JP7434463B2 - Substrate transfer system and substrate transfer method - Google Patents

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Description

本開示は、基板搬送システム、および基板搬送方法に関する。 The present disclosure relates to a substrate transport system and a substrate transport method.

近年、半導体装置の小型化や軽量化の要求に応えるため、半導体ウエハなどの基板の第1主表面に素子、回路、端子などを形成した後、基板の第1主表面とは反対側の第2主表面を研削して、基板を薄板化することが行われる。薄板化の後または薄板化の前に、ダイシングが行われる。 In recent years, in order to meet the demand for smaller and lighter semiconductor devices, after forming elements, circuits, terminals, etc. on the first main surface of a substrate such as a semiconductor wafer, a second main surface of the substrate opposite to the first main surface is formed. 2. The main surface is ground to reduce the thickness of the substrate. Dicing is performed after or before thinning.

薄板化やダイシングなどの加工が行われる間、基板の第1主表面は保護テープで保護される。保護テープとしては、紫外線を照射することにより、粘着力を低下するものが用いられる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープを基板から剥離できる。 During processing such as thinning and dicing, the first main surface of the substrate is protected with a protective tape. As the protective tape, one whose adhesive strength is reduced by irradiation with ultraviolet rays is used. After the adhesive strength decreases, the protective tape can be easily peeled off from the substrate by a peeling operation.

紫外線を保護テープに照射した後、保護テープを基板から剥離する前に、基板は保護テープとは別の粘着テープを介してフレームに装着される。粘着テープは、環状のフレームの開口部を覆うようにフレームに装着され、フレームの開口部において基板の第2主表面に貼合される。 After the protective tape is irradiated with ultraviolet rays and before the protective tape is peeled off from the substrate, the substrate is attached to the frame via an adhesive tape different from the protective tape. The adhesive tape is attached to the frame so as to cover the opening of the annular frame, and is bonded to the second main surface of the substrate at the opening of the frame.

特許文献1の装置は、ウエハの裏面を研削する加工部と、ウエハの表面を保護する保護テープに紫外線を照射するUV照射部と、ウエハの裏面に貼付される粘着テープを介してウエハをフレームに装着するマウント部と、保護テープをウエハから剥離する剥離部とを有する。 The apparatus of Patent Document 1 includes a processing section that grinds the back surface of the wafer, a UV irradiation section that irradiates ultraviolet rays to a protective tape that protects the front surface of the wafer, and a frame that frames the wafer through an adhesive tape that is attached to the back surface of the wafer. The wafer has a mount section for attaching the protective tape to the wafer, and a peeling section for peeling off the protective tape from the wafer.

日本国特開2002-343756号公報Japanese Patent Application Publication No. 2002-343756

本開示の一態様は、主搬送部の稼働率を改善する、技術を提供する。 One aspect of the present disclosure provides a technique that improves the utilization rate of a main transport section.

本発明では、請求項に記載した構成を採用した。 In the present invention, the configuration described in the claims is adopted.

本開示の一態様によれば、主搬送部の稼働率を改善できる。 According to one aspect of the present disclosure, the operating rate of the main transport section can be improved.

図1は、一実施形態による基板処理システムによる処理前の基板を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a substrate before being processed by a substrate processing system according to an embodiment. 図2は、一実施形態による基板処理システムによる処理後の基板を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of a substrate after processing by a substrate processing system according to one embodiment. 図3は、一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。FIG. 3 is a plan view of a substrate processing system according to one embodiment. 図4は、一実施形態によるダイシング部を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a dicing section according to one embodiment. 図5は、一実施形態による薄板化部の粗研削部を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a rough grinding section of a thinning section according to one embodiment. 図6は、一実施形態による紫外線照射部を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an ultraviolet irradiation unit according to one embodiment. 図7は、一実施形態によるマウント部を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a mount according to one embodiment. 図8は、一実施形態による剥離部を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating a peeling section according to one embodiment. 図9は、一実施形態によるID貼付部を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing an ID pasting section according to one embodiment. 図10は、一実施形態による基板処理方法のフローチャートである。FIG. 10 is a flowchart of a method for processing a substrate according to one embodiment. 図11は、一実施形態による基板処理システムの要部を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing essential parts of a substrate processing system according to one embodiment. 図12は、一実施形態によるマウント部ならびにマウント部の上方にマウント部と重ねて設けられる紫外線照射部および受渡部を示す側面図である。FIG. 12 is a side view showing a mount part, and an ultraviolet irradiation part and a delivery part provided above the mount part to overlap with the mount part, according to one embodiment. 図13は、一実施形態による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。FIG. 13 is a side view showing a peeling part and an ID pasting part provided above the peeling part and overlapping with the peeling part, according to one embodiment. 図14は、一実施形態による第2副搬送部の動作を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating the operation of the second sub-transport unit according to one embodiment. 図15は、第1変形例による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。FIG. 15 is a side view showing a peeling part according to a first modification and an ID pasting part provided above the peeling part and overlapping with the peeling part. 図16は、第2変形例による基板処理システムの要部を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing main parts of a substrate processing system according to a second modification.

以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。以下の説明において、X方向、Y方向、Z方向は互いに垂直な方向であり、X方向およびY方向は水平方向、Z方向は鉛直方向である。鉛直軸を回転中心とする回転方向をθ方向とも呼ぶ。本明細書において、下方とは鉛直方向下方を意味し、上方とは鉛直方向上方を意味する。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. In each drawing, the same or corresponding configurations are given the same or corresponding symbols, and the description thereof will be omitted. In the following description, the X direction, Y direction, and Z direction are mutually perpendicular directions, the X direction and Y direction are horizontal directions, and the Z direction is vertical direction. The direction of rotation about the vertical axis is also called the θ direction. In this specification, below means vertically downward, and upward means vertically upward.

図1は、一実施形態による基板処理システムによる処理前の基板を示す斜視図である。基板10は、例えば半導体基板、サファイア基板などである。基板10の第1主表面11は格子状に形成された複数のストリートで区画され、区画される各領域には予め素子、回路、端子などが形成される。格子状に形成された複数のストリートに沿って基板10を分割することで、チップ13(図2参照)が得られる。 FIG. 1 is a perspective view showing a substrate before being processed by a substrate processing system according to an embodiment. The substrate 10 is, for example, a semiconductor substrate, a sapphire substrate, or the like. The first main surface 11 of the substrate 10 is divided into a plurality of streets formed in a grid pattern, and elements, circuits, terminals, etc. are formed in advance in each divided area. Chips 13 (see FIG. 2) are obtained by dividing the substrate 10 along a plurality of streets formed in a grid pattern.

基板10の第1主表面11には、保護テープ14が貼合される。保護テープ14は、ダイシングや薄板化などの加工が行われる間、基板10の第1主表面11を保護して、第1主表面11に予め形成された素子、回路、端子などを保護する。保護テープ14は、基板10の第1主表面11の全体を覆う。 A protective tape 14 is bonded to the first main surface 11 of the substrate 10 . The protective tape 14 protects the first main surface 11 of the substrate 10 during processing such as dicing and thinning, and protects elements, circuits, terminals, etc. formed on the first main surface 11 in advance. Protective tape 14 covers the entire first main surface 11 of substrate 10 .

保護テープ14は、シート基材と、シート基材の表面に塗布された粘着剤とで構成される。その粘着剤は、紫外線を照射すると硬化して、粘着力を低下するものであってよい。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。 The protective tape 14 is composed of a sheet base material and an adhesive applied to the surface of the sheet base material. The adhesive may be one that cures when exposed to ultraviolet light and reduces its adhesive strength. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled off from the substrate 10 by a peeling operation.

図2は、一実施形態による基板処理システムによる処理後の基板を示す斜視図である。基板10は、ダイシングされ薄板化されたうえで、粘着テープ18を介してフレーム19に装着される。尚、図1に示す保護テープ14は、基板10から剥離され、除去される。 FIG. 2 is a perspective view of a substrate after processing by a substrate processing system according to one embodiment. The substrate 10 is diced into a thin plate, and then attached to a frame 19 via an adhesive tape 18. Note that the protective tape 14 shown in FIG. 1 is peeled off from the substrate 10 and removed.

粘着テープ18は、シート基材と、シート基材の表面に塗布された粘着剤とで構成される。粘着テープ18は、環状のフレーム19の開口部を覆うようにフレーム19に装着され、フレーム19の開口部において基板10と貼合される。これにより、フレーム19を保持して基板10を搬送でき、基板10のハンドリング性を向上できる。 The adhesive tape 18 is composed of a sheet base material and an adhesive applied to the surface of the sheet base material. The adhesive tape 18 is attached to the frame 19 so as to cover the opening of the annular frame 19, and is bonded to the substrate 10 at the opening of the frame 19. Thereby, the substrate 10 can be transported while holding the frame 19, and the handling of the substrate 10 can be improved.

粘着テープ18と基板10との間には、図2に示すようにDAF(Die Attach Film)15が設けられてもよい。DAF15は、ダイボンディング用の接着シートである。DAF15は、チップ13の積層などに用いられる。DAF15は、導電性、絶縁性のいずれでもよい。 A DAF (Die Attach Film) 15 may be provided between the adhesive tape 18 and the substrate 10, as shown in FIG. DAF15 is an adhesive sheet for die bonding. The DAF 15 is used for stacking the chips 13 and the like. The DAF 15 may be either conductive or insulating.

DAF15は、フレーム19の開口部よりも小さく形成され、フレーム19の内側に設けられる。DAF15は、基板10の第2主表面12の全体を覆う。尚、チップ13の積層が行われない場合、DAF15は不要であるので、基板10は粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着されてよい。 The DAF 15 is formed smaller than the opening of the frame 19 and is provided inside the frame 19. DAF 15 covers the entire second main surface 12 of substrate 10 . Note that if the chips 13 are not stacked, the DAF 15 is not required, and the substrate 10 may be attached to the frame 19 only via the adhesive tape 18.

図3は、一実施形態による基板処理システムを示す平面図である。図3において、搬入カセット35および搬出カセット45を破断して、搬入カセット35の内部および搬出カセット45の内部を図示する。図3において、矢印は、マウント部500や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。 FIG. 3 is a plan view of a substrate processing system according to one embodiment. In FIG. 3, the carry-in cassette 35 and the carry-out cassette 45 are cut away to illustrate the interior of the carry-in cassette 35 and the carry-out cassette 45. In FIG. 3, arrows indicate moving directions of the substrate 10 and frame 19 in the mount section 500, the peeling section 600, and the like.

基板処理システム1は、基板10のダイシング、基板10の薄板化、保護テープ14に対する紫外線照射、基板10のマウント、基板10からの保護テープ14の剥離、フレーム19に対するID貼付などの各種の処理を行う。 The substrate processing system 1 performs various processes such as dicing the substrate 10, thinning the substrate 10, irradiating the protective tape 14 with ultraviolet rays, mounting the substrate 10, peeling the protective tape 14 from the substrate 10, and attaching an ID to the frame 19. conduct.

基板処理システム1は、制御部20と、搬入部30と、搬出部40と、主搬送路50と、主搬送部58と、各種の処理部とを備える。処理部としては、特に限定されないが、例えば、ダイシング部100、薄板化部200、紫外線照射部400、マウント部500、剥離部600およびID貼付部700が設けられる。 The substrate processing system 1 includes a control section 20, a carry-in section 30, a carry-out section 40, a main transport path 50, a main transport section 58, and various processing sections. Although the processing section is not particularly limited, for example, a dicing section 100, a thinning section 200, an ultraviolet irradiation section 400, a mounting section 500, a peeling section 600, and an ID pasting section 700 are provided.

制御部20は、例えばコンピュータで構成され、図3に示すようにCPU(Central Processing Unit)21と、メモリなどの記憶媒体22と、入力インターフェース23と、出力インターフェース24とを有する。制御部20は、記憶媒体22に記憶されたプログラムをCPU21に実行させることにより、各種の制御を行う。また、制御部20は、入力インターフェース23で外部からの信号を受信し、出力インターフェース24で外部に信号を送信する。 The control unit 20 is composed of, for example, a computer, and includes a CPU (Central Processing Unit) 21, a storage medium 22 such as a memory, an input interface 23, and an output interface 24, as shown in FIG. The control unit 20 performs various controls by causing the CPU 21 to execute programs stored in the storage medium 22. Further, the control unit 20 receives signals from the outside through the input interface 23 and transmits signals to the outside through the output interface 24.

制御部20のプログラムは、情報記憶媒体に記憶され、情報記憶媒体からインストールされる。情報記憶媒体としては、例えば、ハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどが挙げられる。尚、プログラムは、インターネットを介してサーバからダウンロードされ、インストールされてもよい。 The program of the control unit 20 is stored in an information storage medium and installed from the information storage medium. Examples of information storage media include hard disks (HD), flexible disks (FD), compact disks (CD), magnetic optical desks (MO), and memory cards. Note that the program may be downloaded from a server via the Internet and installed.

