JP7436927B2 - 環式ジオール化合物、該化合物の製造方法及び該化合物の用途 - Google Patents
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Description
本発明は、環式ジオール化合物、該化合物の製造方法及び該化合物の用途に関する。
ポリエステル樹脂及びポリカーボネート樹脂の樹脂原料として各種の環式ジオール化合物が知られている。工業的に入手可能な環式ジオール化合物としては、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジオールや２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）等がある。このほかにも、製造される樹脂の用途に応じて種々の環式ジオール化合物が報告されている。
例えば、光学用途（例えば、光学レンズ）に用いられるポリカーボネート樹脂については、着色低減、透明性などの樹脂の光学特性の改良を目的として、フルオレン環構造をもつ特定の芳香族ジオール化合物を含むジオール成分を用いて製造する方法（特許文献１）が報告され、また、特定のフルオレン含有ジヒドロキシ化合物及び他のジヒドロキシ化合物を特定割合で用いて製造する方法（特許文献２）等が報告されている。
しかし、ポリエステル樹脂及びポリカーボネート樹脂等の樹脂の特性は、樹脂が使用される様々な応用分野に応じて多岐に渡り、その分野で求められる樹脂特性を満足できる環式ジオール化合物の探索が進められている。特に、樹脂を光学用途に用いる場合、当該樹脂の光学特性を向上できる環式ジオール化合物が求められている。
本発明は、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等の樹脂原料及び樹脂改質剤として有用である環式ジオール化合物、並びにその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意検討した結果、特異なジアセタール（ジスピロ）構造を有する環式ジオール化合物が文献未記載の化合物であり、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等の樹脂原料（モノマー）及びそれらの樹脂改質剤として有用なことを見出し、かかる知見に基づいて本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の環式ジオール化合物、該化合物の製造方法及び該化合物の用途を提供するものである。
［項１］
一般式（１）で表される化合物（以下「本発明の環式ジオール化合物」ともいう。）。
［式中、Ｒ１は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数６～１２のアリール基、又は炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｘは、下記の一般式（ａ）、一般式（ｂ）、一般式（ｃ）又は一般式（ｄ）で表される基を示す。
（式（ａ）～（ｄ）中、波線は結合部位を示す。Ｒ２は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基を示す。）。］
［項２］
一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基又はフェニル基である、［項１］に記載の化合物。
［項３］
一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基である、［項１］又は［項２］に記載の化合物。
［項４］
一般式（１）において、Ｘで示される一般式（ａ）～（ｄ）で表される基中、Ｒ２が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基である、［項１］～［項３］のいずれかに記載の化合物。
［項５］
一般式（１）において、Ｒ１が、メチル基又はエチル基であり、Ｘが、一般式（ａ）、（ｃ）又は（ｄ）で表される基であり、Ｒ２が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、メトキシ基、又はエトキシ基である、［項１］～［項４］のいずれかに記載の化合物。
［項６］
一般式（１）において、Ｘが、フェニル基、ビフェニル基、１－ナフチル基又は２－ナフチル基である、［項１］～［項５］のいずれかに記載の化合物。
［項７］
一般式（１）において、Ｘが、フェニル基である、［項１］～［項６］のいずれかに記載の化合物。
［項８］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂用モノマー。
［項９］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂又はポリエステルポリオール樹脂の樹脂改質剤。
［項１０］
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂を製造するための、［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物の使用。
［項１１］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物を、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂の（原料である）モノマーとして使用する方法。
［項１２］
一般式（２）で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂。
［式中、Ｒ１は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数６～１２のアリール基、又は炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｘは、下記の一般式（ａ）、一般式（ｂ）、一般式（ｃ）又は一般式（ｄ）で表される基を示す。
（式（ａ）～（ｄ）中、波線は結合部位を示す。Ｒ２は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基を示す。）。］
［項１３］
一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応させることを含む、製造方法。
［式中、Ｒ１は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数６～１２のアリール基、又は炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｘは、下記の一般式（ａ）、一般式（ｂ）、一般式（ｃ）又は一般式（ｄ）で表される基を示す。
（式（ａ）～（ｄ）中、波線は結合部位を示す。Ｒ２は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基を示す。）。］
［項１４］
一般式（３）で表される化合物が、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させた後、酸で処理することにより製造される、［項１３］に記載の製造方法。
［式中、Ｒ３はアルキル基を示す。Ｘは前記に同じ。］
一般式（１）で表される化合物（以下「本発明の環式ジオール化合物」ともいう。）。
［項２］
一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基又はフェニル基である、［項１］に記載の化合物。
［項３］
一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基である、［項１］又は［項２］に記載の化合物。
［項４］
一般式（１）において、Ｘで示される一般式（ａ）～（ｄ）で表される基中、Ｒ２が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基である、［項１］～［項３］のいずれかに記載の化合物。
［項５］
一般式（１）において、Ｒ１が、メチル基又はエチル基であり、Ｘが、一般式（ａ）、（ｃ）又は（ｄ）で表される基であり、Ｒ２が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、メトキシ基、又はエトキシ基である、［項１］～［項４］のいずれかに記載の化合物。
［項６］
一般式（１）において、Ｘが、フェニル基、ビフェニル基、１－ナフチル基又は２－ナフチル基である、［項１］～［項５］のいずれかに記載の化合物。
［項７］
一般式（１）において、Ｘが、フェニル基である、［項１］～［項６］のいずれかに記載の化合物。
［項８］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂用モノマー。
［項９］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂又はポリエステルポリオール樹脂の樹脂改質剤。
［項１０］
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂を製造するための、［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物の使用。
［項１１］
［項１］～［項７］のいずれかに記載の化合物を、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂の（原料である）モノマーとして使用する方法。
［項１２］
一般式（２）で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂。
［項１３］
一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応させることを含む、製造方法。
［項１４］
一般式（３）で表される化合物が、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させた後、酸で処理することにより製造される、［項１３］に記載の製造方法。
本発明の環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等の樹脂原料（モノマー）又は樹脂改質剤として使用できる。
本発明の環式ジオール化合物を含むモノマーを用いて得られる樹脂（例えば、ポリカーボネート樹脂）は、屈折率が大きいという特徴を有する。これにより、モノマー中の該環式ジオール化合物の含有量を調節することにより、得られる樹脂の屈折率を広範囲に調整することができる。それ故、本発明の環式ジオール化合物は、ポリカーボネート樹脂等の樹脂の改質剤として有用である。
当該樹脂（例えば、ポリカーボネート樹脂）は、負の複屈折を持つという特徴を有している。本発明の環式ジオール化合物と正の複屈折性を有するジヒドロキシ化合物とを適切な割合で共重合することにより、樹脂の複屈折を限りなくゼロに近づけることが可能となる。そのため、当該樹脂は光学用途（光学レンズ、光学フィルム、光学シート等）に好適に用いることができる。
本発明の環式ジオール化合物は、１，３－シクロヘキサンジオン環の１位及び３位のカルボニル基をジアセタール化することにより製造される。一般的に、１，３－シクロヘキサンジオンをジアセタール化することは立体障害等のため極めて困難であるとされている。しかし、本発明の製造方法では、１，３－シクロヘキサンジオンの５位に芳香環が結合した化合物を原料としているため、ジアセタール化が効果的に進行し、本発明の環式ジオール化合物を好収率で製造できる。
本発明の環式ジオール化合物は、下記一般式（１）
