KR20240038173A - Mounting apparatus and mounting method - Google Patents

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KR20240038173A
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타케시 타무라
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

[과제]주반송부의 가동률을 개선한다.
[해결수단]점착 테이프를 기판과 프레임에 접합시킴으로써, 상기 점착 테이프를 개재하여 상기 기판이 상기 프레임에 장착된 장착물을 형성하는 마운트부를 구비한 마운트 장치에 있어서, 상기 마운트부는, 상기 장착물로 되기 전의 상기 기판을 수납한 반입 카세트가 외부로부터 반입되는 반입부와, 상기 장착물을 수납한 반출 카세트가 외부로 반출되는 반출부에 인접하는 주반송로에 인접하여 설치되고, 상기 주반송로를 따라 이동하는 주반송부에 의해 상기 반입 카세트로부터 취출된 상기 기판을 수취하여 상기 장착물을 형성하고, 상기 마운트부에서 형성된 상기 장착물이 상기 주반송부에 의해 상기 반출 카세트로 수납된다.
[Task] Improve the operation rate of the main transport unit.
[Solution] A mounting device having a mount portion that forms an attachment in which the substrate is mounted on the frame via the adhesive tape by bonding an adhesive tape to a substrate and a frame, wherein the mount portion is configured as the attachment. It is installed adjacent to the main conveyance path adjacent to the loading section where the loading cassette accommodating the substrate before being loaded is brought in from the outside, and the carrying out section where the loading cassette accommodating the attachment is carried out to the outside. The substrate taken out from the loading cassette is received by a main conveying unit that moves along to form the attachment, and the attachment formed in the mount portion is received into the carrying out cassette by the main conveying portion.

Description

마운트 장치 및 마운트 방법{MOUNTING APPARATUS AND MOUNTING METHOD}Mounting device and mounting method {MOUNTING APPARATUS AND MOUNTING METHOD}

본 개시는 마운트 장치 및 마운트 방법에 관한 것이다.This disclosure relates to a mounting device and mounting method.

최근, 반도체 장치의 소형화 및 경량화의 요구에 대응하기 위하여, 반도체 웨이퍼 등의 기판의 제 1 주표면에 소자, 회로, 단자 등을 형성한 후, 기판의 제 1 주표면과는 반대측의 제 2 주표면을 연삭하여, 기판을 박판화하는 것이 행해진다. 박판화 후 또는 박판화 전에 다이싱이 행해진다.Recently, in order to meet the demand for miniaturization and weight reduction of semiconductor devices, after forming elements, circuits, terminals, etc. on the first main surface of a substrate such as a semiconductor wafer, they are formed on a second main surface opposite to the first main surface of the substrate. The surface is ground to thin the substrate. Dicing is performed after or before thinning.

박판화 또는 다이싱 등의 가공이 행해지는 동안, 기판의 제 1 주표면은 보호 테이프로 보호된다. 보호 테이프로서는, 자외선을 조사함으로써, 점착력을 저하시키는 것이 이용된다. 점착력의 저하 후에, 박리 조작에 의해 간단하게 보호 테이프를 기판으로부터 박리할 수 있다.While processing such as thinning or dicing is performed, the first main surface of the substrate is protected with a protective tape. As a protective tape, one whose adhesive strength is reduced by irradiating ultraviolet rays is used. After the adhesive strength decreases, the protective tape can be easily peeled from the substrate by a peeling operation.

자외선을 보호 테이프에 조사한 후, 보호 테이프를 기판으로부터 박리하기 전에, 기판은 보호 테이프와는 다른 점착 테이프를 개재하여 프레임에 장착된다. 점착 테이프는, 환상의 프레임의 개구부를 덮도록 프레임에 장착되어, 프레임의 개구부에 있어서 기판의 제 2 주표면에 접합된다.After irradiating ultraviolet rays to the protective tape and before peeling the protective tape from the substrate, the substrate is mounted on the frame through an adhesive tape different from the protective tape. The adhesive tape is mounted on the frame so as to cover the opening of the annular frame, and is bonded to the second main surface of the substrate at the opening of the frame.

특허 문헌 1의 장치는, 웨이퍼의 이면을 연삭하는 가공부와, 웨이퍼의 표면을 보호하는 보호 테이프에 자외선을 조사하는 UV 조사부와, 웨이퍼의 이면에 부착되는 점착 테이프를 개재하여 웨이퍼를 프레임에 장착하는 마운트부와, 보호 테이프를 웨이퍼로부터 박리하는 박리부를 가진다.The device of Patent Document 1 mounts the wafer on a frame via a processing unit that grinds the back side of the wafer, a UV irradiation unit that irradiates ultraviolet rays to a protective tape that protects the surface of the wafer, and an adhesive tape attached to the back side of the wafer. It has a mount part that peels the protective tape from the wafer.

일본특허공개공보 2002-343756호Japanese Patent Publication No. 2002-343756

본 개시의 일 태양은, 주반송부의 가동률을 개선하는, 기술을 제공한다.One aspect of the present disclosure provides a technique for improving the operation rate of the main transport unit.

본 발명에서는, 청구항에 기재된 구성을 채용한다.In the present invention, the configuration described in the claims is adopted.

본 개시의 일 태양에 의하면, 주반송부의 가동률을 개선할 수 있다.According to one aspect of the present disclosure, the operation rate of the main transport unit can be improved.

도 1은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템에 의한 처리 전의 기판을 나타내는 사시도이다.
도 2는 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템에 의한 처리 후의 기판을 나타내는 사시도이다.
도 3은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템을 나타내는 평면도이다.
도 4는 일실시 형태에 따른 다이싱부를 나타내는 도이다.
도 5는 일실시 형태에 따른 박판화부의 거친 연삭부를 나타내는 도이다.
도 6은 일실시 형태에 따른 자외선 조사부를 나타내는 도이다.
도 7은 일실시 형태에 따른 마운트부를 나타내는 도이다.
도 8은 일실시 형태에 따른 박리부를 나타내는 도이다.
도 9는 일실시 형태에 따른 ID 부착부를 나타내는 도이다.
도 10은 일실시 형태에 따른 기판 처리 방법의 순서도이다.
도 11은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템의 주요부를 나타내는 평면도이다.
도 12는 일실시 형태에 따른 마운트부 그리고 마운트부의 상방에 마운트부와 중첩되어 마련되는 자외선 조사부 및 전달부를 나타내는 측면도이다.
도 13은 일실시 형태에 따른 박리부 및 박리부의 상방에 박리부와 중첩되어 마련되는 ID 부착부를 나타내는 측면도이다.
도 14는 일실시 형태에 따른 제 2 부반송부의 동작을 나타내는 도이다.
도 15는 제 1 변형예에 따른 박리부 및 박리부의 상방에 박리부와 중첩되어 마련되는 ID 부착부를 나타내는 측면도이다.
도 16은 제 2 변형예에 따른 기판 처리 시스템의 주요부를 나타내는 평면도이다.
1 is a perspective view showing a substrate before processing by a substrate processing system according to one embodiment.
Figure 2 is a perspective view showing a substrate after processing by a substrate processing system according to one embodiment.
3 is a plan view showing a substrate processing system according to one embodiment.
Figure 4 is a diagram showing a dicing unit according to one embodiment.
Figure 5 is a diagram showing the rough grinding part of the thinning part according to one embodiment.
Figure 6 is a diagram showing an ultraviolet ray irradiation unit according to one embodiment.
Figure 7 is a diagram showing a mount portion according to one embodiment.
Figure 8 is a diagram showing a peeling portion according to one embodiment.
Figure 9 is a diagram showing an ID attachment portion according to one embodiment.
10 is a flowchart of a substrate processing method according to one embodiment.
11 is a plan view showing main parts of a substrate processing system according to one embodiment.
Figure 12 is a side view showing a mount unit according to one embodiment, and an ultraviolet irradiation unit and a transmission unit provided above the mount unit overlapping with the mount unit.
Figure 13 is a side view showing a peeling portion and an ID attachment portion provided above the peeling portion and overlapping with the peeling portion according to one embodiment.
Figure 14 is a diagram showing the operation of the second sub-carrier according to one embodiment.
Fig. 15 is a side view showing the peeling portion according to the first modification and the ID attachment portion provided above the peeling portion and overlapping with the peeling portion.
16 is a plan view showing main parts of the substrate processing system according to the second modification.

이하, 본 개시된 실시 형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 각 도면에서 동일한 또는 대응하는 구성에는 동일한 또는 대응하는 부호를 부여하여 설명을 생략한다. 이하의 설명에서 X 방향, Y 방향, Z 방향은 서로 수직인 방향이며, X 방향 및 Y 방향은 수평 방향, Z 방향은 연직 방향이다. 연직축을 회전 중심으로 하는 회전 방향을 θ 방향이라고도 한다. 본 명세서에서 하방이란 연직 방향 하방를 의미하고, 상방이란 연직 방향 상방을 의미한다.Hereinafter, the presently disclosed embodiment will be described with reference to the drawings. In each drawing, identical or corresponding components are assigned identical or corresponding symbols and descriptions are omitted. In the following description, the X, Y, and Z directions are perpendicular to each other, the X and Y directions are horizontal, and the Z direction is vertical. The direction of rotation with the vertical axis as the center of rotation is also called the θ direction. In this specification, downward means downward in the vertical direction, and upward means upward in the vertical direction.

도 1은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템에 의한 처리 전의 기판을 나타내는 사시도이다. 기판(10)은 예를 들면 반도체 기판, 사파이어 기판 등이다. 기판(10)의 제 1 주표면(11)은 격자 형상으로 형성된 복수의 스트리트로 구획되고, 구획되는 각 영역에는 미리 소자, 회로, 단자 등이 형성된다. 격자 형상으로 형성된 복수의 스트리트를 따라 기판(10)을 분할함으로써, 칩(13)(도 2 참조)이 얻어진다.1 is a perspective view showing a substrate before processing by a substrate processing system according to one embodiment. The substrate 10 is, for example, a semiconductor substrate, a sapphire substrate, or the like. The first main surface 11 of the substrate 10 is divided into a plurality of streets formed in a grid shape, and elements, circuits, terminals, etc. are formed in advance in each divided area. By dividing the substrate 10 along a plurality of streets formed in a lattice shape, a chip 13 (see FIG. 2) is obtained.

기판(10)의 제 1 주표면(11)에는 보호 테이프(14)가 접합된다. 보호 테이프(14)는 다이싱 및 박판화 등의 가공이 행해지는 동안, 기판(10)의 제 1 주표면(11)을 보호하여, 제 1 주표면(11)에 미리 형성된 소자, 회로, 단자 등을 보호한다. 보호 테이프(14)는 기판(10)의 제 1 주표면(11)의 전체를 덮는다.A protective tape 14 is bonded to the first main surface 11 of the substrate 10. The protective tape 14 protects the first main surface 11 of the substrate 10 during processing such as dicing and thinning, and protects the first main surface 11 from elements, circuits, terminals, etc. previously formed on the first main surface 11. protect. The protective tape 14 covers the entire first main surface 11 of the substrate 10.

보호 테이프(14)는 시트 기재와, 시트 기재의 표면에 도포된 점착제로 구성된다. 그 점착제는 자외선을 조사하면 경화되어, 점착력을 저하시키는 것이어도 된다. 점착력의 저하 후에, 박리 조작에 의해 간단하게 보호 테이프(14)를 기판(10)으로부터 박리할 수 있다.The protective tape 14 is composed of a sheet base material and an adhesive applied to the surface of the sheet base material. The adhesive may be cured when irradiated with ultraviolet rays, thereby reducing the adhesive strength. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled from the substrate 10 by a peeling operation.

도 2는 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템에 의한 처리 후의 기판을 나타내는 사시도이다. 기판(10)은 다이싱되고 박판화된 다음, 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착된다. 또한, 도 1에 나타내는 보호 테이프(14)는 기판(10)으로부터 박리되어, 제거된다.Figure 2 is a perspective view showing a substrate after processing by a substrate processing system according to one embodiment. The substrate 10 is diced and thinned, and then mounted on the frame 19 via adhesive tape 18. Additionally, the protective tape 14 shown in FIG. 1 is peeled off from the substrate 10 and removed.

점착 테이프(18)는 시트 기재와, 시트 기재의 표면에 도포된 점착제로 구성된다. 점착 테이프(18)는 환상의 프레임(19)의 개구부를 덮도록 프레임(19)에 장착되고, 프레임(19)의 개구부에 있어서 기판(10)과 접합된다. 이에 의해, 프레임(19)을 유지하여 기판(10)을 반송할 수 있어, 기판(10)의 핸들링성을 향상시킬 수 있다.The adhesive tape 18 is composed of a sheet base material and an adhesive applied to the surface of the sheet base material. The adhesive tape 18 is attached to the frame 19 so as to cover the opening of the annular frame 19, and is bonded to the substrate 10 at the opening of the frame 19. As a result, the substrate 10 can be transported while holding the frame 19, and the handling of the substrate 10 can be improved.

점착 테이프(18)와 기판(10)과의 사이에는, 도 2에 나타내는 바와 같이 DAF(Die Attach Film)(15)가 마련되어도 된다. DAF(15)는 다이 본딩용의 접착 시트이다. DAF(15)는 칩(13)의 적층 등에 이용된다. DAF(15)는 도전성, 절연성 중 어느 것이어도 된다.A die attach film (DAF) 15 may be provided between the adhesive tape 18 and the substrate 10, as shown in FIG. 2 . DAF 15 is an adhesive sheet for die bonding. DAF 15 is used for stacking chips 13, etc. DAF 15 may be either conductive or insulating.

DAF(15)는 프레임(19)의 개구부보다 작게 형성되고, 프레임(19)의 내측에 마련된다. DAF(15)는 기판(10)의 제 2 주표면(12)의 전체를 덮는다. 또한, 칩(13)의 적층이 행해지지 않는 경우, DAF(15)는 불필요하므로, 기판(10)은 점착 테이프(18)만을 개재하여 프레임(19)에 장착되어도 된다.The DAF 15 is formed smaller than the opening of the frame 19 and is provided inside the frame 19. DAF 15 covers the entire second major surface 12 of substrate 10. In addition, when the chip 13 is not laminated, the DAF 15 is unnecessary, so the substrate 10 may be mounted on the frame 19 with only the adhesive tape 18 interposed therebetween.

도 3은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템을 나타내는 평면도이다. 도 3에 있어서, 반입 카세트(35) 및 반출 카세트(45)를 파단하여, 반입 카세트(35)의 내부 및 반출 카세트(45)의 내부를 도시한다. 도 3에서 화살표는, 마운트부(500)를 구비한 마운트 장치나 박리부(600) 등에 있어서의 기판(10) 및 프레임(19)의 이동 방향을 나타낸다.3 is a plan view showing a substrate processing system according to one embodiment. In Fig. 3, the loading cassette 35 and the unloading cassette 45 are cut apart to show the inside of the loading cassette 35 and the inside of the unloading cassette 45. In FIG. 3 , arrows indicate the direction of movement of the substrate 10 and the frame 19 in the mounting device provided with the mount portion 500 or the peeling portion 600, etc.

기판 처리 시스템(1)은 기판(10)의 다이싱, 기판(10)의 박판화, 보호 테이프(14)에 대한 자외선 조사, 기판(10)의 마운트, 기판(10)으로부터의 보호 테이프(14)의 박리, 프레임(19)에 대한 ID 부착 등의 각종의 처리를 행한다.The substrate processing system 1 includes dicing the substrate 10, thinning the substrate 10, irradiating the protective tape 14 with ultraviolet rays, mounting the substrate 10, and removing the protective tape 14 from the substrate 10. Various processes such as peeling and attaching ID to the frame 19 are performed.

