JP7381841B2 - 異方性導電フィルム - Google Patents

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    • H01L2224/29338Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29347Copper [Cu] as principal constituent
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    • H01L2224/29338Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29355Nickel [Ni] as principal constituent
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    • H01L2224/29338Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/29357Cobalt [Co] as principal constituent
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    • H01L2224/29363Base material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/29364Palladium [Pd] as principal constituent
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    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
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    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/812Applying energy for connecting
    • H01L2224/81201Compression bonding
    • H01L2224/81203Thermocompression bonding, e.g. diffusion bonding, pressure joining, thermocompression welding or solid-state welding
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    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/819Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector with the bump connector not providing any mechanical bonding
    • H01L2224/81901Pressing the bump connector against the bonding areas by means of another connector
    • H01L2224/81903Pressing the bump connector against the bonding areas by means of another connector by means of a layer connector
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    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83191Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
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    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
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    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83851Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester being an anisotropic conductive adhesive
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    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83855Hardening the adhesive by curing, i.e. thermosetting
    • H01L2224/83862Heat curing
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    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83855Hardening the adhesive by curing, i.e. thermosetting
    • H01L2224/83871Visible light curing
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    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
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    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9211Parallel connecting processes
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Description

本発明は、異方性導電フィルムに関する。
ICチップなどの電子部品を実装する基板には軽量化と屈曲性が求められるようになったことからプラスチック基板やFPC(Flexible Printed Circuits)が多用されている。また、ICチップなどの電子部品では端子のファインピッチ化が進んでおり、プラスチック基板やFPCの熱膨張が電子部品の実装時に問題になる場合がある。そこで、電子部品の実装時の温度変動により端子の位置がずれても電子部品の接続を確実に行えるようにするため、電子部品の端子列を構成する各端子を、従前の同方向に並列することに代えて、放射状に並列させること(所謂、ファンアウト配線)が行われている(特許文献1)。
