JP7382809B2 - 成膜方法及び成膜装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 104
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 187
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 180
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 114
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 68
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 44
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 12
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5873—Removal of material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5826—Treatment with charged particles
- C23C14/5833—Ion beam bombardment
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Description
表面側に直線状の凸部と凹部が交互に形成された基板表面上に薄膜を形成する成膜方法であって、
基板表面上に膜を形成する成膜工程と、
前記成膜工程により形成された膜に対して、エッチング用ビームを照射してエッチングを行うエッチング工程と、
を含み、
前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と、前記エッチング用ビームを基板に対して照射する方向は、基板を保持する保持部材による保持面の法線に対して傾斜しており、かつ両者の入射角度が略同一となるように設定されていることを特徴とする。
度が同一であるのが望ましいものの、各種部材の寸法公差や何らかの影響によって、入射角度に多少のずれが生じてしまう場合も含まれることを意味する。
図1~図9を参照して、本発明の実施例に係る成膜方法及び成膜装置について説明する。図1は本発明の実施例に係る成膜装置の内部の概略構成図であり、成膜装置の内部全体を上方から見た場合の概略構成を示している。図2は本発明の実施例に係る成膜装置の動作を示すフローチャートである。図3は本発明の実施例に係る成膜装置における動作説明図である。図4は本発明の実施例に係る成膜装置の内部の概略構成図であり、エッチング用ビーム照射装置が設けられている付近を、基板の搬送方向に見た概略構成を示している。図5は本発明の実施例に係るエッチング用ビーム照射装置としてのイオンソースの説明図であり、同図(a)はイオンソースのビーム照射面を示す正面図であり、同図(b)は同図(a)中のAA断面図であり、同図(c)はイオンビームの長手方向のエッチング強度を示すグラフである。図6~図9は本発明の実施例に係る成膜方法の説明図である。
特に、図1を参照して、本実施例に係る成膜装置1の全体構成について説明する。成膜装置1は、成膜処理される基板10が収容されるストッカ室100と、室内を大気状態と
真空状態とに切り替える気圧切替室200と、基板10の処理面に各種処理を行う処理室300とを備えている。
成膜装置1は、載置台111を往復移動させる駆動機構、気圧切替室200内の気圧、ヒータ221,222、処理室300内の気圧、基板処理装置310、スパッタ装置320、及び、エッチング用ビーム照射装置330の制御の他、基板搬送装置15による基板10の搬送制御を行うための制御装置Cを備えている。以下の動作(成膜工程及びエッチング工程など)は、この制御装置Cにより制御されることによって実行される。制御装置Cは、例えば、プロセッサ、メモリ、ストレージ、I/Oなどを有するコンピュータにより構成可能である。この場合、制御装置Cの機能は、メモリ又はストレージに記憶されたプログラムをプロセッサが実行することにより実現される。コンピュータとしては、汎用のパーソナルコンピュータを用いてもよいし、組込型のコンピュータ又はPLC(pro
grammable logic controller)を用いてもよい。あるいは、制御装置Cの機能の一部又は全部をASICやFPGAのような回路で構成してもよい。また、制御装置Cは、制御対象となる各種装置等と接続された配線を通じて、制御命令を伝達するように構成してもよいし、無線により、各種装置等に対して制御命令を伝達するように構成してもよい。以下、特に、図2を参照して、成膜装置1の全体的な動作について説明する。
ストッカ室100には、それぞれ基板10を保持する基板搬送装置15が複数収容されている。そのうち処理対象となる基板10を保持する基板搬送装置15が、ストッカ室100から気圧切替室200に搬送される(ステップS101)。気圧切替室200において、減圧動作が行われ、室内が大気状態から真空状態に切り替えられる。また、基板10の材料によっては、基板10への加熱処理が同時に行われる(ステップS102)。例えば、約十分ほどの加熱処理により、100℃から180℃程度まで基板10が加熱される。その後、基板10は、気圧切替室200から処理室300の前処理エリア300aに搬送される(ステップS103)。前処理エリア300aでは、基板処理装置310により基板10の処理面に対してイオンビーム照射による表面処理が施される(ステップS104)。