［式中、Ｒ１は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数６～１２のアリール基、又は炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。Ｘは、下記の一般式（ａ）、一般式（ｂ）、一般式（ｃ）又は一般式（ｄ）で表される基を示す。
（式（ａ）～（ｄ）中、波線は結合部位を示す。Ｒ２は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基を示す。）。］
で表される化合物である。
で表される化合物である。
一般式（１）において、Ｒ１で示される「炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基」としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは、メチル基、エチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であり、より好ましくは、メチル基又はエチル基である。
一般式（１）において、Ｒ１で示される「炭素数６～１２のアリール基」としては、特に制限はないが、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。
一般式（１）において、Ｘで示される一般式（ａ）～（ｄ）で表される基中、Ｒ２で示される「炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基」としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。また、Ｒ２で示される「炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基」としては、特に制限はないが、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
一般式（１）において、Ｘで示される一般式（ａ）～（ｄ）で表される基中、Ｒ２は、水素原子が好ましい。具体的に、Ｘは、フェニル基（一般式（ａ）に包含される）、ビフェニル基（一般式（ｂ）に包含される）、１－ナフチル基（一般式（ｃ）に包含される）、２－ナフチル基（一般式（ｄ）に包含される）が挙げられる。このうち好ましくは、フェニル基である。
一般式（１）において、Ｒ１は、メチル基又はエチル基が好ましい。Ｘは、一般式（ａ）、（ｃ）又は（ｄ）で表される基が好ましく、一般式（ａ）又は（ｄ）で表される基がより好ましく、一般式（ａ）で表される基がさらに好ましい。Ｒ２は、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基等が好ましく、水素原子がより好ましい。
一般式（１）において、Ｘが一般式（ａ）で表される基のうち、Ｘは、フェニル基、下記に示す一般式（ａ１）、（ａ２）又は（ａ３）で表される基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
［式中、Ｒ２１は、同一又は異なって、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、又はメトキシ基を示す。］
一般式（１）で表される化合物は、以下のような異性体Ａ、異性体Ｂ、又は異性体Ｃなどの異性体の存在が考えられる。これらの異性体は、それぞれ単独でも２以上の混合物でもよい。
［式中、Ｒ１及びＸは前記に同じ。］
本発明の環式ジオール化合物が２以上の異性体の混合物である場合、異性体比率は、実施例に記載の手法を用いて、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析を行い、面積百分率法により求めることができる。各異性体は、通常、ＧＣ分析によりそれぞれ特有のピークを有している。異性体の含有割合は、環式ジオール化合物の全ピーク面積に対する、各異性体のピーク面積の百分率で表すことができる。当該各異性体の百分率の比率を異性体比率とすることができる。
本発明の環式ジオール化合物は、上記のような異性体Ａ、異性体Ｂ、又は異性体Ｃなどの異性体の存在が考えられる。ＧＣ分析で検出された異性体ピークは２本であり、これらは熱力学的に安定な異性体Ａ及び異性体Ｂと考えられる。異性体比率は、異性体Ａ：異性体Ｂ＝８０：２０から５０：５０の範囲とすることができる。
一般式（１）で表される化合物の具体的な例としては、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－エチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４，５－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（ペンタメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－クロロビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，５－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－フルオロ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール５－（２－ブロモ－５－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，３－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，６－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（５－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（５－ブロモ―２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（１－ナフタレン）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－ナフタレン）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－エトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－イソプロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－プロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－エトキシ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－エトキシ－３－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－フルオロ－４，５－ジメトキシフェニル）―１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－アミルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，３，４－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４，６－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－クロロ－３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ヘプチルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－エトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（６－メトキシ－２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール；
５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，５－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（ペンタメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－クロロビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，５－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－フルオロ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ブロモ－５－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，３－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，６－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（５－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（５－ブロモ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソプロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－プロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－エトキシ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エトキシ－３－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－フルオロ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－アミルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，３，４－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，６－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－クロロ－３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロ－ルエタンジアセタール、５－（４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ヘプチルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－エトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（６－メトキシ－２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール等が挙げられる。