搬入部30は、処理前の基板10を収納した搬入カセット35が外部から搬入されるものである。搬入カセット35は、例えば粘着テープ18を介してフレーム19に装着される前の基板10を、Z方向に間隔をおいて複数収納する。 A carry-in cassette 35 containing substrates 10 before processing is carried into the carry-in section 30 from the outside. The carry-in cassette 35 stores a plurality of substrates 10 at intervals in the Z direction before being attached to the frame 19 via, for example, an adhesive tape 18.

搬入カセット35は、複数枚の基板10をZ方向に間隔をおいて収納するため、水平に配置される一対の収納板36をZ方向に間隔をおいて複数有する。一対の収納板36は、図3に示すように、基板10のY方向両端部を支持する。 In order to store a plurality of substrates 10 at intervals in the Z direction, the carry-in cassette 35 has a plurality of pairs of storage plates 36 arranged horizontally at intervals in the Z direction. The pair of storage plates 36 support both ends of the substrate 10 in the Y direction, as shown in FIG.

搬入カセット35は、保護テープ14の捲れなどの変形を抑制するため、保護テープ14を上に向けて基板10を水平に収納してよい。搬入カセット35から取り出された基板10は、上下反転されたうえで、ダイシング部100などの処理部に搬送される。 The carry-in cassette 35 may store the substrate 10 horizontally with the protective tape 14 facing upward in order to suppress deformation such as curling of the protective tape 14 . The substrate 10 taken out from the carry-in cassette 35 is turned upside down and then transported to a processing section such as the dicing section 100.

搬入部30は、搬入カセット35が載置される載置板31を備える。載置板31は、Y方向に一列に複数設けられる。尚、載置板31の個数は、図示のものに限定されない。 The carry-in section 30 includes a mounting plate 31 on which a carry-in cassette 35 is placed. A plurality of mounting plates 31 are provided in a row in the Y direction. Note that the number of mounting plates 31 is not limited to what is illustrated.

搬出部40は、処理後の基板10を収納した搬出カセット45が外部に搬出されるものである。搬出カセット45は、例えば粘着テープ18を介してフレーム19に装着された後の基板10を、Z方向に間隔をおいて複数収納する。 The carry-out section 40 is a part in which a carry-out cassette 45 containing the processed substrates 10 is carried out to the outside. The carry-out cassette 45 stores a plurality of substrates 10, which have been attached to the frame 19 via, for example, an adhesive tape 18, at intervals in the Z direction.

搬出カセット45は、複数枚の基板10をZ方向に間隔をおいて収納するため、水平に配置される一対の収納板46をZ方向に間隔をおいて複数有する。一対の収納板46は、図3に示すように、フレーム19のY方向両端部を支持する。 The carry-out cassette 45 has a plurality of pairs of storage plates 46 arranged horizontally at intervals in the Z direction in order to store a plurality of substrates 10 at intervals in the Z direction. As shown in FIG. 3, the pair of storage plates 46 support both ends of the frame 19 in the Y direction.

搬出部40は、搬出カセット45が載置される載置板41を備える。載置板41は、Y方向に一列に複数設けられる。尚、載置板41の個数は、図示のものに限定されない。 The carry-out section 40 includes a mounting plate 41 on which a carry-out cassette 45 is placed. A plurality of mounting plates 41 are provided in a row in the Y direction. Note that the number of mounting plates 41 is not limited to what is illustrated.

主搬送路50は、主搬送部58が搬入部30、搬出部40および複数の処理部に対し基板10を搬送する通路であり、例えばY方向に延びている。主搬送路50にはY方向に延びるY軸ガイド51が設けられ、Y軸ガイド51に沿ってY軸スライダ52が移動自在とされる。 The main transport path 50 is a path through which the main transport section 58 transports the substrate 10 to the loading section 30, the unloading section 40, and a plurality of processing sections, and extends, for example, in the Y direction. A Y-axis guide 51 extending in the Y direction is provided on the main conveyance path 50, and a Y-axis slider 52 is movable along the Y-axis guide 51.

主搬送部58は、基板10を保持すると共に主搬送路50に沿って移動し、基板10を搬送する。主搬送部58は、フレーム19を介して基板10を保持してもよい。主搬送部58は、基板10やフレーム19を真空吸着するが、静電吸着してもよい。主搬送部58は、搬送基体としてのY軸スライダ52などを含み、Y方向に沿って移動する。主搬送部58は、Y方向のみならず、X方向、Z方向およびθ方向にも移動可能とされる。 The main transport section 58 holds the substrate 10 and moves along the main transport path 50 to transport the substrate 10. The main transport section 58 may hold the substrate 10 via the frame 19. The main transport section 58 vacuum-chucks the substrate 10 and the frame 19, but may also electrostatically chuck them. The main transport section 58 includes a Y-axis slider 52 as a transport base, and moves along the Y direction. The main transport section 58 is movable not only in the Y direction but also in the X direction, Z direction, and θ direction.

主搬送部58は、基板10を保持する保持部を複数有してよい。複数の保持部は、Z方向に間隔おいて並んで設けられる。複数の保持部は、基板10の処理段階に応じて、使い分けられてよい。 The main transport section 58 may have a plurality of holding sections that hold the substrates 10. The plurality of holding parts are provided in line at intervals in the Z direction. The plurality of holding parts may be used depending on the processing stage of the substrate 10.

例えば、主搬送部58は、搬入カセット35からの基板10の取り出しに用いられる第1保持部と、ダイシングや薄板化などの加工によって強度が低下した基板10の搬送に用いられる第2保持部とを有する。第2保持部は、フレーム19に装着される前の基板10の搬送に用いられてよい。この場合、主搬送部58は、フレーム19に装着された後の基板10の搬送に用いられる第3保持部をさらに有してよい。第3保持部は、フレーム19を介して基板10を保持する。 For example, the main transport section 58 includes a first holding section used for taking out the substrate 10 from the loading cassette 35, and a second holding section used for transporting the substrate 10 whose strength has been reduced due to processing such as dicing or thinning. has. The second holding section may be used to transport the substrate 10 before it is mounted on the frame 19. In this case, the main transport section 58 may further include a third holding section used for transporting the substrate 10 after being mounted on the frame 19. The third holding section holds the substrate 10 via the frame 19.

搬入部30、搬出部40および複数の処理部は、鉛直方向視で主搬送路50に隣接して設けられる。例えば、主搬送路50の長手方向はY方向とされる。主搬送路50のX方向片側(図3において左側、以下、「前側」とも呼ぶ。)に、搬入部30と搬出部40が隣接して設けられる。また、主搬送路50のX方向反対側(図3において右側、以下、「後側」とも呼ぶ。)に、ダイシング部100、薄板化部200、剥離部600およびID貼付部700が隣接して設けられる。剥離部600とID貼付部700とはZ方向に積層され、ID貼付部700は剥離部600の上方に剥離部600と重ねて設けられる。さらに、主搬送路50のY方向一端部に、マウント部500が隣接して設けられる。マウント部500と紫外線照射部400とはZ方向に積層され、紫外線照射部400はマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。 The carry-in section 30, the carry-out section 40, and the plurality of processing sections are provided adjacent to the main transport path 50 when viewed in the vertical direction. For example, the longitudinal direction of the main conveyance path 50 is the Y direction. The carry-in section 30 and the carry-out section 40 are provided adjacent to each other on one side of the main conveyance path 50 in the X direction (the left side in FIG. 3, hereinafter also referred to as the "front side"). Further, on the opposite side in the X direction of the main conveyance path 50 (the right side in FIG. 3, hereinafter also referred to as the "rear side"), a dicing section 100, a thinning section 200, a peeling section 600, and an ID pasting section 700 are adjacent to each other. provided. The peeling part 600 and the ID pasting part 700 are stacked in the Z direction, and the ID pasting part 700 is provided above the peeling part 600 so as to overlap with the peeling part 600. Furthermore, a mount section 500 is provided adjacent to one end of the main transport path 50 in the Y direction. The mount section 500 and the ultraviolet irradiation section 400 are stacked in the Z direction, and the ultraviolet irradiation section 400 is provided above the mount section 500 so as to overlap with the mount section 500 .

本実施形態によれば、搬入部30および複数の処理部は、主搬送路50に隣接して設けられる。そのため、主搬送部58は、搬入部30および複数の処理部に対し基板10を受け渡すことができる。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。 According to this embodiment, the carry-in section 30 and the plurality of processing sections are provided adjacent to the main transport path 50. Therefore, the main transport section 58 can deliver the substrate 10 to the carry-in section 30 and the plurality of processing sections. Thereby, the main transport section 58 can be made multi-functional, the workload of the main transport section 58 can be increased, and the operating rate of the main transport section 58 can be improved.

また、本実施形態によれば、搬出部40も主搬送路50に隣接して設けられる。そのため、主搬送部58は、搬出部40に対し基板10を引き渡すことができる。これにより、主搬送部58をさらに多機能化して、主搬送部58の仕事量をさらに増やすことができ、主搬送部58の稼働率をさらに改善できる。また、複数の処理部と搬出部40とが主搬送路50に隣接して設けられるため、一の処理部で基板10に異常が生じた場合に、異常が生じた基板10を他の処理部に搬送することなく搬出部40に速やかに搬送できる。 Further, according to this embodiment, the unloading section 40 is also provided adjacent to the main transport path 50. Therefore, the main transport section 58 can deliver the substrate 10 to the unloading section 40. Thereby, the main transport section 58 can be further multifunctional, the workload of the main transport section 58 can be further increased, and the operating rate of the main transport section 58 can be further improved. Furthermore, since a plurality of processing sections and the unloading section 40 are provided adjacent to the main transport path 50, if an abnormality occurs in the substrate 10 in one processing section, the substrate 10 with the abnormality can be transferred to the other processing section. It can be quickly transported to the unloading section 40 without having to be transported to another location.

尚、処理部の配置や個数は、図3に示す配置や個数に限定されず、任意に選択可能である。また、複数の処理部は、任意の単位で、分散または統合して配置してもよい。以下、各処理部について説明する。 Note that the arrangement and number of processing units are not limited to the arrangement and number shown in FIG. 3, and can be arbitrarily selected. Further, the plurality of processing units may be arranged in arbitrary units, distributed or integrated. Each processing section will be explained below.

図4は、一実施形態によるダイシング部を示す図である。ダイシング部100は、基板10のダイシングを行う。本明細書において、基板10のダイシングとは、基板10を複数のチップ13に分割するための加工を意味し、基板10を分割すること、基板10に分割の起点を形成することを含む。ダイシング部100は、例えば、ダイシングテーブル110と、基板加工部120と、移動機構部130とを有する。 FIG. 4 is a diagram illustrating a dicing section according to one embodiment. The dicing unit 100 performs dicing of the substrate 10. In this specification, dicing of the substrate 10 refers to processing for dividing the substrate 10 into a plurality of chips 13, and includes dividing the substrate 10 and forming starting points for division on the substrate 10. The dicing section 100 includes, for example, a dicing table 110, a substrate processing section 120, and a moving mechanism section 130.

ダイシングテーブル110は、保護テープ14を介して基板10を保持する。例えば、ダイシングテーブル110は、基板10の第2主表面12を上に向けて、基板10を水平に保持する。ダイシングテーブル110としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。 Dicing table 110 holds substrate 10 with protective tape 14 interposed therebetween. For example, dicing table 110 holds substrate 10 horizontally with second main surface 12 of substrate 10 facing upward. For example, a vacuum chuck is used as the dicing table 110, but an electrostatic chuck or the like may also be used.

基板加工部120は、例えばダイシングテーブル110で保持されている基板10のダイシングを行う。基板加工部120は、例えばレーザ発振器121と、レーザ発振器121からのレーザ光線を基板10に照射する光学系122とを有する。光学系122は、レーザ発振器121からのレーザ光線を基板10に向けて集光する集光レンズなどで構成される。 The substrate processing unit 120 performs dicing of the substrate 10 held on the dicing table 110, for example. The substrate processing unit 120 includes, for example, a laser oscillator 121 and an optical system 122 that irradiates the substrate 10 with a laser beam from the laser oscillator 121. The optical system 122 includes a condenser lens that condenses the laser beam from the laser oscillator 121 toward the substrate 10 .

移動機構部130は、ダイシングテーブル110と基板加工部120とを相対的に移動させる。移動機構部130は、例えばダイシングテーブル110をX方向、Y方向、Z方向およびθ方向に移動させるXYZθステージ等で構成される。 The moving mechanism section 130 relatively moves the dicing table 110 and the substrate processing section 120. The moving mechanism section 130 is configured with, for example, an XYZθ stage that moves the dicing table 110 in the X direction, Y direction, Z direction, and θ direction.