一方、電子部品の実装には、導電粒子を絶縁性樹脂層に分散させた異方性導電フィルムが広く使用されている。異方性導電フィルムを用いた電子部品の接続において、電子部品の端子のファインピッチ化が進んでも、異方性導電フィルムの導電粒子が電子部品の端子で安定して捕捉されるようにするため、異方性導電フィルムにおいて導電粒子を6方格子等の格子状に配置し、その配列軸を端子の長手方向に対して傾けることが提案されている(特許文献2)。また、異方性導電フィルムの粒子配置として、導電粒子をフィルムの長手方向に対して斜行する第1方向に配列し、その第1方向の粒子列を、その配列方向と異なる第2方向に複数並列させ、第1方向の粒子列を1本の直線状とせず、その粒子列に導電粒子の粒子径の2.5倍未満の幅をもたせること(特許文献3)や、導電粒子が所定の間隔で配列したユニットを繰り返し配置すること(特許文献4、5)等も提案されている。
特開2015-232660号公報 特開平9-320345号公報 特開2017-168465号公報 特開2017-204462号公報 特開2017-204463号公報
しかしながら、異方性導電フィルムを用いて、例えばFOG(Film On Glass)接続を行うにあたり、図6Aに示すように、接続する各端子が同方向に並列しており、異方性導電フィルムの導電粒子1が6方格子に配置し、その配列軸が端子20の長手方向(配列方向xに垂直な方向)に対して角度δで傾いていても、接続時の熱圧着により端子間に矢印方向の樹脂流動が生じるため、条件によっては接続後には図6Bに示すように、端子間に導電粒子1の密集領域Aが生じ、ショートの原因となる。
また、図5Aに示すように、導電粒子1が6方格子に配置されている異方性導電フィルムを6方格子の配列軸がフィルムの長手方向に傾斜(傾斜角γ)するように用いてファンアウト型の端子列を接続しようとすると、ファンアウト角β(即ち、端子の配列方向xに対する端子20の長手方向の角度)が端子ごとに少しずつ異なるため、ファンアウト型の端子列の右側と左側とでは、一つの端子で捕捉される導電粒子1の数や分布状態が異なり、接続後の圧痕の見え方も異なる。加えて、同図に示した導電粒子の配置では、端子列の熱圧着前の仮貼状態において、紙面左側の端子20a上では導電粒子1が端子の縁部のみでしか捉えられていないので、接続後に導通不良の起こることが懸念される。
また、導電粒子が6方格子に配置されている異方性導電フィルムを使用して端子列を接続すると、端子の配列方向xと垂直な配列軸の何列分の導電粒子が捕捉に関わるかが端子ごとに異なり、一つの端子で捕捉される導電粒子の捕捉数にばらつきが多く、捕捉数の分布が二山となる場合もある。これは6方格子に限らず、正方格子や斜方格子でも生じ得る。例えば、図5Bに示すように、端子20bで捕捉される導電粒子1は、端子の配列方向xと垂直な1つの配列軸y1に属するものとなるが、端子20cでは、2つの配列軸y2、y3に属する導電粒子1が捕捉されることとなる。このような現象は、図5Cに示すように、端子列がファンアウト型ではなく、各端子の軸が同方向の端子列ではさらに顕著となり、1つの配列軸y1が接続に関わる端子20bと2つの配列軸y2、y3が接続に関わる端子20cとがそれぞれ相当数存在し、一つの端子で捕捉される導電粒子数のバラツキが大きくなる。そのため、一つの端子における導電粒子の捕捉数と、その捕捉数の端子の出現頻度とをグラフ化すると複数ピークになることがある。即ち、端子幅と端子間スペース、および粒子径と粒子間距離など複数の要因により、例えば二山ピークが発現する場合がある。二山ピークであることにより直ちに実用上の問題が生じるわけではないが、端子列における個々の端子において、導電粒子の捕捉数の制御が実用上問題ない範囲ではあるが難しくなり、例えば、全ての端子で問題ない補足数を満足しても、端子列において捕捉数が比較的多い端子と比較的少ない端子が混在するといったことが生じる。なお、一つの端子で捕捉される導電粒子数のバラツキは二山ピークとしてに出現することに限られない。
また、接続時の熱圧着により、端子上では導電粒子の間隔が、端子の長手方向に比して短手方向に大きく広がり、端子上の導電粒子が端子間に押し出され、押し出された導電粒子も含めて端子間に存在する導電粒子は熱圧着時の樹脂流動により移動する。そのため、端子列の右側と左側で端子に対する導電粒子の分布が異なり、端子間に導電粒子の密集部分が形成されると、その部分でショートが起こりやすいという問題が生じる。
熱圧着時の樹脂流動により端子間の導電粒子がショートを引き起こす現象は、端子列が放射状のファンアウト型の場合にもストレートな端子が同方向にストレートに並列している場合(ストレートな平行配列)にも生じる。これに対しては、異方性導電フィルムの絶縁性樹脂層に光硬化性樹脂を使用して導電粒子の樹脂流動による移動を低減させることが考えられる。しかしながら、硬化性樹脂の使用により導電粒子の樹脂流動を抑制すると、熱圧着時に導電粒子への加圧が不十分になり易く、端子と導電粒子とに接続不良が生じることが懸念される。そこで、特許6187665号公報に記載のように絶縁性樹脂層にフィラーを含有させること等により絶縁性樹脂層の溶融粘度を上昇させ、熱圧着時に十分に加圧しつつ樹脂流動を抑制することも考えられる。しかしながら、ストレートな平行配列型の端子列に対しても、ファンアウト型の端子列に対しても、ショートをさらに発生しにくくすることが求められている。これは導電粒子を保持する絶縁性樹脂の硬化性や粘度だけで導電粒子のショートを完全に防止することは難しいためである。特に、生産ライン等において多数の接続構造体を連続的に製造する場合にイレギュラーな樹脂流動やアラインメントずれが生じたときにはショートの発生を防止しきれないことが懸念される。更に、端子レイアウトや電子部品の材質が多様化すると、任意の端子レイアウトや電子部品の材質において導通の確保とショートの防止を両立させることは一層難しくなる。
各端子における導電粒子の捕捉数を安定させ、かつ樹脂流動によるショートを抑制するために特許文献3に記載されているように導電粒子の第1粒子列を直線状とせずに粒子列に粒子径以上の幅をもたせると、厳密に粒子配置をコントロールすることができないため、各端子における導電粒子の捕捉数を所定の範囲に収めることが難しくなり、この場合にも接続構造体を連続的に製造する生産ライン等においてイレギュラーな樹脂流動やアラインメントずれが生じると導電粒子の捕捉数を所定の範囲に収めることが難しくなる。この難易度は、連続的に製造する接続構造体の数が多くなるほど高くなる。また、粒子配置を特許文献4、5に記載されているように導電粒子のユニットを繰り返し配置しても、ファンアウト側の端子列の右側と左側で導電粒子の分布を同等にすることは難しく、特に、端子長が短くなるとこの傾向が強まり、各端子における導電粒子の捕捉数のばらつきを低減させることが難しい。
上述した問題に対し、本発明は、接続する端子列の各端子の軸が同方向に並列し、端子列がストレートである場合にも、放射状のファンアウト型の場合にも、電子部品の材質によらず、各端子で十分な導電粒子が挟持されて良好な導通状態を確保することができ、それにより圧痕等で確認できる接続後の端子における導電粒子の捕捉状態が一様となり、また、ファインピッチ化した端子を接続する場合にもショートの発生を防止できるようにすることを課題とする。
本発明者は、異方性導電フィルムの導電粒子の配置において、a方向の配列軸と、該a方向と角度αで斜交するb方向の配列軸とで形成される第1斜方格子領域と、a方向の配列軸と、前記b方向をa方向に対して反転させたc方向の配列軸(言い換えると、a方向と角度-αで斜交するc方向の配列軸)とで形成される第2斜方格子領域とを繰り返し配置することで異方性導電フィルム全体としては、a方向と交差する軸方向を波打たせると、接続する各端子が同方向に並列している場合にも、ファンアウト型の場合にも、各端子における導電粒子の捕捉数や分布状況が均一化し、また、端子間における導電粒子の連なりを断ち易くすることでショートを抑制できることを想到し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、導電粒子が絶縁性樹脂層に配置された異方性導電フィルムであって、