５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，５－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（ペンタメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－クロロビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，５－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－フルオロ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ブロモ－５－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，３－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，６－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（５－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（５－ブロモ－２－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－フルオロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－イソプロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－プロポキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－クロロ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－２，３，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジメトキシ－３－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－エトキシ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－エトキシ－３－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－フルオロ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－アミルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４－ジエトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３，４，５－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，３，４－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２，４，６－トリメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－クロロ－３，４－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロ－ルエタンジアセタール、５－（４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ヘプチルオキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（３－ブロモ－４，５－ジメトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－メトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－エトキシ－１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（６－メトキシ－２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール等が挙げられる。
その中でも好ましい化合物は、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（４－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（４－ビフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（１－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール、５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール、５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタールであり、さらに好ましい化合物としては、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール及び５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタールである。
本発明の環式ジオール化合物は、例えば、下記＜反応式１＞に示すようにして製造することができる。
＜反応式１＞
［式中、Ｒ１及びＸは、前記に同じ。］
＜反応式１＞
上記の＜反応式１＞に示すように、一般式（１）で表される化合物は、一般式（３）で表される化合物と、一般式（４）で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応（アセタール化反応）させることにより製造することができる。反応は、通常、溶媒（例えば、トルエン等）中で実施することができる。溶媒を加熱還流し、生成する水を溶媒と共沸させて除去しながら反応させることができる。酸性触媒としては、触媒作用があれば特に限定されず、公知の酸性触媒が使用される。例えば、塩酸、硫酸、硝酸及びリン酸等の鉱酸；ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸；陽イオン交換樹脂、ゼオライト、シリカアルミナ、ヘトロポリ酸(例えば、リンタングステン酸、リンモリブデン酸等)等の固体酸；その他、各種ルイス酸等が挙げられる。一般式（４）で表される化合物の使用量は、一般式（３）で表される化合物１モルに対し、通常、０．５～３モル程度であり、好ましくは、０．８～２モル程度である。
典型的には、本発明の環式ジオール化合物の製造方法としては、５位に置換基Ｘを有する１、３－シクロヘキサンジオン化合物と、２位に置換基Ｒ１を有する２－ヒドロキシメチル－１，３－プロパンジオール化合物とを、トルエン溶媒中、酸性触媒存在下でアセタール化反応する製造方法が例示される。
本発明において、一般式（３）で表される化合物では、１，３－シクロヘキサンジオンの５位に置換基Ｘを有するため、１，３－シクロヘキサンジオンと比べて、一般式（４）で表される化合物とのジアセタール化が進行しやすくなり、好収率で目的とする一般式（１）で表される化合物を得ることができる。
本発明において、一般式（３）で表される化合物では、１，３－シクロヘキサンジオンの５位に置換基Ｘを有するため、１，３－シクロヘキサンジオンと比べて、一般式（４）で表される化合物とのジアセタール化が進行しやすくなり、好収率で目的とする一般式（１）で表される化合物を得ることができる。
上記の一般式（３）で表される化合物は、＜反応式２＞に示すように、一般式（５）で表される化合物と一般式（６）で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。
＜反応式２＞
［式中、Ｒ３は、同一又は異なって、それぞれ、炭素数１～３のアルキル基を示す。Ｘは前記に同じ。］
＜反応式２＞
Ｒ３で示される炭素数１～３のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が挙げられる。
本反応は、公知の方法、例えば、Chemistry - A Eurpean Journal (2017), 23(49), 11757-11760、Zhurnal Obshchei Khimii (1957), 27. 3087-92
等に記載の方法に従い又は準じて実施することができる。
等に記載の方法に従い又は準じて実施することができる。
本発明の環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等のモノマーとして使用することができる。
本発明はまた、下記一般式(２)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂を提供する。当該ポリカーボネート樹脂は、本発明の環式ジオール化合物を含むモノマーとカルボニル前駆体化合物とを（重合）反応させることにより製造することができる。
［式中、Ｒ１及びＸは前記に同じ。］
一般式（２）において、Ｒ１及びＸの具体例及び好ましい例は、前記一般式（１）において記載されたＲ１及びＸの具体例及び好ましい例と同じである。
本発明の環式ジオール化合物を含むモノマーには、本発明の環式ジオール化合物の他に、ポリカーボネート樹脂の構成単位として一般的に用いられるジヒドロキシ化合物を含んでいてもよい。該ジヒドロキシ化合物としては、例えば、脂肪族ジヒドロキシ化合物、芳香族ジヒドロキシ化合物等が挙げられる。
つまり、本発明のポリカーボネート樹脂は、本発明の環式ジオール化合物に由来する一般式(２)で表される構成単位の他に、一般的なジヒドロキシ化合物に由来する構成単位を含んでいてもよい。
脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、様々なものが挙げられるが、特に、１，４－シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、１，３－アダマンタンジメタノール、２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）－プロパン、３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２－（５－エチル－５－ヒドロキシメチル－１，３－ジオキサン－２－イル）－２－メチルプロパン－１－オール、イソソルビド、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール等が挙げられる。
芳香族ジヒドロキシ化合物としては、様々なものを挙げることができるが、特に２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン、４，４’－ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホキシド、及びビス（４－ヒドロキシフェニル）ケトン、ビスフェノキシエタノールフルオレン等を挙げることができる。この他、ハイドロキノン、レゾルシン及びカテコール等を挙げることもできる。
使用するモノマーにおいて、本発明の環式ジオール化合物の割合は、特に限定はなく、モノマーの全量中、例えば、１～８０モル％であり、好ましくは１～６０モル％であり、より好ましくは５～５０モル％であり、特に好ましくは１５～３５モル％である。つまり、本発明のポリカーボネート樹脂において、本発明の環式ジオール化合物に由来する一般式(２)で表される構成単位の割合は、特に限定はなく、全構成単位中、例えば、１～８０モル％であり、好ましくは１～６０モル％であり、より好ましくは５～５０モル％であり、特に好ましくは１５～３５モル％である。
カルボニル前駆体化合物としては、例えば、ホスゲン、トリホスゲン、ジフェニルカーボネート等が挙げられる。
一般式(２)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０，０００～１００，０００程度であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～１００，０００程度であり、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１～５程度である。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００～２００程度である。