次に、基板10は成膜エリア300bに搬送され(ステップS105)、スパッタ装置320により基板10の処理面に対しスパッタリング処理が施される(ステップS106)。スパッタ装置320については、公知技術であるので、その詳細な説明は省略するが、高電圧が印加されることにより、成膜材料が放出されるターゲット等を備えている。なお、ターゲットについては、平板状のものを採用することもできるし、回転可能に構成された円筒状のものを採用することもできる。
成膜処理が施された基板10は、エッチングエリア300cに搬送され(ステップS107)、エッチング用ビーム照射装置330によるエッチング処理が施される(ステップS108)。
Array)実装基板向けのメッキシード膜や、SAW(Surface Acoustic Wave)デバイス向けのメタル積層膜の成膜が挙げられる。また、LEDのボンディング部における導電性硬質膜、MLCC(Multi-Layered Ceramic Capacitor)の端子部膜の成膜なども挙げられる。その他、電子部品パッケージにおける電磁シールド膜やチップ抵抗器の端子部膜の成膜にも適用可能である。基板10のサイズは特に限定されないが、本実施例では、200mm×200mm程度のサイズの基板10を用いている。また、基板10の材料は任意であり、例えば、ポリイミド、ガラス、シリコン、金属、セラミックなどの基板が用いられる。
特に、図3(b)及び図4を参照して、基板処理装置310及びエッチング用ビーム照射装置330について説明する。基板処理装置310とエッチング用ビーム照射装置330の基本的な構成は同一である。すなわち、これら基板処理装置310とエッチング用ビーム照射装置330は、イオンビーム照射により基板の表面(処理面)に対し洗浄ないしエッチングの処理を行うための装置である。このように、両者の基本的な構成は同一であるので、ここでは、エッチング用ビーム照射装置330について説明する。
特に、図5を参照して、イオンソース331について、より詳細に説明する。イオンソース331は、カソード332と、ビーム照射面333と、アノード334と、永久磁石335とを備えている。本実施例ではカソード332がイオンソース331の筐体を兼ねている。カソード332とアノード334はそれぞれSUSにより形成され、両者は電気的に絶縁されている。カソード332はチャンバー301に固定されることで、電気的に接地されている。一方、アノード334は高圧電源336に接続されている。この構成に
おいて、高圧電源336からアノード334に対し高圧が印加されると、筐体(カソード332)のビーム照射面333に設けられた出射開口からイオンビームが出射する。なお、イオンソース331の原理としては、筐体の背面側からガスを導入して筐体内部でイオンを発生するタイプと、筐体の外側に存在する雰囲気ガスをイオン化するタイプとがあるが、いずれを用いてもよい。図4においては、後者の場合を示しており、ガス供給弁304を開くことで、チャンバー301内にガスが供給される。ガスとしては、アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガスなどを用いることができる。
上記のように構成される基板処理装置310によれば、基板10が処理室300の前処理エリア300aに搬送されると、制御装置Cが、高圧電源を制御し、イオンソースによるビーム照射を開始する。その状態で、制御装置Cが、基板搬送装置15を一定速度で移動させ、基板10をイオンビームに通過させる。このような方法により、基板10の表面にイオンビームが照射され、基板10の表面側は表面処理(洗浄処理)が施される。このようなビーム走査を行う構成を採用したことで、基板10の面積よりも小さい照射範囲のイオンビームで基板全体の処理を行うことができるため、イオンソースの小型化、ひいては装置全体の小型化を図ることができる。また、基板10の処理面が鉛直方向に沿うような姿勢で基板10を支持し、処理面に対して水平方向にイオンビームを照射する構成を採用したことで、エッチングによって削られたパーティクルが重力によって落下し、基板10の処理面に残留しないため、パーティクルの残留による処理ムラの発生を防止することができるという利点もある。
特に、図3、及び図6~図9を参照して、成膜工程及びエッチング工程について、より詳細に説明する。本実施例に係る成膜方法及び成膜装置は、表面側に直線状の凸部11と凹部12が交互に形成された基板10の表面上に薄膜を形成する際に好適に用いられる。
特に、図7を参照して、第1の搬送態様の場合における成膜工程による膜の形成のされ方と、エッチング工程によるエッチングのされ方について説明する。スパッタ装置320(ターゲット)から基板10に向けて照射される成膜材料は、基板10の表面において、当該成膜材料の照射方向に対して垂直状に膜の厚みが厚くなっていく。図7(a)には、成膜工程によって形成された膜20aを示している。図示のように、凸部11の上面に形
成される膜のうち、図中右側ほど膜厚が厚くなり、凹部12の上面においては、凸部11により遮られる付近の膜の膜厚が薄くなる。