기판 처리 시스템(1)은 제어부(20)와, 반입부(30)와, 반출부(40)와, 주반송로(50)와, 주반송부(58)와, 각종의 처리부를 구비한다. 처리부로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 다이싱부(100), 박판화부(200), 자외선 조사부(400), 마운트부(500), 박리부(600) 및 ID 부착부(700)가 마련된다.The substrate processing system 1 includes a control unit 20, an loading unit 30, an unloading unit 40, a main transport path 50, a main transport unit 58, and various processing units. The processing unit is not particularly limited, but includes, for example, a dicing unit 100, a thinning unit 200, an ultraviolet irradiation unit 400, a mount unit 500, a peeling unit 600, and an ID attachment unit 700.

제어부(20)는 예를 들면 컴퓨터로 구성되고, 도 3에 나타내는 바와 같이 CPU(Central Processing Unit)(21)와, 메모리 등의 기억 매체(22)와, 입력 인터페이스(23)와, 출력 인터페이스(24)를 가진다. 제어부(20)는 기억 매체(22)에 기억된 프로그램을 CPU(21)에 실행시킴으로써, 각종의 제어를 행한다. 또한, 제어부(20)는 입력 인터페이스(23)에서 외부로부터의 신호를 수신하고, 출력 인터페이스(24)에서 외부로 신호를 송신한다.The control unit 20 is composed of, for example, a computer, and as shown in FIG. 3, it includes a CPU (Central Processing Unit) 21, a storage medium 22 such as memory, an input interface 23, and an output interface ( 24). The control unit 20 performs various controls by causing the CPU 21 to execute a program stored in the storage medium 22. Additionally, the control unit 20 receives signals from the outside through the input interface 23 and transmits signals to the outside through the output interface 24.

제어부(20)의 프로그램은 정보 기억 매체에 기억되어, 정보 기억 매체로부터 인스톨된다. 정보 기억 매체로서는, 예를 들면 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 콤팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등을 들 수 있다. 또한, 프로그램은 인터넷을 개재하여 서버로부터 다운로드되어, 인스톨되어도 된다.The program of the control unit 20 is stored in an information storage medium and installed from the information storage medium. Examples of information storage media include hard disks (HD), flexible disks (FD), compact disks (CD), magnet optical disks (MO), and memory cards. Additionally, the program may be downloaded from a server via the Internet and installed.

반입부(30)는, 처리 전의 기판(10)을 수납한 반입 카세트(35)가 외부로부터 반입되는 것이다. 반입 카세트(35)는, 예를 들면 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착되기 전의 기판(10)을, Z 방향으로 간격을 두고 복수 수납한다.The loading unit 30 is where the loading cassette 35 containing the substrate 10 before processing is loaded from the outside. The loading cassette 35 accommodates a plurality of substrates 10 before being mounted on the frame 19 via, for example, an adhesive tape 18 at intervals in the Z direction.

반입 카세트(35)는, 복수 매의 기판(10)을 Z 방향으로 간격을 두고 수납하기 위하여, 수평으로 배치되는 한 쌍의 수납판(36)을 Z 방향으로 간격을 두고 복수 가진다. 한 쌍의 수납판(36)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 기판(10)의 Y 방향 양 단부를 지지한다.In order to store a plurality of substrates 10 at intervals in the Z direction, the loading cassette 35 has a pair of horizontally arranged storage plates 36 at intervals in the Z direction. As shown in FIG. 3, the pair of storage plates 36 support both ends of the substrate 10 in the Y direction.

반입 카세트(35)는, 보호 테이프(14)의 벗겨짐 등의 변형을 억제하기 위하여, 보호 테이프(14)를 위로 향해 기판(10)을 수평으로 수납해도 된다. 반입 카세트(35)로부터 취출된 기판(10)은 상하 반전된 다음, 다이싱부(100) 등의 처리부로 반송된다.The loading cassette 35 may store the substrate 10 horizontally with the protective tape 14 facing upward in order to prevent deformation, such as peeling, of the protective tape 14. The substrate 10 taken out from the loading cassette 35 is flipped upside down and then transported to a processing unit such as the dicing unit 100.

반입부(30)는, 반입 카세트(35)가 배치되는 배치판(31)을 구비한다. 배치판(31)은 Y 방향으로 일렬로 복수 마련된다. 또한, 배치판(31)의 개수는 도시한 것에 한정되지 않는다.The loading section 30 is provided with a placement plate 31 on which the loading cassette 35 is placed. A plurality of arrangement plates 31 are provided in a row in the Y direction. Additionally, the number of placement plates 31 is not limited to that shown.

반출부(40)는, 처리 후의 기판(10)을 수납한 반출 카세트(45)가 외부로 반출되는 것이다. 반출 카세트(45)는, 예를 들면 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착된 후의 기판(10)을, Z 방향으로 간격을 두고 복수 수납한다.The unloading unit 40 carries out the unloading cassette 45 containing the processed substrate 10 to the outside. The unloading cassette 45 accommodates a plurality of substrates 10 mounted on the frame 19 via, for example, adhesive tape 18 at intervals in the Z direction.

반출 카세트(45)는, 복수 매의 기판(10)을 Z 방향으로 간격을 두고 수납하기 위하여, 수평으로 배치되는 한 쌍의 수납판(46)을 Z 방향으로 간격을 두고 복수 가진다. 한 쌍의 수납판(46)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 프레임(19)의 Y 방향 양 단부를 지지한다.In order to store a plurality of substrates 10 at intervals in the Z direction, the unloading cassette 45 has a pair of horizontally arranged storage plates 46 at intervals in the Z direction. As shown in FIG. 3, the pair of storage plates 46 support both ends of the frame 19 in the Y direction.

반출부(40)는, 반출 카세트(45)가 배치되는 배치판(41)을 구비한다. 배치판(41)은, Y 방향으로 일렬로 복수 마련된다. 또한, 배치판(41)의 개수는 도시한 것에 한정되지 않는다.The carrying out unit 40 is provided with a placement plate 41 on which the carrying out cassette 45 is placed. A plurality of arrangement plates 41 are provided in a row in the Y direction. Additionally, the number of placement plates 41 is not limited to that shown.

주반송로(50)는 주반송부(58)가 반입부(30), 반출부(40) 및 복수의 처리부에 대하여 기판(10)을 반송하는 통로이며, 예를 들면 Y 방향으로 연장되어 있다. 주반송로(50)에는 Y 방향으로 연장되는 Y축 가이드(51)가 마련되고, Y축 가이드(51)를 따라 Y축 슬라이더(52)가 이동 가능하게 된다.The main transport path 50 is a passage through which the main transport unit 58 transports the substrate 10 to the loading unit 30, the carrying out unit 40, and a plurality of processing units, and extends, for example, in the Y direction. . A Y-axis guide 51 extending in the Y direction is provided in the main transport path 50, and the Y-axis slider 52 can move along the Y-axis guide 51.

주반송부(58)는, 기판(10)을 유지하고 또한 주반송로(50)를 따라 이동하여, 기판(10)을 반송한다. 주반송부(58)는, 프레임(19)을 개재하여 기판(10)을 유지해도 된다. 주반송부(58)는, 기판(10) 및 프레임(19)을 진공 흡착하지만, 정전 흡착해도 된다. 주반송부(58)는, 반송 기체로서의 Y축 슬라이더(52) 등을 포함하여, Y 방향을 따라 이동한다. 주반송부(58)는 Y 방향뿐 아니라, X 방향, Z 방향 및 θ 방향으로도 이동 가능하게 된다.The main transport unit 58 holds the substrate 10 and moves along the main transport path 50 to transport the substrate 10. The main transport unit 58 may hold the substrate 10 via the frame 19. The main transport unit 58 vacuum-adsorbs the substrate 10 and the frame 19, but may also electrostatically adsorb the substrate 10 and the frame 19. The main conveyance unit 58 includes the Y-axis slider 52 as a conveyance body and the like, and moves along the Y direction. The main transport unit 58 can move not only in the Y direction but also in the X, Z, and θ directions.

주반송부(58)는, 기판(10)을 유지하는 유지부를 복수 가져도 된다. 복수의 유지부는, Z 방향으로 간격을 두고 배열되어 마련된다. 복수의 유지부는, 기판(10)의 처리 단계에 따라, 구분하여 사용되어도 된다.The main transport unit 58 may have a plurality of holding units that hold the substrate 10. A plurality of holding parts are arranged at intervals in the Z direction. A plurality of holding units may be used separately depending on the processing stage of the substrate 10.

예를 들면, 주반송부(58)는, 반입 카세트(35)로부터의 기판(10)의 취출에 이용되는 제 1 유지부와, 다이싱 또는 박판화 등의 가공에 의해 강도가 저하된 기판(10)의 반송에 이용되는 제 2 유지부를 가진다. 제 2 유지부는, 프레임(19)에 장착되기 전의 기판(10)의 반송에 이용되어도 된다. 이 경우, 주반송부(58)는, 프레임(19)에 장착된 후의 기판(10)의 반송에 이용되는 제 3 유지부를 더 가져도 된다. 제 3 유지부는, 프레임(19)을 개재하여 기판(10)을 유지한다.For example, the main transport unit 58 includes a first holding unit used to take out the substrate 10 from the loading cassette 35, and a substrate 10 whose strength has been reduced by processing such as dicing or thinning. ) has a second holding portion used for conveyance. The second holding portion may be used to transport the substrate 10 before it is mounted on the frame 19. In this case, the main transport unit 58 may further include a third holding part used to transport the substrate 10 after being mounted on the frame 19. The third holding portion holds the substrate 10 via the frame 19.

반입부(30), 반출부(40) 및 복수의 처리부는, 연직 방향으로 봤을 때 주반송로(50)에 인접하여 마련된다. 예를 들면, 주반송로(50)의 길이 방향은 Y 방향이 된다. 주반송로(50)의 X 방향 편측(도 3에서 좌측, 이하, '전측'이라고도 함)에, 반입부(30)와 반출부(40)가 인접하여 마련된다. 또한, 주반송로(50)의 X 방향 반대측(도 3에서 우측, 이하, '후측'이라고도 함)에, 다이싱부(100), 박판화부(200), 박리부(600) 및 ID 부착부(700)가 인접하여 마련된다. 박리부(600)와 ID 부착부(700)는 Z 방향으로 적층되고, ID 부착부(700)는 박리부(600)의 상방에 박리부(600)와 중첩되어 마련된다. 또한 주반송로(50)의 Y 방향 일단부에, 마운트부(500)가 인접하여 마련된다. 마운트부(500)와 자외선 조사부(400)는 Z 방향으로 적층되고, 자외선 조사부(400)는 마운트부(500)의 상방에 마운트부(500)와 중첩되어 마련된다.The loading section 30, the carrying out section 40, and a plurality of processing sections are provided adjacent to the main conveying path 50 when viewed in the vertical direction. For example, the longitudinal direction of the main conveyance path 50 is the Y direction. On one side of the main conveyance path 50 in the In addition, on the side opposite to the 700) is prepared adjacent to it. The peeling portion 600 and the ID attaching portion 700 are stacked in the Z direction, and the ID attaching portion 700 is provided above the peeling portion 600 to overlap the peeling portion 600. Additionally, a mount portion 500 is provided adjacent to one end of the main conveyance path 50 in the Y direction. The mount unit 500 and the ultraviolet irradiation unit 400 are stacked in the Z direction, and the ultraviolet irradiation unit 400 is provided above the mount unit 500 to overlap with the mount unit 500.

본 실시 형태에 의하면, 반입부(30) 및 복수의 처리부는, 주반송로(50)에 인접하여 마련된다. 이 때문에, 주반송부(58)는 반입부(30) 및 복수의 처리부에 대하여 기판(10)을 전달할 수 있다. 이에 의해, 주반송부(58)를 다기능화하여, 주반송부(58)의 일량을 늘릴 수 있어, 주반송부(58)의 가동률을 개선할 수 있다.According to this embodiment, the loading unit 30 and a plurality of processing units are provided adjacent to the main conveying path 50. For this reason, the main transfer unit 58 can deliver the substrate 10 to the loading unit 30 and a plurality of processing units. As a result, the main transport unit 58 can be made multi-functional, the work load of the main transport unit 58 can be increased, and the operation rate of the main transport unit 58 can be improved.

또한 본 실시 형태에 의하면, 반출부(40)도 주반송로(50)에 인접하여 마련된다. 이 때문에, 주반송부(58)는, 반출부(40)에 대하여 기판(10)을 인도할 수 있다. 이에 의해, 주반송부(58)를 더 다기능화하여, 주반송부(58)의 일량을 더 늘릴 수 있어, 주반송부(58)의 가동률을 더 개선할 수 있다. 또한, 복수의 처리부와 반출부(40)가 주반송로(50)에 인접하여 마련되기 때문에, 하나의 처리부에서 기판(10)에 이상이 생긴 경우에, 이상이 생긴 기판(10)을 다른 처리부로 반송하지 않고 반출부(40)로 신속하게 반송할 수 있다.Moreover, according to this embodiment, the carrying out part 40 is also provided adjacent to the main conveying path 50. For this reason, the main transfer unit 58 can deliver the substrate 10 to the transfer unit 40 . As a result, the main transport unit 58 can be made more multifunctional, the work load of the main transport unit 58 can be further increased, and the operation rate of the main transport unit 58 can be further improved. In addition, since a plurality of processing units and a carrying out unit 40 are provided adjacent to the main transport path 50, if an abnormality occurs in the substrate 10 in one processing unit, the defective substrate 10 is transferred to another processing unit. It can be quickly returned to the delivery unit 40 without being returned to .

또한, 처리부의 배치 및 개수는, 도 3에 나타내는 배치 및 개수에 한정되지 않고, 임의로 선택 가능하다. 또한, 복수의 처리부는 임의의 단위로, 분산 또는 통합하여 배치해도 된다. 이하, 각 처리부에 대하여 설명한다.Additionally, the arrangement and number of processing units are not limited to those shown in FIG. 3 and can be selected arbitrarily. Additionally, a plurality of processing units may be arranged in arbitrary units, distributed or integrated. Hereinafter, each processing unit will be described.

도 4는 일실시 형태에 따른 다이싱부를 나타내는 도이다. 다이싱부(100)는 기판(10)의 다이싱을 행한다. 본 명세서에서 기판(10)의 다이싱이란, 기판(10)을 복수의 칩(13)으로 분할하기 위한 가공을 의미하며, 기판(10)을 분할하는 것, 기판(10)에 분할의 기점을 형성하는 것을 포함한다. 다이싱부(100)는, 예를 들면 다이싱 테이블(110)과, 기판 가공부(120)와, 이동 기구부(130)를 가진다.Figure 4 is a diagram showing a dicing unit according to one embodiment. The dicing unit 100 performs dicing of the substrate 10 . In this specification, dicing of the substrate 10 means processing to divide the substrate 10 into a plurality of chips 13, dividing the substrate 10, and creating a starting point for division in the substrate 10. Including forming. The dicing unit 100 includes, for example, a dicing table 110, a substrate processing unit 120, and a moving mechanism unit 130.

