第2面2b側の外部へ、熱吸収を抑えて効率的に反射される。従って、第2絶縁層32iおよび有機絶縁層24,26等への熱的ダメージを低減する効果が大きくなる。
また、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の材料は、より好適にはモリブデンなどであってもよい。モリブデンは、レーザ光を効率的に吸収し伝熱するため、反射光の強度を抑えることができるとともに、表示装置1の温度上昇を抑えることができる。即ち、第1および第2金属遮光層31,32で反射された反射光の2次反射および吸収による熱的ダメージの低減効果を大きくすることができる。
また、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、Mo/Al/Mo、MoNd/AlNd/MoNd等から成る構成であってもよい。ここで、「Mo/Al/Mo」は、Mo層上にAl層が積層され、Al層上にMo層が積層された積層構造を示す。また、「MoNd」はMoとNdの合金であることを示す。
また第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の材料は、黒色を呈する酸化クロムであってもよい。即ち、レーザ光Lを吸収して減衰する層であってもよい。
また表示装置1は、図3に示すように、第1金属遮光層31は複数あり、それぞれの第1金属遮光層31は、端縁部Wに一辺(例えば、第1辺m1)に平行な方向において互いに間隔をあけて積層されており、第2金属遮光層32は、第1絶縁層31i上における隣接する第1金属遮光層31間の領域2a1に積層されている構成であってもよい。なお、領域2a1は、上記の第1金属遮光層31に重ならない部位でもある。この場合、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32が、より細かく分割されて、それぞれより小面積とされていることから、静電気放電がより発生しにくい構成の金属遮光層となる。
第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、平面視で一連となっていてもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射した光(レーザ光)が第2絶縁層32iに到達することをより抑えることができる。その結果、第2絶縁層32iがレーザ光の熱の影響を受けることをより効果的に抑えることができる。
第2金属遮光層32は、平面視において第1金属遮光層31に重なる重畳部位(オーバーラップ部位)LWを有していてもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射した光(レーザ光)が第2絶縁層32iに到達することをさらに抑えることができる。その結果、第2絶縁層32iがレーザ光の熱の影響を受けることをさらに効果的に抑えることができる。重畳部位LWの長さは5μm~500μm程度であってもよい。
また重畳部位LWは、基板2の第2面2bの側から入射した光(レーザ光)が第1金属遮光層31の端で回折した回折光が、第2絶縁層32iに到達しない長さを有していてもよい。この場合も上記と同様の効果を奏する。この場合の重畳部位LWの長さは20μm~700μm程度である。
第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、光反射性を有している構成であってもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射した光(レーザ光)が第1金属遮光層31および第2金属遮光層32で反射されることから、第2絶縁層32iがレーザ光の熱の影響を受けることをさらに効果的に抑えることができる。第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、例えば可視光の光反射率が高い、金属材料、合金材料等から成っていてもよい。金属材料としては、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、金(Au)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、錫(Sn)等がある。また、合金材料としては、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金であるジュラルミン(Al-Cu合金、Al-Cu-Mg合金、Al-Zn-Mg-Cu合金)等がある。これらの材料の光反射率は、アルミニウムが90%~95%程度、銀が93%程度、金が60%~70%程度、クロムが60%~70%程度、ニッケルが60%~70%程度、白金が60%~70%程度、錫が60%~70%程度、アルミニウム合金が80%~85%程度である。従って、光反射性を有する、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の好適な材料として、アルミニウム、銀、金、アルミニウム合金等が挙げられる。