一般式(２)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎＤ）は、比較的大きく、通常、１．５００～１．７５０であり、好ましくは１．５９９～１．７５０である。屈折率は、実施例に記載の方法で測定した値である。
一般式(２)で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂の複屈折のアッベ数（νｄ）は、通常、２０．０～５５．０であり、好ましくは２５．０～３３．０である。アッベ数は、実施例に記載の方法で測定した値である。
本発明の環式ジオール化合物（一般式(１)で表される化合物）は、樹脂改質剤として使用することができる。具体的には、本発明の環式ジオール化合物を共重合用モノマーとして用い共重合させることにより、樹脂の特性を改質することができる。例えば、本発明の環式ジオール化合物の添加量を調整して共重合させることで、樹脂の屈折率、複屈折等の特性を調整することができる。対象となる樹脂は、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリエステルポリオール樹脂等が挙げられる。そのうち、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂が典型的である。
一般的に、重合して得られた光学材料用の高分子において観測される複屈折を分類すると、配向複屈折、応力複屈折及び形態複屈折がある。その中で形態複屈折は、樹脂中の微細な繊維状物質が配列した場合などにみられるもので、通常、光学材料用の高分子の光学特性としては無視できる。配向複屈折は分子配向によるものであり、応力複屈折は成形時の残留応力に起因する。
光学材料用の高分子は、複屈折が大きいと光学的な歪みが大きくなるため、例えば、レンズ用途に用いる場合、にじむ、ぼやけるという問題が生じる。そのため、より鮮明な見え方になるよう、複屈折を小さくすることが求められている。
一般に用いられている光学材料用の高分子は、種々あるが、その中でもポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられ、特にポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、耐熱性、寸法安定性などに優れている。しかしながら、ビスフェノールＡタイプのポリカーボネート樹脂は複屈折が大きく、光学材料用に用いるためには、複屈折を低下させる必要があった。
本発明の環式ジオール化合物を用いて共重合した樹脂（特に、ポリカーボネート樹脂）は、負の複屈折を有するため、本発明の環式ジオール化合物由来の構成単位と、正の複屈折性を発現する他のジヒドロキシ化合物の構成単位とを共重合してなる樹脂とすることにより、複屈折を限りなくゼロに近づけることができる。当該樹脂は、複屈折を限りなくゼロに近づける必要のある用途、特に光学レンズ、光学フィルム、光学シートなどの光学材料用途に好適に用いることできる。適用可能な光学材料としては、特に限定はないが、例えば、スマートフォンのカメラのレンズ、車載カメラのレンズ、ＶＲ（仮想現実）又はＭＲ（複合現実）用のゴーグル用レンズ、防犯カメラ用レンズ等が挙げられる。
また、本発明の環式ジオール化合物を共重合した樹脂（特に、ポリカーボネート樹脂）は、屈折率が大きいという特徴を有している。そのため、本発明の環式ジオール化合物の含有量を調節することにより、各種レンズの設計に合わせて樹脂の屈折率を広範囲に調整することができる。
本明細書において、「を含む」又は「含有する」なる表現には、「から必須としてなる」及び「からなる」の意味を包含する。
以下に実施例を掲げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、環式ジオール化合物の各種測定は以下の方法により測定した。また、特に言及していない化合物は試薬を使用した。
＜使用化合物＞
・５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオン：Ｃｏｍｂｉ－Ｂｌｏｃｋｓ株式会社製
・リンタングステン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
・トリメチロールエタン及びトリメチロールプロパン：東京化成工業株式会社製
・ビスフェノキシエタノールフルオレン：東京化成工業株式会社製
・ジフェニルカーボネート：東京化成工業株式会社製
・４－ｔ－ブチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２，４，６－トリメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２，４－ジメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２－ナフトアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－メチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・３，４－ジメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－メトキシベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－イソプロピルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－イソブチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・トルエン：ナカライテスク株式会社製
・アセトン：ナカライテスク株式会社製
・マロン酸ジエチル：東京化成工業株式会社製
・５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオン：Ｃｏｍｂｉ－Ｂｌｏｃｋｓ株式会社製
・リンタングステン酸：富士フイルム和光純薬株式会社製
・トリメチロールエタン及びトリメチロールプロパン：東京化成工業株式会社製
・ビスフェノキシエタノールフルオレン：東京化成工業株式会社製
・ジフェニルカーボネート：東京化成工業株式会社製
・４－ｔ－ブチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２，４，６－トリメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２，４－ジメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・２－ナフトアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－メチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・３，４－ジメチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－メトキシベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－イソプロピルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・４－イソブチルベンズアルデヒド：東京化成工業株式会社製
・トルエン：ナカライテスク株式会社製
・アセトン：ナカライテスク株式会社製
・マロン酸ジエチル：東京化成工業株式会社製
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）による分析＞
環式ジオール化合物の純度は、下記の条件及び方法にてガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析を行い、面積百分率法より求めた。
［サンプル調整］
環式ジオール化合物０．１ｇにピリジン１０ｍｌ加え室温で振り混ぜ、分析用サンプルとした。
環式ジオール化合物の純度は、下記の条件及び方法にてガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析を行い、面積百分率法より求めた。
［サンプル調整］
環式ジオール化合物０．１ｇにピリジン１０ｍｌ加え室温で振り混ぜ、分析用サンプルとした。
［測定条件］
機器：島津製作所製 ＧＣ－２０２０
カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製ＤＢ－１ ３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍ
カラム温度：８０℃（保持時間５ｍｉｎ）－昇温速度１５℃／ｍｉｎ－３２０℃（保持時間５ｍｉｎ）
インジェクション温度／検出器温度：３００℃／３２５℃ スプリット比：３０ カラム流量１．１７ｍｌ／ｍｉｎ パージ流量３．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：ＦＩＤ
キャリアガス：ヘリウム
ガス線速度：３０ｃｍ／ｓｅｃ
注入量：１μｌ
機器：島津製作所製 ＧＣ－２０２０
カラム：アジレント・テクノロジー株式会社製ＤＢ－１ ３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍ
カラム温度：８０℃（保持時間５ｍｉｎ）－昇温速度１５℃／ｍｉｎ－３２０℃（保持時間５ｍｉｎ）
インジェクション温度／検出器温度：３００℃／３２５℃ スプリット比：３０ カラム流量１．１７ｍｌ／ｍｉｎ パージ流量３．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：ＦＩＤ
キャリアガス：ヘリウム
ガス線速度：３０ｃｍ／ｓｅｃ
注入量：１μｌ
＜融点＞
環式ジオール化合物の融点は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置ＤＳＣ６２２０を用いて測定した。試料６．８ｍｇを同社製アルミパンに入れて密封し、５０ｍｌ／分の窒素気流下、昇温速度１０℃／分で３０℃から２００℃まで昇温して、吸熱ピークを観測した。そのピークトップが示した温度を融点とした。
環式ジオール化合物の融点は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置ＤＳＣ６２２０を用いて測定した。試料６．８ｍｇを同社製アルミパンに入れて密封し、５０ｍｌ／分の窒素気流下、昇温速度１０℃／分で３０℃から２００℃まで昇温して、吸熱ピークを観測した。そのピークトップが示した温度を融点とした。
＜赤外吸収スペクトル（ＩＲスペクトル）＞
環式ジオール化合物のＩＲスペクトルは、赤外分光分析装置（株式会社パーキンエルマージャパン製Ｓｐｅｃｔｒｕｍ４００）を用い、ＡＴＲ法（減衰全反射法）で行った。
環式ジオール化合物のＩＲスペクトルは、赤外分光分析装置（株式会社パーキンエルマージャパン製Ｓｐｅｃｔｒｕｍ４００）を用い、ＡＴＲ法（減衰全反射法）で行った。
＜プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ－ＮＭＲ）＞
環式ジオール化合物の１Ｈ－ＮＭＲは、重水素化された溶媒（重水素化クロロホルム、重水素化メタノール、重水素化ジメチルスルホキシド等）に溶かした後、核磁気共鳴装置（Ｂｒｕｋｅｒ社製ＤＲＸ－５００）を用い、１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）測定で行った。
なお、１Ｈ－ＮＭＲ測定に用いられる溶媒には水のピークが見られる場合がある。重水素化クロロホルム含まれる水に由来するピークは１．５６ｐｐｍ付近、重水素化メタノールに含まれる水に由来するピークは４．８７ｐｐｍ付近、重水素化ジメチルスルホキシドに含まれる水に由来するピークは３．３３ｐｐｍ付近に存在する。