다이싱 테이블(110)은 보호 테이프(14)를 개재하여 기판(10)을 유지한다. 예를 들면, 다이싱 테이블(110)은 기판(10)의 제 2 주표면(12)을 위로 향해, 기판(10)을 수평으로 유지한다. 다이싱 테이블(110)로서는, 예를 들면 진공 척이 이용되지만, 정전 척 등이 이용되어도 된다.The dicing table 110 holds the substrate 10 with a protective tape 14 interposed therebetween. For example, the dicing table 110 faces the second main surface 12 of the substrate 10 upward and maintains the substrate 10 horizontally. As the dicing table 110, for example, a vacuum chuck is used, but an electrostatic chuck or the like may be used.

기판 가공부(120)는, 예를 들면 다이싱 테이블(110)에 유지되어 있는 기판(10)의 다이싱을 행한다. 기판 가공부(120)는 예를 들면 레이저 발진기(121)와, 레이저 발진기(121)로부터의 레이저 광선을 기판(10)에 조사하는 광학계(122)를 가진다. 광학계(122)는 레이저 발진기(121)로부터의 레이저 광선을 기판(10)을 향해 집광하는 집광렌즈 등으로 구성된다.The substrate processing unit 120 performs dicing of the substrate 10 held on the dicing table 110, for example. The substrate processing unit 120 has, for example, a laser oscillator 121 and an optical system 122 that radiates a laser beam from the laser oscillator 121 to the substrate 10. The optical system 122 is composed of a condenser lens that focuses the laser beam from the laser oscillator 121 toward the substrate 10.

이동 기구부(130)는, 다이싱 테이블(110)과 기판 가공부(120)를 상대적으로 이동시킨다. 이동 기구부(130)는 예를 들면 다이싱 테이블(110)을 X 방향, Y 방향, Z 방향 및 θ 방향으로 이동시키는 XYZθ 스테이지 등으로 구성된다.The moving mechanism unit 130 relatively moves the dicing table 110 and the substrate processing unit 120. The moving mechanism unit 130 is composed of, for example, an XYZθ stage that moves the dicing table 110 in the X direction, Y direction, Z direction, and θ direction.

제어부(20)는 기판 가공부(120) 및 이동 기구부(130)를 제어하여, 기판(10)의 스트리트를 따라 기판(10)의 다이싱을 행한다. 도 4에 나타내는 바와 같이 기판(10)의 내부에 파단의 기점이 되는 개질층(2)을 형성해도 되고, 기판(10)의 레이저 조사면(예를 들면 도 4에서는 상면)에 레이저 가공 홈을 형성해도 된다. 레이저 가공 홈은, 기판(10)을 판 두께 방향으로 관통해도 되고 관통하지 않아도 된다.The control unit 20 controls the substrate processing unit 120 and the moving mechanism unit 130 to dice the substrate 10 along the street of the substrate 10. As shown in FIG. 4, the modified layer 2, which becomes the starting point of fracture, may be formed inside the substrate 10, and a laser processing groove may be formed on the laser irradiated surface (for example, the upper surface in FIG. 4) of the substrate 10. You can form it. The laser processing groove may or may not penetrate the substrate 10 in the thickness direction.

기판(10)의 내부에 개질층(2)을 형성하는 경우, 기판(10)에 대하여 투과성을 가지는 레이저 광선이 이용된다. 개질층(2)은 예를 들면 기판(10)의 내부를 국소적으로 용융, 고화시킴으로써 형성된다. 한편, 기판(10)의 레이저 조사면에 레이저 가공 홈을 형성하는 경우, 기판(10)에 대하여 흡수성을 가지는 레이저 광선이 이용된다.When forming the modified layer 2 inside the substrate 10, a laser beam having transparency to the substrate 10 is used. The modified layer 2 is formed, for example, by locally melting and solidifying the inside of the substrate 10. On the other hand, when forming a laser processing groove on the laser irradiated surface of the substrate 10, a laser beam that has absorption properties with respect to the substrate 10 is used.

또한 기판 가공부(120)는, 본 실시 형태에서는 레이저 광선을 기판(10)에 조사하는 레이저 발진기(121)를 가지지만, 기판(10)을 절삭하는 절삭 블레이드를 가져도 되고, 기판(10)의 표면에 스크라이브 홈을 형성하는 스크러버를 가져도 된다.In addition, the substrate processing unit 120 has a laser oscillator 121 for irradiating a laser beam to the substrate 10 in this embodiment, but may also have a cutting blade for cutting the substrate 10. You may have a scrubber that forms scribe grooves on the surface.

또한 다이싱부(100)는, 본 실시 형태에서는 기판 처리 시스템(1)의 일부로서 마련되지만, 기판 처리 시스템(1)의 외부에 마련되어도 된다. 이 경우, 기판(10)은 다이싱된 다음, 외부로부터 반입부(30)로 반입되고, 반입부(30)에 있어서 반입 카세트(35)로부터 취출되어, 다이싱부(100) 대신에 박판화부(200)로 반송된다.In addition, the dicing unit 100 is provided as a part of the substrate processing system 1 in this embodiment, but may be provided outside the substrate processing system 1. In this case, the substrate 10 is diced and then brought into the loading section 30 from the outside, taken out from the loading cassette 35 in the loading section 30, and replaced with the dicing section 100 by a thinning section ( 200).

박판화부(200)(도 3 참조)는, 다이싱된 기판(10)의 보호 테이프(14)로 보호되어 있는 제 1 주표면(11)과는 반대측의 제 2 주표면(12)을 가공함으로써, 기판(10)을 박판화한다.The thinning section 200 (see FIG. 3) processes the second main surface 12 on the opposite side to the first main surface 11 of the diced substrate 10, which is protected by the protective tape 14. , the substrate 10 is thinned.

다이싱부(100)에서 분할의 기점을 형성하는 경우, 박판화부(200)에서 기판(10)에 가공 응력이 작용함으로써, 분할의 기점으로부터 판 두께 방향으로 크랙이 진전되어, 기판(10)이 복수의 칩(13)으로 분할된다.When forming the starting point of division in the dicing unit 100, processing stress acts on the substrate 10 in the thinning unit 200, so that cracks propagate from the starting point of division in the direction of the plate thickness, and the substrate 10 is divided into multiple pieces. It is divided into chips 13.

또한, 다이싱부(100)에서 기판(10)의 내부에 개질층(2)을 형성하는 경우, 박판화부(200)에서 기판(10)을 박판화함으로써, 개질층(2)이 제거된다.Additionally, when forming the modified layer 2 inside the substrate 10 in the dicing unit 100, the modified layer 2 is removed by thinning the substrate 10 in the thinning unit 200.

박판화부(200)는, 예를 들면 도 3에 나타내는 바와 같이, 회전 테이블(201)과, 척 테이블(202)과, 거친 연삭부(210)와, 마무리 연삭부(220)와, 데미지층 제거부(230)를 가진다.For example, as shown in FIG. 3, the thinning section 200 includes a rotation table 201, a chuck table 202, a rough grinding section 210, a finish grinding section 220, and a damage layer agent. Has rejection (230).

회전 테이블(201)은 회전 테이블(201)의 중심선을 중심으로 회전된다. 회전 테이블(201)의 회전 중심선의 둘레에는, 복수(예를 들면 도 3에서는 4 개)의 척 테이블(202)이 등간격으로 배설된다.The rotary table 201 is rotated around the center line of the rotary table 201. Around the rotation center line of the rotary table 201, a plurality of chuck tables 202 (for example, four in FIG. 3) are arranged at equal intervals.

복수의 척 테이블(202)은, 회전 테이블(201)과 함께, 회전 테이블(201)의 중심선을 중심으로 회전한다. 회전 테이블(201)의 중심선은 연직이 된다. 회전 테이블(201)이 회전할 때마다, 거친 연삭부(210), 마무리 연삭부(220) 및 데미지층 제거부(230)와 마주하는 척 테이블(202)이 변경된다.The plurality of chuck tables 202 rotate around the center line of the rotary table 201 together with the rotary table 201 . The center line of the rotary table 201 is vertical. Each time the rotary table 201 rotates, the chuck table 202 facing the rough grinding unit 210, the finish grinding unit 220, and the damage layer removal unit 230 changes.

각 척 테이블(202)은 보호 테이프(14)를 개재하여 기판(10)을 유지한다. 척 테이블(202)은 기판(10)의 제 2 주표면(12)을 위로 향해, 기판(10)을 수평으로 유지한다. 척 테이블(202)로서는, 예를 들면 진공 척이 이용되지만, 정전 척 등이 이용되어도 된다.Each chuck table 202 holds the substrate 10 with a protective tape 14 interposed therebetween. The chuck table 202 holds the substrate 10 horizontally with the second main surface 12 of the substrate 10 facing upward. As the chuck table 202, for example, a vacuum chuck is used, but an electrostatic chuck or the like may be used.

도 5는 일실시 형태에 따른 박판화부의 거친 연삭부를 나타내는 도이다. 거친 연삭부(210)는 기판(10)의 거친 연삭을 행한다. 거친 연삭부(210)는, 예를 들면 도 5에 나타내는 바와 같이, 회전 숫돌(211)을 가진다. 회전 숫돌(211)은, 그 중심선을 중심으로 회전되고 또한 하강되어, 척 테이블(202)로 유지되어 있는 기판(10)의 상면(즉 제 2 주표면(12))을 가공한다.Figure 5 is a diagram showing the rough grinding part of the thinning part according to one embodiment. The rough grinding unit 210 performs rough grinding of the substrate 10. The rough grinding unit 210 has a rotating grindstone 211, for example, as shown in FIG. 5 . The rotary grindstone 211 is rotated and lowered about its center line to process the upper surface (that is, the second main surface 12) of the substrate 10 held by the chuck table 202.

마무리 연삭부(220)는 기판(10)의 마무리 연삭을 행한다. 마무리 연삭부(220)의 구성은 거친 연삭부(210)의 구성과 대략 동일하다. 단, 마무리 연삭부(220)의 회전 숫돌의 연마 입자의 평균 입경은, 거친 연삭부(210)의 회전 숫돌의 연마 입자의 평균 입경보다 작다.The final grinding unit 220 performs final grinding of the substrate 10 . The configuration of the finish grinding unit 220 is approximately the same as that of the rough grinding unit 210. However, the average particle diameter of the abrasive grains of the rotating grindstone of the finish grinding unit 220 is smaller than the average particle diameter of the abrasive particles of the rotating grindstone of the rough grinding unit 210.

데미지층 제거부(230)는, 거친 연삭 및 마무리 연삭 등의 연삭에 의해 기판(10)의 제 2 주표면(12)에 형성된 데미지층을 제거한다. 예를 들면, 데미지층 제거부(230)는, 기판(10)에 대하여 처리액을 공급하여 웨트 에칭 처리를 행하여, 데미지층을 제거한다. 또한, 데미지층의 제거 방법은 특별히 한정되지 않는다.The damage layer removal unit 230 removes the damage layer formed on the second main surface 12 of the substrate 10 by grinding, such as rough grinding and finish grinding. For example, the damage layer removal unit 230 supplies a processing liquid to the substrate 10 to perform a wet etching process to remove the damage layer. Additionally, the method of removing the damage layer is not particularly limited.

또한 박판화부(200)는, 기판(10)의 연마를 행하는 연마부를 가져도 된다. 연마부의 구성은 거친 연삭부(210)의 구성과 대략 동일하다. 기판(10)의 연마로서는, 예를 들면 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 등을 들 수 있다. 또한 박판화부(200)는, 불순물을 포획하는 게터링 사이트(예를 들면 결정 결함 또는 뒤틀림)를 형성하는 게터링부를 가져도 된다. 척 테이블(202)의 수는, 도 3에서는 4 개이지만, 가공의 종류의 수에 따라 적절히 변경된다. 또한, 하나의 가공부(예를 들면 데미지층 제거부(230))가, 복수 종류의 가공(예를 들면 데미지층 제거와 게터링 사이트 형성)을 행해도 된다.Additionally, the thinning unit 200 may have a polishing unit that polishes the substrate 10. The configuration of the polishing section is approximately the same as that of the rough grinding section 210. Examples of polishing of the substrate 10 include CMP (Chemical Mechanical Polishing). Additionally, the thinning portion 200 may have a gettering portion that forms a gettering site that captures impurities (for example, crystal defects or distortions). The number of chuck tables 202 is four in FIG. 3, but changes appropriately depending on the number of types of processing. Additionally, one processing unit (for example, the damage layer removal unit 230) may perform multiple types of processing (for example, damage layer removal and gettering site formation).

도 6은 일실시 형태에 따른 자외선 조사부를 나타내는 도이다. 자외선 조사부(400)는, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을 보호하는 보호 테이프(14)에 자외선을 조사한다. 보호 테이프(14)의 점착제를 자외선의 조사에 의해 경화할 수 있어, 보호 테이프(14)의 점착력을 저하시킬 수 있다. 점착력의 저하 후에, 박리 조작에 의해 간단하게 보호 테이프(14)를 기판(10)으로부터 박리할 수 있다.Figure 6 is a diagram showing an ultraviolet ray irradiation unit according to one embodiment. The ultraviolet irradiation unit 400 irradiates ultraviolet rays to the protective tape 14 that protects the diced and thinned substrate 10. The adhesive of the protective tape 14 may be hardened by irradiation of ultraviolet rays, which may reduce the adhesive force of the protective tape 14. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled from the substrate 10 by a peeling operation.

자외선 조사부(400)는, 보호 테이프(14)로 보호된 기판(10)이 반입되는 하우징의 내부에, UV 램프(410)를 가진다. UV 램프(410)는, 보호 테이프(14)를 기준으로서 기판(10)과는 반대측으로부터, 보호 테이프(14)에 자외선을 조사한다.The ultraviolet irradiation unit 400 has a UV lamp 410 inside a housing into which the substrate 10 protected with the protective tape 14 is loaded. The UV lamp 410 irradiates the protective tape 14 with ultraviolet rays from the side opposite to the substrate 10 with the protective tape 14 as a reference.

도 7은 일실시 형태에 따른 마운트부를 나타내는 도이다. 도 7에 있어서 이점 쇄선은 점착 테이프(18) 및 DAF(15)의 마운트 후의 상태를 나타낸다. 마운트부(500)는, 기판(10)을 기준으로서 자외선 조사 후의 보호 테이프(14)와는 반대측에 마련되는 점착 테이프(18)를 개재하여, 기판(10)을 프레임(19)에 장착한다. 점착 테이프(18)는, 환상의 프레임(19)의 개구부를 덮도록 프레임(19)에 장착되고, 프레임(19)의 개구부에 있어서 기판(10)과 접합된다.Figure 7 is a diagram showing a mount portion according to one embodiment. In Fig. 7, the two-dash chain line indicates the state after mounting the adhesive tape 18 and the DAF 15. The mount unit 500 mounts the substrate 10 to the frame 19 via an adhesive tape 18 provided on the opposite side of the substrate 10 from the protective tape 14 after irradiation with ultraviolet rays. The adhesive tape 18 is attached to the frame 19 so as to cover the opening of the annular frame 19, and is bonded to the substrate 10 at the opening of the frame 19.