特に、図8を参照して、第2の搬送態様の場合における成膜工程による膜の形成のされ方と、エッチング工程によるエッチングのされ方について説明する。スパッタ装置320(ターゲット)から基板10に向けて照射される成膜材料は、基板10の表面において、当該成膜材料の照射方向に対して垂直状に膜の厚みが厚くなっていく。図8(a)には、成膜工程によって形成された膜20aを示している。図示のように、凸部11の上面と、凹部12の上面に形成さる膜の膜厚が厚くなり、凸部11の側面(凹部12の側面とも言える)に形成される膜の膜厚は薄くなる。
本実施例に係る成膜方法及び成膜装置1によれば、成膜工程における成膜材料を基板10に対して照射する方向を、法線Nに対して傾斜させるようにすることで、基板10の表面に形成させる膜の膜厚を、あえて、その位置によって異なるようにさせている。そして、成膜工程における成膜材料を基板10に対して照射する方向と、エッチング用ビームを基板10に対して照射する方向(入射角度)が略同一となるように設定することで、エッチング用ビームによって、膜が厚い部分では削られて薄くなり、膜が薄い部分では削られた材料の一部が付着して厚くなる。これにより、膜表面を平坦に均すことができる。
り返し回数N=1の場合)でも、基板10の表面に形成される膜の表面を平坦にすることができる。そして、膜厚を厚くしたい場合には、所望の膜厚になるように、繰り返し回数Nを設定すればよい。この場合でも、膜の表面を平坦に均しながら、徐々に膜厚を厚くすることができる。
上記の実施例においては、第1エッチング用ビーム及び第2エッチング用ビームが、イオンビームの場合について説明した。しかしながら、エッチング用ビームは、イオンビームに限られず、レーザービームを用いることもできる。例えば、エッチングの対象となる膜の材料が、無機膜(SiNなど)、酸化物膜(SiO2、ITOなど)、金属膜(Al、Cuなど)の場合には、イオンビーム(Ar、Xeなどの希ガスにより生成されるイオンビーム)を用いると好適である。これに対して、エッチングの対象となる膜の材料が、有機膜(有機化合物など)の場合には、レーザービームを用いると好適である。前者の場合にはビーム径が比較的大きいのに対して、後者の場合にはビーム径が比較的小さいといった特徴がある。また、後者の場合には、膜中か下地層に光熱変換材料が含まれていると更に有効である。
10…基板
11…凸部 12…凹部
15…基板搬送装置
15a…保持部材 15b…支持部材 15c…接続部材 15d…転動体
20a,20b,20c,20d…膜
100…ストッカ室
111…載置台 112…ガイドレール 121…駆動源 122…ガイドレール
200…気圧切替室
210…ガイドレール 221,222…ヒータ
300…処理室
300a…前処理エリア 300b…成膜エリア 300c…エッチングエリア
301…チャンバー 302…ガイドレール 303…排気ポンプ 304…ガス供給弁
310…基板処理装置 320…スパッタ装置
330…エッチング用ビーム照射装置
331…イオンソース 331a…イオンビーム 331a…エッチング用ビーム
332…カソード 333…ビーム照射面 334…アノード 335…永久磁石 336…高圧電源
C…制御装置
F…保持面
N…法線
Claims (9)
- 表面側に直線状の凸部と凹部が交互に形成された基板表面上に薄膜を形成する成膜方法であって、
基板表面上に膜を形成する成膜工程と、
前記成膜工程により形成された膜に対して、エッチング用ビームを照射してエッチングを行うエッチング工程と、
を含み、
前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と、前記エッチング用ビームを基板に対して照射する方向は、基板を保持する保持部材による保持面の法線に対して傾斜しており、かつ両者の入射角度が略同一となるように設定されていると共に、
前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と、前記エッチング用ビームを基板に対して照射する方向は、いずれも前記凸部及び凹部が形成する溝状の段差が伸びる方向に垂直な面に対して平行であることを特徴とする記載の成膜方法。 - 表面側に直線状の凸部と凹部が交互に形成された基板表面上に薄膜を形成する成膜方法であって、
基板表面上に膜を形成する成膜工程と、
前記成膜工程により形成された膜に対して、エッチング用ビームを照射してエッチングを行うエッチング工程と、
を含み、
前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と、前記エッチング用ビームを基板に対して照射する方向は、基板を保持する保持部材による保持面の法線に対して傾斜しており、かつ両者の入射角度が略同一となるように設定されていると共に、
前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と、前記エッチング用ビームを基板に対して照射する方向は、いずれも前記凸部及び凹部が形成する溝状の段差が伸びる方向に平行な面に対して平行であることを特徴とする成膜方法。 - 前記保持部材を有する基板搬送装置によって基板が搬送されながら、前記成膜工程による成膜、及びエッチング工程によるエッチングが行われることを特徴とする請求項1また
は2に記載の成膜方法。 - 前記成膜工程における成膜材料を基板に対して照射する方向と前記法線とが交わる角度のうち鋭角側の角度、及び前記エッチング用ビームと前記法線とが交わる角度のうち鋭角側の角度は、いずれも10°以上75°以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか一つに記載の成膜方法。