導電粒子が所定ピッチでa方向に配置されている導電粒子の配列軸a1が、a方向と角度αで斜交するb方向に複数配列している第1斜方格子領域と、
導電粒子が所定ピッチでa方向に配置されている導電粒子の配列軸a2が、前記b方向をa方向に対して反転させたc方向に複数配列している第2斜方格子領域とが、繰り返し配置されている異方性導電フィルムを提供する。
なお、本発明において、異方性導電フィルムとは異方性導電接続を形成し得るフィルムをいう。また、異方性導電接続状態とは、複数の端子を備えた電子部品同士の対向する端子同士は電気的に接続されているが、隣接する端子同士は電気的に接続されていない状態をいう。
本発明によれば、a方向の配列軸と、該a方向と角度αで斜交するb方向の配列軸とで形成される第1斜方格子領域と、a方向の配列軸と、b方向をa方向に対して反転させたc方向の配列軸(言い換えると、a方向に対して角度-αで斜交するc方向の配列軸)とで形成される第2斜方格子領域とが繰り返し配置されているので、異方性導電フィルム全体としては、a方向と交差する軸方向がジグザグに波打ったようになる。このため、ファンアウト型の端子列を接続する場合でも、接続後に特定の端子において導電粒子が近接して多数連なり、圧痕の見え方が薄くなるといった、導電粒子の端子間の挟持状態が分かり難くなることや、端子間で導電粒子が多数連なってショートが発生したりすることが抑制される。
また、生産ラインで連続的に熱圧着を行う場合などにおいて、熱圧着が所定の温度条件から意図せずに外れてしまうなどして、イレギュラーに樹脂流動が生じる場合でも、その影響が過度に現れることを防止できるのでショートを抑制できる。
このように、接続後の端子列において圧痕の見え方が均一になり、また、端子間のショートが抑制されるという効果は、ファンアウト型の端子列に限らず、複数の端子が一方向にストレートに配列している場合にも得ることができる。
図1Aは、実施例の異方性導電フィルム10Aにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Bは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Cは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Dは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Eは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Fは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Gは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Hは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Iは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Jは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図1Kは、実施例の異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置を説明する平面図である。 図2は、実施例の異方性導電フィルム10Aの断面図である。 図3は、実施例の異方性導電フィルム10Bの断面図である。 図4Aは、ファンアウト型の端子列に実施例の異方性導電フィルム10Aを重ねた平面図である。 図4Bは、各端子の端子軸が同方向の端子列に実施例の異方性導電フィルム10Aを重ねた平面図である。 図5Aは、ファンアウト型の端子列に、導電粒子が6方格子(傾斜角γ)に配置されている異方性導電フィルムを重ねた状態の平面図である。 図5Bは、ファンアウト型の端子列に、導電粒子が6方格子(傾斜角γ=0°)に配置されている異方性導電フィルムを重ねた状態の平面図である。 図5Cは、各端子の端子軸が同方向の端子列に、導電粒子が6方格子(傾斜角γ=0°)に配置されている異方性導電フィルムを重ねた状態の平面図である。 図6Aは、導電粒子が6方格子に配置されている異方性導電フィルムの粒子配置の説明図である。 図6Bは、導電粒子が6方格子に配置されている異方性導電フィルムを用いて端子列を接続した後の状態の説明図である。 図7Aは、実験例1と略同様の粒子配置でファンアウト型の端子配列を接続した場合の導電粒子の捕捉状体のシミュレーション結果である。 図7Bは、実験例3と略同様の粒子配置でファンアウト型の端子配列を接続した場合の導電粒子の捕捉状体のシミュレーション結果である。 図7Cは、実験例4と略同様の粒子配置でファンアウト型の端子配列を接続した場合の導電粒子の捕捉状体のシミュレーション結果である。 図7Dは、実験例5と略同様の粒子配置でファンアウト型の端子配列を接続した場合の導電粒子の捕捉状体のシミュレーション結果である。 図8Aは、実験例6の接続試験1における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図8Bは、実験例7の接続試験1における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図8Cは、実験例8の接続試験1における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図8Dは、実験例9の接続試験1における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図9Aは、実験例6の接続試験2における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図9Bは、実験例7の接続試験2における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図9Cは、実験例8の接続試験2における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図9Dは、実験例9の接続試験2における端子あたりの導電粒子の捕捉数と、その捕捉数となった端子の出現割合(頻度)との関係図である。 図10Aは、実験例6の接続試験2における圧痕写真である。 図10Bは、実験例8の接続試験2における圧痕写真である。 図10Cは、実験例9の接続試験2における圧痕写真である。
以下、本発明の異方性導電フィルムの一例について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、各図中、同一符号は、同一又は同等の構成要素を表している。
<異方性導電フィルムの全体構成>
図1Aは実施例の異方性導電フィルム10Aの導電粒子の配置を示す平面図であり、図2はそのX-X断面図である。この異方性導電フィルム10Aは、導電粒子1が絶縁性樹脂層2の表面又はその近傍に単層で配置され、その上に低粘度樹脂層3が積層された層構成を有している。なお、本発明において、低粘度樹脂層3は必要に応じて設けられ、図3に示す異方性導電フィルム10Bの断面図のように、低粘度樹脂層3を省略した層構成としてもよい。この異方性導電フィルム10Bの導電粒子1の平面配置は、低粘度樹脂層3を有する異方性導電フィルム10Aと同様とすることができる。