制御部20は、基板加工部120および移動機構部130を制御して、基板10のストリートに沿って基板10のダイシングを行う。図4に示すように基板10の内部に破断の起点となる改質層2を形成してもよいし、基板10のレーザ照射面(例えば図4では上面)にレーザ加工溝を形成してもよい。レーザ加工溝は、基板10を板厚方向に貫通してもよいし貫通しなくてもよい。 The control section 20 controls the substrate processing section 120 and the moving mechanism section 130 to perform dicing of the substrate 10 along the streets of the substrate 10. As shown in FIG. 4, a modified layer 2 that serves as a starting point for fracture may be formed inside the substrate 10, or a laser-processed groove may be formed on the laser irradiated surface (for example, the upper surface in FIG. 4) of the substrate 10. good. The laser-processed groove may or may not penetrate the substrate 10 in the thickness direction.

基板10の内部に改質層2を形成する場合、基板10に対し透過性を有するレーザ光線が用いられる。改質層2は、例えば基板10の内部を局所的に溶融、固化させることにより形成される。一方、基板10のレーザ照射面にレーザ加工溝を形成する場合、基板10に対し吸収性を有するレーザ光線が用いられる。 When forming the modified layer 2 inside the substrate 10, a laser beam that is transparent to the substrate 10 is used. The modified layer 2 is formed, for example, by locally melting and solidifying the inside of the substrate 10. On the other hand, when forming a laser-processed groove on the laser-irradiated surface of the substrate 10, a laser beam that is absorbent to the substrate 10 is used.

尚、基板加工部120は、本実施形態ではレーザ光線を基板10に照射するレーザ発振器121を有するが、基板10を切削する切削ブレードを有してもよいし、基板10の表面にスクライブ溝を形成するスクラバーを有してもよい。 In this embodiment, the substrate processing section 120 includes a laser oscillator 121 that irradiates the substrate 10 with a laser beam, but it may also include a cutting blade that cuts the substrate 10 or forms scribe grooves on the surface of the substrate 10. It may have a scrubber that forms.

尚、ダイシング部100は、本実施形態では基板処理システム1の一部として設けられるが、基板処理システム1の外部に設けられてもよい。この場合、基板10は、ダイシングされたうえで、外部から搬入部30に搬入され、搬入部30において搬入カセット35から取り出され、ダイシング部100の代わりに、薄板化部200に搬送される。 Note that although the dicing section 100 is provided as a part of the substrate processing system 1 in this embodiment, it may be provided outside the substrate processing system 1. In this case, the substrate 10 is diced and then carried into the carrying-in section 30 from the outside, taken out from the carrying-in cassette 35 in the carrying-in section 30, and carried to the thinning section 200 instead of the dicing section 100.

薄板化部200(図3参照)は、ダイシングされた基板10の保護テープ14で保護されている第1主表面11とは反対側の第2主表面12を加工することにより、基板10を薄板化する。 The thinning unit 200 (see FIG. 3) processes the second main surface 12 of the diced substrate 10, which is opposite to the first main surface 11 protected by the protective tape 14, to thin the substrate 10. become

ダイシング部100で分割の起点を形成する場合、薄板化部200で基板10に加工応力が作用することにより、分割の起点から板厚方向にクラックが進展し、基板10が複数のチップ13に分割される。 When the starting point of division is formed in the dicing section 100, processing stress is applied to the substrate 10 in the thinning section 200, so that cracks develop in the board thickness direction from the starting point of division, and the substrate 10 is divided into a plurality of chips 13. be done.

また、ダイシング部100で基板10の内部に改質層2を形成する場合、薄板化部200で基板10を薄板化することにより、改質層2が除去される。 Further, when forming the modified layer 2 inside the substrate 10 in the dicing section 100, the modified layer 2 is removed by thinning the substrate 10 in the thinning section 200.

薄板化部200は、例えば図3に示すように、回転テーブル201と、チャックテーブル202と、粗研削部210と、仕上げ研削部220と、ダメージ層除去部230とを有する。 For example, as shown in FIG. 3, the thinning section 200 includes a rotating table 201, a chuck table 202, a rough grinding section 210, a finishing grinding section 220, and a damaged layer removing section 230.

回転テーブル201は、回転テーブル201の中心線を中心に回転させられる。回転テーブル201の回転中心線の周りには、複数(例えば図3では4つ)のチャックテーブル202が等間隔で配設される。 The rotary table 201 is rotated around the center line of the rotary table 201. A plurality of (for example, four in FIG. 3) chuck tables 202 are arranged at equal intervals around the rotation center line of the rotary table 201.

複数のチャックテーブル202は、回転テーブル201と共に、回転テーブル201の中心線を中心に回転する。回転テーブル201の中心線は、鉛直とされる。回転テーブル201が回転する度に、粗研削部210、仕上げ研削部220およびダメージ層除去部230と向かい合うチャックテーブル202が変更される。 The plurality of chuck tables 202 rotate together with the rotary table 201 around the center line of the rotary table 201. The center line of the rotary table 201 is vertical. Every time the rotary table 201 rotates, the chuck table 202 facing the rough grinding section 210, the finish grinding section 220, and the damaged layer removing section 230 is changed.

各チャックテーブル202は、保護テープ14を介して基板10を保持する。チャックテーブル202は、基板10の第2主表面12を上に向けて、基板10を水平に保持する。チャックテーブル202としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。 Each chuck table 202 holds the substrate 10 via the protective tape 14. Chuck table 202 holds substrate 10 horizontally with second main surface 12 of substrate 10 facing upward. As the chuck table 202, for example, a vacuum chuck is used, but an electrostatic chuck or the like may also be used.

図5は、一実施形態による薄板化部の粗研削部を示す図である。粗研削部210は、基板10の粗研削を行う。粗研削部210は、例えば図5に示すように、回転砥石211を有する。回転砥石211は、その中心線を中心に回転させられると共に下降され、チャックテーブル202で保持されている基板10の上面(つまり第2主表面12)を加工する。 FIG. 5 is a diagram illustrating a rough grinding section of a thinning section according to one embodiment. The rough grinding section 210 performs rough grinding of the substrate 10. The rough grinding section 210 includes a rotary grindstone 211, as shown in FIG. 5, for example. The rotary grindstone 211 is rotated about its centerline and lowered to process the upper surface (that is, the second main surface 12) of the substrate 10 held by the chuck table 202.

仕上げ研削部220は、基板10の仕上げ研削を行う。仕上げ研削部220の構成は、粗研削部210の構成とほぼ同様である。但し、仕上げ研削部220の回転砥石の砥粒の平均粒径は、粗研削部210の回転砥石の砥粒の平均粒径よりも小さい。 The finish grinding section 220 performs finish grinding of the substrate 10. The configuration of the finish grinding section 220 is almost the same as the configuration of the rough grinding section 210. However, the average grain size of the abrasive grains of the rotary whetstone in the finish grinding section 220 is smaller than the average grain size of the abrasive grains of the rotary whetstone in the rough grinding section 210.

ダメージ層除去部230は、粗研削や仕上げ研削などの研削によって基板10の第2主表面12に形成されたダメージ層を除去する。例えば、ダメージ層除去部230は、基板10に対して処理液を供給してウェットエッチング処理を行い、ダメージ層を除去する。尚、ダメージ層の除去方法は特に限定されない。 Damaged layer removing section 230 removes a damaged layer formed on second main surface 12 of substrate 10 by grinding such as rough grinding or finish grinding. For example, the damaged layer removing unit 230 supplies a processing liquid to the substrate 10 to perform a wet etching process to remove the damaged layer. Note that the method for removing the damaged layer is not particularly limited.

尚、薄板化部200は、基板10の研磨を行う研磨部を有してもよい。研磨部の構成は、粗研削部210の構成とほぼ同様である。基板10の研磨としては、例えばCMP(Chemical Mechanical Polishing)などが挙げられる。また、薄板化部200は、不純物を捕獲するゲッタリングサイト(例えば結晶欠陥や歪み)を形成するゲッタリング部を有してもよい。チャックテーブル202の数は、図3では4つであるが、加工の種類の数に応じて適宜変更される。また、一の加工部(例えばダメージ層除去部230)が、複数種類の加工(例えばダメージ層除去とゲッタリングサイト形成)を行ってもよい。 Note that the plate thinning section 200 may include a polishing section that polishes the substrate 10. The configuration of the polishing section is almost the same as the configuration of the rough grinding section 210. Examples of polishing the substrate 10 include CMP (Chemical Mechanical Polishing). Further, the thinned portion 200 may have a gettering portion that forms gettering sites (for example, crystal defects or distortions) that capture impurities. Although the number of chuck tables 202 is four in FIG. 3, it may be changed as appropriate depending on the number of types of processing. Furthermore, one processing unit (for example, the damaged layer removal unit 230) may perform multiple types of processing (for example, damage layer removal and gettering site formation).

図6は、一実施形態による紫外線照射部を示す図である。紫外線照射部400は、ダイシングされ薄板化された基板10を保護する保護テープ14に紫外線を照射する。保護テープ14の粘着剤を紫外線の照射によって硬化でき、保護テープ14の粘着力を低下できる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。 FIG. 6 is a diagram showing an ultraviolet irradiation unit according to one embodiment. The ultraviolet irradiation unit 400 irradiates the protective tape 14 that protects the diced and thinned substrate 10 with ultraviolet rays. The adhesive of the protective tape 14 can be cured by irradiation with ultraviolet rays, and the adhesive strength of the protective tape 14 can be reduced. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled off from the substrate 10 by a peeling operation.

紫外線照射部400は、保護テープ14で保護された基板10が搬入される筐体の内部に、UVランプ410を有する。UVランプ410は、保護テープ14を基準として基板10とは反対側から、保護テープ14に紫外線を照射する。 The ultraviolet irradiation unit 400 has a UV lamp 410 inside a casing into which the substrate 10 protected with the protective tape 14 is carried. The UV lamp 410 irradiates the protective tape 14 with ultraviolet light from the side opposite to the substrate 10 with the protective tape 14 as a reference.

図7は、一実施形態によるマウント部を示す図である。図7において、二点鎖線は粘着テープ18およびDAF15のマウント後の状態を示す。マウント部500は、基板10を基準として紫外線照射後の保護テープ14とは反対側に設けられる粘着テープ18を介して、基板10をフレーム19に装着する。粘着テープ18は、環状のフレーム19の開口部を覆うようにフレーム19に装着され、フレーム19の開口部において基板10と貼合される。 FIG. 7 is a diagram illustrating a mount according to one embodiment. In FIG. 7, the two-dot chain line shows the state of the adhesive tape 18 and the DAF 15 after they are mounted. The mount unit 500 attaches the substrate 10 to the frame 19 via an adhesive tape 18 provided on the opposite side of the substrate 10 to the protective tape 14 after irradiation with ultraviolet rays. The adhesive tape 18 is attached to the frame 19 so as to cover the opening of the annular frame 19, and is bonded to the substrate 10 at the opening of the frame 19.

マウント部500は、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着してもよいが、図7では予め積層された粘着テープ18およびDAF15を介してフレーム19に装着する。DAF15は、フレーム19の開口部よりも小さく形成され、フレーム19の内側に設けられる。DAF15は、基板10の第2主表面12の全体を覆う。 The mount unit 500 may attach the diced and thinned substrate 10 to the frame 19 via only the adhesive tape 18, but in FIG. Installing. The DAF 15 is formed smaller than the opening of the frame 19 and is provided inside the frame 19. DAF 15 covers the entire second main surface 12 of substrate 10 .

マウント部500は、例えば、基板10およびフレーム19を保持するマウントテーブル510と、マウントテーブル510で保持されているフレーム19に対し粘着テープ18を介して基板10を装着するラミネート用ローラ520とを有する。 The mount unit 500 includes, for example, a mount table 510 that holds the substrate 10 and the frame 19, and a laminating roller 520 that attaches the substrate 10 to the frame 19 held by the mount table 510 via an adhesive tape 18. .

マウントテーブル510は、フレーム19と、フレーム19の開口部に配される基板10とを平行に保持する。フレーム19および基板10は、水平に保持されてよい。フレーム19の上面と基板10の上面とは、DAF15の厚さと同程度の高低差を有してよい。尚、DAF15が用いられない場合、フレーム19の上面と基板10の上面とは同一平面上に配されてよい。 The mount table 510 holds the frame 19 and the substrate 10 arranged in the opening of the frame 19 in parallel. Frame 19 and substrate 10 may be held horizontally. The upper surface of the frame 19 and the upper surface of the substrate 10 may have a height difference comparable to the thickness of the DAF 15. Note that when the DAF 15 is not used, the upper surface of the frame 19 and the upper surface of the substrate 10 may be arranged on the same plane.