第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、光散乱性を有している構成であってもよい。この場合、一般に、薄膜の表面、基板の表面が光学的な鏡面となる算術表面粗さは、使用波長の10分の1程度である。従って、人の目の感度が最も高い550nmの波長の光であれば、算術表面粗さが55nm以下の表面は光学的な鏡面となりやすい。そこで、算術表面粗さが55nm以上の表面は光散乱面となりやすいことから、光散乱性を有している、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の各表面は、55nm~10μm程度の算術表面粗さであってもよい。好適には1μm~10μm程度、より好適には2μm~7μm程度であってよい。
第1絶縁層31iは、光散乱性粒子を含む構成であってもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射した光(レーザ光)が第1絶縁層31iに含まれる光散乱性粒子によって散乱され、第2絶縁層32iがレーザ光の熱の影響を受けることを効果的に抑えることができる。光散乱性粒子は、例えば、金属材料、合金材料、ガラス材料、セラミック材料、金属酸化物材料等から成る。金属材料としては、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、金(Au)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、錫(Sn)等がある。また、合金材料としては、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金であるジュラルミン(Al-Cu合金、Al-Cu-Mg合金、Al-Zn-Mg-Cu合金)等がある。ガラス材料としては、ホウケイ酸ガラス、結晶化ガラス、石英、ソーダガラス等が挙げられる。セラミック材料としては、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素等が挙げられる。金属酸化物材料としては、酸化チタン等が挙げられる。光散乱性粒子は、ガラス材料、金属酸化物材料等の透明材料から成る場合、基板2の第2面2bの側から入射したレーザ光を散乱および屈折させて、第2絶縁層32iの側へ到達しにくくすることができる。また光散乱性粒子は、金属材料、合金材料等の金属光沢色等の光反射性を有する場合、基板2の第2面2bの側から入射したレーザ光を反射および散乱させて、第2絶縁層32iの側へ到達しにくくすることができる。
光散乱性粒子の平均粒径は、55nm~10μm程度であってもよい。好適には1μm~10μm程度、より好適には2μm~7μm程度であってよい。
第1絶縁層31iは、酸化珪素(SiO2)、窒化珪素(Si3N4)等の無機材料から成る構成であってもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射したレーザ光が、第2絶縁層32iよりも先に入射する第1絶縁層31iの耐レーザ性が向上する。
第2絶縁層32iは、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の有機材料から成る構成であってもよい。この場合、基板2の第2面2bの側から入射したレーザ光の熱の影響を受けにくい第2絶縁層32iが、厚みの厚い平坦化層等を構成することができる。
また第2絶縁層32iは、黒色化樹脂いわゆるブラックマトリックス等から成る遮光層であってもよい。この場合、表示装置1を用いて表示装置を作製した際に、遮光層が黒色の背景色となり、表示画像のコントラストを向上させる。