本実施例の異方性導電フィルム10A、10Bにおける導電粒子1の平面配置は、後述するように、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12とが交互に繰り返し配置されたものとなっている。ここで、第1斜方格子領域11は、配列軸がa方向とb方向の斜方格子(a方向とb方向とのなす角度:α)であり、第2斜方格子領域12は、配列軸がa方向とc方向の斜方格子(a方向とc方向とのなす角度:-α)である。
<導電粒子>
・粒子材料
導電粒子1としては、ニッケル、コバルト、銀、銅、金、パラジウムなどの金属粒子、ハンダなどの合金粒子、金属被覆樹脂粒子などが挙げられる。2種以上を併用することもできる。中でも、金属被覆樹脂粒子が、接続された後に樹脂粒子が反発することで端子との接触が維持され易くなり、導通性能が安定する点から好ましい。また、導電粒子の表面には導通特性に支障を来さない絶縁処理が施されていてもよく、例えば公知の技術により絶縁性微粒子が付着していてもよく、絶縁性樹脂により絶縁コートされていてもよい。
・粒子径
導電粒子1の粒子径は、用途によって適宜選択される。通常、導通抵抗の上昇を抑制し、且つショートの発生を抑制するために、好ましくは1μm以上30μm以下、ファインピッチ用途であれば、好ましくは2μm以上10μm未満である。絶縁性樹脂層に分散させる前の導電粒子の粒子径は、一般的な粒度分布測定装置により測定することができ、また、平均粒子径も粒度分布測定装置を用いて求めることができる。測定装置としては、一例として画像型のFPIA-3000(マルバーン社)を挙げることができる。この場合、導電粒子径を測定するサンプル数を1000以上、好ましくは2000以上とすることが望ましい。異方性導電フィルムにおける導電粒子の粒子径は、SEMなどの電子顕微鏡観察から求めることができる。この場合、導電粒子径を測定するサンプル数を200以上、好ましくは1000以上とすることが望ましい。
また、粒子径のバラツキに関し、粒子径のCV値は20%以下であることが好ましい。粒子径のバラツキが小さいことにより、熱圧着時の加熱加圧条件のマージンを大きくとることができる。
なお、導電粒子として、その表面に上述の絶縁処理が施されたものを使用する場合、本発明における導電粒子の粒子径は、絶縁処理の部分を含めない粒子径を意味する。
・平面配置
導電粒子の平面配置は、図1Aに示したように、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12とが、a方向と垂直なy方向に、交互に繰り返し配置されたものとなっている。本実施例において、第1斜方格子領域11は、導電粒子1が一定ピッチpaでa方向に配置されている配列軸a1が、a方向と角度αで斜交するb方向に複数配列している領域である。また、第2斜方格子領域12は、導電粒子1が前記ピッチpaでa方向に配置されている導電粒子の配列軸a2が、c方向に複数配列している領域であり、このc方向は、a方向の配列軸に平行な直線を対象の軸としてb方向を反転させた方向である。あるいは、c方向は、a方向と角度-αで斜交する方向である。この粒子配置は、第1斜方格子領域11のb方向の配列と、第2斜方格子領域12のc方向の配列からなる、図1Aに二点鎖線で囲った屈曲した配列dを単位としているとも見ることができる。
なお、第2斜方格子領域12の配列軸a2における粒子ピッチは、第1斜方格子領域11の配列軸a1における粒子ピッチpaと異ならせてもよいが、粒子配置の設計上の便宜から、配列軸a2と配列軸a1のピッチpaを等しくすることが好ましい。
本実施例のように導電粒子1の配置に関し、a方向と、該a方向に斜交するb方向を配列軸とする第1斜方格子領域と、a方向と、前記b方向を反転させたc方向を配列軸とする第2斜方格子領域とが交互に繰り返されていると、異方性導電フィルムで図4Aに示したようなファンアウト型の端子列(即ち、端子20の配列方向xに対する端子20の長手方向の角度(ファンアウト角β)が順次異なる端子列)を接続した場合でも、図4Bに示すように各端子の軸が同方向の直線状の端子列を接続した場合でも、各端子に対して導電粒子の配置が均等になり、接続後には各端子における導電粒子の捕捉数が安定する。これに対し、異方性導電フィルムにおける導電粒子の配置が第1斜方格子領域のみ、又は第2斜方格子領域のみであると、端子に捕捉される導電粒子の数や端子における導電粒子の分布状態のばらつきが大きくなり、ファンアウト型の端子列中のいずれかの端子では、異方性導電フィルムにおいて格子状に配置された導電粒子の配列軸の方向と端子の長手方向とが重なり、端子の縁部に配列した導電粒子の捕捉性が急激に低下したり、いずれかの端子において複数の導電粒子が近接して配列した粒子群が捕捉されることにより端子における個々の導電粒子の圧痕が薄くなったり、端子間に導電粒子の密集領域が形成されたりする。本発明の異方性導電フィルムではこのような問題が生じにくい。
また、本発明の異方性導電フィルムにおいては、図4A、図4Bに示すように、a方向を端子の配列方向xと同じ方向とすることが、紙面左側の端子と紙面右側の端子とで導電粒子の捕捉状態や圧痕の見え方が等しくなるので好ましく、異方性導電フィルムの使用上の便宜の点からa方向を異方性導電フィルムの長手方向とすることが好ましい。あるいは、端子の配列方向xを異方性導電フィルムの長手方向とすることが好ましい。また、端子の長手方向の長さに対して、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12との繰り返し数が十分にあることが好ましく、例えば、接続対象とする端子の端子長に対して、この繰り返し数は1以上とすることが好ましく、3以上であることがより好ましい。言い換えると、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12のy方向の繰り返しピッチが、接続対象とする端子の端子長以下、又は端子長の1/3以下であることが好ましい。あるいは、第1斜方格子領域11のb方向の配列軸と、第2斜方格子領域12のc方向の配列軸とにより形成される配列軸の屈曲の数を、各端子における導電粒子の捕捉数が好ましくは3個以上、より好ましくは11個以上になるように定める。
第1斜方格子領域11において、a方向とb方向がなす角度αに関し、接続する端子列がファンアウト型の場合には、角度αの絶対値をファンアウト角βの絶対値の最小値よりも小さくする。これにより、端子列を構成するいずれの端子においても、第1斜方格子領域11では端子の長手方向とb方向とが一致しなくなるので、端子の長手方向の縁部に存在する導電粒子の捕捉性が急激に低下することや、端子上で多数の導電粒子が連続的に連なって捕捉され、圧痕が低下することを防止できる。一方、接続する端子列がファンアウト配列でない場合に、角度αの絶対値を、端子の配列方向と端子の長手方向とがなす角度βの絶対値以下とすると、端子の配列方向と端子の長手方向とが直交している端子列(即ち、角度β=90°)では導電粒子の捕捉数が安定するため好ましい。また、ペリフェラル配置のように角度βが0°と90°が混在している場合においても、導電粒子の捕捉数が安定するので好ましい。
また、第2斜方格子領域12において、c方向は、b方向をa方向に対して反転させた方向であり、a方向とc方向とがなす角度は-αである。上述のように角度αを設定することにより、第2斜方格子領域12においても、端子の長手方向とc方向とが一致しなくなるので、上述と同様の効果を得ることができる。
なお、角度αが90°であると第1斜方格子領域11及び第2斜方格子領域12における粒子配置は、正方格子又は長方格子となるので、角度αは、正方格子又は長方格子のa方向のひずみ量sとして表しても良い(図1A)。ひずみ量sが平均粒子径より大きければ、異方性導電接続時に同一斜方格子領域内の導電粒子にy方向の連結が発生しにくくなる。一方、ひずみ量sが平均粒子径以下、好ましくは平均粒子径未満であれば、端子幅が狭くとも異方性導電接続後の端子に導電粒子が捕捉され易くなるため好ましい。