環式ジオール化合物の１Ｈ－ＮＭＲは、重水素化された溶媒（重水素化クロロホルム、重水素化メタノール、重水素化ジメチルスルホキシド等）に溶かした後、核磁気共鳴装置（Ｂｒｕｋｅｒ社製ＤＲＸ－５００）を用い、１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）測定で行った。
なお、１Ｈ－ＮＭＲ測定に用いられる溶媒には水のピークが見られる場合がある。重水素化クロロホルム含まれる水に由来するピークは１．５６ｐｐｍ付近、重水素化メタノールに含まれる水に由来するピークは４．８７ｐｐｍ付近、重水素化ジメチルスルホキシドに含まれる水に由来するピークは３．３３ｐｐｍ付近に存在する。
＜ガラス転移温度＞
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置ＤＳＣ６２２０を用いて測定した。試料６．７ｍｇを同社製アルミパンに入れて密封し、５０ｍｌ／分の窒素気流下、昇温速度１０℃／分で３０℃から２２０℃まで昇温し、２２０℃から３０℃まで降温速度１０℃／分で冷却し、昇温速度１０℃／分で３０℃から２２０℃まで昇温し２ｎｄＲＵＮにおける変曲点をガラス転移温度とした。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製示差熱量測定装置ＤＳＣ６２２０を用いて測定した。試料６．７ｍｇを同社製アルミパンに入れて密封し、５０ｍｌ／分の窒素気流下、昇温速度１０℃／分で３０℃から２２０℃まで昇温し、２２０℃から３０℃まで降温速度１０℃／分で冷却し、昇温速度１０℃／分で３０℃から２２０℃まで昇温し２ｎｄＲＵＮにおける変曲点をガラス転移温度とした。
＜数平均分子量、重量平均分子量及び多分散度＞
ポリカーボネート樹脂約３０ｍｇをテトラヒドロフラン８ｍｌで溶解して、分子量測定用の試料溶液を調製した。数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）を用いて、下記の測定条件でポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）及び多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
（測定条件）
装置：ポンプ（株式会社島津製作所製ＬＣ－２０ＡＤ型）
オートサンプラー（株式会社島津製作所製ＳＩＬ－２０Ａ ＨＴ型）
検出器ＲＩ（株式会社島津製作所製ＲＩＤ－１０Ａ型）
カラムオーブン（株式会社島津製作所製ＣＴＯ－２０Ａ型）
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ－８０２、２本（昭和電工株式会社製）
溶離液：ナカライテスク株式会社製 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）ＢＨＴ約０．０２５％含有
カラム温度：４０℃
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
インジェクション量：１００μｌ
解析法：ＰＳ換算分子量
使用標準ポリマー：Ｓｈｏｄｅｘ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＳＭ－１０５
ポリカーボネート樹脂約３０ｍｇをテトラヒドロフラン８ｍｌで溶解して、分子量測定用の試料溶液を調製した。数平均分子量Ｍｎ及び重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）を用いて、下記の測定条件でポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）及び多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
（測定条件）
装置：ポンプ（株式会社島津製作所製ＬＣ－２０ＡＤ型）
オートサンプラー（株式会社島津製作所製ＳＩＬ－２０Ａ ＨＴ型）
検出器ＲＩ（株式会社島津製作所製ＲＩＤ－１０Ａ型）
カラムオーブン（株式会社島津製作所製ＣＴＯ－２０Ａ型）
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ－８０２、２本（昭和電工株式会社製）
溶離液：ナカライテスク株式会社製 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）ＢＨＴ約０．０２５％含有
カラム温度：４０℃
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
インジェクション量：１００μｌ
解析法：ＰＳ換算分子量
使用標準ポリマー：Ｓｈｏｄｅｘ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＳＭ－１０５
＜屈折率＞
後述の参考例にて作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムから、長さ４．０ｍｍ、幅０．８ｍｍの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長５８９ｎｍ（Ｄ線）の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２にて、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で屈折率ｎＤを測定した。測定は中間液としてジヨードメタン（東京化成工業株式会社製）を用いた。
後述の参考例にて作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムから、長さ４．０ｍｍ、幅０．８ｍｍの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長５８９ｎｍ（Ｄ線）の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２にて、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で屈折率ｎＤを測定した。測定は中間液としてジヨードメタン（東京化成工業株式会社製）を用いた。
＜複屈折＞
試料は固体粘弾性測定装置（ＵＢＭ、Ｓ１０００－ＤＶＥ３）に引張型治具を備えて加熱一軸延伸を行った。延伸停止後に恒温槽を開き、送風機にて冷却した。延伸フィルムを、光源装置としてＨＡＹＡＳＨＩ－ＲＥＰＩＣ株式会社製 ルミナースエースＬＡ－１００ＵＳＷを用い、王子計測機器（株）製位相差測定装置ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを用いて、測定波長４４９．９、４９８．０、５４８．０、５８８．８、６２８．８、７５１．０ｎｍの各波長で位相差を測定した。得られた波長５４８．０ｎｍ及び波長５８８．８ｎｍの位相差と延伸フィルムの膜厚から、次式より複屈折Δｎを求めた。尚、遅相軸が延伸方向と一致している場合は、Δｎを正の値で示し、遅相軸が垂直の方向に一致している場合は、Δｎを負の値で示した。
複屈折Δｎ＝（測定波長５４８．０ｎｍの位相差［ｎｍ］）／（フィルム厚み［ｍｍ］×１０６）
複屈折Δｎ＝（測定波長５８８．８ｎｍの位相差［ｎｍ］）／（フィルム厚み［ｍｍ］×１０６）
試料は固体粘弾性測定装置（ＵＢＭ、Ｓ１０００－ＤＶＥ３）に引張型治具を備えて加熱一軸延伸を行った。延伸停止後に恒温槽を開き、送風機にて冷却した。延伸フィルムを、光源装置としてＨＡＹＡＳＨＩ－ＲＥＰＩＣ株式会社製 ルミナースエースＬＡ－１００ＵＳＷを用い、王子計測機器（株）製位相差測定装置ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを用いて、測定波長４４９．９、４９８．０、５４８．０、５８８．８、６２８．８、７５１．０ｎｍの各波長で位相差を測定した。得られた波長５４８．０ｎｍ及び波長５８８．８ｎｍの位相差と延伸フィルムの膜厚から、次式より複屈折Δｎを求めた。尚、遅相軸が延伸方向と一致している場合は、Δｎを正の値で示し、遅相軸が垂直の方向に一致している場合は、Δｎを負の値で示した。
複屈折Δｎ＝（測定波長５４８．０ｎｍの位相差［ｎｍ］）／（フィルム厚み［ｍｍ］×１０６）
複屈折Δｎ＝（測定波長５８８．８ｎｍの位相差［ｎｍ］）／（フィルム厚み［ｍｍ］×１０６）
＜アッベ数＞
後述の参考例にて作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムから、長さ４．０ｍｍ、幅０．８ｍｍの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長６５６ｎｍ（Ｃ線）、５８９ｎｍ（Ｄ線）、４８６ｎｍ（Ｆ線）の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２にて、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で各波長の屈折率ｎＣ、ｎＤ、ｎＦを測定し、これら測定値と次式よりアッベ数νｄを求めた。
νｄ＝（１－ｎＤ）／（ｎＣ－ｎＦ）
測定は中間液としてジヨードメタン（東京化成工業株式会社製）を用いた。
後述の参考例にて作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムから、長さ４．０ｍｍ、幅０．８ｍｍの長方形の試験片を切り出して測定試料とした。波長６５６ｎｍ（Ｃ線）、５８９ｎｍ（Ｄ線）、４８６ｎｍ（Ｆ線）の干渉フィルターを用いて、株式会社アタゴ製多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２にて、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で各波長の屈折率ｎＣ、ｎＤ、ｎＦを測定し、これら測定値と次式よりアッベ数νｄを求めた。
νｄ＝（１－ｎＤ）／（ｎＣ－ｎＦ）
測定は中間液としてジヨードメタン（東京化成工業株式会社製）を用いた。
＜全光線透過率＞
上記の方法で作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムを測定試料とし、日本電色製Ｈａｚｅ ＭeｔｅｒＮＤＨ７０００ＳＰIIにて、ＪＩＳ－Ｋ－７１３６の方法で全光線透過率を測定した。測定は３枚のフィルムに対して実施し、それらの測定で得られた実測値の平均値を測定値とした。
上記の方法で作製した厚さ０．１ｍｍのフィルムを測定試料とし、日本電色製Ｈａｚｅ ＭeｔｅｒＮＤＨ７０００ＳＰIIにて、ＪＩＳ－Ｋ－７１３６の方法で全光線透過率を測定した。測定は３枚のフィルムに対して実施し、それらの測定で得られた実測値の平均値を測定値とした。
［実施例１］
冷却管付きディーンスタークを装着した３００ｍｌナスフラスコに、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオン１２．５ｇ（６６．４ｍｍｏｌ）、リンタングステン酸６２５ｍｇ、トリメチロールプロパン２１．３ｇ（１５９ｍｍｏｌ）、トルエン１２５ｍｌを加え、攪拌子を投入した。混合物を、マグネチックスターラーで攪拌しながら昇温して、トルエン還流下で、理論生成水量（１３２ｍｍｏｌ、２．３ｇ）を目途にして流出してくる生成水をディーンスタークで除去しつつ、２時間アセタール反応を行った。
冷却管付きディーンスタークを装着した３００ｍｌナスフラスコに、５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオン１２．５ｇ（６６．４ｍｍｏｌ）、リンタングステン酸６２５ｍｇ、トリメチロールプロパン２１．３ｇ（１５９ｍｍｏｌ）、トルエン１２５ｍｌを加え、攪拌子を投入した。混合物を、マグネチックスターラーで攪拌しながら昇温して、トルエン還流下で、理論生成水量（１３２ｍｍｏｌ、２．３ｇ）を目途にして流出してくる生成水をディーンスタークで除去しつつ、２時間アセタール反応を行った。