基板2の第1面2aの端縁部Wから基板2の側面2cを経て第2面2bの側にかけて位置する側面配線10を備え、側面配線10は、第1金属遮光層31および/または第2金属遮光層32に重なる位置にある構成であってもよい。この場合、隣接する側面配線10同士が第1金属遮光層31の露出部および/または第2金属遮光層32の露出部を介して短絡することを抑えることができる。側面配線10は、Ag、Cu、Al、ステンレススチール等の導電性粒子、未硬化の樹脂成分、アルコール溶媒および水等を含む導電性ペーストを、基板2の第1面2aから側面2cおよび第2面2bにかけての所望の部位に塗布した後、加熱法、紫外線等の光照射によって硬化させる光硬化法、光硬化加熱法等の方法によって形成することができる。側面配線10は、メッキ法、蒸着法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等の薄膜形成法によっても形成することができる。また、基板2の第1面2aと側面2cと第2面2bとにおける側面配線10を形成する部位に、溝を予め形成しておいてもよい。これにより、側面配線10と成る導電性ペーストが、基板2における所望の部位に配置されやすくなる。
第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、電気的にフローティング(浮遊状態)とされている構成であってもよい。即ち、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、アノード電位部、カソード電位部等の特定の電位部に非接続の状態であってもよい。この場合、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32における、特定の電位部との接続部からその反対側の端部に発生する電位勾配によって、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32に電蝕による劣化が発生することを防ぐことができる。
また第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、基板2の全周にわたって配置されていてもよい。例えば、基板2が矩形状である場合、全ての辺(4辺)がレーザ切断される辺であれば、全ての辺に第1金属遮光層31および第2金属遮光層32が配置されていてもよい。なお、基板2がレーザ切断される辺とレーザ切断されない辺とを有する場合、少なくともレーザ切断される辺に第1金属遮光層31および第2金属遮光層32が配置されていてもよい。
第1絶縁層31iは、無機材料から成る。第2絶縁層32iは、有機材料から成る。基板2の第1面2a上に、発光素子6と、発光素子6を駆動制御するTFTと、発光素子6とTFTとを接続する後述のゲート信号線4およびソース信号線5等の配線層と、を備え、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32の少なくとも一方は、配線層と同じ材料から成る構成であってもよい。この場合、工程数を削減することができる。
図9は図1に示す表示装置の第1面2a側の回路構成を模式的に示すブロック回路図であり、図10は表示装置の第2面2b側の回路構成を模式的に示すブロック回路図である。基板2は、例えば、透明または不透明なガラス基板、プラスチック基板、セラミック基板等である。基板2は、第1面2aと第2面2bとを接続する第3面(側面)2cを有している。基板2は、少なくとも第1辺m1およびそれに隣接する第2辺m2を有する形状である。例えば基板2の形状は、三角形板状、矩形板状、平行四辺形板状、台形板状、六角形板状等であってもよく、その他の形状であってもよい。基板2の形状が、三角形板状、矩形板状、六角形板状等の形状である場合には、複数の表示装置1をタイリングして、複合型かつ大型の表示装置(以下、マルチディスプレイともいう)を作製することが容易になる。本実施形態では、例えば図1,2に示すように、基板2は、矩形板状の形状を有している。また基板2は、第1辺m1に隣接するとともに第2辺m2に対向する第3辺m3を有する形状であってもよい。この場合、例えば基板2の形状は、矩形板状、平行四辺形板状、台形板状、六角形板状等であってもよく、その他の形状であってもよい。第2辺m2とそれに対向する第3辺m3は、互いに平行であってもよいが、完全な平行でなくてもよい。
画素部3は、基板2の第1面2a上に、複数のものが所定のピッチでマトリックス状に配置されている。複数の画素部3は、複数のゲート信号線4と複数のソース信号線5との交差部に対応して配置され、各画素部3は発光素子6を有している。複数のゲート信号線4は、所定方向(図9における左右方向であり、例えば行方向)に沿って配置されている。複数のソース信号線5は、所定方向と交差する方向(例えば列方向)に複数のゲート信号線4と交差して配置されている。複数の画素部3は、複数のゲート信号線4と複数のソース信号線5との交差部に対応して配置されている。複数の画素部3は、例えば図9に示すように、所定の画素ピッチで行列状に配列されている。