また、c方向がa方向となす角度は、厳密に角度αの符号を反転させたものでなくともよい。即ち、b方向がa方向となす角度の絶対値と、c方向がa方向となす角度の絶対値は厳密に同一でなくてもよく、斜方格子領域毎に異なっていてもよい。この場合、全ての斜方格子領域におけるこれらの角度の合計が0°になることが好ましい。
ところで、任意の配列軸a11において隣接する導電粒子の中心位置をP1、P2とし、該配列軸a11に隣接する配列軸a1(a12)上の導電粒子であってa方向の位置がP1、P2の間にある導電粒子の中心位置をP3とした場合に、∠P3P1P2≠∠P3P2P1であると、図1Aに示したように、第1斜方格子領域11の粒子配置と第2斜方格子領域12の粒子配置は、線対称で異なる粒子配置となり、それらの領域を平行移動させても粒子配置が重なり合うことはない。即ち、これらの斜方格子領域11、12のうちの一方の領域における、a方向と斜交する任意の配列軸の延長線が、他方の領域における配列軸にもなるということはない。
これに対し図1Bに示したように、∠P3P1P2=∠P3P2P1であると、第1斜方格子領域11の粒子配置と第2斜方格子領域12の粒子配置とはそれ自体が等しくなる。ここで、
第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12との距離をL3、
第1斜方格子領域11において隣接する配列軸a1同士の距離をL1、
第2斜方格子領域12において隣接する配列軸a2同士の距離をL2、
隣接する第1斜方格子領域11の配列軸a1と第2斜方格子領域12の配列軸a2における、導電粒子の位置のa方向のずれ量をLd、
配列軸a1、a2のピッチをpa
としたときに、
L3=L1,L2であり、かつ、Ld=(1/2)×paであると、第1斜方格子領域11におけるb方向の配列軸と同方向の配列軸が第2斜方格子領域12にも存在し、かつその第2斜方格子領域の配列軸の延長線が第1斜方格子領域のb方向の配列軸となる。このようにa方向と斜交する配列軸について、双方の斜方格子領域11、12のうちの一方の斜方格子領域の配列軸がそのまま他方の斜方格子領域の配列軸にもなると、異方性導電フィルム全体において、a方向と交差する配列軸はジグザグにはならず、このような粒子配置は本発明の効果を得られない。従って、このような粒子配置は本発明から除かれる。
一方、∠P3P1P2≠∠P3P2P1であると、L3=L1,L2であり、かつ、Ld=(1/2)×paであっても本発明の効果を得られる。例えば、導電粒子の平均粒子径を3.2μmとし、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12におけるa方向の配列軸の数をそれぞれ2とし、L1=L2=L3=9.5μm、pa=9μm、Ld=(1/2)×pa=4.5μm、ひずみ量s=2.25μm、α=76°、個数密度12000個/mmとすることができる(図1I)。
また、同様の平均粒子径の導電粒子を使用し、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12におけるa方向の配列軸の数をそれぞれ2とし、L1=L2=10.4μm、L3=8.8μm、pa=8.8μm、Ld=(1/2)×pa=4.4μm、ひずみ量s=2.2μm、α=78°、個数密度12000個/mmとすることができる(図1J)。
同様の平均粒子径の導電粒子を使用し、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12におけるa方向の配列軸の数をそれぞれ2とし、L1=L2=L3=7.5μm、pa=8.4μm、Ld=(1/2)×pa=4.2μm、ひずみ量s=2.1μm、α=75°、個数密度16000個/mmとすることもできる(図1K)。このようにピッチpaがL1、L2、L3より大きくても良い。
なお、図1I、図1J、図1Kに示した態様では、ピッチpaの1/2をずれ量Ldとし、ずれ量Ldの1/2をひずみ量sとしている。ピッチPa、ずれ量Ld、ひずみ量sにこの関係をもたせると、粒子配置の設計の便宜上好ましい。また、異方性導電フィルム製造後に導電粒子の配置状態の確認が行い易くなる。例えば、異方性導電フィルムを撮影した画像において導電粒子の中心点や外接線を結んだ補助線を引くなどすれば、ずれ量Ldやひずみ量sを容易に確認することができる。
また、図1Bに示したように、∠P3P1P2=∠P3P2P1であっても、L3≠L1,L2、またはLd≠(1/2)×paであると、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12とを別個の領域として識別することができ、異方性導電フィルム全体では、a方向と交差する配列軸がジグザグになり、本発明の効果を得ることができる。
本発明において、ずれ量Ldについては、異方性導電フィルムにおけるy方向の粒子間距離を適度に広げ、各端子において適正な捕捉粒子数を確保しつつ接続時に端子間の粒子が連結してショートが起こることを防止するため、ゼロでないことが好ましい。即ち、ずれ量Ldをゼロとすると、y方向で隣り合う第1斜方格子領域の導電粒子と第2斜方格子領域の導電粒子とがy方向に重畳するので、距離L3が短いと接続時の端子間の樹脂流動で導電粒子同士の連結が生じ易くなる。したがって、ずれ量Ldの絶対値はゼロより大きいことが好ましく、平均粒子径の0.5倍以上大きいことがより好ましく、平均粒子径の1倍以上大きいことが更に好ましく、平均粒子径の1倍より大きくすることが特に好ましい。一方、ずれ量Ldの上限は、配列軸a1、a2のピッチpaの0.5倍以下が好ましく、0.5倍未満がより好ましく、0.3倍以下が更により好ましい。
図1Cに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、ずれ量Ldを0としたものである。接続時の端子間の導電粒子の移動量に対して距離L3が長い場合には、ずれ量Ldを0としてもよい。
図1Dに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、ずれ量Ldの調整により、第1斜方格子領域11のb方向の配列軸と、第2斜方格子領域12のc方向の配列軸とを、導電粒子1上で交叉させたものである。これによりb方向とc方向の反転の対称軸がa1軸又はa2軸上となり、y方向で反転形状が隙間無く繰り返されることにより、導電粒子の配置の設計や配置後の検査工程が簡便になり得るので好ましい。
図1Eに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12との距離L3を、第1斜方格子領域11において隣接する配列軸a1同士の距離L1、又は第2斜方格子領域12において隣接する配列軸a2同士の距離L2と異ならせたものである。これらの距離L1、L2、L3に関し、本発明においては、粒子配置の設計上の便宜、同じ端子列内の端子同士における導電粒子の捕捉状態の比較のし易さ等の点から、L1=L2、又はL1=L2=L3とすることが好ましい。一方、ファンアウト配列において例えば左右の一番外側の端子同士が同等の捕捉状態を得るように角度α、ピッチpa、第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12の繰り返しピッチ等を調整した場合には、接続後の捕捉状態を検査で比較し易くする等のために、L3≠L1,L2としてもよい。この場合、L1≠L2としてもよい。