粘着テープ18などは、芯に巻き取られた状態で供給され、芯から引き出して使用される。粘着テープ18は、張力によってラミネート用ローラ520に抱き付きながらラミネート用ローラ520と基板10との間を通過し、基板10に積層される。また、粘着テープ18は、張力によってラミネート用ローラ520に抱き付きながらラミネート用ローラ520とフレーム19との間を通過し、フレーム19に積層される。 The adhesive tape 18 and the like are supplied wound around a core, and are used by being pulled out from the core. The adhesive tape 18 passes between the laminating roller 520 and the substrate 10 while clinging to the laminating roller 520 due to tension, and is laminated on the substrate 10. Further, the adhesive tape 18 passes between the laminating roller 520 and the frame 19 while clinging to the laminating roller 520 due to tension, and is laminated on the frame 19.

マウント部500は、図7に示すように、粘着テープ18を、フレーム19の一端側から他端側に向けて順次、フレーム19および基板10と貼合させる。これにより、空気の噛み込みなどを抑制できる。また、粘着テープ18を基板10と貼合させる間、基板10平坦に保持するため、基板10の破損を抑制できる。 As shown in FIG. 7, the mount section 500 attaches the adhesive tape 18 to the frame 19 and the substrate 10 in sequence from one end of the frame 19 to the other end. This makes it possible to suppress air entrapment. Furthermore, since the substrate 10 is held flat while the adhesive tape 18 is bonded to the substrate 10, damage to the substrate 10 can be suppressed.

図8は、一実施形態による剥離部を示す図である。図8において、二点鎖線は保護テープ14の剥離前の状態を示す。剥離部600は、粘着テープ18を介してフレーム19に装着した基板10から、保護テープ14を剥離する。不要になった保護テープ14を除去できる。剥離部600は、例えば剥離テーブル610と、剥離用ローラ620とを有する。 FIG. 8 is a diagram illustrating a peeling section according to one embodiment. In FIG. 8, the two-dot chain line indicates the state before the protective tape 14 is peeled off. The peeling unit 600 peels the protective tape 14 from the substrate 10 attached to the frame 19 via the adhesive tape 18. The protective tape 14 that is no longer needed can be removed. The peeling unit 600 includes, for example, a peeling table 610 and a peeling roller 620.

保護テープ14は、張力によって剥離用ローラ620に抱き付きながら剥離用ローラ620と基板10との間を通過し、基板10から剥離される。この間、剥離テーブル610は、粘着テープ18などを介して基板10およびフレーム19を平坦に保持する。基板10から剥離された保護テープ14は、不図示の巻取芯に巻き取られる。 The protective tape 14 passes between the peeling roller 620 and the substrate 10 while clinging to the peeling roller 620 due to tension, and is peeled off from the substrate 10. During this time, the peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 flat via the adhesive tape 18 or the like. The protective tape 14 peeled off from the substrate 10 is wound around a winding core (not shown).

剥離部600は、図8に示すように、保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。これにより、保護テープ14と基板10とを円滑に剥離できる。また、保護テープ14と基板10とを剥離する間、基板10を平坦に保持するため、基板10の破損を抑制できる。 As shown in FIG. 8, the peeling unit 600 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end of the substrate 10 to the other end. Thereby, the protective tape 14 and the substrate 10 can be smoothly peeled off. Furthermore, since the substrate 10 is held flat while the protective tape 14 and the substrate 10 are peeled off, damage to the substrate 10 can be suppressed.

尚、剥離部600は、保護テープ14と基板10とを平行に剥離してもよい。 Note that the peeling unit 600 may peel the protective tape 14 and the substrate 10 in parallel.

図9は、一実施形態によるID貼付部を示す図である。ID貼付部700は、保護テープ14を剥離した基板10の識別情報16(図2参照)を読み取り、読み取った識別情報16をラベル17(図2参照)に印刷し、印刷したラベル17をフレーム19に貼付する。識別情報16は、基板10を識別する情報であって、数字や文字、記号、1次元コード、2次元コードなどで表される。 FIG. 9 is a diagram showing an ID pasting section according to one embodiment. The ID pasting unit 700 reads the identification information 16 (see FIG. 2) on the board 10 from which the protective tape 14 has been peeled off, prints the read identification information 16 on a label 17 (see FIG. 2), and attaches the printed label 17 to the frame 19. Paste on. The identification information 16 is information for identifying the board 10, and is represented by numbers, letters, symbols, one-dimensional codes, two-dimensional codes, etc.

ID貼付部700は、例えば、ID貼付テーブル710と、読取装置720と、ラベル印刷装置730とを有する。ID貼付テーブル710は、粘着テープ18などを介して基板10およびフレーム19を保持する。読取装置720は、基板10に予め形成された識別情報16を読み取る。ラベル印刷装置730は、読取装置720で読み取った識別情報16をラベル17に印刷し、印刷したラベル17をラミネータなどでフレーム19に貼付する。ラベル17に印刷する識別情報16と、基板10に予め形成された識別情報16とは、図2に示すように同じ内容を異なる形式で表されてよい。 The ID pasting section 700 includes, for example, an ID pasting table 710, a reading device 720, and a label printing device 730. ID pasting table 710 holds substrate 10 and frame 19 via adhesive tape 18 or the like. The reading device 720 reads the identification information 16 formed on the substrate 10 in advance. The label printing device 730 prints the identification information 16 read by the reading device 720 on a label 17, and attaches the printed label 17 to the frame 19 using a laminator or the like. The identification information 16 printed on the label 17 and the identification information 16 previously formed on the substrate 10 may have the same content expressed in different formats, as shown in FIG.

次に、上記構成の基板処理システム1を用いた基板処理方法について説明する。図10は、一実施形態による基板処理方法のフローチャートである。 Next, a substrate processing method using the substrate processing system 1 having the above configuration will be explained. FIG. 10 is a flowchart of a method for processing a substrate according to one embodiment.

図10に示すように基板処理方法は、搬入工程S101と、ダイシング工程S102と、薄板化工程S103と、紫外線照射工程S104と、マウント工程S105と、剥離工程S106と、ID貼付工程S107と、搬出工程S108とを有する。これらの工程は、制御部20による制御下で実施される。尚、これらの工程の順序は、図10に示す順序には限定されない。例えば、薄板化工程S103の後に、ダイシング工程S102が行われてもよい。 As shown in FIG. 10, the substrate processing method includes a loading process S101, a dicing process S102, a thinning process S103, an ultraviolet irradiation process S104, a mounting process S105, a peeling process S106, an ID pasting process S107, and an unloading process. and step S108. These steps are performed under the control of the control unit 20. Note that the order of these steps is not limited to the order shown in FIG. 10. For example, a dicing step S102 may be performed after the thinning step S103.

搬入工程S101では、主搬送部58が、搬入部30に置かれた搬入カセット35から基板10を取り出し、取出した基板10をダイシング部100に搬送する。 In the carrying-in step S101, the main transport unit 58 takes out the substrate 10 from the carrying-in cassette 35 placed in the carrying-in part 30, and transports the taken-out substrate 10 to the dicing part 100.

ダイシング工程S102では、図4に示すように、ダイシング部100が、基板10のダイシングを行う。基板10のダイシングが行われる間、基板10の第1主表面11は保護テープ14で保護される。ダイシング部100においてダイシングされた基板10は、主搬送部58によって薄板化部200に搬送される。 In the dicing step S102, as shown in FIG. 4, the dicing unit 100 dices the substrate 10. While the substrate 10 is being diced, the first main surface 11 of the substrate 10 is protected with a protective tape 14 . The substrate 10 diced in the dicing section 100 is transported to the thinning section 200 by the main transport section 58 .

薄板化工程S103では、図5に示すように、薄板化部200が、基板10の第2主表面12を加工することにより、基板10を薄板化する。基板10の薄板化が行われる間、基板10の第1主表面11は保護テープ14で保護される。薄板化部200において薄板化された基板10は、主搬送部58によって後述の受渡部300に搬送された後、後述の第1副搬送部910によって紫外線照射部400に搬送される。 In the thinning step S103, as shown in FIG. 5, the thinning section 200 processes the second main surface 12 of the substrate 10 to thin the substrate 10. While the substrate 10 is being thinned, the first main surface 11 of the substrate 10 is protected with a protective tape 14. The substrate 10 thinned in the thinning section 200 is transported by the main transport section 58 to a delivery section 300, which will be described later, and then transported to the ultraviolet irradiation section 400 by a first sub-transport section 910, which will be described later.

紫外線照射工程S104では、図6に示すように、紫外線照射部400が、保護テープ14に紫外線を照射する。保護テープ14の粘着剤を紫外線の照射によって硬化でき、保護テープ14の粘着力を低下できる。粘着力の低下後に、剥離操作によって簡単に保護テープ14を基板10から剥離できる。 In the ultraviolet irradiation step S104, as shown in FIG. 6, the ultraviolet irradiation unit 400 irradiates the protective tape 14 with ultraviolet rays. The adhesive of the protective tape 14 can be cured by irradiation with ultraviolet rays, and the adhesive strength of the protective tape 14 can be reduced. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled off from the substrate 10 by a peeling operation.

紫外線照射工程S104は、マウント工程S105の後に行われてもよいが、本実施形態ではマウント工程S105の前に行われる。これにより、マウント工程S105で基板10と貼合される粘着テープ18の紫外線照射による劣化を防止できる。紫外線照射部400において紫外線照射された保護テープ14が付いた基板10は、後述の第1副搬送部910によってマウント部500に搬送される。 Although the ultraviolet irradiation step S104 may be performed after the mounting step S105, in this embodiment, it is performed before the mounting step S105. This can prevent deterioration of the adhesive tape 18 bonded to the substrate 10 in the mounting step S105 due to ultraviolet irradiation. The substrate 10 with the protective tape 14 irradiated with ultraviolet rays in the ultraviolet irradiation section 400 is transported to the mount section 500 by a first sub-transport section 910, which will be described later.

マウント工程S105では、図7に示すように、マウント部500が、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18を介してフレーム19に装着する。マウント部500は、ダイシングされ薄板化された基板10を、粘着テープ18のみを介してフレーム19に装着してもよいが、本実施形態では予め積層された粘着テープ18およびDAF15を介してフレーム19に装着する。マウント部500において粘着テープ18を介してフレーム19に装着された基板10は、後述の第2副搬送部920によって剥離部600に搬送される。 In the mounting step S105, as shown in FIG. 7, the mount unit 500 mounts the diced and thinned substrate 10 onto the frame 19 via the adhesive tape 18. The mount unit 500 may attach the diced and thinned substrate 10 to the frame 19 via only the adhesive tape 18, but in this embodiment, the substrate 10 is attached to the frame 19 via the adhesive tape 18 and the DAF 15 that have been laminated in advance. Attach to. The substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18 in the mount section 500 is transported to the peeling section 600 by a second sub-transport section 920, which will be described later.

剥離工程S106では、図8に示すように、剥離部600が、マウント部500によって粘着テープ18を介してフレーム19に装着された基板10から、保護テープ14を剥離する。不要になった保護テープ14を除去できる。剥離部600において保護テープ14が剥離された基板10は、後述の第3副搬送部930によってID貼付部700に搬送される。 In the peeling step S106, as shown in FIG. 8, the peeling unit 600 peels the protective tape 14 from the substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18 by the mount unit 500. The protective tape 14 that is no longer needed can be removed. The substrate 10 from which the protective tape 14 has been peeled off in the peeling section 600 is transported to the ID pasting section 700 by a third sub-transport section 930, which will be described later.

ID貼付工程S107では、図9に示すように、ID貼付部700が、基板10に予め形成された識別情報16(図2参照)を読み取り、読み取った識別情報16をラベル17(図2参照)に印刷し、印刷したラベル17をフレーム19に貼付する。 In the ID pasting step S107, as shown in FIG. 9, the ID pasting unit 700 reads the identification information 16 (see FIG. 2) formed in advance on the substrate 10, and pastes the read identification information 16 onto the label 17 (see FIG. 2). The printed label 17 is attached to the frame 19.

搬出工程S108では、主搬送部58が、ID貼付部700から搬出部40に基板10を搬送し、搬出部40において搬出カセット45の内部に基板10を収納する。搬出カセット45は、搬出部40から外部に搬出される。搬出カセット45と共に外部に搬出された基板10は、チップ13ごとにピックアップされる。このようにして、チップ13が製造される。 In the carry-out step S108, the main conveyance unit 58 conveys the substrate 10 from the ID pasting unit 700 to the carry-out unit 40, and stores the substrate 10 inside the carry-out cassette 45 in the carry-out unit 40. The carry-out cassette 45 is carried out from the carry-out section 40 to the outside. The substrate 10 carried out to the outside together with the carry-out cassette 45 is picked up chip by chip 13. In this way, the chip 13 is manufactured.