複数の画素部3の各々は、発光素子6および電極パッド62を有している。発光素子6は、例えば、発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体レーザ素子等の自発光型の素子である。本実施形態では、発光素子6として、LED素子を用いる。発光素子6は、マイクロLED素子であってもよい。発光素子6がマイクロLED素子である場合、発光素子6は、第1面2a上に配置された状態で、一辺の長さが1μm程度以上100μm程度以下あるいは3μm程度以上10μm程度以下である矩形状の平面視形状を有していてもよい。
発光素子6は、アノード端子およびカソード端子を有し、電極パッド62は、アノードパッド62aおよびカソードパッド62bを有している。発光素子6のアノード端子およびカソード端子は、例えば、導電性接着剤、はんだ等の導電性接合材を介して、アノードパッド62aおよびカソードパッド62bにそれぞれ電気的に接続されている。
各画素部3は、複数の発光素子6、複数のアノードパッド62a、および単体または複数のカソードパッド62bを有していてもよい。複数のアノードパッド62aには、複数の発光素子6の複数のアノード端子がそれぞれ電気的に接続され、単体または複数のカソードパッド62bには、複数の発光素子6の複数のカソード端子が電気的に接続される。カソードパッド62bが単体である場合、複数の発光素子6に対する共通のカソードパッド62bとすることができる。複数の発光素子6は、赤色光を発光する発光素子61R、緑色光を発光する発光素子61G、および青色光を発光する発光素子61Bであってもよい。この場合、各画素部3は、カラーの階調表示が可能になる。各画素部3は、赤色光を発光する発光素子61Rの代わりに、橙色光、赤橙色光、赤紫色光、または紫色光を発光する発光素子を有していてもよい。また、各画素部3は、緑色光を発光する発光素子61Gの代わりに、黄緑色光を発光する発光素子を有していてもよい。
電源供給部としての電源供給回路7は、例えば図10に示すように、第2面2b上に配置されている。電源供給回路7は、複数の画素部3に供給される第1電源電圧VDDおよび第2電源電圧VSSを生成する。電源供給回路7は、第1電源電圧VDDを出力するVDD端子と、第2電源電圧VSSを出力するVSS端子とを有している。第1電源電圧VDDは、例えば10V~15V程度のアノード電圧である。第2電源電圧VSSは、第1電源電圧VDDよりも低電圧であり、例えば0V~3V程度のカソード電圧である。電源供給回路7は、例えば、フレキシブル回路基板(Flexible Circuit Board:FPC)によって構成されていてもよい。電源供給部は、電源電圧制御用のIC,LSI等の半導体素子を備えた回路モジュールであってもよい。さらに電源供給部は、電源供給回路7と、発光素子6の発光、非発光、発光強度等を制御する制御信号を生成するための、ICチップによって構成された制御素子と、を有していてもよい。制御素子は、制御部として電源供給回路7に含まれていてもよい。
また、駆動回路部13が第2面2b上に配置されている。駆動回路部13は、第2面2b上に配置された第2ソース信号線17を介して第1面2a上に配置されたソース信号線5に電気的に接続されている。駆動回路部13と電源供給回路7は、それらの動作の同期をとるために電気的に接続されていてもよい。
表面側の電源接続パッド108は、例えば図9に示すように、第1面2a上における第2辺m2側の端縁部Wに配置されている。端縁部Wは、第2辺m2に沿った辺縁部であり、第1面2a上における第2辺m2から第1面2aの中央側に向かって10μm~500μm程度の幅を有する部位であるが、この幅の値に限らない。電源接続パッド108は、複数の第1電源接続パッド181と複数の第2電源接続パッド182とを有している。第1電源接続パッド181は、複数の画素部3に第1電源電圧VDDを供給するための接続パッドであり、第2電源接続パッド182は、複数の画素部3に第2電源電圧VSSを供給するための接続パッドである。第1電源接続パッド181および第2電源接続パッド182は、それぞれ1辺の長さが50μm~500μm程度、好適には70μm~300μm程度の矩形状であるが、1辺の長さはこれらの値に限らず、形状も5角形状等の多角形状、台形状、円形状、楕円形状等の種々の形状であってもよい。以下、配線パッドについて同様の構成を採り得る。