마운트부(500)는, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을, 점착 테이프(18)만을 개재하여 프레임(19)에 장착해도 되지만, 도 7에서는 미리 적층된 점착 테이프(18) 및 DAF(15)를 개재하여 프레임(19)에 장착한다. DAF(15)는 프레임(19)의 개구부보다 작게 형성되고, 프레임(19)의 내측에 마련된다. DAF(15)는 기판(10)의 제 2 주표면(12)의 전체를 덮는다.The mount unit 500 may mount the diced and thinned substrate 10 to the frame 19 via only the adhesive tape 18, but in FIG. 7, the previously laminated adhesive tape 18 and DAF 15 are used. ) is mounted on the frame (19). The DAF 15 is formed smaller than the opening of the frame 19 and is provided inside the frame 19. DAF 15 covers the entire second major surface 12 of substrate 10.

마운트부(500)는, 예를 들면 기판(10) 및 프레임(19)을 유지하는 마운트 테이블(510)과, 마운트 테이블(510)에 유지되어 있는 프레임(19)에 대하여 점착 테이프(18)를 개재하여 기판(10)을 장착하는 래미네이트용 롤러(520)를 가진다.The mount unit 500 includes, for example, a mount table 510 holding the substrate 10 and the frame 19, and an adhesive tape 18 for the frame 19 held on the mount table 510. It has a laminating roller 520 on which the substrate 10 is interposed.

마운트 테이블(510)은 프레임(19)과, 프레임(19)의 개구부에 배치되는 기판(10)을 평행으로 유지한다. 프레임(19) 및 기판(10)은 수평으로 유지되어도 된다. 프레임(19)의 상면과 기판(10)의 상면은, DAF(15)의 두께와 동일한 정도의 높낮이차를 가져도 된다. 또한, DAF(15)가 이용되지 않는 경우, 프레임(19)의 상면과 기판(10)의 상면은 동일 평면 상에 배치되어도 된다.The mount table 510 maintains the frame 19 and the substrate 10 disposed in the opening of the frame 19 in parallel. The frame 19 and the substrate 10 may be held horizontally. The upper surface of the frame 19 and the upper surface of the substrate 10 may have a height difference equal to the thickness of the DAF 15. Additionally, when the DAF 15 is not used, the upper surface of the frame 19 and the upper surface of the substrate 10 may be disposed on the same plane.

점착 테이프(18) 등은, 심에 감긴 상태로 공급되어, 심으로부터 인출하여 사용된다. 점착 테이프(18)는, 장력에 의해 래미네이트용 롤러(520)에 달라붙으면서 래미네이트용 롤러(520)와 기판(10)과의 사이를 통과하여, 기판(10)에 적층된다. 또한 점착 테이프(18)는, 장력에 의해 래미네이트용 롤러(520)에 달라붙으면서 래미네이트용 롤러(520)와 프레임(19)과의 사이를 통과하여, 프레임(19)에 적층된다.The adhesive tape 18 and the like are supplied wound around a core and used by being pulled out from the core. The adhesive tape 18 is laminated on the substrate 10 by passing between the laminating roller 520 and the substrate 10 while sticking to the laminating roller 520 by tension. Additionally, the adhesive tape 18 adheres to the laminating roller 520 by tension and passes between the laminating roller 520 and the frame 19 to be laminated on the frame 19.

마운트부(500)는, 도 7에 나타내는 바와 같이 점착 테이프(18)를, 프레임(19)의 일단측으로부터 타단측을 향해 순차, 프레임(19) 및 기판(10)과 접합시킨다. 이에 의해, 공기가 들어가는 것 등을 억제할 수 있다. 또한, 점착 테이프(18)를 기판(10)과 접합시키는 동안, 기판(10)을 평탄하게 유지하기 때문에, 기판(10)의 파손을 억제할 수 있다.As shown in FIG. 7 , the mount unit 500 sequentially bonds the adhesive tape 18 to the frame 19 and the substrate 10 from one end of the frame 19 to the other end. Thereby, the entry of air, etc. can be suppressed. Additionally, since the substrate 10 is kept flat while the adhesive tape 18 is bonded to the substrate 10, damage to the substrate 10 can be suppressed.

도 8은 일실시 형태에 따른 박리부를 나타내는 도이다. 도 8에 있어서, 이점 쇄선은 보호 테이프(14)의 박리 전의 상태를 나타낸다. 박리부(600)는, 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착된 기판(10)으로부터, 보호 테이프(14)를 박리한다. 불필요해진 보호 테이프(14)를 제거할 수 있다. 박리부(600)는, 예를 들면 박리 테이블(610)과 박리용 롤러(620)를 가진다.Figure 8 is a diagram showing a peeling portion according to one embodiment. In Fig. 8, the two-dashed chain line represents the state before peeling of the protective tape 14. The peeling unit 600 peels the protective tape 14 from the substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18. The unnecessary protective tape 14 can be removed. The peeling unit 600 includes, for example, a peeling table 610 and a peeling roller 620.

보호 테이프(14)는, 장력에 의해 박리용 롤러(620)에 달라붙으면서 박리용 롤러(620)와 기판(10)과의 사이를 통과하여, 기판(10)으로부터 박리된다. 그 동안, 박리 테이블(610)은, 점착 테이프(18) 등을 개재하여 기판(10) 및 프레임(19)을 평탄하게 유지한다. 기판(10)으로부터 박리된 보호 테이프(14)는, 미도시의 권취 심에 감긴다.The protective tape 14 is peeled from the substrate 10 by passing between the peeling roller 620 and the substrate 10 while sticking to the peeling roller 620 by tension. In the meantime, the peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 flat through the adhesive tape 18 or the like. The protective tape 14 peeled from the substrate 10 is wound around a winding core (not shown).

박리부(600)는, 도 8에 나타내는 바와 같이 보호 테이프(14)를, 기판(10)의 일단측으로부터 타단측을 향해 순차 변형시키면서, 기판(10)으로부터 박리한다. 이에 의해, 보호 테이프(14)와 기판(10)을 원활하게 박리할 수 있다. 또한, 보호 테이프(14)와 기판(10)을 박리하는 동안, 기판(10)을 평탄하게 유지하기 때문에, 기판(10)의 파손을 억제할 수 있다.The peeling unit 600 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end of the substrate 10 toward the other end, as shown in FIG. 8 . Thereby, the protective tape 14 and the substrate 10 can be peeled off smoothly. Additionally, since the substrate 10 is kept flat while the protective tape 14 and the substrate 10 are peeled, damage to the substrate 10 can be suppressed.

또한, 박리부(600)는 보호 테이프(14)와 기판(10)을 평행하게 박리해도 된다.Additionally, the peeling unit 600 may peel the protective tape 14 and the substrate 10 in parallel.

도 9는 일실시 형태에 따른 ID 부착부를 나타내는 도이다. ID 부착부(700)는, 보호 테이프(14)를 박리한 기판(10)의 식별 정보(16)(도 2 참조)를 판독하여, 판독한 식별 정보(16)를 라벨(17)(도 2 참조)에 인쇄하고, 인쇄한 라벨(17)을 프레임(19)에 부착한다. 식별 정보(16)는 기판(10)을 식별하는 정보로서, 숫자 및 문자, 기호, 1 차원 코드, 2 차원 코드 등으로 나타내진다.Figure 9 is a diagram showing an ID attachment portion according to one embodiment. The ID attaching unit 700 reads the identification information 16 (see FIG. 2) of the substrate 10 from which the protective tape 14 has been peeled, and attaches the read identification information 16 to the label 17 (see FIG. 2). (refer to) and attach the printed label (17) to the frame (19). Identification information 16 is information that identifies the substrate 10 and is represented by numbers, letters, symbols, one-dimensional codes, two-dimensional codes, etc.

ID 부착부(700)는, 예를 들면 ID 부착 테이블(710)과, 판독 장치(720)와, 라벨 인쇄 장치(730)를 가진다. ID 부착 테이블(710)은, 점착 테이프(18) 등을 개재하여 기판(10) 및 프레임(19)을 유지한다. 판독 장치(720)는, 기판(10)에 미리 형성된 식별 정보(16)를 판독한다. 라벨 인쇄 장치(730)는, 판독 장치(720)에서 판독한 식별 정보(16)를 라벨(17)에 인쇄하고, 인쇄한 라벨(17)을 래미네이터 등으로 프레임(19)에 부착한다. 라벨(17)에 인쇄하는 식별 정보(16)와, 기판(10)에 미리 형성된 식별 정보(16)는, 도 2에 나타내는 바와 같이 동일한 내용을 상이한 형식으로 나타내져도 된다.The ID attachment unit 700 includes, for example, an ID attachment table 710, a reading device 720, and a label printing device 730. The ID attachment table 710 holds the substrate 10 and the frame 19 through an adhesive tape 18 or the like. The reading device 720 reads the identification information 16 previously formed on the substrate 10 . The label printing device 730 prints the identification information 16 read by the reading device 720 on a label 17, and attaches the printed label 17 to the frame 19 using a laminator or the like. The identification information 16 printed on the label 17 and the identification information 16 previously formed on the substrate 10 may represent the same content in different formats, as shown in FIG. 2 .

이어서, 상기 구성의 기판 처리 시스템(1)을 이용한 기판 처리 방법에 대하여 설명한다. 도 10은 일실시 형태에 따른 기판 처리 방법의 순서도이다.Next, a substrate processing method using the substrate processing system 1 configured above will be described. 10 is a flowchart of a substrate processing method according to one embodiment.

도 10에 나타내는 바와 같이 기판 처리 방법은, 반입 공정(S101)과, 다이싱 공정(S102)과, 박판화 공정(S103)과, 자외선 조사 공정(S104)과, 마운트 공정(S105)과, 박리 공정(S106)과, ID 부착 공정(S107)과, 반출 공정(S108)을 가진다. 이들 공정은, 제어부(20)에 의한 제어 하에서 실시된다. 또한 이들 공정의 순서는, 도 10에 나타내는 순서에는 한정되지 않는다. 예를 들면, 박판화 공정(S103) 후에 다이싱 공정(S102)이 행해져도 된다.As shown in FIG. 10, the substrate processing method includes an loading process (S101), a dicing process (S102), a thinning process (S103), an ultraviolet irradiation process (S104), a mounting process (S105), and a peeling process. (S106), ID attachment process (S107), and carrying out process (S108). These processes are performed under control by the control unit 20. Additionally, the order of these processes is not limited to the order shown in FIG. 10. For example, the dicing process (S102) may be performed after the thinning process (S103).

반입 공정(S101)에서는, 주반송부(58)가, 반입부(30)에 놓인 반입 카세트(35)로부터 기판(10)을 취출하고, 취출한 기판(10)을 다이싱부(100)로 반송한다.In the loading process (S101), the main transfer unit 58 takes out the substrate 10 from the loading cassette 35 placed in the loading unit 30, and transfers the taken out substrate 10 to the dicing unit 100. do.

다이싱 공정(S102)에서는, 도 4에 나타내는 바와 같이 다이싱부(100)가, 기판(10)의 다이싱을 행한다. 기판(10)의 다이싱이 행해지는 동안, 기판(10)의 제 1 주표면(11)은 보호 테이프(14)로 보호된다. 다이싱부(100)에 있어서 다이싱된 기판(10)은, 주반송부(58)에 의해 박판화부(200)로 반송된다.In the dicing process (S102), the dicing unit 100 dices the substrate 10, as shown in FIG. 4 . While dicing of the substrate 10 is performed, the first major surface 11 of the substrate 10 is protected with a protective tape 14. The substrate 10 diced in the dicing unit 100 is transported to the thinning unit 200 by the main transport unit 58 .

박판화 공정(S103)에서는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 박판화부(200)가, 기판(10)의 제 2 주표면(12)을 가공함으로써, 기판(10)을 박판화한다. 기판(10)의 박판화가 행해지는 동안, 기판(10)의 제 1 주표면(11)은 보호 테이프(14)로 보호된다. 박판화부(200)에 있어서 박판화된 기판(10)은, 주반송부(58)에 의해 후술하는 전달부(300)로 반송된 후, 후술하는 제 1 부반송부(910)에 의해 자외선 조사부(400)로 반송된다.In the thinning process (S103), as shown in FIG. 5, the thinning unit 200 processes the second main surface 12 of the substrate 10 to thin the substrate 10. While thinning of the substrate 10 is performed, the first major surface 11 of the substrate 10 is protected with a protective tape 14. The substrate 10 thinned in the thinning unit 200 is transported by the main transport unit 58 to the transfer unit 300, which will be described later, and then is sent to the ultraviolet irradiation unit ( 400).

자외선 조사 공정(S104)에서는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 자외선 조사부(400)가, 보호 테이프(14)에 자외선을 조사한다. 보호 테이프(14)의 점착제를 자외선의 조사에 의해 경화시킬 수 있어, 보호 테이프(14)의 점착력을 저하시킬 수 있다. 점착력의 저하 후에, 박리 조작에 의해 간단하게 보호 테이프(14)를 기판(10)으로부터 박리할 수 있다.In the ultraviolet ray irradiation process (S104), as shown in FIG. 6, the ultraviolet irradiation unit 400 irradiates the protective tape 14 with ultraviolet rays. The adhesive of the protective tape 14 can be hardened by irradiation of ultraviolet rays, which can reduce the adhesive force of the protective tape 14. After the adhesive strength decreases, the protective tape 14 can be easily peeled from the substrate 10 by a peeling operation.

자외선 조사 공정(S104)은, 마운트 공정(S105) 후에 행해져도 되지만, 본 실시 형태에서는 마운트 공정(S105) 전에 행해진다. 이에 의해, 마운트 공정(S105)에서 기판(10)과 접합되는 점착 테이프(18)의 자외선 조사에 의한 열화를 방지할 수 있다. 자외선 조사부(400)에 있어서 자외선 조사된 보호 테이프(14)가 붙은 기판(10)은, 후술하는 제 1 부반송부(910)에 의해 마운트부(500)로 반송된다.The ultraviolet irradiation process (S104) may be performed after the mounting process (S105), but in this embodiment, it is performed before the mounting process (S105). As a result, it is possible to prevent deterioration of the adhesive tape 18 bonded to the substrate 10 in the mounting process (S105) due to ultraviolet irradiation. The substrate 10 with the protective tape 14 irradiated with ultraviolet rays in the ultraviolet irradiation unit 400 is transported to the mount unit 500 by the first sub-transport unit 910, which will be described later.

마운트 공정(S105)에서는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 마운트부(500)가, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을, 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착한다. 마운트부(500)는 다이싱되고 박판화된 기판(10)을, 점착 테이프(18)만을 개재하여 프레임(19)에 장착해도 되지만, 본 실시 형태에서는 미리 적층된 점착 테이프(18) 및 DAF(15)를 개재하여 프레임(19)에 장착한다. 마운트부(500)에 있어서 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착된 기판(10)은, 후술하는 제 2 부반송부(920)에 의해 박리부(600)로 반송된다.In the mounting process (S105), as shown in FIG. 7, the mount unit 500 mounts the diced and thinned substrate 10 on the frame 19 via the adhesive tape 18. The mount unit 500 may mount the diced and thinned substrate 10 to the frame 19 via only the adhesive tape 18, but in this embodiment, the pre-laminated adhesive tape 18 and the DAF 15 ) is mounted on the frame (19). In the mount unit 500, the substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18 is transported to the peeling unit 600 by the second sub-transfer unit 920, which will be described later.