図11は、一実施形態による基板処理システムの要部を示す平面図である。図12は、一実施形態によるマウント部ならびにマウント部の上方にマウント部と重ねて設けられる紫外線照射部および受渡部を示す側面図である。図13は、一実施形態による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。図11~図13において、矢印は、マウント部500や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。 FIG. 11 is a plan view showing essential parts of a substrate processing system according to one embodiment. FIG. 12 is a side view showing a mount part, and an ultraviolet irradiation part and a delivery part provided above the mount part to overlap with the mount part, according to one embodiment. FIG. 13 is a side view showing a peeling part and an ID pasting part provided above the peeling part and overlapping with the peeling part, according to one embodiment. In FIGS. 11 to 13, arrows indicate moving directions of the substrate 10 and frame 19 in the mount section 500, peeling section 600, and the like.

基板処理システム1は、マウント部500を備える。マウント部500は、図12に示すように、例えば、マウントテーブル510と、ラミネート用ローラ520と、マウントテーブルガイド530と、フレーム供給部540と、フレーム搬送部550とを有する。 The substrate processing system 1 includes a mount section 500. As shown in FIG. 12, the mounting section 500 includes, for example, a mounting table 510, a laminating roller 520, a mounting table guide 530, a frame supply section 540, and a frame conveyance section 550.

マウントテーブルガイド530は、図11に示すように、X方向に延びており、Y方向に間隔をおいて一対設けられる。一対のマウントテーブルガイド530に沿ってマウントテーブル510が移動可能とされる。マウントテーブル510を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータが用いられる。 As shown in FIG. 11, the mount table guides 530 extend in the X direction, and are provided in pairs at intervals in the Y direction. The mount table 510 is movable along a pair of mount table guides 530. As a drive source for moving the mount table 510, for example, a servo motor is used.

図12に示すように、マウントテーブルガイド530の後側の端部の上方にはラミネート用ローラ520が設けられ、マウントテーブルガイド530の前側の端部の下方にはフレーム供給部540が設けられる。フレーム供給部540は、基板10を装着する前のフレーム19を収納したフレームカセット541が外部から搬入されるものである。フレームカセット541は、フレーム19をZ方向に複数並べて収納する。尚、フレームカセット541は無くてもよく、作業員がフレーム19をフレーム供給部540にセットしてもよい。フレーム19は、複数枚ずつ複数回に分けて、フレーム供給部540にセットされてよい。 As shown in FIG. 12, a laminating roller 520 is provided above the rear end of the mount table guide 530, and a frame supply section 540 is provided below the front end of the mount table guide 530. A frame cassette 541 containing the frame 19 before mounting the board 10 is carried into the frame supply unit 540 from the outside. The frame cassette 541 stores a plurality of frames 19 side by side in the Z direction. Note that the frame cassette 541 may not be provided, and a worker may set the frame 19 in the frame supply section 540. A plurality of frames 19 may be set in the frame supply unit 540 in multiple batches.

図3に示すように、主搬送路50の幅方向片側(前側)に搬入部30および搬出部40が設けられ、マウント部500は主搬送路50の長手方向一端部に隣接して設けられてよい。この場合、図12に示すように、フレーム供給部540には、前側からフレームカセット541が搬入されてよい。処理前の物品(基板10やフレーム19)が前側から搬入され、処理後の物品(基板10を装着したフレーム19)が前側に搬出される。物品の搬入出を前側に集中でき、メンテナンス性や搬送効率を向上できる。 As shown in FIG. 3, the carry-in section 30 and the carry-out section 40 are provided on one side (front side) in the width direction of the main conveyance path 50, and the mount section 500 is provided adjacent to one longitudinal end of the main conveyance path 50. good. In this case, as shown in FIG. 12, the frame cassette 541 may be loaded into the frame supply section 540 from the front side. Unprocessed articles (substrate 10 and frame 19) are carried in from the front side, and processed articles (frame 19 with substrate 10 attached) are carried out from the front side. Loading and unloading of goods can be concentrated at the front, improving maintenance and transport efficiency.

フレーム搬送部550は、フレーム供給部540に置かれたフレームカセット541からフレーム19を取り出し、取り出したフレーム19をマウントテーブル510に載置する。フレーム搬送部550は、例えばZ方向視で一対のマウントテーブルガイド530の間に配され、Z方向に移動可能とされる。フレーム搬送部550を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。 The frame transport section 550 takes out the frame 19 from the frame cassette 541 placed in the frame supply section 540 and places the taken out frame 19 on the mount table 510. The frame transport unit 550 is disposed, for example, between a pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction, and is movable in the Z direction. For example, a servo motor is used as a drive source for moving the frame transport section 550.

フレーム搬送部550は、フレーム19を吸着する吸着部559を有する。吸着部559は、例えばX方向に間隔をおいて複数設けられ、フレーム19のX方向両端部を吸着する。吸着部559は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて吸着部559に負圧を生じさせることで、フレーム搬送部550がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、フレーム搬送部550がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、フレーム搬送部550に正圧を生じさせてもよい。本明細書において、負圧とは大気圧よりも低い圧力のことであり、正圧とは大気圧よりも高い圧力のことである。 The frame transport section 550 has a suction section 559 that suctions the frame 19. For example, a plurality of suction sections 559 are provided at intervals in the X direction, and suck both ends of the frame 19 in the X direction. The suction portion 559 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked by a suction source such as a vacuum pump. By activating the suction source to generate negative pressure in the suction unit 559, the frame conveyance unit 550 vacuum-suctions the frame 19. On the other hand, by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere, the frame transport section 550 releases the vacuum suction of the frame 19. Positive pressure may be generated in the frame transport section 550 when vacuum suction is released. In this specification, negative pressure refers to a pressure lower than atmospheric pressure, and positive pressure refers to a pressure higher than atmospheric pressure.

マウントテーブル510は、マウントテーブルガイド530の主搬送路50側(前側)の端部において、フレーム搬送部550からフレーム19を受け取る。具体的には、先ず、フレーム搬送部550が図12に実線で示す位置から図12に二点鎖線で示す位置に上昇させられ、Y方向に間隔をおいて設けられる一対のマウントテーブルガイド530の間をZ方向に通過する。このとき、マウントテーブル510は、フレーム搬送部550の上昇を妨げない退避位置で待機している。その後、フレーム搬送部550の直下にマウントテーブル510が移動されると、フレーム搬送部550が下降され、フレーム搬送部550で保持されているフレーム19がマウントテーブル510に載置される。 The mount table 510 receives the frame 19 from the frame transport unit 550 at the end of the mount table guide 530 on the main transport path 50 side (front side). Specifically, first, the frame transport unit 550 is raised from the position shown by the solid line in FIG. 12 to the position shown by the two-dot chain line in FIG. It passes through in the Z direction. At this time, the mount table 510 is waiting at a retracted position that does not prevent the frame transport section 550 from rising. Thereafter, when the mount table 510 is moved directly below the frame transport section 550, the frame transport section 550 is lowered, and the frame 19 held by the frame transport section 550 is placed on the mount table 510.

その後、マウントテーブル510は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、ラミネート用ローラ520の真下に向けて移動される途中で、後述の第1副搬送部910から基板10を受け取る。基板10はフレーム19の開口部に配され、マウントテーブル510は保護テープ14を介して基板10を保持する。 Thereafter, the mount table 510 is moved in the X direction (rear side) away from the main transport path 50, and while being moved directly below the laminating roller 520, the mount table 510 removes the substrate from the first sub-transport section 910, which will be described later. Receive 10. The substrate 10 is placed in the opening of the frame 19, and the mount table 510 holds the substrate 10 via the protective tape 14.

その後、マウントテーブル510は、さらに主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、ラミネート用ローラ520の真下に向けて移動される。ラミネート用ローラ520は、図7に示すようにマウントテーブル510に載置されたフレーム19およびフレーム19の開口部に配された基板10に、粘着テープ18を貼合する。粘着テープ18は、基板10を基準として保護テープ14とは反対側(上側)に設けられる。 Thereafter, the mount table 510 is further moved in the X direction (backward) away from the main conveyance path 50 and moved directly below the laminating roller 520. The laminating roller 520 bonds the adhesive tape 18 to the frame 19 placed on the mount table 510 and the substrate 10 placed in the opening of the frame 19, as shown in FIG. The adhesive tape 18 is provided on the opposite side (upper side) of the protective tape 14 with respect to the substrate 10.

基板処理システム1は、紫外線照射部400を備える。図11および図12に示すように、紫外線照射部400はマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。例えば、紫外線照射部400は、Z方向視で一対のマウントテーブルガイド530と重ねて設けられる。 The substrate processing system 1 includes an ultraviolet irradiation section 400. As shown in FIGS. 11 and 12, the ultraviolet irradiation section 400 is provided above the mount section 500 and overlaps with the mount section 500. For example, the ultraviolet irradiation unit 400 is provided overlapping the pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction.

紫外線照射部400とマウント部500とがZ方向に積層されるため、Z方向視で紫外線照射部400とマウント部500とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、紫外線照射部400からマウント部500に基板10を搬送する流れが良い。 Since the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 are stacked in the Z direction, the substrate processing system 1 is stacked as viewed in the Z direction, compared to a case where the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 are provided side by side when viewed in the Z direction. The installation area can be reduced. Further, the flow of transporting the substrate 10 from the ultraviolet irradiation section 400 to the mounting section 500 is good.

基板処理システム1は、ダイシングされ薄板化された基板10を主搬送部58(図3参照)から受け取る受渡部300を備えてよい。受渡部300は、主搬送部58から基板10を受け取り、受け取った基板10を後述の第1副搬送部910に引き渡す。 The substrate processing system 1 may include a delivery section 300 that receives the diced and thinned substrate 10 from the main transport section 58 (see FIG. 3). The delivery section 300 receives the substrate 10 from the main transport section 58, and delivers the received substrate 10 to a first sub-transport section 910, which will be described later.

受渡部300は、図11に示すように主搬送路50に隣接すると共に図12に示すようにマウント部500の上方にマウント部500と重ねて設けられる。例えば、受渡部300は、Z方向視で一対のマウントテーブルガイド530と重ねて設けられる。マウント部500が主搬送路50のY方向端部に隣接して設けられる場合、受渡部300も主搬送路50のY方向端部に隣接して設けられる。 The delivery section 300 is adjacent to the main conveyance path 50 as shown in FIG. 11 and is provided above the mount section 500 so as to overlap the mount section 500 as shown in FIG. For example, the delivery section 300 is provided overlapping the pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction. When the mount section 500 is provided adjacent to the end of the main transport path 50 in the Y direction, the delivery section 300 is also provided adjacent to the end of the main transport path 50 in the Y direction.

受渡部300とマウント部500とがZ方向に積層されるため、Z方向視でマウント部500と受渡部300とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、紫外線照射部400と同じ高さに受渡部300を配置でき、紫外線照射部400の横に受渡部300を配置でき、受渡部300から紫外線照射部400に基板10を搬送する流れが良い。 Since the delivery part 300 and the mount part 500 are stacked in the Z direction, the installation of the substrate processing system 1 is easier when seen in the Z direction than when the mount part 500 and the delivery part 300 are provided side by side when seen in the Z direction. Area can be reduced. Further, the transfer section 300 can be arranged at the same height as the ultraviolet irradiation section 400, and the transfer section 300 can be arranged next to the ultraviolet irradiation section 400, so that the flow of conveying the substrate 10 from the transfer section 300 to the ultraviolet irradiation section 400 is good.

例えば図11に示すように、Z方向視において、前側から後側にかけて、受渡部300、紫外線照射部400、ラミネート用ローラ520がこの順で並んで設けられる。そのため、受渡部300から紫外線照射部400を経てマウントテーブル510に載置されるまでの基板10の流れを向上でき、基板10の搬送効率を向上できる。 For example, as shown in FIG. 11, a delivery section 300, an ultraviolet irradiation section 400, and a laminating roller 520 are arranged in this order from the front side to the rear side when viewed in the Z direction. Therefore, the flow of the substrate 10 from the delivery section 300 to the ultraviolet irradiation section 400 until it is placed on the mount table 510 can be improved, and the transport efficiency of the substrate 10 can be improved.

受渡部300は、フレーム19に対する基板10の装着位置の位置合わせに用いる情報を取得するアライメント部を兼ねてよい。これにより、例えば薄板化部200と主搬送部58との間での基板10の受け渡し、主搬送部58と受渡部300との間での基板10の受け渡しなどによって基板10の位置ずれが生じる場合に、基板10のX方向やY方向、θ方向の位置を矯正できる。その矯正は、フレーム19の開口部の中心と基板10の中心とが一致するように行われ、フレーム19に対する基板10の向きが所定の向きになるように行われる。 The delivery unit 300 may also serve as an alignment unit that acquires information used to align the mounting position of the board 10 with respect to the frame 19. As a result, the position of the substrate 10 may be shifted due to, for example, the transfer of the substrate 10 between the thinning section 200 and the main transfer section 58, the transfer of the substrate 10 between the main transfer section 58 and the transfer section 300, etc. Additionally, the position of the substrate 10 in the X direction, Y direction, and θ direction can be corrected. The correction is performed so that the center of the opening of the frame 19 and the center of the substrate 10 coincide with each other, and the orientation of the substrate 10 with respect to the frame 19 is in a predetermined direction.