表示装置1は、例えば図9に示すように、第1引き回し配線11aおよび第2引き回し配線11bを有している。第1引き回し配線11aおよび第2引き回し配線11bは、第1面2a上に位置している。第1引き回し配線11aおよび第2引き回し配線11bは、例えば、Mo/Al/Mo、MoNd/AlNd/MoNd等から成る。ここで、「Mo/Al/Mo」は、Mo層上にAl層が積層され、Al層上にMo層が積層された積層構造を示す。その他についても同様である。第1引き回し配線11aは、発光素子6のアノード端子と複数の第1電源接続パッド181とを接続している。第2引き回し配線11bは、発光素子6のカソード端子と複数の第2電源接続パッド182とを接続している。
第1引き回し配線11aおよび第2引き回し配線11bは、面状の配線パターンであってもよい。この場合、第1引き回し配線11aおよび第2引き回し配線11bは、それらの間に配置された絶縁層(図示せず)によって電気的に互いに絶縁される。電極パッド62のアノードパッド62aは、第1引き回し配線11aの一部として形成されていてもよい。
図10に示すように、裏面側の電源接続パッド9は、第2面2b上に位置している。電源接続パッド9は、例えば、第2辺m2側の端縁部に配置されていてもよい。この端縁部は、上述した端縁部Wと同様の構成を有していてもよい。電源接続パッド9は、複数の第3電源接続パッド91と複数の第4電源接続パッド92とを有している。第3電源接続パッド91は、複数の画素部3に第1電源電圧VDDを供給するための接続パッドであり、第4電源接続パッド92は、複数の画素部3に第2電源電圧VSSを供給するための接続パッドである。
表示装置1は、複数の第1電源接続パッド181の個数と複数の第3電源接続パッド91の個数とが等しく、複数の第2電源接続パッド182の個数と複数の第4電源接続パッド92の個数とが等しい構成である。複数の第1電源接続パッド181と複数の第3電源接続パッド91とは、平面視において、すなわち、第1面2aに直交する方向から見たときに、それぞれ重なっていてもよい。複数の第2電源接続パッド182と複数の第4電源接続パッド92とは、平面視において、それぞれ重なっていてもよい。
表示装置1は、第3引き回し配線12を有している。第3引き回し配線12は、第2面2b上に位置している。第3引き回し配線12は、例えば、Mo/Al/Mo、MoNd/AlNd/MoNd、Ag等から成る。例えば図10に示すように、第3引き回し配線12は、電源供給回路7のVDD端子と複数の第3電源接続パッド91とを接続し、電源供給回路7のVSS端子と複数の第4電源接続パッド92とを接続している。
複数の側面配線10は、基板2の側面である第3面2cを介して、第1面2a上から第2面2b上にかけて配置されている。本実施形態では、例えば図8に示すように、複数の側面配線10は、第1面2a上から、第3面2cおよび第2面2b上にかけて配置されている。複数の側面配線10は、複数の第1電源接続パッド181と複数の第3電源接続パッド91とをそれぞれ接続している。複数の側面配線10は、複数の第2電源接続パッド182と複数の第4電源接続パッド92とをそれぞれ接続している。
表示装置1は、複数の側面配線10の代わりに、第1面2aから第2面2bにかけて貫通する複数の貫通導体を有する構成であってもよい。また、複数の側面配線10を有するとともに複数の貫通導体を有する構成であってもよい。本実施形態の表示装置1は、好適には少なくとも複数の側面配線10を有する構成であってよい。
表示装置1は、第1面2a上から第2面2b上にかけて配置され、複数のゲート信号線4と電源供給回路7の制御部とを接続するゲート配線を有している。ゲート配線は、例えば図9,10に示すように、第5接続パッド18、第6接続パッド19、第1ゲート配線20、第2ゲート配線21、および第3ゲート配線22を有している。第3ゲート配線22は側面配線として形成されている。
第5接続パッド18は、例えば図9に示すように、第1面2a上における第2辺m2側の端縁部に配置されている。第6接続パッド19は、例えば図10に示すように、第2面2b上における第2辺m2側の端縁部に配置されている。第5接続パッド18と第6接続パッド19とは、平面視において、重なっていてもよい。第1ゲート配線20は、例えば図9に示すように、第1面2a上に配置され、複数のゲート信号線4と第5接続パッド18とを接続している。第2ゲート配線21は、例えば図10に示すように、第2面2b上に配置され、電源供給回路7の制御部と第6接続パッド19とを接続している。第3ゲート配線22は、例えば図9,10に示すように、第1面2a上から、第3面2c上および第2面2b上にかけて配置され、第5接続パッド18と第6接続パッド19とを接続している。