- 前記エッチング用ビームは、イオンビームまたはレーザービームであることを特徴とする請求項1~4のいずれか一つに記載の成膜方法。
- 請求項1~5のいずれか一つに記載の成膜方法を行う成膜装置であって、
チャンバーと、
前記チャンバー内に備えられ、基板表面に向けて成膜材料を照射する成膜材料照射装置と、
前記チャンバー内に備えられ、エッチング用ビームを照射するエッチング用ビーム照射装置と、
前記成膜工程及びエッチング工程を実行させるために前記成膜材料照射装置及びエッチング用ビーム照射装置を制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする成膜装置。 - 基板を保持しながら搬送させる基板搬送装置を備え、
前記制御装置は、前記基板搬送装置による搬送制御も行うことを特徴とする請求項6に記載の成膜装置。 - 前記チャンバー内には、前記成膜材料照射装置が備えられる領域と、前記エッチング用ビーム照射装置が備えられる領域が別々に設けられており、前記基板搬送装置によって、基板が各領域に搬送されることを特徴とする請求項7に記載の成膜装置。
- 前記制御装置は、前記成膜工程、及びエッチング工程を予め設定された回数だけ繰り返し行わせる制御を行うことを特徴とする請求項6,7または8に記載の成膜装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019218109A JP7382809B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 成膜方法及び成膜装置 |
CN202011385908.0A CN112981331B (zh) | 2019-12-02 | 2020-12-01 | 成膜方法和成膜装置 |
KR1020200165339A KR102500133B1 (ko) | 2019-12-02 | 2020-12-01 | 성막 방법 및 성막 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019218109A JP7382809B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 成膜方法及び成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021088733A JP2021088733A (ja) | 2021-06-10 |
JP7382809B2 true JP7382809B2 (ja) | 2023-11-17 |
Family
ID=76219446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019218109A Active JP7382809B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 成膜方法及び成膜装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7382809B2 (ja) |
KR (1) | KR102500133B1 (ja) |
CN (1) | CN112981331B (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010204626A (ja) | 2009-02-05 | 2010-09-16 | Asahi Glass Co Ltd | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 |
JP2010272229A (ja) | 2009-05-19 | 2010-12-02 | Panasonic Corp | 有機電界発光素子の透明電極の製造方法 |
JP2011017034A (ja) | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Seiko Epson Corp | スパッタリング装置および液晶装置の製造装置 |
US20140014497A1 (en) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Veeco Instruments, Inc. | Film Deposition Assisted by Angular Selective Etch on a Surface |
JP2019117831A (ja) | 2017-12-26 | 2019-07-18 | キヤノントッキ株式会社 | 基板処理方法、基板処理装置、及び、成膜装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118294A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Canon Inc | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
CA2423527A1 (en) * | 2002-03-26 | 2003-09-26 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for forming micro groove structure |