受渡部300は、図12に示すように、例えば、基板10を保持する受渡テーブル310と、受渡テーブル310で保持されている基板10の画像を撮像する撮像部320と、受渡テーブル310を回転させる回転駆動部330とを有する。受渡テーブル310としては、例えば真空チャックが用いられるが、静電チャックなどが用いられてもよい。撮像部320は、例えば受渡テーブル310の上方に設けられ、受渡テーブル310に保持されている基板10の上方から基板10を撮像する。回転駆動部330は、受渡テーブル310を回転させることにより、受渡テーブル310で保持されている基板10の撮像位置を変更する。 As shown in FIG. 12, the delivery unit 300 includes, for example, a delivery table 310 that holds the substrate 10, an imaging unit 320 that captures an image of the substrate 10 held by the delivery table 310, and a rotation unit that rotates the delivery table 310. It has a rotation drive section 330. For example, a vacuum chuck is used as the transfer table 310, but an electrostatic chuck or the like may also be used. The imaging unit 320 is provided above the transfer table 310, for example, and captures an image of the substrate 10 held on the transfer table 310 from above. The rotation drive unit 330 changes the imaging position of the substrate 10 held by the transfer table 310 by rotating the transfer table 310.

受渡部300は、撮像部320によって撮像した基板10の画像を、電気信号に変換して制御部20に送信する。制御部20は、撮像部320によって撮像した基板10の画像を画像処理することにより、受渡テーブル310に保持されている基板10の位置を検出する。その検出方法としては、基板10のパターン(例えば分割パターン)と基準パターンとのマッチングを行う方法、基板10の外周上の複数の点から基板10の中心点と基板10の向きを求める方法などの公知の方法が用いられる。基板10の向きは、基板10の外周に形成されるノッチの位置などから検出される。ノッチの代わりに、オリエンテーションフラットが用いられてもよい。これにより、制御部20は、受渡テーブル310に固定される座標系での基板10の位置を把握できる。 The delivery unit 300 converts the image of the substrate 10 captured by the imaging unit 320 into an electrical signal and transmits it to the control unit 20 . The control unit 20 detects the position of the substrate 10 held on the delivery table 310 by performing image processing on the image of the substrate 10 captured by the imaging unit 320. The detection methods include a method of matching the pattern of the substrate 10 (for example, a divided pattern) with a reference pattern, a method of determining the center point of the substrate 10 and the direction of the substrate 10 from a plurality of points on the outer circumference of the substrate 10, etc. Known methods are used. The orientation of the substrate 10 is detected from the position of a notch formed on the outer periphery of the substrate 10. Instead of notches, orientation flats may be used. Thereby, the control unit 20 can grasp the position of the substrate 10 in the coordinate system fixed to the delivery table 310.

基板10のθ方向位置合わせは、例えば受渡テーブル310を回転させることで行われる。一方、基板10のX方向位置合わせや基板10のY方向位置合わせは、受渡テーブル310による基板10の保持を解除した後に行われ、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経てマウント部500に搬送する間に行われる。例えば、基板10のX方向位置合わせや基板10のY方向位置合わせは、後述の第1副搬送部910が基板10を受渡テーブル310から受け取るとき、または、第1副搬送部910が基板10をマウントテーブル510に引き渡すときに行われる。これにより、マウントテーブル510に対する基板10の載置位置の位置合わせが行われ、ひいては、フレーム19に対する基板10の装着位置の位置合わせが行われる。 Positioning of the substrate 10 in the θ direction is performed, for example, by rotating the transfer table 310. On the other hand, the alignment of the substrate 10 in the X direction and the alignment of the substrate 10 in the Y direction is performed after the holding of the substrate 10 by the transfer table 310 is released. This is done during transportation to. For example, the X-direction alignment of the substrate 10 and the Y-direction alignment of the substrate 10 are performed when the first sub-transport section 910 (described later) receives the substrate 10 from the transfer table 310, or when the first sub-transport section 910 receives the substrate 10 from the transfer table 310. This is done when handing over to the mount table 510. As a result, the mounting position of the substrate 10 is aligned with respect to the mount table 510, and in turn, the mounting position of the substrate 10 with respect to the frame 19 is aligned.

基板処理システム1は、剥離部600を備える。剥離部600は、図13に示すように、例えば、剥離テーブル610と、剥離用ローラ620と、剥離テーブルガイド630とを有する。 The substrate processing system 1 includes a peeling section 600. As shown in FIG. 13, the peeling unit 600 includes, for example, a peeling table 610, a peeling roller 620, and a peeling table guide 630.

剥離テーブルガイド630は、図11に示すように、X方向に延びており、Y方向に間隔をおいて一対設けられる。一対の剥離テーブルガイド630に沿って剥離テーブル610が移動可能とされる。剥離テーブル610を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータが用いられる。 As shown in FIG. 11, the peeling table guides 630 extend in the X direction, and are provided as a pair at intervals in the Y direction. The peeling table 610 is movable along a pair of peeling table guides 630. As a drive source for moving the peeling table 610, for example, a servo motor is used.

剥離テーブル610は、図13に示すように、剥離テーブルガイド630のX方向中央部において、後述の第2副搬送部920からフレーム19を受け取る。フレーム19には、予め粘着テープ18を介して基板10が装着される。剥離テーブル610は、粘着テープ18を介して基板10やフレーム19を保持する。 As shown in FIG. 13, the peeling table 610 receives the frame 19 from a second sub-transport unit 920, which will be described later, at the center of the peeling table guide 630 in the X direction. The substrate 10 is attached to the frame 19 in advance with an adhesive tape 18 interposed therebetween. The peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 via the adhesive tape 18.

その後、剥離テーブル610は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、剥離用ローラ620の真下に向けて移動される。剥離用ローラ620は、図8に示すように保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。 Thereafter, the peeling table 610 is moved in the X direction (rear side) away from the main conveyance path 50 and moved directly below the peeling roller 620. The peeling roller 620 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end of the substrate 10 to the other end, as shown in FIG.

基板処理システム1は、ID貼付部700を備えてよい。図11および図13に示すように、ID貼付部700は、主搬送路50に隣接して設けられる。主搬送部58は、ID貼付部700がラベル17を貼付したフレーム19を、ID貼付部700から搬出部40に搬送し、搬出部40に置かれた搬出カセット45に収納する。 The substrate processing system 1 may include an ID pasting section 700. As shown in FIGS. 11 and 13, the ID pasting section 700 is provided adjacent to the main transport path 50. The main transport section 58 transports the frame 19 to which the ID pasting section 700 has pasted the label 17 from the ID pasting section 700 to the unloading section 40 and stores it in the unloading cassette 45 placed in the unloading section 40 .

基板処理システム1は、図11および図13に示すように、ID貼付部700は剥離部600の上方に剥離部600と重ねて設けられてよい。例えば、ID貼付部700は、Z方向視で一対の剥離テーブルガイド630と重ねて設けられる。 In the substrate processing system 1, as shown in FIGS. 11 and 13, the ID pasting section 700 may be provided above the peeling section 600 so as to overlap the peeling section 600. For example, the ID pasting section 700 is provided overlapping the pair of peeling table guides 630 when viewed in the Z direction.

剥離部600とID貼付部700とがZ方向に積層されるため、Z方向視で剥離部600とID貼付部700とが横に並べて設けられる場合に比べて、Z方向視で基板処理システム1の設置面積を低減できる。また、剥離部600からID貼付部700に基板10を搬送する流れが良い。 Since the peeling section 600 and the ID pasting section 700 are stacked in the Z direction, the substrate processing system 1 is stacked when viewed in the Z direction, compared to a case where the peeling section 600 and the ID pasting section 700 are provided side by side when viewed in the Z direction. The installation area can be reduced. Further, the flow of conveying the substrate 10 from the peeling section 600 to the ID pasting section 700 is good.

基板処理システム1は、図11などに示すように、主搬送部58(図3参照)と、第1副搬送部910と、第2副搬送部920と、第3副搬送部930とを有してよい。主搬送部58は、基板10を搬入部30からダイシング部100や薄板化部200を経て受渡部300に搬送する。第1副搬送部910は、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経由してマウント部500に搬送する。第2副搬送部920は、基板10をマウント部500から剥離部600に基板10を搬送すると共に、基板10を上下反転させる。第3副搬送部930は、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。主搬送部58は、基板10をID貼付部700から搬出部40に搬送する。 As shown in FIG. 11 etc., the substrate processing system 1 includes a main transport section 58 (see FIG. 3), a first sub-transport section 910, a second sub-transport section 920, and a third sub-transport section 930. You may do so. The main transport section 58 transports the substrate 10 from the carry-in section 30 to the delivery section 300 via the dicing section 100 and the thinning section 200. The first sub-transport unit 910 transports the substrate 10 from the delivery unit 300 to the mount unit 500 via the ultraviolet irradiation unit 400. The second sub-transport section 920 transports the substrate 10 from the mount section 500 to the peeling section 600, and also turns the substrate 10 upside down. The third sub-transport unit 930 transports the substrate 10 from the peeling unit 600 to the ID pasting unit 700. The main transport section 58 transports the substrate 10 from the ID pasting section 700 to the unloading section 40 .

第1副搬送部910は、X方向およびZ方向に移動可能とされる。例えば図11に示すようにマウント部500に対しX軸ガイド911が固定される。X軸ガイド911に沿ってX方向に移動されるX軸スライダ912には、Z軸ガイド913が固定される。Z軸ガイド913に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ914には、第1副搬送部910が固定される。尚、第1副搬送部910は、基板10のY方向位置合わせのため、さらにY方向に移動可能とされてもよい。 The first sub-transport unit 910 is movable in the X direction and the Z direction. For example, as shown in FIG. 11, an X-axis guide 911 is fixed to the mount section 500. A Z-axis guide 913 is fixed to an X-axis slider 912 that is moved in the X direction along an X-axis guide 911. A first sub-transport section 910 is fixed to a Z-axis slider 914 that moves in the Z direction along a Z-axis guide 913. Note that the first sub-transport unit 910 may be further movable in the Y direction in order to align the substrate 10 in the Y direction.

第1副搬送部910は、基板10を吸着する。第1副搬送部910は、基板10の変形や破損を抑制するため、基板10の主表面(例えば第2主表面12)よりも大きい吸着面を有してよい。基板10の第2主表面12の全体を平坦に保持でき、基板10の変形や破損を抑制できる。 The first sub-transport unit 910 attracts the substrate 10. The first sub-transport section 910 may have a suction surface larger than the main surface (for example, the second main surface 12) of the substrate 10 in order to suppress deformation and damage of the substrate 10. The entire second main surface 12 of the substrate 10 can be held flat, and deformation and damage of the substrate 10 can be suppressed.

第1副搬送部910は、例えばポーラスチャックで構成され、多孔質体を有する。多孔質体の孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第1副搬送部910に負圧を生じさせることで、第1副搬送部910が基板10を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ多孔質体の孔を大気開放することで、第1副搬送部910が基板10の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第1副搬送部910に正圧を生じさせてもよい。 The first sub-transport unit 910 is configured with a porous chuck, for example, and has a porous body. The gas in the pores of the porous body is sucked by a suction source such as a vacuum pump. By activating the suction source to generate negative pressure in the first sub-transport unit 910, the first sub-transport unit 910 vacuum-chucks the substrate 10. On the other hand, the first sub-transport section 910 releases the vacuum suction of the substrate 10 by stopping the operation of the suction source and opening the pores of the porous body to the atmosphere. Positive pressure may be generated in the first sub-transport section 910 when vacuum suction is released.

第1副搬送部910は、基板10を保持してX方向およびZ方向に移動することにより、基板10を受渡部300から紫外線照射部400を経由してマウント部500に搬送する。例えば、基板10は、受渡テーブル310から持ち上げられ、UVランプ410の上方を通過され、マウントテーブル510に降ろされる。第1副搬送部910を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。 The first sub-transport section 910 transports the substrate 10 from the delivery section 300 to the mount section 500 via the ultraviolet irradiation section 400 by holding the substrate 10 and moving in the X direction and the Z direction. For example, the substrate 10 is lifted from the transfer table 310, passed over the UV lamp 410, and lowered onto the mounting table 510. As a drive source for moving the first sub-transport unit 910, a servo motor or the like is used, for example.

第1副搬送部910は、保護テープ14を下に向けて基板10を上方から保持し、Y方向に延びるUVランプ410の上方をX方向に移動する。UVランプ410が保護テープ14のY方向全体を照射できるように、UVランプ410のY方向寸法は基板10の直径よりも大きい。第1副搬送部910がUVランプ410の上を通過する速度は、保護テープ14の粘着力を十分に低下できるように設定される。 The first sub-transport unit 910 holds the substrate 10 from above with the protective tape 14 facing down, and moves in the X direction above the UV lamp 410 extending in the Y direction. The dimension of the UV lamp 410 in the Y direction is larger than the diameter of the substrate 10 so that the UV lamp 410 can irradiate the entire protective tape 14 in the Y direction. The speed at which the first sub-transport section 910 passes over the UV lamp 410 is set so that the adhesive force of the protective tape 14 can be sufficiently reduced.