接続パッド8(例えば、第1接続パッド81)と、それに対応する裏面側の第7接続パッド80は、導電性材料から成っている。第1接続パッド8および第7接続パッド80は、単一の金属層から成っていてもよく、複数の金属層が積層されて成っていてもよい。第1接続パッド8および第7接続パッド80は、例えば、Al、Al/Ti、Ti/Al/Ti、Mo、Mo/Al/Mo、MoNd/AlNd/MoNd、Cu、Cr、Ni、Ag等から成っていてもよい。
図8に示すように、接続パッド8は2層の導体層8a1,8ba2を積層して成る構成であってもよい。導体層8a1はAl、Al/Ti、Ti/Al/Ti、Mo、Mo/Al/Mo、MoNd/AlNd/MoNd、Cu、Cr、Ni、Ag等から構成されていてもよく、導体層8a1上の導体層8a2はITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)等から成る透明導電層から構成されていてもよい。また、接続パッド8における第1面2aの内方側の端部に絶縁層25,26が配置されていてもよい。これにより、接続パッド8が第1面2aの内方側に配置された配線導体等と短絡することを抑制できる。絶縁層25,26は、例えばSiO2、Si3N4、アクリル樹脂等のポリマー材料等から成る。第7接続パッド80の表面は、ITO、IZO等から成る透明導電層によって被覆されていてもよい。
各画素部3は、基板2上に、発光素子6のそれぞれに発光信号を入力するためのスイッチ素子としての第1の薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)と、発光制御信号(画像信号線SLを伝達する信号)のレベル(電圧)に応じた、正電圧(アノード電圧:10V~15V程度)と負電圧(カソード電圧:0V~3V程度)の電位差(発光信号)から発光素子6を電流駆動するための駆動素子としての第2の薄膜トランジスタと、を含む。
第1および第2のTFTは、例えば、アモルファスシリコン(a-Si)、低温多結晶シリコン(Low-Temperature Poly Silicon:LTPS)等から成る半導体膜を有し、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極の3端子を有する構成である。また第1および第2のTFTは、双方ともnチャネル型TFTである構成、双方ともpチャネル型TFTである構成、一方がnチャネル型TFTで他方がpチャネル型TFTである構成を採用できる。そして、ゲート電極に所定電位の電圧(2.5V~3.5V程度)を印加することにより、ソース電極とドレイン電極の間の半導体膜(チャンネル)に電流を流す、スイッチング素子(ゲートトランスファ素子)として機能する。基板2がガラス基板から成り、駆動素子は、LTPSから成る半導体膜を有するTFTを用いて構成された駆動回路である場合、基板2上にTFTをCVD(Chemical Vapor Deposition)法等の薄膜形成法によって直接的に形成することができる。
図14は、本開示の複合型表示装置の一実施形態を示す図であり、要部の部分平面図である。図14に示すように、本開示の表示装置1を複数用いて複合型表示装置100を構成することができる。複合型表示装置100は、複数の表示装置1の側面同士を結合させることによって構成される。複数の表示装置1は、第1表示装置1Aおよび第2表示装置1Bを含み、第1表示装置1Aにおける第1辺m1に隣接する第1側面2c1と、第2表示装置1Bにおける第1側面2c1と対向する第2側面2c2と、が結合される。第1表示装置1Aの第1側面2c1と第2表示装置1Bの第2側面2c2を結合させる結合材90は、樹脂接着剤であってもよい。樹脂接着剤は、例えば、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂とポリアミド樹脂を混合した樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の、光硬化性または熱硬化性の樹脂材料から成る。樹脂接着剤は、樹脂材料に黒色の無機顔料を混入させた黒色樹脂材料であってもよい。この場合、第1表示装置と第2表示装置との結合部(タイリング部)が目立たないことから、表示画像の連続性が維持されやすくなる。無機顔料は、カーボンブラックなどの炭素系顔料、チタンブラックなどの窒化物系顔料、Cr-Fe-Co系、Cu-Co-Mn(マンガン)系、Fe-Co-Mn系、Fe-Co-Ni-Cr系等の金属酸化物系顔料等であってもよい。