JP2005256119A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 成膜装置 |
WO2005098081A1 (ja) | 2004-04-09 | 2005-10-20 | Ulvac, Inc. | 成膜装置および成膜方法 |
JP2006289261A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Ebara Corp | 表面洗浄方法および装置 |
SE0600631L (sv) * | 2006-03-21 | 2007-08-07 | Sandvik Intellectual Property | Apparat och metod för eggbeläggning i kontinuerlig deponeringslinje |
EP2079103A4 (en) * | 2006-10-30 | 2010-05-26 | Japan Aviation Electron | PROCESS FOR MACHINING A SOLID SURFACE WITH A GAS CLUSTER ION BEAM |
CN103080367B (zh) * | 2010-06-25 | 2015-09-02 | 佳能安内华股份有限公司 | 膜沉积方法 |
JP2013227625A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Canon Inc | 成膜方法及び成膜装置 |
US9530674B2 (en) * | 2013-10-02 | 2016-12-27 | Applied Materials, Inc. | Method and system for three-dimensional (3D) structure fill |
KR101768928B1 (ko) * | 2013-12-25 | 2017-08-17 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | 기판 가공 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
KR101943553B1 (ko) * | 2014-11-25 | 2019-04-18 | 삼성전자주식회사 | 좌우 대칭의 이온 빔을 이용한 패턴 형성 방법, 이를 이용한 자기 기억 소자의 제조방법, 및 좌우 대칭의 이온 빔을 발생시키는 이온 빔 장비 |
JP6567119B1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-08-28 | キヤノントッキ株式会社 | 基板処理装置及びその制御方法、成膜装置、電子部品の製造方法 |
-
2019
- 2019-12-02 JP JP2019218109A patent/JP7382809B2/ja active Active
-
2020
- 2020-12-01 CN CN202011385908.0A patent/CN112981331B/zh active Active
- 2020-12-01 KR KR1020200165339A patent/KR102500133B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010204626A (ja) | 2009-02-05 | 2010-09-16 | Asahi Glass Co Ltd | ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法 |
JP2010272229A (ja) | 2009-05-19 | 2010-12-02 | Panasonic Corp | 有機電界発光素子の透明電極の製造方法 |
JP2011017034A (ja) | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Seiko Epson Corp | スパッタリング装置および液晶装置の製造装置 |
US20140014497A1 (en) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Veeco Instruments, Inc. | Film Deposition Assisted by Angular Selective Etch on a Surface |
JP2015529744A (ja) | 2012-07-16 | 2015-10-08 | ビーコ・インスツルメンツ・インコーポレーテッド | 角度選択エッチングにより支援される膜蒸着 |
JP2019117831A (ja) | 2017-12-26 | 2019-07-18 | キヤノントッキ株式会社 | 基板処理方法、基板処理装置、及び、成膜装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112981331A (zh) | 2021-06-18 |
CN112981331B (zh) | 2024-03-08 |
JP2021088733A (ja) | 2021-06-10 |
KR102500133B1 (ko) | 2023-02-14 |
KR20210068996A (ko) | 2021-06-10 |
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