박리 공정(S106)에서는, 도 8에 나타내는 바와 같이 박리부(600)가, 마운트부(500)에 의해 점착 테이프(18)를 개재하여 프레임(19)에 장착된 기판(10)으로부터, 보호 테이프(14)를 박리한다. 불필요해진 보호 테이프(14)를 제거할 수 있다. 박리부(600)에 있어서 보호 테이프(14)가 박리된 기판(10)은, 후술하는 제 3 부반송부(930)에 의해 ID 부착부(700)로 반송된다.In the peeling process (S106), as shown in FIG. 8, the peeling portion 600 separates the protective tape from the substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18 by the mount portion 500. (14) is peeled off. The unnecessary protective tape 14 can be removed. The substrate 10 from which the protective tape 14 has been peeled in the peeling unit 600 is transported to the ID attaching unit 700 by a third sub-transfer unit 930, which will be described later.

ID 부착 공정(S107)에서는, 도 9에 나타내는 바와 같이 ID 부착부(700)가, 기판(10)에 미리 형성된 식별 정보(16)(도 2 참조)를 판독하여, 판독한 식별 정보(16)를 라벨(17)(도 2 참조)에 인쇄하고, 인쇄한 라벨(17)을 프레임(19)에 부착한다.In the ID attachment process (S107), as shown in FIG. 9, the ID attachment unit 700 reads the identification information 16 (see FIG. 2) previously formed on the substrate 10, and reads the read identification information 16. is printed on the label 17 (see FIG. 2), and the printed label 17 is attached to the frame 19.

반출 공정(S108)에서는, 주반송부(58)가, ID 부착부(700)로부터 반출부(40)로 기판(10)을 반송하고, 반출부(40)에 있어서 반출 카세트(45)의 내부에 기판(10)을 수납한다. 반출 카세트(45)는 반출부(40)로부터 외부로 반출된다. 반출 카세트(45)와 함께 외부로 반출된 기판(10)은, 칩(13)마다 픽업된다. 이와 같이 하여, 칩(13)이 제조된다.In the carrying out process (S108), the main transport unit 58 transports the substrate 10 from the ID attaching unit 700 to the carrying out part 40, and the inside of the carrying out cassette 45 in the carrying out part 40 The substrate 10 is stored in . The carrying out cassette 45 is carried out from the carrying out unit 40. The substrate 10 carried out to the outside together with the unloading cassette 45 is picked up for each chip 13. In this way, the chip 13 is manufactured.

도 11은 일실시 형태에 따른 기판 처리 시스템의 주요부를 나타내는 평면도이다. 도 12는 일실시 형태에 따른 마운트부 그리고 마운트부의 상방에 마운트부와 중첩되어 마련되는 자외선 조사부 및 전달부를 나타내는 측면도이다. 도 13은 일실시 형태에 따른 박리부 및 박리부의 상방에 박리부와 중첩되어 마련되는 ID 부착부를 나타내는 측면도이다. 도 11 ~ 도 13에 있어서, 화살표는 마운트부(500) 및 박리부(600) 등에 있어서의 기판(10) 및 프레임(19)의 이동 방향을 나타낸다.11 is a plan view showing main parts of a substrate processing system according to one embodiment. Figure 12 is a side view showing a mount unit according to one embodiment, and an ultraviolet irradiation unit and a transmission unit provided above the mount unit overlapping with the mount unit. Figure 13 is a side view showing a peeling portion and an ID attachment portion provided above the peeling portion and overlapping with the peeling portion according to one embodiment. 11 to 13, arrows indicate the movement directions of the substrate 10 and the frame 19 in the mount portion 500 and the peeling portion 600, etc.

기판 처리 시스템(1)은 마운트부(500)를 구비한다. 마운트부(500)는, 도 12에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 마운트 테이블(510)과, 래미네이트용 롤러(520)와, 마운트 테이블 가이드(530)와, 프레임 공급부(540)와, 프레임 반송부(550)를 가진다.The substrate processing system 1 includes a mount unit 500 . As shown in FIG. 12, the mount unit 500 includes, for example, a mount table 510, a laminating roller 520, a mount table guide 530, a frame supply unit 540, and a frame transport unit. Has wealth (550).

마운트 테이블 가이드(530)는, 도 11에 나타내는 바와 같이 X 방향으로 연장되어 있고, Y 방향으로 간격을 두고 한 쌍 마련된다. 한 쌍의 마운트 테이블 가이드(530)를 따라 마운트 테이블(510)이 이동 가능하게 된다. 마운트 테이블(510)을 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터가 이용된다.As shown in FIG. 11, the mount table guide 530 extends in the X direction and is provided in pairs at intervals in the Y direction. The mount table 510 can be moved along the pair of mount table guides 530. As a drive source for moving the mount table 510, a servo motor is used, for example.

도 12에 나타내는 바와 같이, 마운트 테이블 가이드(530)의 후측의 단부의 상방에는 래미네이트용 롤러(520)가 마련되고, 마운트 테이블 가이드(530)의 전측의 단부의 하방에는 프레임 공급부(540)가 마련된다. 프레임 공급부(540)는 기판(10)을 장착하기 전의 프레임(19)을 수납한 프레임 카세트(541)가 외부로부터 반입되는 것이다. 프레임 카세트(541)는 프레임(19)을 Z 방향으로 복수 배열하여 수납한다. 또한, 프레임 카세트(541)는 없어도 되며, 작업원이 프레임(19)을 프레임 공급부(540)에 세트해도 된다. 프레임(19)은 복수 매씩 복수 회 나누어, 프레임 공급부(540)에 세트되어도 된다.As shown in FIG. 12, a laminating roller 520 is provided above the rear end of the mount table guide 530, and a frame supply unit 540 is provided below the front end of the mount table guide 530. It is prepared. The frame supply unit 540 is a frame cassette 541 containing the frame 19 before mounting the substrate 10 is brought in from the outside. The frame cassette 541 accommodates a plurality of frames 19 arranged in the Z direction. Additionally, the frame cassette 541 does not need to be present, and the worker may set the frame 19 in the frame supply unit 540. The frames 19 may be divided into multiple sheets and set in the frame supply unit 540.

도 3에 나타내는 바와 같이, 주반송로(50)의 폭 방향 편측(전측)에 반입부(30) 및 반출부(40)가 마련되고, 마운트부(500)는 주반송로(50)의 길이 방향 일단부에 인접하여 마련되어도 된다. 이 경우, 도 12에 나타내는 바와 같이, 프레임 공급부(540)에는, 전측으로부터 프레임 카세트(541)가 반입되어도 된다. 처리 전의 물품(기판(10) 및 프레임(19))이 전측으로부터 반입되고, 처리 후의 물품(기판(10)을 장착한 프레임(19))이 전측으로 반출된다. 물품의 반입반출을 전측에 집중시킬 수 있어, 메인터넌스성 및 반송 효율을 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 3 , a loading portion 30 and an unloading portion 40 are provided on one side (front side) in the width direction of the main conveying path 50, and the mount portion 500 is provided along the length of the main conveying path 50. It may be provided adjacent to one end of the direction. In this case, as shown in FIG. 12, the frame cassette 541 may be loaded into the frame supply unit 540 from the front. The unprocessed article (substrate 10 and frame 19) is brought in from the front side, and the processed article (frame 19 on which the substrate 10 is mounted) is taken out from the front side. The loading and unloading of goods can be concentrated at the front, improving maintenance and transportation efficiency.

프레임 반송부(550)는, 프레임 공급부(540)에 놓인 프레임 카세트(541)로부터 프레임(19)을 취출하고, 취출한 프레임(19)을 마운트 테이블(510)에 배치한다. 프레임 반송부(550)는, 예를 들면 Z 방향으로 봤을 때 한 쌍의 마운트 테이블 가이드(530)의 사이에 배치되고, Z 방향으로 이동 가능하게 된다. 프레임 반송부(550)를 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터 등이 이용된다.The frame transport unit 550 takes out the frame 19 from the frame cassette 541 placed in the frame supply unit 540, and places the taken out frame 19 on the mount table 510. The frame transport unit 550 is disposed between a pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction, for example, and is movable in the Z direction. As a driving source for moving the frame transport unit 550, a servo motor or the like is used, for example.

프레임 반송부(550)는, 프레임(19)을 흡착하는 흡착부(559)를 가진다. 흡착부(559)는 예를 들면 X 방향으로 간격을 두고 복수 마련되고, 프레임(19)의 X 방향 양 단부를 흡착한다. 흡착부(559)는 흡인홀을 가진다. 흡인홀의 가스는 예를 들면 진공 펌프 등의 흡인원으로 흡인된다. 흡인원을 작동시켜 흡착부(559)에 부압을 일으킴으로써, 프레임 반송부(550)가 프레임(19)을 진공 흡착한다. 한편, 흡인원의 작동을 정지시키고 흡인홀을 대기 개방함으로써, 프레임 반송부(550)가 프레임(19)의 진공 흡착을 해제한다. 진공 흡착의 해제 시에, 프레임 반송부(550)에 정압을 발생시켜도 된다. 본 명세서에서 부압이란 대기압보다 낮은 압력이며, 정압이란 대기압보다 높은 압력이다.The frame transport unit 550 has an adsorption unit 559 that adsorbs the frame 19. The suction portions 559 are provided in plurality at intervals in the X direction, for example, and adsorb both ends of the frame 19 in the X direction. The suction part 559 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked into a suction source such as a vacuum pump, for example. By operating the suction source to generate negative pressure in the suction section 559, the frame transport section 550 vacuum-adsorbs the frame 19. Meanwhile, by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere, the frame transport unit 550 releases the vacuum suction of the frame 19. When vacuum suction is released, positive pressure may be generated in the frame transport unit 550. In this specification, negative pressure is a pressure lower than atmospheric pressure, and positive pressure is a pressure higher than atmospheric pressure.

마운트 테이블(510)은, 마운트 테이블 가이드(530)의 주반송로(50)측(전측)의 단부에 있어서, 프레임 반송부(550)로부터 프레임(19)을 수취한다. 구체적으로, 먼저, 프레임 반송부(550)가 도 12에 실선으로 나타내는 위치로부터 도 12에 이점 쇄선으로 나타내는 위치로 상승되고, Y 방향으로 간격을 두고 마련되는 한 쌍의 마운트 테이블 가이드(530)의 사이를 Z 방향으로 통과한다. 이 때, 마운트 테이블(510)은, 프레임 반송부(550)의 상승을 방해하지 않는 퇴피 위치에서 대기하고 있다. 이 후, 프레임 반송부(550)의 직하(直下)로 마운트 테이블(510)이 이동되면, 프레임 반송부(550)가 하강되어, 프레임 반송부(550)로 유지되어 있는 프레임(19)이 마운트 테이블(510)에 배치된다.The mount table 510 receives the frame 19 from the frame transport unit 550 at the end of the mount table guide 530 on the main transport path 50 side (front side). Specifically, first, the frame transport unit 550 is raised from the position indicated by the solid line in FIG. 12 to the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 12, and a pair of mount table guides 530 provided at intervals in the Y direction are moved. passes in the Z direction. At this time, the mount table 510 is standing by at a retracted position that does not impede the raising of the frame transport unit 550. Afterwards, when the mount table 510 is moved directly below the frame transport unit 550, the frame transport unit 550 is lowered, and the frame 19 held by the frame transport unit 550 is mounted. It is placed on the table 510.

이 후, 마운트 테이블(510)은, 주반송로(50)로부터 멀어지도록 X 방향(후측)으로 이동되어, 래미네이트용 롤러(520)의 직하를 향해 이동되는 도중에, 후술하는 제 1 부반송부(910)로부터 기판(10)을 수취한다. 기판(10)은 프레임(19)의 개구부에 배치되고, 마운트 테이블(510)은 보호 테이프(14)를 개재하여 기판(10)을 유지한다.After this, the mount table 510 is moved in the The substrate 10 is received from 910. The substrate 10 is placed in the opening of the frame 19, and the mount table 510 holds the substrate 10 via the protective tape 14.

이 후, 마운트 테이블(510)은, 또한 주반송로(50)로부터 멀어지도록 X 방향(후측)으로 이동되어, 래미네이트용 롤러(520)의 직하를 향해 이동된다. 래미네이트용 롤러(520)는, 도 7에 나타내는 바와 같이 마운트 테이블(510)에 배치된 프레임(19) 및 프레임(19)의 개구부에 배치된 기판(10)에, 점착 테이프(18)를 접합한다. 점착 테이프(18)는, 기판(10)을 기준으로서 보호 테이프(14)와는 반대측(상측)에 마련된다.After this, the mount table 510 is further moved in the As shown in FIG. 7, the laminating roller 520 bonds the adhesive tape 18 to the frame 19 placed on the mount table 510 and the substrate 10 placed in the opening of the frame 19. do. The adhesive tape 18 is provided on the opposite (upper side) side of the substrate 10 from the protective tape 14 .

기판 처리 시스템(1)은 자외선 조사부(400)를 구비한다. 도 11 및 도 12에 나타내는 바와 같이, 자외선 조사부(400)는 마운트부(500)의 상방에 마운트부(500)와 중첩되어 마련된다. 예를 들면, 자외선 조사부(400)는, Z 방향으로 봤을 때 한 쌍의 마운트 테이블 가이드(530)와 중첩되어 마련된다.The substrate processing system 1 includes an ultraviolet irradiation unit 400. As shown in FIGS. 11 and 12 , the ultraviolet irradiation unit 400 is provided above the mount unit 500 to overlap with the mount unit 500 . For example, the ultraviolet irradiation unit 400 is provided to overlap a pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction.

자외선 조사부(400)와 마운트부(500)가 Z 방향으로 적층되기 때문에, Z 방향으로 봤을 때 자외선 조사부(400)와 마운트부(500)가 횡으로 배열되어 마련되는 경우에 비해, Z 방향으로 봤을 때 기판 처리 시스템(1)의 설치 면적을 저감시킬 수 있다. 또한, 자외선 조사부(400)로부터 마운트부(500)로 기판(10)을 반송하는 흐름이 된다.Since the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 are stacked in the Z direction, when viewed in the Z direction, compared to the case where the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 are arranged horizontally, when viewed in the Z direction, When doing so, the installation area of the substrate processing system 1 can be reduced. Additionally, it becomes a flow for transporting the substrate 10 from the ultraviolet irradiation unit 400 to the mount unit 500.

기판 처리 시스템(1)은, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을 주반송부(58)(도 3 참조)로부터 수취하는 전달부(300)를 구비해도 된다. 전달부(300)는, 주반송부(58)로부터 기판(10)을 수취하고, 수취한 기판(10)을 후술하는 제 1 부반송부(910)로 인도한다.The substrate processing system 1 may be provided with a transfer unit 300 that receives the diced and thinned substrate 10 from the main transfer unit 58 (see FIG. 3). The transfer unit 300 receives the substrate 10 from the main transfer unit 58 and delivers the received substrate 10 to the first sub-transfer unit 910, which will be described later.

전달부(300)는, 도 11에 나타내는 바와 같이 주반송로(50)에 인접하고 또한 도 12에 나타내는 바와 같이 마운트부(500)의 상방에 마운트부(500)와 중첩되어 마련된다. 예를 들면, 전달부(300)는, Z 방향으로 봤을 때 한 쌍의 마운트 테이블 가이드(530)와 중첩되어 마련된다. 마운트부(500)가 주반송로(50)의 Y 방향 단부에 인접하여 마련되는 경우, 전달부(300)도 주반송로(50)의 Y 방향 단부에 인접하여 마련된다.The delivery section 300 is provided adjacent to the main conveyance path 50 as shown in FIG. 11 and above the mount section 500 as shown in FIG. 12 , overlapping with the mount section 500 . For example, the transmission unit 300 is provided to overlap a pair of mount table guides 530 when viewed in the Z direction. When the mount unit 500 is provided adjacent to the Y-direction end of the main transport path 50, the delivery unit 300 is also provided adjacent to the Y-direction end of the main transport path 50.