反応混合物を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１２５ｍｌで中和後、１２５ｍｌのトルエンを加え水層と有機層に分けた。分けた有機層を４０℃の温水１２５ｍｌで水洗した。有機層を４０℃、５０ｍｍＨｇに設定しエバポレーターにて溶剤を除去した。残存した有機層１２５ｇを室温で攪拌し結晶を取り出した。リンス液にはトルエンを用い析出した結晶をろ別した。その湿結晶１６．０ｇを５ｍｍＨｇ、１００℃条件で乾燥することにより、純度９９．６％（ＧＣ面積百分率）の５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１」とする）１１．８ｇ（２８ｍｍｏｌ）を得た。結晶の融点１３５℃であった。
得られた化合物１について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１及び図２に示した。図中に示される下記特性ピークより５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３６５，２９６５，２９４８，２８６９，１４７４，１４６３，１３５８，１２６３，１２５３，１１９１，１１６２，１０８７，１０６１，１０３１，１０００，９６９，８２０，７５６，６９９
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：０．８０（ｔ，３Ｈ），０．８７（ｔ，３Ｈ），１．２４（ｍ，２Ｈ），１．３３（ｍ，２Ｈ），１．３９（ｔ，１Ｈ），１．４９（ｄ，１Ｈ），１．６７（ｔ，１Ｈ），１．９６（ｄ，２Ｈ），２．１８（ｄ，１Ｈ），２．７６（ｄ，１Ｈ），２．９４（ｍ，２Ｈ），３．７０（ｍ，１０Ｈ），３．８２（ｍ，２Ｈ），７．２０（ｍ，３Ｈ），７．３１（ｍ，２Ｈ）
（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例２］
トリメチロールプロパンをトリメチロールエタン１９．１ｇ（１５９ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、純度９５．１％（ＧＣ面積百分率）の５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール（以下、「化合物２」とする）１１．０ｇ（２８ｍｍｏｌ）を得た。結晶の融点１３５℃であった。
トリメチロールプロパンをトリメチロールエタン１９．１ｇ（１５９ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、純度９５．１％（ＧＣ面積百分率）の５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール（以下、「化合物２」とする）１１．０ｇ（２８ｍｍｏｌ）を得た。結晶の融点１３５℃であった。
得られた化合物２について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を図３及び図４に示した。図中に示される下記特性ピークより５－フェニル－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３４６７，３４１５，２９４４，２９２８，２８７６，１４７４，１３５９，１２４５，１２０６，１１９９，１１５９，１０８９，１０５０，１０２７，９６９，８１９，７６４，６９９
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：０．７０（ｓ，６Ｈ），１．４６（ｔ，２Ｈ），１．７２（ｄ，１Ｈ），２．２０（ｓ，２Ｈ），２．４８（ｄ，１Ｈ），２．８１（ｍ，３Ｈ），３．７２（ｍ，１２Ｈ），７．２６（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｍ，２Ｈ）
（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例３］
１Lビーカーに、４－ｔ－ブチルベンズアルデヒド４２．８ｇ（２６４ｍｍｏｌ）、アセトン３９６ｍｌを入れ、室温にて撹拌しながら、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液２６４ｇを３０℃以下の温度で、滴下した。その後、室温で２．５時間撹拌を行い、酢酸４４ｇで中和後、アセトンを留去した。
酢酸エチル２６４ｍｌを加えて、有機層を分取した。得られた有機層は、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、減圧濃縮を行い、純度９０．７％（ＧＣ面積百分率）の淡黄色液体６５．１ｇを得た。得られた反応粗物を、１４１～１４５℃、０．１～０．２ｋＰａで減圧単蒸留を行い、純度９８．８％（ＧＣ面積百分率）の淡黄色液体３５．４ｇを得た。
１Lビーカーに、４－ｔ－ブチルベンズアルデヒド４２．８ｇ（２６４ｍｍｏｌ）、アセトン３９６ｍｌを入れ、室温にて撹拌しながら、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液２６４ｇを３０℃以下の温度で、滴下した。その後、室温で２．５時間撹拌を行い、酢酸４４ｇで中和後、アセトンを留去した。
酢酸エチル２６４ｍｌを加えて、有機層を分取した。得られた有機層は、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、減圧濃縮を行い、純度９０．７％（ＧＣ面積百分率）の淡黄色液体６５．１ｇを得た。得られた反応粗物を、１４１～１４５℃、０．１～０．２ｋＰａで減圧単蒸留を行い、純度９８．８％（ＧＣ面積百分率）の淡黄色液体３５．４ｇを得た。
温度計、窒素導入管及び冷却管を備えた５００ｍｌの４ツ口フラスコにエタノール３０ｍｌ、マロン酸ジエチル１７．４ｇ（１１０ｍｍｏｌ)、２０重量％ナトリウムエトキシドエタノール溶液３７．４ｇ（１１０ｍｍｏｌ)を入れ、室温で３０分間撹拌を行った。その後、７０℃まで昇温し、以下同温度で、４－ｔ－ブチルベンジリデンアセトン２０．２ｇ（１００ｍｍｏｌ)をエタノール３０ｍｌで溶解した溶液を２５分間で滴下した。その後、エタノール８０ｍｌを追加後、昇温し、還流下、２時間撹拌を行った。
次に、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液で還流下、加水分解を２時間行い、その後、常圧から減圧下、エタノール１５０ｍｌを留去した。引き続き、室温まで冷却後、２０重量％塩化水素水溶液８０ｇを加え、還流下、脱炭酸反応を４時間行った。析出した結晶を、水５０ｍｌを４回用いてリンスし、減圧乾燥して、純度９１．３％（ＧＣ面積百分率）の粗結晶２５．６ｇを得た。続けて、酢酸エチル２００ｍｌを投入し、７０℃、１時間の条件で攪拌し、析出している結晶をろ別するため酢酸エチル５０ｍｌを用いてリンスした後、１００℃２時間で減圧乾燥後、純度９８．９％（ＧＣ面積百分率）の淡濃色固体１９．７ｇを得た。
温度計、窒素導入管及び水分離器付き冷却管を備えた５００ｍｌ４ツ口フラスコに５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオン１２．４ｇ（５０ｍｍｏｌ）、トリメチロールプロパン１６．８ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、リンタングステン酸６２５ｍｍｇ、トルエン１２０ｍｌを入れ、２．５時間還流温度で加熱撹拌を行った。反応終了後、室温まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍｌを加え、０．５時間撹拌を行った。その後、酢酸エチル５０ｍｌを加え、得られた有機層は、順次、温水洗浄、減圧濃縮し、ジアセタール粗物２３．５ｇを得た。得られた粗物の精製は、トルエン９０ｇで再結晶し、濾過、ケーキ洗浄(冷トルエン４０ｍｌ)、１００℃２時間の減圧乾燥後、純度９８．５％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物３」とする）１４．８ｇを得た。
得られた化合物３について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を図５及び図６に示した。これより５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３９０，２９６１，２８６８，１４６２，１３５９，１２５２，１１９４，１１６３，１０８９，１０３０，９９９，９７１，８３３，７３０
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図６を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例４］
１Lビーカーに２，４，６－トリメチルベンズアルデヒド５０ｇ（３３７ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９６．７％（ＧＣ面積百分率）の５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物４」とする）１５．６ｇを得た。
１Lビーカーに２，４，６－トリメチルベンズアルデヒド５０ｇ（３３７ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９６．７％（ＧＣ面積百分率）の５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物４」とする）１５．６ｇを得た。
得られた化合物４について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を図７及び図８に示した。これより５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３５０２，２９６１，２８６６，１４５９，１３４６，１２１０，１１６９，１０９１，１０５０，１０３２，９７６，８０２
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図８を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例５］
１Lビーカーに２，４－ジメチルベンズアルデヒド５０ｇ（３７３ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９８．８％（ＧＣ面積百分率）の５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物５」とする）５．３ｇを得た。
１Lビーカーに２，４－ジメチルベンズアルデヒド５０ｇ（３７３ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９８．８％（ＧＣ面積百分率）の５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物５」とする）５．３ｇを得た。
得られた化合物５について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を図９及び図１０に示した。これより５－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３６６，２９５５，２８６３，１３６１，１０８９，１０３３，９７６，８０８
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図１０を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例６］
１Lビーカーに２－ナフトアルデヒド２５ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９４．６％（ＧＣ面積百分率）の５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物６」とする）３１．２ｇを得た。