また、距離L1、L2は、端子レイアウトによって定めることが好ましく、それ自体には上限、下限ともに特に制限はない。一例として、小さすぎると導電粒子は捕捉されやすくなるが、ショートが発生し易くなるため、導電粒子の平均粒子径Dの1.4倍以上が好ましい。
第1斜方格子領域11の配列軸a1及び第2斜方格子領域12における配列軸a2における導電粒子のピッチpaは、端子レイアウトによって定めることが好ましく、上限、下限ともに特に制限はない。一例として、小さすぎるとショートが発生しやすくなるため導電粒子の平均粒子径Dの1.5倍以上が好ましく、特に、平均粒子径Dの2倍に0.5μmを加えた距離以上とすることが好ましい。これにより、異方性導電接続時の熱圧着の樹脂流動により、対向する端子に挟持されていた導電粒子が端子間スペースに移動したとしても、端子間スペースにおける導電粒子1の連結を防止し、一層のショート防止を図ることができる。
一方、ピッチpaを大きくすると異方性導電フィルムで必要とされる導電粒子の個数を削減できる。また、端子幅が狭くても端子長が十分に長ければ端子当たりで捕捉される導電粒子の数は所定数を満足する。そのため、a方向が端子の配列方向と同方向とされる場合、ピッチpaは異方性導電フィルムを介して接続する電子部品の端子同士の接続後の有効接続領域の最小幅の1/2~2/3となるようにすることが好ましい。
また、距離L1、L2、L3とピッチpaを等しくすること、即ち、第1斜方格子領域11及び第2斜方格子領域12のそれぞれの粒子配置を、正方格子をa方向にひずませた斜方格子とし、さらに第1斜方格子領域11と第2斜方格子領域12との距離L3も格子ピッチと等しくすることが全面において捕捉状態が均等になる点で好ましい。
図1Fに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、第1斜方格子領域11における配列軸a1の配列数n1と、第2斜方格子領域12における配列軸a2の配列数n2を2としたものであり、前述した図1I、図1J、図1Kは、これをさらに具体化した態様である。本発明においては、第1斜方格子領域11における配列軸a1の配列数n1と、第2斜方格子領域12における配列軸a2の配列数n2については、双方を等しくすることが好ましいが、異ならせてもよい。また、これらの配列数n1,n2は端子レイアウトに応じて定めることができるため、特に限定はない。ファインピッチにおいては導電粒子の補足とショートの抑制を両立させるため、配列数n1,n2を好ましくは4以下、より好ましくは3以下、さらに好ましくは2とする。これは、第1斜方格子領域における配列軸a1の配列数n1と第2斜方格子領域における配列軸a2の配列数n2とを2から4とすると、それよりも多い場合に比べて配列軸のジクザグのピッチが細かくなるので、ファンアウト型端子列を接続した場合の、右側の端子と左側の端子における導電粒子の分布状態をより一層均等にでき、異方性導電接続時の樹脂流動により導電粒子が移動しても導電粒子同士が接触しにくくなるからである。
図1Gに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、第1斜方格子領域11におけるa方向の導電粒子のピッチを、単一のピッチpaとすることに代えて、異なるピッチpa1とピッチpa2が交互に繰り返されるようにしたものであり、第2斜方格子領域12においてもa方向の導電粒子のピッチpa1とピッチpa2が交互に繰り返されるようにしている。このように、本発明においては、a方向に配置されている導電粒子のピッチは規則的であればよく、必ずしも一定のピッチでなくてもよい。
図1Hに示した粒子配置は、図1Aに示した粒子配置において、第1斜方格子領域11の中でb方向の配列軸がa方向にズレた2つの第1斜方格子領域11a、11bを設け、第2斜方格子領域12の中にもc方向の配列軸がa方向にズレた2つの第2斜方格子領域12a、12bを設けたものである。この場合、2つの第1斜方格子領域11a、11bの隣接した配列軸a1同士のa方向のズレ量Ld1と、2つの第2斜方格子領域12a、12bの隣接した配列軸a2同士のa方向のズレ量Ld2とは、同一でも異なっていてもよい。
このように、本発明では、第1斜方格子領域と第2斜方格子領域がy方向に繰り返されていればよく、必ずしも交互に繰り返されていなくてもよい。この場合、y方向の単位長さにおいて、第1斜方格子領域の配列軸a1のy方向の繰り返し数の全数と、第2斜方格子領域の配列軸a2のy方向の繰り返し数の全数が等しいことが好ましい。
・個数密度
図1A~図1Kのいずれの粒子配置においても、本発明の異方性導電フィルムでは導電粒子の個数密度を接続する電子部品の端子の形状、大きさ、配列ピッチなどに応じて定めることができる。通常、導電粒子の個数密度は接続する電子部品の組み合わせや用途によって好ましい条件が変わるために特に制限はないが、下限は実用上30個/mm2以上であればよく、150個/mm2以上が好ましい。導電粒子数が少なければ、コスト削減効果が見込まれる。また上限は実用上70000個/mm以下が好ましく、42000個/mm以下がより好ましく、特にファインピッチ用途の場合には、6000~35000個/mmの範囲にすることが好ましい。また、導電粒子の平均粒子径が10μm以上の場合は、50~2000個/mmの範囲にすることが好ましい。
なお、本発明において導電粒子の個数密度は、角度αを90°とし、第1斜方格子領域11及び第2斜方格子領域12を斜方格子ではなく、正方格子又は長方格子とした場合の個数密度と等しいので、かかる正方格子又は長方格子で格子間距離を算出することによりピッチpaや距離L1、L2を定めることができる。
個数密度を測定する場合の測定領域としては、1辺が100μm以上の矩形領域を任意に複数箇所(好ましくは5箇所以上、より好ましくは10箇所以上)設定し、測定領域の合計面積を2mm2以上とすることが好ましい。矩形領域の辺の長さや合計面積は、平均粒子径に応じて調整すればよい。個々の測定領域の大きさや数は、個数密度の状態によって適宜調整すればよい。例えば、一つの矩形領域に数十個以上の導電粒子があればよい。より具体的な例としては、ファインピッチ用途で導電粒子の個数密度が比較的大きい異方性導電フィルムの場合には、面積100μm×100μmの領域の200箇所(2mm2)について、金属顕微鏡などによる観察画像を用いて個数密度を測定し、それを平均することにより求めることができる。個数密度は、画像解析ソフト(例えば、三谷商事株式会社製WinROOF、旭化成エンジニアリング製A像くん等)により観察画像を計測して求めてもよい。一方、導電粒子の個数密度が比較的小さい場合には、導電粒子が規則的に配置されていることに基づき、フィルムの長手方向の配列軸におけるピッチと、その配列軸のフィルム幅方向の配列ピッチから個数密度を算出してもよい。なお、矩形の辺の長さと、測定箇所の数は、上述の数値に限定されるものではない。
また、導電粒子の個数密度に関し、次式で算出される導電粒子の面積占有率を、導通抵抗を下げる点から0.3%以上とすることが好ましい。一方、接続時に押圧治具に必要とされる推力を抑制する点からはこの面積占有率を35%以下とすることが好ましく、30%以下とすることがより好ましい。
導電粒子の面積占有率(%)=[平面視における導電粒子の個数密度]×[導電粒子1
個の平面視面積の平均]×100
・導電粒子のフィルム厚方向の位置
導電粒子1のフィルム厚方向の位置は揃っていることが好ましい。例えば、図2に示したように、導電粒子1のフィルム厚方向の埋込量Lbを揃えることができる。これにより、端子における導電粒子1の捕捉性が安定し易い。一方、本発明において、導電粒子1は、絶縁性樹脂層2から露出していても、完全に埋め込まれていてもよい。