전달부(300)와 마운트부(500)가 Z 방향으로 적층되기 때문에, Z 방향으로 봤을 때 마운트부(500)와 전달부(300)가 횡으로 배열되어 마련되는 경우에 비해, Z 방향으로 봤을 때 기판 처리 시스템(1)의 설치 면적을 저감시킬 수 있다. 또한, 자외선 조사부(400)와 동일한 높이에 전달부(300)를 배치할 수 있고, 자외선 조사부(400)의 옆에 전달부(300)를 배치할 수 있어, 전달부(300)로부터 자외선 조사부(400)로 기판(10)을 반송하는 흐름이 된다.Since the transmission unit 300 and the mount unit 500 are stacked in the Z direction, when viewed in the Z direction, compared to the case where the mount unit 500 and the transmission unit 300 are arranged horizontally, when viewed in the Z direction, When doing so, the installation area of the substrate processing system 1 can be reduced. In addition, the delivery unit 300 can be placed at the same height as the ultraviolet irradiation unit 400, and the delivery unit 300 can be placed next to the ultraviolet irradiation unit 400, so that the ultraviolet irradiation unit ( 400) becomes a flow for transporting the substrate 10.

예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이, Z 방향으로 봤을 때, 전측으로부터 후 측에 걸쳐, 전달부(300), 자외선 조사부(400), 래미네이트용 롤러(520)가 이 순으로 배열되어 마련된다. 이 때문에, 전달부(300)로부터 자외선 조사부(400)를 거쳐 마운트 테이블(510)에 배치될 때까지의 기판(10)의 흐름을 향상시킬 수 있어, 기판(10)의 반송 효율을 향상시킬 수 있다.For example, as shown in FIG. 11, when viewed in the Z direction, a transmission unit 300, an ultraviolet ray irradiation unit 400, and a laminating roller 520 are arranged in this order from the front to the rear. . For this reason, the flow of the substrate 10 from the transfer unit 300 through the ultraviolet irradiation unit 400 until it is placed on the mount table 510 can be improved, and the transport efficiency of the substrate 10 can be improved. there is.

전달부(300)는, 프레임(19)에 대한 기판(10)의 장착 위치의 위치 조정에 이용하는 정보를 취득하는 얼라이먼트부를 겸해도 된다. 이에 의해, 예를 들면 박판화부(200)와 주반송부(58)와의 사이에서의 기판(10)의 전달, 주반송부(58)와 전달부(300)와의 사이에서의 기판(10)의 전달 등에 의해 기판(10)의 위치 이탈이 생기는 경우에, 기판(10)의 X 방향 또는 Y 방향, θ 방향의 위치를 교정할 수 있다. 그 교정은, 프레임(19)의 개구부의 중심과 기판(10)의 중심이 일치하도록 행해지고, 프레임(19)에 대한 기판(10)의 방향이 정해진 방향이 되도록 행해진다.The transmission unit 300 may also serve as an alignment unit that acquires information used for positional adjustment of the mounting position of the substrate 10 with respect to the frame 19. As a result, for example, the transfer of the substrate 10 between the thinning unit 200 and the main transfer unit 58, and the transfer of the substrate 10 between the main transfer unit 58 and the transfer unit 300. When the substrate 10 is displaced due to transfer or the like, the position of the substrate 10 in the X direction, Y direction, or θ direction can be corrected. The calibration is performed so that the center of the opening of the frame 19 coincides with the center of the substrate 10, and the orientation of the substrate 10 with respect to the frame 19 is in a predetermined direction.

전달부(300)는, 도 12에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 기판(10)을 유지하는 전달 테이블(310)과, 전달 테이블(310)로 유지되어 있는 기판(10)의 화상을 촬상하는 촬상부(320)와, 전달 테이블(310)을 회전시키는 회전 구동부(330)를 가진다. 전달 테이블(310)로서는, 예를 들면 진공 척이 이용되지만, 정전 척 등이 이용되어도 된다. 촬상부(320)는, 예를 들면 전달 테이블(310)의 상방에 마련되고, 전달 테이블(310)에 유지되어 있는 기판(10)의 상방으로부터 기판(10)을 촬상한다. 회전 구동부(330)는, 전달 테이블(310)을 회전시킴으로써, 전달 테이블(310)로 유지되어 있는 기판(10)의 촬상 위치를 변경한다.As shown in FIG. 12, the transfer unit 300 captures, for example, a transfer table 310 holding the substrate 10 and an image of the substrate 10 held by the transfer table 310. It has a unit 320 and a rotation drive unit 330 that rotates the transfer table 310. As the transfer table 310, for example, a vacuum chuck is used, but an electrostatic chuck or the like may be used. The imaging unit 320 is provided, for example, above the transfer table 310 and captures an image of the substrate 10 held on the transfer table 310 from above. The rotation drive unit 330 changes the imaging position of the substrate 10 held by the transfer table 310 by rotating the transfer table 310 .

전달부(300)는, 촬상부(320)에 의해 촬상한 기판(10)의 화상을, 전기 신호로 변환하여 제어부(20)로 송신한다. 제어부(20)는, 촬상부(320)에 의해 촬상한 기판(10)의 화상을 화상 처리함으로써, 전달 테이블(310)에 유지되어 있는 기판(10)의 위치를 검출한다. 그 검출 방법으로서는, 기판(10)의 패턴(예를 들면 분할 패턴)과 기준 패턴과의 매칭을 행하는 방법, 기판(10)의 외주 상의 복수의 점으로부터 기판(10)의 중심점과 기판(10)의 방향을 구하는 방법 등의 공지의 방법이 이용된다. 기판(10)의 방향은, 기판(10)의 외주에 형성되는 노치의 위치 등으로 검출된다. 노치 대신에, 오리엔테이션 플랫이 이용되어도 된다. 이에 의해, 제어부(20)는, 전달 테이블(310)에 고정되는 좌표계에서의 기판(10)의 위치를 파악할 수 있다.The transmission unit 300 converts the image of the substrate 10 captured by the imaging unit 320 into an electrical signal and transmits it to the control unit 20 . The control unit 20 detects the position of the substrate 10 held on the transfer table 310 by performing image processing on the image of the substrate 10 captured by the imaging unit 320 . The detection method includes a method of matching a pattern (for example, a division pattern) of the substrate 10 and a reference pattern, and a method of matching the center point of the substrate 10 and the substrate 10 from a plurality of points on the outer circumference of the substrate 10. Known methods such as a method of finding the direction of are used. The direction of the substrate 10 is detected by the position of a notch formed on the outer periphery of the substrate 10, etc. Instead of notches, orientation flats may be used. As a result, the control unit 20 can determine the position of the substrate 10 in the coordinate system fixed to the transfer table 310.

기판(10)의 θ 방향 위치 조정은, 예를 들면 전달 테이블(310)을 회전시킴으로써 행해진다. 한편, 기판(10)의 X 방향 위치 조정 및 기판(10)의 Y 방향 위치 조정은, 전달 테이블(310)에 의한 기판(10)의 유지를 해제한 후에 행해지고, 기판(10)을 전달부(300)로부터 자외선 조사부(400)를 거쳐 마운트부(500)로 반송하는 동안에 행해진다. 예를 들면, 기판(10)의 X 방향 위치 조정 및 기판(10)의 Y 방향 위치 조정은, 후술하는 제 1 부반송부(910)가 기판(10)을 전달 테이블(310)로부터 수취할 때에, 또는 제 1 부반송부(910)가 기판(10)을 마운트 테이블(510)로 인도할 때에 행해진다. 이에 의해, 마운트 테이블(510)에 대한 기판(10)의 배치 위치의 위치 조정이 행해지고, 나아가서는, 프레임(19)에 대한 기판(10)의 장착 위치의 위치 조정이 행해진다.Position adjustment of the substrate 10 in the θ direction is performed, for example, by rotating the transfer table 310. On the other hand, the This is done while conveying from 300 through the ultraviolet irradiation unit 400 to the mount unit 500. For example, the X-direction position adjustment of the substrate 10 and the Y-direction position adjustment of the substrate 10 are performed when the first sub-transfer unit 910, described later, receives the substrate 10 from the transfer table 310. , or when the first sub-transfer unit 910 delivers the substrate 10 to the mount table 510. As a result, position adjustment of the placement position of the substrate 10 with respect to the mount table 510 is performed, and further, position adjustment of the mounting position of the substrate 10 with respect to the frame 19 is performed.

기판 처리 시스템(1)은 박리부(600)를 구비한다. 박리부(600)는, 도 13에 나타내는 바와 같이 예를 들면 박리 테이블(610)과, 박리용 롤러(620)와, 박리 테이블 가이드(630)를 가진다.The substrate processing system 1 includes a peeling unit 600 . As shown in FIG. 13 , the peeling unit 600 has, for example, a peeling table 610, a peeling roller 620, and a peeling table guide 630.

박리 테이블 가이드(630)는, 도 11에 나타내는 바와 같이 X 방향으로 연장되어 있고, Y 방향으로 간격을 두고 한 쌍 마련된다. 한 쌍의 박리 테이블 가이드(630)를 따라 박리 테이블(610)이 이동 가능하게 된다. 박리 테이블(610)을 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터가 이용된다.As shown in FIG. 11, the peeling table guide 630 extends in the X direction and is provided in pairs at intervals in the Y direction. The peeling table 610 can be moved along the pair of peeling table guides 630. As a drive source for moving the peeling table 610, a servo motor is used, for example.

박리 테이블(610)은, 도 13에 나타내는 바와 같이, 박리 테이블 가이드(630)의 X 방향 중앙부에 있어서, 후술하는 제 2 부반송부(920)로부터 프레임(19)을 수취한다. 프레임(19)에는, 미리 점착 테이프(18)를 개재하여 기판(10)이 장착된다. 박리 테이블(610)은, 점착 테이프(18)를 개재하여 기판(10) 및 프레임(19)을 유지한다.As shown in FIG. 13 , the peeling table 610 is located at the center of the peeling table guide 630 in the The substrate 10 is previously mounted on the frame 19 through an adhesive tape 18. The peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 via the adhesive tape 18.

이 후, 박리 테이블(610)은, 주반송로(50)로부터 멀어지도록 X 방향(후측)으로 이동되고, 박리용 롤러(620)의 직하를 향해 이동된다. 박리용 롤러(620)는, 도 8에 나타내는 바와 같이 보호 테이프(14)를, 기판(10)의 일단측으로부터 타단측을 향해 순차 변형시키면서, 기판(10)으로부터 박리한다.After this, the peeling table 610 is moved in the The peeling roller 620 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end side of the substrate 10 toward the other end side, as shown in FIG. 8 .

기판 처리 시스템(1)은 ID 부착부(700)를 구비해도 된다. 도 11 및 도 13에 나타내는 바와 같이, ID 부착부(700)는 주반송로(50)에 인접하여 마련된다. 주반송부(58)는, ID 부착부(700)가 라벨(17)을 부착한 프레임(19)을, ID 부착부(700)로부터 반출부(40)로 반송하고, 반출부(40)에 놓인 반출 카세트(45)에 수납한다.The substrate processing system 1 may be provided with an ID attachment portion 700. As shown in FIGS. 11 and 13 , the ID attachment portion 700 is provided adjacent to the main conveyance path 50 . The main transfer unit 58 transports the frame 19 to which the ID attaching unit 700 has attached the label 17 from the ID attaching unit 700 to the carrying out unit 40. It is stored in the placed take-out cassette (45).

기판 처리 시스템(1)은, 도 11 및 도 13에 나타내는 바와 같이, ID 부착부(700)는 박리부(600)의 상방에 박리부(600)와 중첩되어 마련되어도 된다. 예를 들면, ID 부착부(700)는, Z 방향으로 봤을 때 한 쌍의 박리 테이블 가이드(630)와 중첩되어 마련된다.In the substrate processing system 1, as shown in FIGS. 11 and 13, the ID attachment portion 700 may be provided above the peeling portion 600, overlapping with the peeling portion 600. For example, the ID attachment portion 700 is provided to overlap a pair of peeling table guides 630 when viewed in the Z direction.

박리부(600)와 ID 부착부(700)가 Z 방향으로 적층되기 때문에, Z 방향으로 봤을 때 박리부(600)와 ID 부착부(700)가 횡으로 배열되어 마련되는 경우에 비해, Z 방향으로 봤을 때 기판 처리 시스템(1)의 설치 면적을 저감시킬 수 있다. 또한, 박리부(600)로부터 ID 부착부(700)로 기판(10)을 반송하는 흐름이 좋다.Since the peeling portion 600 and the ID attaching portion 700 are stacked in the Z direction, when viewed in the Z direction, compared to the case where the peeling portion 600 and the ID attaching portion 700 are arranged horizontally, the In view of this, the installation area of the substrate processing system 1 can be reduced. Additionally, the flow of transferring the substrate 10 from the peeling unit 600 to the ID attaching unit 700 is good.

기판 처리 시스템(1)은, 도 11 등에 나타내는 바와 같이, 주반송부(58)(도 3 참조)와, 제 1 부반송부(910)와, 제 2 부반송부(920)와, 제 3 부반송부(930)를 가져도 된다. 주반송부(58)는, 기판(10)을 반입부(30)로부터 다이싱부(100) 및 박판화부(200)를 거쳐 전달부(300)로 반송한다. 제 1 부반송부(910)는, 기판(10)을 전달부(300)로부터 자외선 조사부(400)를 경유하여 마운트부(500)로 반송한다. 제 2 부반송부(920)는, 기판(10)을 마운트부(500)로부터 박리부(600)로 기판(10)을 반송하고, 또한 기판(10)을 상하 반전시킨다. 제 3 부반송부(930)는, 기판(10)을 박리부(600)로부터 ID 부착부(700)로 반송한다. 주반송부(58)는, 기판(10)을 ID 부착부(700)로부터 반출부(40)로 반송한다.As shown in FIG. 11 and the like, the substrate processing system 1 includes a main transfer unit 58 (see FIG. 3), a first sub-transfer unit 910, a second sub-transfer unit 920, and a third sub-transfer unit 58 (see FIG. 3). A sub-carrying unit 930 may be provided. The main transport unit 58 transports the substrate 10 from the loading unit 30 to the transfer unit 300 via the dicing unit 100 and the thinning unit 200. The first sub-transfer unit 910 transports the substrate 10 from the transfer unit 300 to the mount unit 500 via the ultraviolet ray irradiation unit 400. The second sub-transfer unit 920 transfers the substrate 10 from the mount unit 500 to the peeling unit 600 and also inverts the substrate 10 up and down. The third sub-transfer unit 930 transports the substrate 10 from the peeling unit 600 to the ID attaching unit 700. The main transport unit 58 transports the substrate 10 from the ID attaching unit 700 to the carrying unit 40 .