１Lビーカーに２－ナフトアルデヒド２５ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９４．６％（ＧＣ面積百分率）の５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物６」とする）３１．２ｇを得た。
得られた化合物６について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１１及び図１２に示した。これより５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３５０，２９６４，２８６９，１３５８，１１８１，１１６０，１０８８，１０６２，１０３３，９７２，７４５
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤ３ＯＤ）：図１２を参照。（なお、３．３１ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化メタノールに含まれるメタノールに由来するピークである。
［実施例７］
１Lビーカーに２－ナフトアルデヒド２５ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９３．９％（ＧＣ面積百分率）の５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール（以下、「化合物７」とする）５．８ｇを得た。
１Lビーカーに２－ナフトアルデヒド２５ｇ（１６０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９３．９％（ＧＣ面積百分率）の５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタール（以下、「化合物７」とする）５．８ｇを得た。
得られた化合物７について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１３及び図１４に示した。これより５－（２－ナフチル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールエタンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３８９，２９５２，２８７２，１４４８，１３４８，１１９８，１０８５，１０４１，９８０，７４６
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤ３ＯＤ）：図１４を参照。（なお、３．３１ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化メタノールに含まれるメタノールに由来するピークである。
［実施例８］
１Lビーカーに４－メチルベンズアルデヒド４８ｇ（４００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９５．８％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物８」とする）１２．６ｇを得た。
１Lビーカーに４－メチルベンズアルデヒド４８ｇ（４００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９５．８％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物８」とする）１２．６ｇを得た。
得られた化合物８について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１５及び図１６に示した。これより５－（４－メチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３９９，２９６０，２８６６，１３５６，１１５９，１０８８，１０３１，９７１，８２０，７８３
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図１６を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例９］
１Lビーカーに３，４－ジメチルベンズアルデヒド２６．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、９８．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物９」とする）１４．５ｇを得た。
１Lビーカーに３，４－ジメチルベンズアルデヒド２６．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、９８．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物９」とする）１４．５ｇを得た。
得られた化合物９について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１７及び図１８に示した。これより５－（３，４－ジメチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３７３，２９６３，２８６９，１３５６，１１７２，１０８８，１０５５，１０３１，９７２
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図１８を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例１０］
１Lビーカーに４－メトキシベンズアルデヒド２０．４ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９７．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１０」とする）２．９ｇを得た。
１Lビーカーに４－メトキシベンズアルデヒド２０．４ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９７．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１０」とする）２．９ｇを得た。
得られた化合物１０について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図１９及び図２０に示した。これより５－（４－メトキシフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３４０４，２９５２，２８７８，１５１４，１３５５，１２３８，１１５７，１０８８，１０３１，９７１，８３０
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＤＭＳＯ－ｄ６）：図２０を参照。（なお、２．５０ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化ジメチルスルホキシドに含まれるジメチルスルホキシドに由来するピークである。
［実施例１１］
１Lビーカーに４－イソプロピルベンズアルデヒド４４．４ｇ（３００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９９．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１１」とする）４４．４ｇを得た。
１Lビーカーに４－イソプロピルベンズアルデヒド４４．４ｇ（３００ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９９．３％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１１」とする）４４．４ｇを得た。
得られた化合物１１について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図２１及び図２２に示した。これより５－（４－イソプロピルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３９２，２９５９，２８６６，１３５７，１１６１，１０８８，１０５４，１０２９，９７０
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図２２を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
［実施例１２］
１Lビーカーに４－イソブチルベンズアルデヒド５０ｇ（３０８ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９８．１％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１２」とする）１２．２ｇを得た。
１Lビーカーに４－イソブチルベンズアルデヒド５０ｇ（３０８ｍｍｏｌ）を入れた以外は、実施例３と同様にして、純度９８．１％（ＧＣ面積百分率）の５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタール（以下、「化合物１２」とする）１２．２ｇを得た。
得られた化合物１２について、ＩＲスペクトル及び１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られた結果を、図２３及び図２４に示した。これより５－（４－イソブチルフェニル）－１，３－シクロヘキサンジオントリメチロールプロパンジアセタールであることを確認した。
ＩＲ（ｃｍ-１）：３３９８，２９５５，２８６７，１３５８，１１５９，１０８８，１０５４，１０２９，９７０，７２９
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｐｐｍ，ＣＤＣｌ３）：図２４を参照。（なお、７．２６ｐｐｍ付近のピークは溶媒の重水素化クロロホルムに含まれるクロロホルムに由来するピークである。
＜ポリマーの製造＞
［製造例１］
実施例１にて得られた化合物１を１１．８ｇ（０．０３ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン４８．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５４．９０μL（１３．９×１０－７ｍｏｌ）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍＬ四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、２００℃に加熱した。
［製造例１］
実施例１にて得られた化合物１を１１．８ｇ（０．０３ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン４８．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５４．９０μL（１３．９×１０－７ｍｏｌ）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍＬ四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で攪拌し、２００℃に加熱した。
基質溶解後、８０分かけて２４０℃まで段階的に昇温、１５０ｍｍＨｇまで段階的に減圧した。さらに４０分かけて段階的に真空になるまで減圧し、２０分保持した後に生成したポリカーボネート樹脂（以下、「ポリカーボネート樹脂１」とする）を４５ｇ取り出した。なお、反応中は副成するフェノールを留去した。取り出したポリカーボネート樹脂１を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、１４８℃であった。数平均分子量Ｍｎは、３１６００、重量平均分子量Ｍｗは、６３８００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは２．０であった。得られた結果を表１に示した。