ここで、埋込量Lbは、導電粒子1が埋め込まれている絶縁性樹脂層2の表面(絶縁性樹脂層2の表裏の面のうち、導電粒子1が露出している側の表面、又は導電粒子1が絶縁性樹脂層2に完全に埋め込まれている場合には、導電粒子1との距離が近い表面)であって、隣接する導電粒子間の中央部における接平面2pと、導電粒子1の最深部との距離をいう。
なお、埋込量Lbは、異方性導電フィルムのフィルム断面の一部をSEM画像で観察することにより求めることができる。この場合、異方性導電フィルムから面積30mm以上の領域を任意に10箇所以上抜き取り、好ましくは合計50個以上、より好ましくは200個以上の導電粒子の埋込量を計測し、その平均を求めることが好ましい。
・埋込率
導電粒子1の平均粒子径Dに対する埋込量Lbの割合を埋込率(Lb/D)とした場合に、埋込率は30%以上105%以下が好ましい。埋込率(Lb/D)を30%以上とすることにより、導電粒子1を絶縁性樹脂層2によって所定の位置に維持し、また、105%以下とすることにより、異方性導電接続時に端子間の導電粒子を不用に流動させるように作用する絶縁性樹脂層の樹脂量を低減させることができる。
<絶縁性樹脂層>
本発明において、絶縁性樹脂層2は、特許6187665号公報に記載の異方性導電フィルムの絶縁性樹脂層と同様に、重合性化合物と重合開始剤から形成される硬化性樹脂組成物を用いて形成することができる。この場合、重合開始剤としては熱重合開始剤を使用してもよく、光重合開始剤を使用してもよく、それらを併用してもよい。例えば、熱重合開始剤としてカチオン系重合開始剤、熱重合性化合物としてエポキシ樹脂を使用し、光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤、光重合性化合物としてアクリレート化合物を使用する。熱重合開始剤として、熱アニオン重合開始剤を使用してもよい。熱アニオン重合開始剤としては、イミダゾール変性体を核としその表面をポリウレタンで被覆してなるマイクロカプセル型潜在性硬化剤を用いることが好ましい。
<絶縁性樹脂層の最低溶融粘度>
絶縁性樹脂層2の最低溶融粘度は、特に限定はないが、1000Pa・s以上でもよく、特許6187665号公報に記載の異方性導電フィルムの絶縁性樹脂層の最低溶融粘度と同様とすることができ、好ましくは1500Pa・s以上、より好ましくは2000Pa・s以上、さらに好ましくは3000~15000Pa・s、特に好ましくは3000~10000Pa・sである。この最低溶融粘度は、一例として回転式レオメータ(TA instrument社製)を用い、測定圧力5gで一定に保持し、直径8mmの測定プレートを使用し求めることができ、より具体的には、温度範囲30~200℃において、昇温速度10℃/分、測定周波数10Hz、前記測定プレートに対する荷重変動5gとすることにより求めることができる。なお、最低溶融粘度の調整は、溶融粘度調整剤として含有させる微小固形物の種類や配合量、樹脂組成物の調整条件の変更などにより行うことができる。
<低粘度樹脂層>
低粘度樹脂層3は、30~200℃の範囲の最低溶融粘度が絶縁性樹脂層2よりも低い樹脂層である。本発明において、低粘度樹脂層3は必要に応じて設けられるが、低粘度樹脂層3を絶縁性樹脂層2に積層することにより、異方性導電フィルム10Aを介して対峙する電子部品を熱圧着する場合に、電子部品の電極やバンプによって形成される空間を低粘度樹脂層3で充填し、電子部品同士の接着性を向上させることができる。
また、絶縁性樹脂層2の最低溶融粘度と低粘度樹脂層3の最低溶融粘度との差があるほど異方性導電フィルム10Aを介して接続する電子部品間の空間が低粘度樹脂層3で充填され、電子部品同士の接着性が向上しやすくなる。また、この差があるほど導電粒子1を保持している絶縁性樹脂層2の熱圧着時の移動量が低粘度樹脂層3に対して相対的に小さくなるため、端子における導電粒子1の捕捉性が向上しやすくなる。
絶縁性樹脂層2と低粘度樹脂層3との最低溶融粘度比は、絶縁性樹脂層2と低粘度樹脂層3の層厚の比率にもよるが、好ましくは2以上、より好ましくは5以上、さらに好ましくは8以上である。一方、この比が大きすぎると長尺の異方性導電フィルムを巻装体にした場合に、樹脂のはみだしやブロッキングが生じる虞があるので、実用上は15以下が好ましい。低粘度樹脂層3の好ましい最低溶融粘度は、より具体的には、上述の絶縁性樹脂層の最低溶融粘度比を満たし、かつ好ましくは3000Pa・s以下、より好ましくは2000Pa・s以下であり、さらに好ましくは100~2000Pa・sである。
なお、低粘度樹脂層3は、絶縁性樹脂層2と同様の樹脂組成物において、粘度を調整することにより形成することができる。
<絶縁性樹脂層と低粘度樹脂層の層厚>
絶縁性樹脂層2の層厚は、後述する異方性導電フィルムの製造工程において、絶縁性樹脂層2へ導電粒子1を安定して押し込めるようにするため、導電粒子1の平均粒子径Dに対して、好ましくは0.3倍以上、より好ましくは0.6倍以上、さらに好ましくは0.8倍以上、特に好ましくは1倍以上である。また、絶縁性樹脂層2の層厚の上限については接続する電子部品の端子形状、端子厚、配列ピッチ等に応じて定めることができるが、層厚が厚くなりすぎると接続時に導電粒子1が樹脂流動の影響を不用に受け易くなるため、導電粒子1の平均粒子径Dの好ましくは20倍以下、より好ましくは15倍以下である。
低粘度樹脂層3は、本発明において必要に応じて設けられるが、低粘度樹脂層を設ける場合には、その層厚の下限としては、導電粒子1の平均粒子径Dの好ましくは0.2倍以上、より好ましくは1倍以上である。また、低粘度樹脂層3の層厚の上限については、厚くなりすぎると絶縁性樹脂層2との積層の困難性が増すことから、導電粒子1の平均粒子径Dの好ましくは50倍以下、より好ましくは15倍以下、さらに好ましくは8倍以下である。
また、絶縁性樹脂層2と低粘度樹脂層3との総厚は、電子部品の接続時に導電粒子1の不用な流動を抑制する点、異方性導電フィルムを巻装体とする場合の樹脂のはみ出しやブロッキングを抑制する点、異方性導電フィルムの単位重量あたりのフィルム長を長くする点等からは、薄い方が好ましい。しかし、薄くなりすぎると異方性導電フィルムの取り扱い性が劣る。また、異方性導電フィルムを電子部品に貼着し難くなり、電子部品を接続する際の仮圧着において必要な粘着力を得られない虞があり、本圧着においても樹脂量の不足により必要な接着力を得られない虞がある。そのため、総厚は、導電粒子1の平均粒子径Dに対して好ましくは0.6倍以上、より好ましくは0.8倍以上、さらに好ましくは1倍以上、特に好ましくは1.2倍以上である。
絶縁性樹脂層2と低粘度樹脂層3の厚みの比率については、接続に使用される電子部品の組み合わせや、そこで求められる性能などの関係から適宜調整することができる。これらの層厚は市販のデジタルシックネスゲージ等で測定することができる。デジタルシックネスゲージの分解能は0.1μm以下であることが好ましい。
<異方性導電フィルムの巻装体>
本発明の異方性導電フィルムは、その製品形態において巻装体とすることができる。巻装体の長さについて特に制限はないが、出荷物の取り扱い性の点から好ましくは5000m以下、より好ましくは1000m以下、さらに好ましくは500m以下である。一方、巻装体の量産性の点からは5m以上が好ましい。フィルム幅としては、特に制限はないが、実装体の小型化の観点からは狭いことが求められている。一方、一括して複数部品を異方性導電接続する、もしくはある程度大きいサイズで一括して異方性導電接続してから切削する、といった使用方法の観点からは面積が大きいことが求められることから、幅が広いものにも需要はある。