本実施形態によれば、保護テープ14に紫外線を照射する間、基板10を第1副搬送部910で保持するため、別の基板10を主搬送部58で保持して搬送できる。そのため、基板処理システム1全体での基板10の搬送効率を向上でき、基板処理システム1全体での基板10の処理速度を向上できる。 According to this embodiment, since the substrate 10 is held by the first sub-transport section 910 while the protective tape 14 is irradiated with ultraviolet rays, another substrate 10 can be held and transported by the main transfer section 58. Therefore, the efficiency of transporting the substrate 10 in the entire substrate processing system 1 can be improved, and the processing speed of the substrate 10 in the entire substrate processing system 1 can be improved.

第2副搬送部920は、Y方向やZ方向に移動可能とされる。例えば図12に示すようにマウント部500および剥離部600に対しY軸ガイド921が固定される。Y軸ガイド921は、Z方向視でマウント部500および剥離部600の両方にまたがって設けられる。Y軸ガイド921に沿ってY方向に移動されるY軸スライダ922には、Z軸ガイド923が固定される。Z軸ガイド923に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ924には、反転部925が固定される。反転部925は、反転軸926を中心に、第2副搬送部920を上下反転可能に保持する。反転軸926の軸方向は、本実施形態ではY方向とされるが、X方向とされてもよい。 The second sub-transport unit 920 is movable in the Y direction and the Z direction. For example, as shown in FIG. 12, a Y-axis guide 921 is fixed to the mount section 500 and the peeling section 600. The Y-axis guide 921 is provided across both the mount section 500 and the peeling section 600 when viewed in the Z direction. A Z-axis guide 923 is fixed to a Y-axis slider 922 that is moved in the Y direction along a Y-axis guide 921 . A reversing section 925 is fixed to a Z-axis slider 924 that moves in the Z direction along a Z-axis guide 923. The reversing section 925 holds the second sub-conveying section 920 so as to be able to be reversed vertically around a reversing shaft 926 . Although the axial direction of the reversal shaft 926 is the Y direction in this embodiment, it may be the X direction.

第2副搬送部920は、フレーム19を吸着する吸着部929を有する。吸着部929は、反転軸926の軸方向(例えばY方向)に間隔をおいて複数設けられ(図14参照)、フレーム19のY方向両端部を吸着する。吸着部929は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第2副搬送部920に負圧を生じさせることで、第2副搬送部920がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、第2副搬送部920がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第2副搬送部920に正圧を生じさせてもよい。 The second sub-transport section 920 has a suction section 929 that suctions the frame 19. A plurality of suction parts 929 are provided at intervals in the axial direction (for example, the Y direction) of the reversing shaft 926 (see FIG. 14), and suction both ends of the frame 19 in the Y direction. The suction portion 929 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked by a suction source such as a vacuum pump. By activating the suction source to generate negative pressure in the second sub-transport unit 920, the second sub-transport unit 920 vacuum-suctions the frame 19. On the other hand, the second sub-transport unit 920 releases the vacuum suction of the frame 19 by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere. Positive pressure may be generated in the second sub-transport section 920 when vacuum suction is released.

図14は、一実施形態による第2副搬送部の動作を示す図である。図14において、矢印は、マウント部500から剥離部600までの基板10およびフレーム19の移動方向を示す。第2副搬送部920は、フレーム19を保持してY方向およびZ方向に移動することにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10をマウント部500から剥離部600に搬送する。第2副搬送部920を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。 FIG. 14 is a diagram illustrating the operation of the second sub-transport unit according to one embodiment. In FIG. 14, arrows indicate the direction of movement of the substrate 10 and frame 19 from the mount section 500 to the peeling section 600. The second sub-transport unit 920 transports the substrate 10 attached to the frame 19 via the adhesive tape 18 from the mount unit 500 to the peeling unit 600 by holding the frame 19 and moving in the Y direction and the Z direction. . As a drive source for moving the second sub-transport unit 920, a servo motor or the like is used, for example.

第2副搬送部920は、マウントテーブル510からフレーム19を持ち上げた後、反転部925によって例えば図14に実線で示す位置から図14に一点鎖線で示す位置に移動させられる。これにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10が上下反転される。その後、第2副搬送部920は、図14に二点鎖線で示すように剥離テーブル610にフレーム19を載置する。剥離テーブル610は、反転軸926の軸方向(本実施形態ではY方向)に間隔をおいて設けられる複数の吸着部929と干渉しないように、フレーム19のY方向中央部を保持する。 After the second sub-transport unit 920 lifts the frame 19 from the mount table 510, it is moved by the reversing unit 925, for example, from the position shown by the solid line in FIG. 14 to the position shown by the dashed line in FIG. As a result, the substrate 10 attached to the frame 19 via the adhesive tape 18 is turned upside down. Thereafter, the second sub-transport unit 920 places the frame 19 on the peeling table 610 as shown by the two-dot chain line in FIG. The peeling table 610 holds the center portion of the frame 19 in the Y direction so as not to interfere with the plurality of suction parts 929 provided at intervals in the axial direction of the reversing shaft 926 (in the Y direction in this embodiment).

本実施形態によれば、基板10は、マウント部500から剥離部600に搬送される過程で、反転部925によって上下反転される。これにより、基板10を挟んで設けられる粘着テープ18と保護テープ14との配置を逆にすることができる。具体的には基板10の下側には粘着テープ18が配され、基板10の上側には保護テープ14が配される。保護テープ14は、基板10を基準として剥離テーブル610とは反対側に配されるため、基板10から剥離しやすい。 According to this embodiment, the substrate 10 is turned upside down by the reversing section 925 during the process of being transported from the mount section 500 to the peeling section 600. Thereby, the arrangement of the adhesive tape 18 and the protective tape 14 provided with the substrate 10 in between can be reversed. Specifically, an adhesive tape 18 is placed on the lower side of the substrate 10, and a protective tape 14 is placed on the upper side of the substrate 10. Since the protective tape 14 is disposed on the opposite side of the peeling table 610 with respect to the substrate 10, it can be easily peeled off from the substrate 10.

第3副搬送部930は、X方向およびZ方向に移動可能とされる。例えば図11に示すように剥離部600に対しX軸ガイド931が固定される。X軸ガイド931に沿ってX方向に移動されるX軸スライダ932には、Z軸ガイド933が固定される。Z軸ガイド933に沿ってZ方向に移動するZ軸スライダ934には、第3副搬送部930が固定される。尚、第3副搬送部930は、基板10のY方向位置合わせのため、さらにY方向に移動可能とされてもよい。 The third sub-transport unit 930 is movable in the X direction and the Z direction. For example, as shown in FIG. 11, an X-axis guide 931 is fixed to the peeling section 600. A Z-axis guide 933 is fixed to an X-axis slider 932 that is moved in the X direction along an X-axis guide 931. A third sub-transport unit 930 is fixed to a Z-axis slider 934 that moves in the Z direction along a Z-axis guide 933. Note that the third sub-transport unit 930 may be further movable in the Y direction in order to align the substrate 10 in the Y direction.

第3副搬送部930は、フレーム19を吸着する吸着部939を有する。吸着部939は、例えばX方向に間隔をおいて複数設けられ、フレーム19のX方向両端部を吸着する。吸着部939は吸引孔を有する。吸引孔のガスは例えば真空ポンプなどの吸引源で吸引される。吸引源を作動させて第3副搬送部930に負圧を生じさせることで、第3副搬送部930がフレーム19を真空吸着する。一方、吸引源の作動を停止させ吸引孔を大気開放することで、第3副搬送部930がフレーム19の真空吸着を解除する。真空吸着の解除時に、第3副搬送部930に正圧を生じさせてもよい。 The third sub-transport section 930 has a suction section 939 that suctions the frame 19. For example, a plurality of suction sections 939 are provided at intervals in the X direction, and suck both ends of the frame 19 in the X direction. The suction part 939 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked by a suction source such as a vacuum pump. By activating the suction source to generate negative pressure in the third sub-transport section 930, the third sub-transport section 930 vacuum-sucks the frame 19. On the other hand, the third sub-transport unit 930 releases the vacuum suction of the frame 19 by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere. Positive pressure may be generated in the third sub-transport section 930 when vacuum suction is released.

第3副搬送部930は、フレーム19を保持してX方向およびZ方向に移動することにより、フレーム19に粘着テープ18を介して装着された基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。例えば、基板10は、剥離テーブル610から持ち上げられ、ID貼付テーブル710に降ろされる。第3副搬送部930を移動させる駆動源としては、例えばサーボモータなどが用いられる。 The third sub-transport unit 930 holds the frame 19 and moves in the X and Z directions to transport the substrate 10 attached to the frame 19 via the adhesive tape 18 from the peeling unit 600 to the ID pasting unit 700. do. For example, the substrate 10 is lifted from the peeling table 610 and lowered onto the ID pasting table 710. As a drive source for moving the third sub-transport unit 930, a servo motor or the like is used, for example.

下記第1変形例では、上記実施形態とは異なり、第3副搬送部930が無く、第3副搬送部930の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。以下、相違点に付いて主に説明する。 In the first modified example described below, unlike the above embodiment, there is no third sub-transport section 930, and the main transport section 58 plays the role of the third sub-transport section 930. That is, the main transport section 58 transports the substrate 10 from the peeling section 600 to the ID pasting section 700. The differences will be mainly explained below.

図15は、第1変形例による剥離部および剥離部の上方に剥離部と重ねて設けられるID貼付部を示す側面図である。図15において、矢印は、剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。図15に示すように、剥離部600は、主搬送路50に隣接して設けられる。 FIG. 15 is a side view showing a peeling part according to a first modification and an ID pasting part provided above the peeling part and overlapping with the peeling part. In FIG. 15, arrows indicate moving directions of the substrate 10 and frame 19 in the peeling section 600 and the like. As shown in FIG. 15, the peeling section 600 is provided adjacent to the main transport path 50.

剥離テーブル610は、剥離テーブルガイド630のX方向中央部において、第2副搬送部920からフレーム19を受け取る。フレーム19には、予め粘着テープ18を介して基板10が装着される。剥離テーブル610は、粘着テープ18を介して基板10やフレーム19を保持する。 The peeling table 610 receives the frame 19 from the second sub-transport unit 920 at the center of the peeling table guide 630 in the X direction. The substrate 10 is attached to the frame 19 in advance with an adhesive tape 18 interposed therebetween. The peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 via the adhesive tape 18.

その後、剥離テーブル610は、主搬送路50から離れるようにX方向(後側)に移動され、剥離用ローラ620の真下に向けて移動される。剥離用ローラ620は、図8に示すように保護テープ14を、基板10の一端側から他端側に向けて順次変形させながら、基板10から剥離する。 Thereafter, the peeling table 610 is moved in the X direction (rear side) away from the main conveyance path 50 and moved directly below the peeling roller 620. The peeling roller 620 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end of the substrate 10 to the other end, as shown in FIG.

その後、剥離テーブル610は、主搬送路50に近づくようにX方向(前側)に移動され、剥離テーブルガイド630の主搬送路50側(前側)の端部において、主搬送部58(図3参照)にフレーム19を引き渡す。主搬送部58は、フレーム19を保持しながらZ方向およびX方向に移動することにより、ID貼付テーブル710にフレーム19を載置する。 Thereafter, the peeling table 610 is moved in the X direction (front side) so as to approach the main conveyance path 50, and at the end of the peeling table guide 630 on the main conveyance path 50 side (front side), the peeling table 610 is moved toward the main conveyance section 58 (see FIG. 3). ) hands over frame 19. The main transport unit 58 places the frame 19 on the ID pasting table 710 by moving in the Z direction and the X direction while holding the frame 19.

本変形例によれば、上記実施形態とは異なり、第3副搬送部930が無く、第3副搬送部930の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、基板10を剥離部600からID貼付部700に搬送する。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。 According to this modification, unlike the above embodiment, there is no third sub-transport section 930, and the main transport section 58 plays the role of the third sub-transport section 930. That is, the main transport section 58 transports the substrate 10 from the peeling section 600 to the ID pasting section 700. Thereby, the main transport section 58 can be made multi-functional, the workload of the main transport section 58 can be increased, and the operating rate of the main transport section 58 can be improved.