제 1 부반송부(910)는, X 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하게 된다. 예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이 마운트부(500)에 있어서 X축 가이드(911)가 고정된다. X축 가이드(911)를 따라 X 방향으로 이동되는 X축 슬라이더(912)에는, Z축 가이드(913)가 고정된다. Z축 가이드(913)를 따라 Z 방향으로 이동하는 Z축 슬라이더(914)에는, 제 1 부반송부(910)가 고정된다. 또한 제 1 부반송부(910)는, 기판(10)의 Y 방향 위치 조정을 위하여, 또한 Y 방향으로 이동 가능하게 되어도 된다.The first sub-carrying unit 910 can move in the X and Z directions. For example, as shown in FIG. 11, the X-axis guide 911 is fixed to the mount unit 500. A Z-axis guide 913 is fixed to the X-axis slider 912 that moves in the X direction along the X-axis guide 911. The first sub-carrying unit 910 is fixed to the Z-axis slider 914 that moves in the Z direction along the Z-axis guide 913. Additionally, the first sub-carrying unit 910 may be further movable in the Y direction in order to adjust the Y direction position of the substrate 10.

제 1 부반송부(910)는 기판(10)을 흡착한다. 제 1 부반송부(910)는 기판(10)의 변형 및 파손을 억제하기 위하여, 기판(10)의 주표면(예를 들면 제 2 주표면(12))보다 큰 흡착면을 가져도 된다. 기판(10)의 제 2 주표면(12)의 전체를 평탄하게 유지할 수 있어, 기판(10)의 변형 및 파손을 억제할 수 있다.The first sub-carrier 910 adsorbs the substrate 10. The first sub-carrying unit 910 may have an adsorption surface larger than the main surface (for example, the second main surface 12) of the substrate 10 in order to prevent deformation and damage of the substrate 10. The entire second main surface 12 of the substrate 10 can be maintained flat, and deformation and damage of the substrate 10 can be suppressed.

제 1 부반송부(910)는, 예를 들면 포러스 척으로 구성되고, 다공질체를 가진다. 다공질체의 홀의 가스는 예를 들면 진공 펌프 등의 흡인원으로 흡인된다. 흡인원을 작동시켜 제 1 부반송부(910)에 부압을 일으킴으로써, 제 1 부반송부(910)가 기판(10)을 진공 흡착한다. 한편, 흡인원의 작동을 정지시키고 다공질체의 홀을 대기 개방함으로써, 제 1 부반송부(910)가 기판(10)의 진공 흡착을 해제한다. 진공 흡착의 해제 시에, 제 1 부반송부(910)에 정압을 발생시켜도 된다.The first sub-carrying unit 910 is made of, for example, a porous chuck and has a porous body. The gas in the holes of the porous body is sucked in by a suction source such as a vacuum pump, for example. By operating the suction source to generate negative pressure in the first sub-carrying unit 910, the first sub-carrying unit 910 vacuum-adsorbs the substrate 10. Meanwhile, by stopping the operation of the suction source and opening the hole of the porous material to the atmosphere, the first sub-carrying unit 910 releases the vacuum suction of the substrate 10. When vacuum suction is released, positive pressure may be generated in the first sub-carrying unit 910.

제 1 부반송부(910)는, 기판(10)을 유지하여 X 방향 및 Z 방향으로 이동함으로써, 기판(10)을 전달부(300)로부터 자외선 조사부(400)를 경유하여 마운트부(500)로 반송한다. 예를 들면, 기판(10)은, 전달 테이블(310)로부터 들어올려져, UV 램프(410)의 상방을 통과하고, 마운트 테이블(510)에 내려진다. 제 1 부반송부(910)를 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터 등이 이용된다.The first sub-transfer unit 910 holds the substrate 10 and moves it in the Send it back to For example, the substrate 10 is lifted from the transfer table 310, passes above the UV lamp 410, and is placed on the mount table 510. As a driving source for moving the first sub-carrying unit 910, a servo motor or the like is used, for example.

제 1 부반송부(910)는, 보호 테이프(14)를 아래로 향해 기판(10)을 상방으로부터 유지하고, Y 방향으로 연장되는 UV 램프(410)의 상방을 X 방향으로 이동한다. UV 램프(410)가 보호 테이프(14)의 Y 방향 전체를 조사할 수 있도록, UV 램프(410)의 Y 방향 치수는 기판(10)의 직경보다 크다. 제 1 부반송부(910)가 UV 램프(410) 상을 통과하는 속도는, 보호 테이프(14)의 점착력을 충분히 저하시킬 수 있도록 설정된다.The first sub-transport unit 910 holds the substrate 10 from above with the protective tape 14 facing downward, and moves in the X direction above the UV lamp 410 extending in the Y direction. The Y-direction dimension of the UV lamp 410 is larger than the diameter of the substrate 10 so that the UV lamp 410 can irradiate the entire Y-direction of the protective tape 14. The speed at which the first sub-carrying unit 910 passes over the UV lamp 410 is set to sufficiently reduce the adhesive force of the protective tape 14.

본 실시 형태에 의하면, 보호 테이프(14)에 자외선을 조사하는 동안, 기판(10)을 제 1 부반송부(910)로 유지하기 때문에, 다른 기판(10)을 주반송부(58)로 유지하여 반송할 수 있다. 이 때문에, 기판 처리 시스템(1) 전체에서의 기판(10)의 반송 효율을 향상시킬 수 있어, 기판 처리 시스템(1) 전체에서의 기판(10)의 처리 속도를 향상시킬 수 있다.According to this embodiment, since the substrate 10 is held by the first sub-transfer unit 910 while the protective tape 14 is irradiated with ultraviolet rays, the other substrates 10 are held by the main transfer unit 58. You can return it. For this reason, the transport efficiency of the substrate 10 in the entire substrate processing system 1 can be improved, and the processing speed of the substrate 10 in the entire substrate processing system 1 can be improved.

제 2 부반송부(920)는, Y 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하게 된다. 예를 들면 도 12에 나타내는 바와 같이 마운트부(500) 및 박리부(600)에 있어서 Y축 가이드(921)가 고정된다. Y축 가이드(921)는, Z 방향으로 봤을 때 마운트부(500) 및 박리부(600)의 양방에 걸쳐 마련된다. Y축 가이드(921)를 따라 Y 방향으로 이동되는 Y축 슬라이더(922)에는, Z축 가이드(923)가 고정된다. Z축 가이드(923)를 따라 Z 방향으로 이동하는 Z축 슬라이더(924)에는, 반전부(925)가 고정된다. 반전부(925)는, 반전축(926)을 중심으로, 제 2 부반송부(920)를 상하 반전 가능하게 유지한다. 반전축(926)의 축 방향은, 본 실시 형태에서는 Y 방향이 되지만, X 방향이 되어도 된다.The second sub-carrying unit 920 can move in the Y and Z directions. For example, as shown in FIG. 12, the Y-axis guide 921 is fixed to the mount portion 500 and the peeling portion 600. The Y-axis guide 921 is provided across both the mount portion 500 and the peeling portion 600 when viewed in the Z direction. A Z-axis guide 923 is fixed to the Y-axis slider 922 that moves in the Y direction along the Y-axis guide 921. The inversion portion 925 is fixed to the Z-axis slider 924 that moves in the Z direction along the Z-axis guide 923. The inversion unit 925 maintains the second sub-carrying unit 920 so that it can be flipped up and down around the inversion axis 926. The axial direction of the inversion axis 926 is the Y direction in this embodiment, but may be the X direction.

제 2 부반송부(920)는, 프레임(19)을 흡착하는 흡착부(929)를 가진다. 흡착부(929)는, 반전축(926)의 축 방향(예를 들면 Y 방향)으로 간격을 두고 복수 마련되고(도 14 참조), 프레임(19)의 Y 방향 양 단부를 흡착한다. 흡착부(929)는 흡인홀을 가진다. 흡인홀의 가스는 예를 들면 진공 펌프 등의 흡인원으로 흡인된다. 흡인원을 작동시켜 제 2 부반송부(920)에 부압을 일으킴으로써, 제 2 부반송부(920)가 프레임(19)을 진공 흡착한다. 한편, 흡인원의 작동을 정지시키고 흡인홀을 대기 개방함으로써, 제 2 부반송부(920)가 프레임(19)의 진공 흡착을 해제한다. 진공 흡착의 해제 시에, 제 2 부반송부(920)에 정압을 발생시켜도 된다.The second sub-carrying unit 920 has an adsorption unit 929 that adsorbs the frame 19. A plurality of adsorption units 929 are provided at intervals in the axial direction (for example, Y direction) of the inversion axis 926 (see FIG. 14), and adsorb both ends of the frame 19 in the Y direction. The suction part 929 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked into a suction source such as a vacuum pump, for example. By operating the suction source to generate negative pressure in the second sub-carrying unit 920, the second sub-carrying unit 920 vacuum-suctions the frame 19. Meanwhile, by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere, the second sub-carrying unit 920 releases the vacuum suction of the frame 19. When vacuum suction is released, positive pressure may be generated in the second sub-carrying unit 920.

도 14는 일실시 형태에 따른 제 2 부반송부의 동작을 나타내는 도이다. 도 14에서 화살표는, 마운트부(500)로부터 박리부(600)까지의 기판(10) 및 프레임(19)의 이동 방향을 나타낸다. 제 2 부반송부(920)는, 프레임(19)을 유지하여 Y 방향 및 Z 방향으로 이동함으로써, 프레임(19)에 점착 테이프(18)를 개재하여 장착된 기판(10)을 마운트부(500)로부터 박리부(600)로 반송한다. 제 2 부반송부(920)를 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터 등이 이용된다.Figure 14 is a diagram showing the operation of the second sub-carrier according to one embodiment. In FIG. 14 , arrows indicate the direction of movement of the substrate 10 and the frame 19 from the mount unit 500 to the peeling unit 600. The second sub-carrier 920 maintains the frame 19 and moves it in the Y and Z directions, thereby attaching the substrate 10 mounted on the frame 19 via the adhesive tape 18 to the mount unit 500. ) is conveyed to the peeling unit 600. As a driving source for moving the second sub-carrying unit 920, a servo motor or the like is used, for example.

제 2 부반송부(920)는, 마운트 테이블(510)로부터 프레임(19)을 들어올린 후, 반전부(925)에 의해 예를 들면 도 14에 실선으로 나타내는 위치로부터 도 14에 일점 쇄선으로 나타내는 위치로 이동된다. 이에 의해, 프레임(19)에 점착 테이프(18)를 개재하여 장착된 기판(10)이 상하 반전된다. 이 후, 제 2 부반송부(920)는, 도 14에 이점 쇄선으로 나타내는 바와 같이 박리 테이블(610)에 프레임(19)을 배치한다. 박리 테이블(610)은, 반전축(926)의 축 방향(본 실시 형태에서는 Y 방향)으로 간격을 두고 마련되는 복수의 흡착부(929)와 간섭하지 않도록, 프레임(19)의 Y 방향 중앙부를 유지한다.After lifting the frame 19 from the mount table 510, the second sub-carrying unit 920 moves the inversion unit 925 from the position indicated by the solid line in FIG. 14 to the position indicated by the dot-and-dash line in FIG. 14. moved to location. As a result, the substrate 10 mounted on the frame 19 through the adhesive tape 18 is flipped up and down. After this, the second sub-transport unit 920 places the frame 19 on the peeling table 610, as indicated by the two-dot chain line in FIG. 14 . The peeling table 610 is located at the center of the frame 19 in the Y direction so as not to interfere with the plurality of suction parts 929 provided at intervals in the axial direction of the inversion axis 926 (the Y direction in this embodiment). maintain

본 실시 형태에 의하면, 기판(10)은, 마운트부(500)로부터 박리부(600)로 반송되는 과정에서, 반전부(925)에 의해 상하 반전된다. 이에 의해, 기판(10)을 사이에 두고 마련되는 점착 테이프(18)와 보호 테이프(14)의 배치를 반대로 할 수 있다. 구체적으로 기판(10)의 하측에는 점착 테이프(18)가 배치되고, 기판(10)의 상측에는 보호 테이프(14)가 배치된다. 보호 테이프(14)는, 기판(10)을 기준으로서 박리 테이블(610)과는 반대측에 배치되기 때문에, 기판(10)으로부터 박리하기 쉽다.According to this embodiment, the substrate 10 is flipped up and down by the inversion section 925 during the process of being transported from the mount section 500 to the peeling section 600. As a result, the arrangement of the adhesive tape 18 and the protective tape 14 provided across the substrate 10 can be reversed. Specifically, an adhesive tape 18 is disposed on the lower side of the substrate 10, and a protective tape 14 is disposed on the upper side of the substrate 10. Since the protective tape 14 is disposed on the side opposite to the peeling table 610 with respect to the substrate 10, it is easy to peel from the substrate 10.

제 3 부반송부(930)는, X 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하게 된다. 예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이 박리부(600)에 있어서 X축 가이드(931)가 고정된다. X축 가이드(931)를 따라 X 방향으로 이동되는 X축 슬라이더(932)에는, Z축 가이드(933)가 고정된다. Z축 가이드(933)를 따라 Z 방향으로 이동하는 Z축 슬라이더(934)에는, 제 3 부반송부(930)가 고정된다. 또한, 제 3 부반송부(930)는 기판(10)의 Y 방향 위치 조정을 위하여, 또한 Y 방향으로 이동 가능하게 되어도 된다.The third sub-carrying unit 930 can move in the X and Z directions. For example, as shown in FIG. 11, the X-axis guide 931 is fixed in the peeling portion 600. A Z-axis guide 933 is fixed to the X-axis slider 932 that moves in the X direction along the X-axis guide 931. The third sub-carrying unit 930 is fixed to the Z-axis slider 934 that moves in the Z direction along the Z-axis guide 933. Additionally, the third sub-carrying unit 930 may be further movable in the Y direction in order to adjust the Y direction position of the substrate 10.

제 3 부반송부(930)는, 프레임(19)을 흡착하는 흡착부(939)를 가진다. 흡착부(939)는, 예를 들면 X 방향으로 간격을 두고 복수 마련되어, 프레임(19)의 X 방향 양 단부를 흡착한다. 흡착부(939)는 흡인홀을 가진다. 흡인홀의 가스는 예를 들면 진공 펌프 등의 흡인원으로 흡인된다. 흡인원을 작동시켜 제 3 부반송부(930)에 부압을 일으킴으로써, 제 3 부반송부(930)가 프레임(19)을 진공 흡착한다. 한편, 흡인원의 작동을 정지시키고 흡인홀을 대기 개방함으로써, 제 3 부반송부(930)가 프레임(19)의 진공 흡착을 해제한다. 진공 흡착의 해제 시에, 제 3 부반송부(930)에 정압을 발생시켜도 된다.The third sub-carrying unit 930 has an adsorption unit 939 that adsorbs the frame 19. The suction portions 939 are provided in plurality, for example, at intervals in the X direction, and adsorb both ends of the frame 19 in the X direction. The suction part 939 has a suction hole. The gas in the suction hole is sucked into a suction source such as a vacuum pump, for example. By operating the suction source to generate negative pressure in the third sub-carrying unit 930, the third sub-carrying unit 930 vacuum-suctions the frame 19. Meanwhile, by stopping the operation of the suction source and opening the suction hole to the atmosphere, the third sub-carrying unit 930 releases the vacuum suction of the frame 19. When vacuum suction is released, positive pressure may be generated in the third sub-carrying unit 930.

제 3 부반송부(930)는, 프레임(19)을 유지하여 X 방향 및 Z 방향으로 이동함으로써, 프레임(19)에 점착 테이프(18)를 개재하여 장착된 기판(10)을 박리부(600)로부터 ID 부착부(700)로 반송한다. 예를 들면, 기판(10)은, 박리 테이블(610)로부터 들어올려져, ID 부착 테이블(710)에 내려진다. 제 3 부반송부(930)를 이동시키는 구동원으로서는, 예를 들면 서보 모터 등이 이용된다.The third sub-transport unit 930 holds the frame 19 and moves it in the ) is conveyed to the ID attachment unit 700. For example, the substrate 10 is lifted from the peeling table 610 and placed on the ID attaching table 710. As a driving source for moving the third sub-carrying unit 930, a servo motor or the like is used, for example.