［製造例２］
実施例２にて得られた化合物２を１１．４ｇ（０．０３ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン４８．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５８．１６μL（１４．５×１０－７ｍｏｌ）を製造例１と同様に生成したポリカーボネート樹脂（以下、「ポリカーボネート樹脂２」とする）を４０ｇ取り出した。取り出したポリカーボネート樹脂２を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、１５２℃であった。数平均分子量Ｍｎは、１６９００、重量平均分子量Ｍｗは、３２８００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。得られた結果を表１に示した。
実施例２にて得られた化合物２を１１．４ｇ（０．０３ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン４８．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５８．１６μL（１４．５×１０－７ｍｏｌ）を製造例１と同様に生成したポリカーボネート樹脂（以下、「ポリカーボネート樹脂２」とする）を４０ｇ取り出した。取り出したポリカーボネート樹脂２を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、１５２℃であった。数平均分子量Ｍｎは、１６９００、重量平均分子量Ｍｗは、３２８００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは１．９であった。得られた結果を表１に示した。
［製造例３］
実施例３にて得られた化合物３を６．４８ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン２３．８５ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート１５．０ｇ（０．０７ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液２６．９μL（６．７×１０－７ｍｏｌ）を製造例１と同様に生成したポリカーボネート樹脂（以下、「ポリカーボネート樹脂３」とする）を２５ｇ取り出した。取り出したポリカーボネート樹脂３を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、１４６℃であった。数平均分子量Ｍｎは、９５０７、重量平均分子量Ｍｗは、３２１００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは３．４であった。得られた結果を表１に示した。
実施例３にて得られた化合物３を６．４８ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン２３．８５ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート１５．０ｇ（０．０７ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液２６．９μL（６．７×１０－７ｍｏｌ）を製造例１と同様に生成したポリカーボネート樹脂（以下、「ポリカーボネート樹脂３」とする）を２５ｇ取り出した。取り出したポリカーボネート樹脂３を粉砕し、ガラス転移温度を測定したところ、１４６℃であった。数平均分子量Ｍｎは、９５０７、重量平均分子量Ｍｗは、３２１００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは３．４であった。得られた結果を表１に示した。
＜ポリカーボネート樹脂物性＞
［参考例１］
製造例１にて得られたポリカーボネート樹脂１を、神藤金属工業所社製圧縮成型機にて、樹脂量０．８ｇを２４０℃、１ＭＰａの圧力を加え１分間加熱し、２０ＭＰａの圧力で３０秒間加熱した後、１０ＭＰａの圧力を加え１分３０秒間加熱した。その後３分間冷却作業を行い、ポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．６１４であった。複屈折は、波長５４８．０ｎｍでは、－０．３６×１０－３で、波長５８８．８ｎｍでは、－０．３１×１０－３あった。アッベ数は２５．６であった。全光線透過率は８９％であった。得られた結果を表１に示した。
［参考例１］
製造例１にて得られたポリカーボネート樹脂１を、神藤金属工業所社製圧縮成型機にて、樹脂量０．８ｇを２４０℃、１ＭＰａの圧力を加え１分間加熱し、２０ＭＰａの圧力で３０秒間加熱した後、１０ＭＰａの圧力を加え１分３０秒間加熱した。その後３分間冷却作業を行い、ポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．６１４であった。複屈折は、波長５４８．０ｎｍでは、－０．３６×１０－３で、波長５８８．８ｎｍでは、－０．３１×１０－３あった。アッベ数は２５．６であった。全光線透過率は８９％であった。得られた結果を表１に示した。
［参考例２］
製造例２にて得られたポリカーボネート樹脂２を、樹脂量として０．８ｇを用いた以外は参考例１と同様にして、ポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて物性を測定した。屈折率は、１．６１９であった。複屈折は、波長５４８．０ｎｍでは、－０．３４×１０－３で、波長５８８．８ｎｍでは、－０．３４×１０－３あった。アッベ数は、２６．９であった。全光線透過率は８９％であった。得られた結果を表１に示した。
製造例２にて得られたポリカーボネート樹脂２を、樹脂量として０．８ｇを用いた以外は参考例１と同様にして、ポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて物性を測定した。屈折率は、１．６１９であった。複屈折は、波長５４８．０ｎｍでは、－０．３４×１０－３で、波長５８８．８ｎｍでは、－０．３４×１０－３あった。アッベ数は、２６．９であった。全光線透過率は８９％であった。得られた結果を表１に示した。
以上の結果から、本発明の環式ジオール化合物を共重合して得られたポリカーボネート樹脂は、屈折率が大きく、負の複屈折を有することが確認された。
［参考例３］
製造例１及び参考例１と同様にして、化合物１を５．８ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン５４．５ｇ（０．１２ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５６．０μＬ（１４．２×１０－７ｍｏｌ）で製造したポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．６２５であった。
製造例１及び参考例１と同様にして、化合物１を５．８ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン５４．５ｇ（０．１２ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５６．０μＬ（１４．２×１０－７ｍｏｌ）で製造したポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．６２５であった。
［参考例４］
製造例１及び参考例１と同様にして、化合物１を４６．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン１２．１ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５６．０μＬ（１４．２×１０－７ｍｏｌ）で製造したポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．５６２であった。
製造例１及び参考例１と同様にして、化合物１を４６．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、ビスフェノキシエタノールフルオレン１２．１ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート３０．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、および２．５×１０－２ｍｏｌ/Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液５６．０μＬ（１４．２×１０－７ｍｏｌ）で製造したポリカーボネートフィルムを得た。得られたポリカーボネートフィルムについて、物性を測定した。屈折率は、１．５６２であった。
以上の結果から、本発明の環式ジオール化合物の含有量を変えて共重合することにより、得られたポリカーボネート樹脂の屈折率を調整できることを確認した。
本発明の環式ジオール化合物は、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂又はポリエステルポリオール樹脂等のモノマーや樹脂改質剤として使用することができる。特に、環式ジオール化合物から誘導される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂は、屈折率が大きく負の複屈折を有しているため、光学用途の材料として好適である。
Claims (10)
- 一般式（１）で表される化合物。
- 一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基又はフェニル基である、請求項１に記載の化合物。
- 一般式（１）において、Ｒ１が、同一又は異なって、それぞれ、メチル基又はエチル基である、請求項２に記載の化合物。
- 一般式（１）において、Ｘで示される一般式（ａ）～（ｄ）で表される基中、Ｒ２が、同一又は異なって、それぞれ、水素原子、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、炭素数１～７の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基である、請求項１～３のいずれかに記載の化合物。
- 一般式（１）において、Ｘがフェニル基、ビフェニル基、１－ナフチル基又は２－ナフチル基である、請求項４に記載の化合物。
- 一般式（１）において、Ｘがフェニル基である、請求項５に記載の化合物。
- 請求項１～６のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂用モノマー。
- 請求項１～６のいずれかに記載の化合物からなる、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂又はポリエステルポリオール樹脂の樹脂改質剤。
- 請求項１～６のいずれかに記載の化合物を、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリエステルポリオール樹脂のモノマーとして使用する方法。
- 一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、一般式（３）で表される化合物と一般式（４）で表される化合物とを、酸性触媒の存在下で反応させることを含む、製造方法。
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