下記第2変形例では、上記実施形態および上記第1変形例とは異なり、第1副搬送部910が無く、第1副搬送部910の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、ダイシングされ薄板化された基板10を、紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。本変形例では、第1副搬送部910が無いため、主搬送部58から第1副搬送部910に基板10を中継する受渡部300は無くてよい。以下、相違点に付いて主に説明する。 In the second modified example below, unlike the embodiment and the first modified example, there is no first sub-transport section 910, and the main transport section 58 plays the role of the first sub-transport section 910. That is, the main transport section 58 transports the diced and thinned substrate 10 to the ultraviolet irradiation section 400 and the mount section 500 in this order. In this modification, since there is no first sub-transport unit 910, there is no need for the transfer unit 300 that relays the substrate 10 from the main transport unit 58 to the first sub-transport unit 910. The differences will be mainly explained below.

図16は、第2変形例による基板処理システムの要部を示す平面図である。図16において、矢印は、マウント部500や剥離部600などにおける基板10およびフレーム19の移動方向を示す。図16に示すように、紫外線照射部400およびマウント部500は、主搬送路50に隣接して設けられる。マウント部500が主搬送路50のY方向一端部に隣接して設けられる場合、紫外線照射部400も主搬送路50のY方向一端部に隣接して設けられる。 FIG. 16 is a plan view showing main parts of a substrate processing system according to a second modification. In FIG. 16, arrows indicate moving directions of the substrate 10 and frame 19 in the mount section 500, the peeling section 600, and the like. As shown in FIG. 16, the ultraviolet irradiation section 400 and the mount section 500 are provided adjacent to the main transport path 50. When the mount section 500 is provided adjacent to one end of the main transport path 50 in the Y direction, the ultraviolet irradiation section 400 is also provided adjacent to one end of the main transport path 50 in the Y direction.

主搬送部58(図3参照)は、基板10を保持してY方向およびZ方向に移動することにより、基板10を紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。主搬送部58は、先ず、主搬送路50から紫外線照射部400に挿入される。 The main transport section 58 (see FIG. 3) holds the substrate 10 and moves in the Y direction and the Z direction, thereby transporting the substrate 10 to the ultraviolet irradiation section 400 and the mount section 500 in this order. The main conveyance section 58 is first inserted into the ultraviolet irradiation section 400 from the main conveyance path 50.

主搬送部58は、保護テープ14を下に向けて基板10を上方から保持し、X方向に延びるUVランプ410の上方をY方向に移動する。UVランプ410が保護テープ14のX方向全体を照射できるように、UVランプ410のX方向寸法は基板10の直径よりも大きい。主搬送部58がUVランプ410の上を通過する速度は、保護テープ14の粘着力を十分に低下できるように設定される。 The main transport section 58 holds the substrate 10 from above with the protective tape 14 facing down, and moves in the Y direction above the UV lamp 410 extending in the X direction. The dimension of the UV lamp 410 in the X direction is larger than the diameter of the substrate 10 so that the UV lamp 410 can irradiate the entire protective tape 14 in the X direction. The speed at which the main transport section 58 passes over the UV lamp 410 is set so that the adhesive force of the protective tape 14 can be sufficiently reduced.

次いで、主搬送部58は、紫外線照射部400から主搬送路50まで引き抜かれ、主搬送路50において下降され、続いて主搬送路50からマウント部500に挿入される。その後、主搬送部58は、マウント部500の内部で下降され、マウントテーブル510に基板10を引き渡す。 Next, the main transport section 58 is pulled out from the ultraviolet irradiation section 400 to the main transport path 50, lowered in the main transport path 50, and then inserted into the mount section 500 from the main transport path 50. Thereafter, the main transport section 58 is lowered inside the mount section 500 and transfers the substrate 10 to the mount table 510.

マウントテーブル510は、マウントテーブルガイド530の主搬送路50側(前側)の端部において、基板10とフレーム19の両方を受け取る。マウントテーブル510は、基板10とフレーム19のどちらを先に受け取ってもよい。 The mount table 510 receives both the substrate 10 and the frame 19 at the end of the mount table guide 530 on the main transport path 50 side (front side). The mount table 510 may receive either the substrate 10 or the frame 19 first.

本変形例によれば、上記実施形態および上記第1変形例とは異なり、第1副搬送部910が無く、第1副搬送部910の役割を主搬送部58が果たす。つまり、主搬送部58が、ダイシングされ薄板化された基板10を、紫外線照射部400およびマウント部500にこの順で搬送する。これにより、主搬送部58を多機能化して、主搬送部58の仕事量を増やすことができ、主搬送部58の稼働率を改善できる。 According to this modification, unlike the embodiment and the first modification, there is no first sub-transport section 910, and the main transport section 58 plays the role of the first sub-transport section 910. That is, the main transport section 58 transports the diced and thinned substrate 10 to the ultraviolet irradiation section 400 and the mount section 500 in this order. Thereby, the main transport section 58 can be made multi-functional, the workload of the main transport section 58 can be increased, and the operating rate of the main transport section 58 can be improved.

以上、本開示に係る基板処理システム、および基板処理方法の実施形態などについて説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、および組合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。 Although the embodiments of the substrate processing system and substrate processing method according to the present disclosure have been described above, the present disclosure is not limited to the above embodiments. Various changes, modifications, substitutions, additions, deletions, and combinations are possible within the scope of the claims. These naturally fall within the technical scope of the present disclosure.

本出願は、2017年8月28日に日本国特許庁に出願された特願2017-163600号に基づく優先権を主張するものであり、特願2017-163600号の全内容を本出願に援用する。 This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-163600 filed with the Japan Patent Office on August 28, 2017, and the entire content of Japanese Patent Application No. 2017-163600 is incorporated into this application. do.

1 基板処理システム
10 基板
14 保護テープ
18 粘着テープ
19 フレーム
20 制御部
30 搬入部
35 搬入カセット
40 搬出部
45 搬出カセット
50 主搬送路
58 主搬送部
100 ダイシング部
200 薄板化部
300 受渡部
400 紫外線照射部
500 マウント部
600 剥離部
700 ID貼付部
910 第1副搬送部
920 第2副搬送部
930 第3副搬送部
1 Substrate processing system 10 Substrate 14 Protective tape 18 Adhesive tape 19 Frame 20 Control section 30 Carrying-in section 35 Carrying-in cassette 40 Carrying-out section 45 Carrying-out cassette 50 Main transport path 58 Main transport section 100 Dicing section 200 Thinning section 300 Transfer section 400 Ultraviolet irradiation Section 500 Mounting section 600 Peeling section 700 ID pasting section 910 First sub-transport section 920 Second sub-transport section 930 Third sub-transport section

Claims (4)

粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部と、前記粘着テープを介して前記フレームに装着される前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記粘着テープを介して前記フレームに装着された後の前記基板を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部と、前記基板の強度が低下する加工を行う処理部との間で前記基板を搬送する基板搬送システムにおいて、
鉛直方向視で前記搬入部、前記マウント部、前記搬出部および前記処理部が隣接して設けられる主搬送路と、
前記基板を保持すると共に前記主搬送路に沿って移動し、前記基板を搬送する主搬送部とをさらに備え、
前記主搬送部は、前記搬入カセットからの前記基板の取り出しに用いられる第1保持部と、前記処理部による加工によって強度が低下した基板の搬送に用いられる第2保持部とを備えていることを特徴とする基板搬送システム。
By bonding an adhesive tape to the substrate and the frame, the substrate is attached to the frame via the adhesive tape and a mount part forming an attached object attached to the frame via the adhesive tape. a carry-in part into which a carry-in cassette containing the previous board is carried in from the outside; a carry-out part into which a carry-out cassette containing the board after being attached to the frame via the adhesive tape is carried out to the outside; In a substrate transport system that transports the substrate between a processing unit that performs processing that reduces the strength of the substrate,
a main conveyance path in which the loading section, the mounting section, the unloading section, and the processing section are provided adjacent to each other when viewed in a vertical direction;
further comprising a main transport section that holds the substrate and moves along the main transport path to transport the substrate,
The main transport section includes a first holding section used for taking out the substrate from the loading cassette, and a second holding section used for transporting a substrate whose strength has been reduced due to processing by the processing section. A board transport system featuring:
前記第2保持部は、前記フレームに装着される前の前記基板の搬送に用いられることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送システム。 2. The substrate transport system according to claim 1, wherein the second holding section is used to transport the substrate before it is mounted on the frame. 前記主搬送部は、前記フレームに装着された後の基板の搬送に用いられる第3保持部をさらに備えていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板搬送システム。 3. The substrate transport system according to claim 1, wherein the main transport section further includes a third holding section used for transporting the substrate after it is mounted on the frame. 粘着テープを基板とフレームとに貼合させることで、前記粘着テープを介して前記基板が前記フレームに装着された装着物を形成するマウント部と、前記粘着テープを介して前記フレームに装着される前の前記基板を収納した搬入カセットが外部から搬入される搬入部と、前記粘着テープを介して前記フレームに装着された後の前記基板を収納した搬出カセットが外部に搬出される搬出部と、前記基板の強度が低下する加工を行う処理部との間で前記基板を搬送する基板搬送方法において、
前記搬入部、前記マウント部、前記搬出部および前記処理部が隣接して設けられる主搬送路に沿って、前記基板を保持する主搬送部を移動させる基板移動工程をさらに行い、
前記基板移動工程では、前記搬入カセットからの前記基板の取り出しを第1保持部を用いて行い、前記処理部による加工によって強度が低下した基板の搬送を第2保持部を用いて行うことを特徴とする基板搬送方法。
By bonding an adhesive tape to the substrate and the frame, the substrate is attached to the frame via the adhesive tape and a mount part forming an attached object attached to the frame via the adhesive tape. a carry-in part into which a carry-in cassette containing the previous board is carried in from the outside; a carry-out part into which a carry-out cassette containing the board after being attached to the frame via the adhesive tape is carried out to the outside; In a substrate transport method for transporting the substrate between a processing unit that performs processing that reduces the strength of the substrate,
further performing a substrate moving step of moving a main transport section that holds the substrate along a main transport path in which the loading section, the mounting section, the unloading section, and the processing section are provided adjacent to each other;
In the substrate moving step, the substrate is taken out from the loading cassette using a first holding section, and the substrate whose strength has been reduced due to processing by the processing section is transferred using a second holding section. A method for transporting substrates.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7358014B2 (en) 2019-10-29 2023-10-10 株式会社ディスコ processing equipment
WO2023176611A1 (en) * 2022-03-14 2023-09-21 株式会社荏原製作所 Substrate polishing device, substrate polishing method, polishing device, and polishing method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005297457A (en) 2004-04-14 2005-10-27 Lintec Corp Sticking apparatus and sticking method
WO2007091670A1 (en) 2006-02-10 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co., Ltd. Apparatus and method for processing wafer
JP2007235068A (en) 2006-03-03 2007-09-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd Wafer machining method

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11163082A (en) * 1997-11-28 1999-06-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method and device for substrate transportation
JP3560823B2 (en) * 1998-08-18 2004-09-02 リンテック株式会社 Wafer transfer device
JP2002343756A (en) 2001-05-21 2002-11-29 Tokyo Seimitsu Co Ltd Water planarizing apparatus
JP4748901B2 (en) * 2001-09-06 2011-08-17 日東電工株式会社 Semiconductor wafer mounting method and cassette used therefor
JP4435542B2 (en) * 2002-11-18 2010-03-17 東京エレクトロン株式会社 Insulating film forming equipment
JP2004193189A (en) * 2002-12-09 2004-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production management system of semiconductor device
JP2004363165A (en) * 2003-06-02 2004-12-24 Tokyo Seimitsu Co Ltd Device and method for wafer processing
JP2006278630A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Lintec Corp Wafer transfer apparatus
JP4841262B2 (en) * 2006-02-13 2011-12-21 株式会社東京精密 Wafer processing equipment
JP4693696B2 (en) * 2006-06-05 2011-06-01 株式会社東京精密 Work processing device
JP4859814B2 (en) * 2007-11-06 2012-01-25 株式会社東京精密 Wafer processing equipment
JP6100484B2 (en) * 2012-08-09 2017-03-22 リンテック株式会社 Conveying apparatus and conveying method
JP6235279B2 (en) * 2013-09-18 2017-11-22 株式会社ディスコ Wafer processing method
JP2015119085A (en) * 2013-12-19 2015-06-25 株式会社ディスコ Method for processing device wafer
JP6283573B2 (en) * 2014-06-03 2018-02-21 東京エレクトロン株式会社 Peeling apparatus, peeling system, peeling method, program, and computer storage medium
JP2016001677A (en) * 2014-06-12 2016-01-07 株式会社ディスコ Wafer processing method
JP6636696B2 (en) * 2014-12-25 2020-01-29 日東電工株式会社 Semiconductor wafer mounting method and semiconductor wafer mounting apparatus
JP6625857B2 (en) * 2015-10-14 2019-12-25 株式会社ディスコ Wafer processing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2007214457A (en) 2006-02-10 2007-08-23 Tokyo Seimitsu Co Ltd Wafer processing equipment and method therefor
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