하기 제 1 변형예에서는, 상기 실시 형태와는 달리, 제 3 부반송부(930)가 없고, 제 3 부반송부(930)의 역할을 주반송부(58)가 한다. 즉, 주반송부(58)가, 기판(10)을 박리부(600)로부터 ID 부착부(700)로 반송한다. 이하, 상이점에 대하여 주로 설명한다.In the first modification below, unlike the above embodiment, there is no third sub-transportation unit 930, and the main transport unit 58 plays the role of the third sub-transportation unit 930. That is, the main transport unit 58 transports the substrate 10 from the peeling unit 600 to the ID attaching unit 700. Hereinafter, the differences will mainly be explained.

도 15는 제 1 변형예에 따른 박리부 및 박리부의 상방에 박리부와 중첩되어 마련되는 ID 부착부를 나타내는 측면도이다. 도 15에서 화살표는, 박리부(600) 등에 있어서의 기판(10) 및 프레임(19)의 이동 방향을 나타낸다. 도 15에 나타내는 바와 같이, 박리부(600)는, 주반송로(50)에 인접하여 마련된다.Fig. 15 is a side view showing the peeling portion according to the first modification and the ID attachment portion provided above the peeling portion and overlapping with the peeling portion. In FIG. 15 , arrows indicate the movement direction of the substrate 10 and the frame 19 in the peeling portion 600 and the like. As shown in FIG. 15 , the peeling portion 600 is provided adjacent to the main conveyance path 50 .

박리 테이블(610)은, 박리 테이블 가이드(630)의 X 방향 중앙부에 있어서, 제 2 부반송부(920)로부터 프레임(19)을 수취한다. 프레임(19)에는, 미리 점착 테이프(18)를 개재하여 기판(10)이 장착된다. 박리 테이블(610)은, 점착 테이프(18)를 개재하여 기판(10) 및 프레임(19)을 유지한다.The peeling table 610 receives the frame 19 from the second sub-transfer unit 920 at the center portion of the peeling table guide 630 in the X direction. The substrate 10 is previously mounted on the frame 19 through an adhesive tape 18. The peeling table 610 holds the substrate 10 and the frame 19 via the adhesive tape 18.

이 후, 박리 테이블(610)은, 주반송로(50)로부터 멀어지도록 X 방향(후측)으로 이동되어, 박리용 롤러(620)의 직하를 향해 이동된다. 박리용 롤러(620)는, 도 8에 나타내는 바와 같이 보호 테이프(14)를, 기판(10)의 일단측으로부터 타단측을 향해 순차 변형시키면서, 기판(10)으로부터 박리한다.After this, the peeling table 610 is moved in the The peeling roller 620 peels the protective tape 14 from the substrate 10 while sequentially deforming it from one end side of the substrate 10 toward the other end side, as shown in FIG. 8 .

이 후, 박리 테이블(610)은, 주반송로(50)에 가까워지도록 X 방향(전측)으로 이동되어, 박리 테이블 가이드(630)의 주반송로(50)측(전측)의 단부에 있어서, 주반송부(58)(도 3 참조)에 프레임(19)을 전달한다. 주반송부(58)는, 프레임(19)을 유지하면서 Z 방향 및 X 방향으로 이동함으로써, ID 부착 테이블(710)에 프레임(19)을 배치한다.After this, the peeling table 610 is moved in the The frame 19 is transferred to the main transfer unit 58 (see FIG. 3). The main transport unit 58 moves in the Z direction and the X direction while holding the frame 19, thereby placing the frame 19 on the ID attachment table 710.

본 변형예에 의하면, 상기 실시 형태와는 달리, 제 3 부반송부(930)가 없으며, 제 3 부반송부(930)의 역할을 주반송부(58)가 한다. 즉, 주반송부(58)가, 기판(10)을 박리부(600)로부터 ID 부착부(700)로 반송한다. 이에 의해, 주반송부(58)를 다기능화하여, 주반송부(58)의 일량을 늘릴 수 있어, 주반송부(58)의 가동률을 개선할 수 있다.According to this modification, unlike the above embodiment, there is no third sub-carrying unit 930, and the main transporting unit 58 plays the role of the third sub-carrying unit 930. That is, the main transport unit 58 transports the substrate 10 from the peeling unit 600 to the ID attaching unit 700. As a result, the main transport unit 58 can be made multi-functional, the work load of the main transport unit 58 can be increased, and the operation rate of the main transport unit 58 can be improved.

하기 제 2 변형예에서는, 상기 실시 형태 및 상기 제 1 변형예와는 달리, 제 1 부반송부(910)가 없으며, 제 1 부반송부(910)의 역할을 주반송부(58)가 한다. 즉, 주반송부(58)가, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을, 자외선 조사부(400) 및 마운트부(500)에 이 순으로 반송한다. 본 변형예에서는, 제 1 부반송부(910)가 없기 때문에, 주반송부(58)로부터 제 1 부반송부(910)로 기판(10)을 중계하는 전달부(300)는 없어도 된다. 이하, 상이점에 대하여 주로 설명한다.In the second modified example below, unlike the above embodiment and the first modified example, there is no first sub-carrying unit 910, and the main transporting unit 58 plays the role of the first sub-carrying unit 910. . That is, the main transport unit 58 transports the diced and thinned substrate 10 to the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 in this order. In this modification, since there is no first sub-transfer unit 910, the transfer unit 300 that relays the substrate 10 from the main transfer unit 58 to the first sub-transfer unit 910 does not need to be provided. Hereinafter, the differences will mainly be explained.

도 16은 제 2 변형예에 따른 기판 처리 시스템의 주요부를 나타내는 평면도이다. 도 16에서 화살표는, 마운트부(500) 및 박리부(600) 등에 있어서의 기판(10) 및 프레임(19)의 이동 방향을 나타낸다. 도 16에 나타내는 바와 같이, 자외선 조사부(400) 및 마운트부(500)는, 주반송로(50)에 인접하여 마련된다. 마운트부(500)가 주반송로(50)의 Y 방향 일단부에 인접하여 마련되는 경우, 자외선 조사부(400)도 주반송로(50)의 Y 방향 일단부에 인접하여 마련된다.16 is a plan view showing main parts of the substrate processing system according to the second modification. In FIG. 16 , arrows indicate the movement directions of the substrate 10 and the frame 19 in the mount portion 500 and the peeling portion 600, etc. As shown in FIG. 16 , the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 are provided adjacent to the main conveyance path 50 . When the mount portion 500 is provided adjacent to one end of the main conveyance path 50 in the Y direction, the ultraviolet irradiation portion 400 is also provided adjacent to one end of the main conveyance path 50 in the Y direction.

주반송부(58)(도 3 참조)는, 기판(10)을 유지하여 Y 방향 및 Z 방향으로 이동함으로써, 기판(10)을 자외선 조사부(400) 및 마운트부(500)에 이 순서로 반송한다. 주반송부(58)는, 먼저 주반송로(50)로부터 자외선 조사부(400)에 삽입된다.The main transport unit 58 (see FIG. 3) holds the substrate 10 and moves it in the Y and Z directions, thereby transporting the substrate 10 to the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 in this order. do. The main transport unit 58 is first inserted into the ultraviolet irradiation unit 400 from the main transport path 50.

주반송부(58)는, 보호 테이프(14)를 아래로 향해 기판(10)을 상방으로부터 유지하여, X 방향으로 연장되는 UV 램프(410)의 상방을 Y 방향으로 이동한다. UV 램프(410)가 보호 테이프(14)의 X 방향 전체를 조사할 수 있도록, UV 램프(410)의 X 방향 치수는 기판(10)의 직경보다 크다. 주반송부(58)가 UV 램프(410) 상을 통과하는 속도는, 보호 테이프(14)의 점착력을 충분히 저하시킬 수 있도록 설정된다.The main transport unit 58 holds the substrate 10 from above with the protective tape 14 facing downward, and moves above the UV lamp 410 extending in the X direction in the Y direction. The X-direction dimension of the UV lamp 410 is larger than the diameter of the substrate 10 so that the UV lamp 410 can irradiate the entire X-direction of the protective tape 14. The speed at which the main conveyance unit 58 passes over the UV lamp 410 is set so as to sufficiently reduce the adhesive force of the protective tape 14.

이어서, 주반송부(58)는, 자외선 조사부(400)로부터 주반송로(50)까지 빼내져, 주반송로(50)에 있어서 하강되고, 이어서 주반송로(50)로부터 마운트부(500)에 삽입된다. 이 후, 주반송부(58)는, 마운트부(500)의 내부에서 하강되어, 마운트 테이블(510)로 기판(10)을 인도한다.Next, the main transport unit 58 is pulled out from the ultraviolet irradiation unit 400 to the main transport path 50, is lowered in the main transport path 50, and then is pulled out from the main transport path 50 to the mount unit 500. is inserted into After this, the main transfer unit 58 is lowered inside the mount unit 500 and guides the substrate 10 to the mount table 510 .

마운트 테이블(510)은, 마운트 테이블 가이드(530)의 주반송로(50)측(전측)의 단부에 있어서, 기판(10)과 프레임(19)의 양방을 수취한다. 마운트 테이블(510)은, 기판(10)과 프레임(19)의 어느 쪽을 먼저 수취해도 된다.The mount table 510 receives both the substrate 10 and the frame 19 at the end of the mount table guide 530 on the main transport path 50 side (front side). The mount table 510 may receive either the substrate 10 or the frame 19 first.

본 변형예에 의하면, 상기 실시 형태 및 상기 제 1 변형예와는 달리, 제 1 부반송부(910)가 없으며, 제 1 부반송부(910)의 역할을 주반송부(58)가 한다. 즉, 주반송부(58)가, 다이싱되고 박판화된 기판(10)을, 자외선 조사부(400) 및 마운트부(500)에 이 순으로 반송한다. 이에 의해, 주반송부(58)를 다기능화하여, 주반송부(58)의 일량을 늘릴 수 있어, 주반송부(58)의 가동률을 개선할 수 있다.According to this modification, unlike the above-mentioned embodiment and the first modification example, there is no first sub-carrying unit 910, and the main carrying unit 58 plays the role of the first sub-carrying unit 910. That is, the main transport unit 58 transports the diced and thinned substrate 10 to the ultraviolet irradiation unit 400 and the mount unit 500 in this order. As a result, the main transport unit 58 can be made multi-functional, the work load of the main transport unit 58 can be increased, and the operation rate of the main transport unit 58 can be improved.

이상, 본 개시에 따른 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법의 실시 형태 등에 대하여 설명했지만, 본 개시는 상기 실시 형태 등에 한정되지 않는다. 특허 청구의 범위에 기재된 범주 내에서 각종의 변경, 수정, 치환, 부가, 삭제 및 조합이 가능하다. 그들에 대해서도 당연히 본 개시의 기술적 범위에 속한다.Above, embodiments of the substrate processing system and substrate processing method according to the present disclosure have been described, but the present disclosure is not limited to the above embodiments. Various changes, modifications, substitutions, additions, deletions, and combinations are possible within the scope described in the patent claims. Naturally, they also fall within the technical scope of the present disclosure.

본 출원은 2017년 8월 28일에 일본 특허청에 출원된 일본특허출원 2017-163600호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 일본특허출원 2017-163600호의 전내용을 본 출원에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-163600, filed with the Japan Patent Office on August 28, 2017, and the entire contents of Japanese Patent Application No. 2017-163600 are incorporated into this application.

1 기판 처리 시스템
10 기판
14 보호 테이프
18 점착 테이프
19 프레임
20 제어부
30 반입부
35 반입 카세트
40 반출부
45 반출 카세트
50 주반송로
58 주반송부
100 다이싱부
200 박판화부
300 전달부
400 자외선 조사부
500 마운트부
600 박리부
700 ID 첩부부
910 제1부반송부
920 제2부반송부
930 제3부반송부
1 Substrate handling system
10 substrate
14 protective tape
18 adhesive tape
19 frames
20 control unit
30 Incoming section
35 Import Cassette
40 Carry-out department
45 Export Cassette
50 Juban Transport Road
58 Main Return
100 dicing unit
200 Lamination Department
300 delivery unit
400 ultraviolet irradiation unit
500 mount part
600 peeling part
700 ID patch book
910 First sub-transfer department
920 Second Department Transport Department
930 Part 3 Transport Department

Claims (2)

점착 테이프를 기판과 프레임에 접합시킴으로써, 상기 점착 테이프를 개재하여 상기 기판이 상기 프레임에 장착된 장착물을 형성하는 마운트부를 구비한 마운트 장치에 있어서,
상기 마운트부는, 상기 장착물로 되기 전의 상기 기판을 수납한 반입 카세트가 외부로부터 반입되는 반입부와, 상기 장착물을 수납한 반출 카세트가 외부로 반출되는 반출부에 인접하는 주반송로에 인접하여 설치되고, 상기 주반송로를 따라 이동하는 주반송부에 의해 상기 반입 카세트로부터 취출된 상기 기판을 수취하여 상기 장착물을 형성하고,
상기 마운트부에서 형성된 상기 장착물이 상기 주반송부에 의해 상기 반출 카세트로 수납되는 것을 특징으로 하는, 마운트 장치.
A mounting device having a mount portion that forms a fixture in which the substrate is mounted on the frame via the adhesive tape by bonding an adhesive tape to the substrate and the frame,
The mount portion is adjacent to the main transport path adjacent to the loading portion where the loading cassette accommodating the substrate before becoming the mounting object is brought in from the outside, and the loading portion where the loading cassette accommodating the mounting object is carried out to the outside. Forming the attachment by receiving the substrate taken out from the loading cassette by a main transport unit installed and moving along the main transport path,
A mounting device, characterized in that the attachment formed in the mount unit is stored in the delivery cassette by the main transfer unit.
점착 테이프를 기판과 프레임에 접합시킴으로써, 상기 점착 테이프를 개재하여 상기 기판이 상기 프레임에 장착된 장착물을 형성하는 마운트부를 이용한 마운트 방법에 있어서,
 상기 마운트부는, 상기 장착물로 되기 전의 기판을 수납한 반입 카세트가 외부로부터 반입되는 반입부와, 상기 장착물을 수납한 반출 카세트가 외부로 반출되는 반출부에 인접하는 주반송로에 인접하여 설치되고, 당해 주반송로를 따라 이동하는 주반송부에 의해 상기 반입 카세트로부터 취출된 상기 기판을 수취하여 상기 장착물을 형성하고,
 상기 마운트부에서 형성된 상기 장착물이 상기 주반송부에 의해 상기 반출카세트로 수납되는 것을 특징으로 하는, 마운트 방법.
In a mounting method using a mount unit that forms an attachment in which the substrate is mounted on the frame through the adhesive tape by bonding an adhesive tape to the substrate and the frame,
The mount section is installed adjacent to the main transport path adjacent to the loading section where the loading cassette accommodating the substrate before being installed is brought in from the outside, and the loading section where the loading cassette accommodating the mounting object is carried out to the outside. and receiving the substrate taken out from the loading cassette by a main transport unit moving along the main transport path to form the attachment,
A mounting method, characterized in that the attachment formed in the mount unit is received into the delivery cassette by the main transport unit.
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