複合型表示装置100は、3つ以上の表示装置1を結合させることによって構成されていてもよい。また、複合型表示装置100は、ベース基板を備え、ベース基板上に複数の表示装置1が固定部材を介して固定されていてもよい。固定部材は、ねじ、クリップ、嵌合部材等の機械的な固定要素を含んでいてもよく、接着剤等の化学的な固定要素を含んでいてもよい。また、固定部材は、表示装置1の基板2の縁部が嵌め込まれる枠体を含み、その枠体が機械的な固定要素、化学的な固定要素によってベース基板に固定される構成であってもよい。
結合材は、黒色であって、表面に入射光を吸収する凹凸構造を有していてもよい。例えば、結合材は、シリコーン樹脂等の母材中にカーボンブラック等の黒色顔料を混入させて形成した黒色樹脂であって、黒色樹脂の表面に算術平均粗さが10μm~50μm程度、好適には20μm~30μm程度の凹凸構造が転写法等によって形成された構成であってもよい。この場合、結合材の光吸収性が格段に向上する。
本実施形態によれば、複数の表示装置1をタイリングして複合型表示装置を作製する場合、それぞれの表示装置1の表面側と裏面側を、Ag等から成る側面配線10によって電気的に接続する。従来のように、基板2の側面配線10の形成部位に、レーザ光を遮光する単層の金属遮光層を配置した場合、隣接する側面配線10同士が金属遮光層を介して短絡するおそれがあったが、本実施形態では、金属遮光層が、積層方向において異なる位置にある、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32に分離されていることから、隣接する側面配線10同士が第1金属遮光層31を介して短絡することを防ぐことができる。また本実施形態では、平面視において、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32が一連となるように、重畳部位LWを有している場合、基板2の第2面2bの側からレーザ光を照射しても、第2絶縁層32i等がレーザ光の熱の影響を受けることを効果的に抑えることができる。また、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32が電気的にフローティング(浮遊状態)とされている場合、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32に電蝕による劣化が生じることを防ぐことができる。また、金属遮光層が第1金属遮光層31と第2金属遮光層32とに分割されていることから、静電気放電が発生しにくい構成の金属遮光層となる。
また、図4に示すように、第1金属遮光層31および第2金属遮光層32は、第2絶縁層32iのみならず厚みが厚い平坦化層等としての有機層である絶縁層(有機絶縁層)24,26よりもレーザ光Lに近い側に位置するので、第2絶縁層32iのみならず有機絶縁層24,26に対するレーザ光Lの熱の影響も抑えることができる。即ち、有機絶縁層24,26がレーザ光Lの熱によって昇華し、その後固化して第1面2a上の配線等に異物として付着することを抑えることができる。
第1金属遮光層31および第2金属遮光層32のそれぞれの厚みは、50nm~1μm程度であるが、第1金属遮光層31の厚みを第2金属遮光層32の厚みよりも厚くしてもよい。この場合、レーザ光Lに近い側の第1金属遮光層31がレーザ光の熱を効率的に吸収し、第2金属遮光層32がレーザ光の熱の影響を受けにくくすることができる。第1金属遮光層31の厚みが、第2金属遮光層32の厚みの1倍を超え5倍以下程度としてもよいが、この値に限らない。5倍を超えると、表示装置1の薄型化を阻害する傾向がある。
以上、本開示の実施形態について詳細に説明したが、また、本開示は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において、種々の変更、改良等が可能である。上記各実施形態をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能であることは、言うまでもない。
本開示の表示装置によれば、微細化が難しい複数の接続パッドを、それらの間で電気的な短絡が生じること、および額縁部が大きくなることを抑えて、基板上に配置することができる。また、複数の接続パッドを、額縁部をより小さくして基板上に配置することも可能となる。