<異方性導電フィルムの製造方法>
本発明の異方性導電フィルムの製造方法自体には特に限定はないが、例えば、導電粒子を所定の配列に配置するための転写型を製造し、転写型の凹部に導電粒子を充填し、その上に、剥離フィルム上に形成した絶縁性樹脂層を被せて圧力をかけ、絶縁性樹脂層に導電粒子を押し込むことにより、絶縁性樹脂層に導電粒子を転着させ、あるいはさらにその導電粒子上、もしくは導電粒子を転着した面と反対の面に低粘度樹脂層を積層することで、異方性導電フィルムを製造する。
また、転写型の凹部に導電粒子を充填した後、その上に絶縁性樹脂層を被せ、転写型では絶縁性樹脂層に導電粒子を押し込むことなく、転写型から絶縁性樹脂層の表面に導電粒子を転写させ、転写後に絶縁性樹脂層上の導電粒子を絶縁性樹脂層内に押し込むことにより異方性導電フィルムを製造してもよい。
なお、転写型としては、凹部に導電粒子を充填するものの他、凸部の天面に微粘着剤を付与してその天面に導電粒子が付着するようにしたものを用いても良い。これらの転写型は機械加工、フォトリソグラフィ、印刷法等の公知の技術を用いて製造することができる。
また、導電粒子を所定の配列に配置する方法としては、転写型を用いる方法に代えて、所定の配置で設けられた貫通孔に導電粒子を通過させる方法、フィルム上に導電粒子を直接的に散布する方法、導電粒子を密に配置したフィルムを延伸する方法等を使用してもよい。
<異方性導電フィルムを用いた電子部品の接続方法>
本発明の異方性導電フィルムを用いて電子部品を接続する方法としては、例えば、ステージに一方の電子部品を載置し、その上に異方性導電フィルムを介してもう一方の電子部品を載置し、圧着ツールで加熱押圧することにより双方の電子部品の端子同士を異方性導電接続して接続構造体を製造する。この場合、ステージに載置する電子部品をICチップ、ICモジュール、FPC、ガラス基板、プラスチック基板、リジッド基板、セラミック基板などの第2の電子部品とし、圧着ツールで加熱加圧する電子部品をFPC、ICチップ、ICモジュールなどの第1の電子部品とする。より詳細な方法としては、各種基板等の第2の電子部品に異方性導電フィルムを仮貼りして仮圧着し、仮圧着した異方性導電フィルムにICチップ等の第1の電子部品を合わせ、熱圧着することにより異方性導電接続して接続構造体を製造する。なお、第2の電子部品ではなく、第1の電子部品に異方性導電フィルムを仮貼りして接続構造体を製造することもできる。また、接続方法は熱圧着に限定されるものではなく、光硬化を利用した圧着や、熱と光を併用した圧着などを行っても良い。
本発明の異方性導電フィルムは、第1の電子部品および第2の電子部品の少なくとも一方を、FPCやプラスチック基板などの熱膨張しやすい材質のものとする場合に意義が高い。端子列がファンアウト型の場合には、特に効果を発揮する。また、端子の配列方向に対して端子の長手方向が傾斜していない端子列の接続や、ペリフェラル配置の端子のように端子の配列方向が部品の各辺で異なる場合の接続であっても、さらには端子形状が矩形であっても円形であっても、各端子に対して導電粒子が一様に配置されるので、これらを確実に接続し、かつショートの発生を抑えることができ、圧痕検査も容易となる。したがって、本発明の異方性導電フィルムは、接続する端子列の形状や配置を問わず汎用的に使用することができる。これにより、接続する対象によって導電粒子の配置や個数密度が異なる異方性導電フィルムを用意し、使用するという工数を削減できるので、この工数削減による経済的なメリットも高い。そこで、本発明は、本発明の異方性導電フィルムを用いて第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子を異方性導電接続する接続構造体の製造方法や、本発明の異方性導電フィルムを介して第1の電子部品と第2の電子部品とが異方性導電接続されている接続構造体を包含する。
本発明の異方性導電フィルムの粒子配置は、導電粒子に代えて種々のフィラーを使用したものにも適用できる。この場合のフィラーとしては、例えば、特開2019-033060号公報、特開2018-090768号公報等に記載のものを使用することができる。したがって、これらに記載のフィラーを本発明の粒子配置にしたがって配置したフィラー含有フィルム(即ち、フィラー配置フィルム)、このフィラー含有フィルムを用いて第1物品と第2物品を接続する方法、第1物品と第2物品の接続構造体の製造方法、それにより得られる接続構造体等に本発明を応用することができる。また、第1物品のみにフィラー含有フィルムを貼り付けた接続体やその製造方法等にも応用することができる。
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
実験例1~5
表1の仕様のファンアウト型の端子列A又はBにおいて、表2に示す、実験例1~5の粒子配置の異方性導電フィルムを接続した場合の以下の(a)~(d)の評価項目をシミュレーションにより計測し、評価した。このうち実験例1~3が本発明の実施例である。評価結果を表2に示す。(d)の評価結果に関連し、実験例1、3、4、5導電粒子の配置で個数密度を16000個/mm2にした場合の端子列Bにおける導電粒子の捕捉状態のシミュレーション結果(端子上及び端子間における粒子間距離の拡大比率も表1と同様)を図7A~図7Dに示す。
なお、このシミュレーションでは、端子の配列方向であるx方向と異方性導電フィルムのa方向とを同一方向とした。また、端子上における、x方向又はy方向についての圧着後の粒子間距離と圧着前の粒子間距離との比率と、端子間における、x方向又はy方向についての圧着後の粒子間距離と圧着前の粒子間距離との比率は、事前に同様の端子列において異方性導電フィルムの対応する比率を複数回実測することにより得た平均値である。
(a)個々の端子における導電粒子の最低捕捉数(端子列Aにおけるシミュレーション)
OK:5個以上
NG:4個以下
なお、この評価基準は、シミュレーションにおける評価であるため、より厳格な評価基準とした。
(b)端子間において端子の長手方向に連結した導電粒子数(端子列Bにおけるシミュレーション)
OK:3個以下
NG:4個以上
(c)端子上において直線状に並んだ導電粒子数(端子列Bにおけるシミュレーション)
OK:3個以下
NG:4個以上
(d)端子配列の右側と左側における導電粒子の捕捉性の左右の均一性(端子列Bにおけるシミュレーション)
均一:端子配列において左右対称の距離にある端子で捕捉される導電粒子の分布パターン同士が同一に見える場合
不均一:端子配列において左右対称の距離にある端子で捕捉される導電粒子の分布パターン同士が同一に見えない場合










Figure 0007381841000001
















Figure 0007381841000002
表2から、実験例1~3はいずれの評価項目も良好であり、各端子において粒子捕捉数を十分に確保しつつ、配線間でy方向に連結する粒子数や、配線上で並ぶ粒子数が低減し、ファンアウト配列における左右の均一性が良好であることがわかる。
これに対し、実験例4では、端子上で並ぶ粒子数や端子間でy方向に連結する粒子数が多いためにショートが発生しやすいことがわかり、左右の均一性も劣っている。また、実験例5では、左右の均一性は良好であるが端子における粒子捕捉数が足りないことがわかる。本発明の実施例に相当する実験例の粒子配置によれば端子列における粒子捕捉の均一性が良好となることは、図7A~図7Dに示したシミュレーション結果からもわかる。
実験例6~9
(異方性導電フィルムの作製)
表3に示した配合で絶縁性樹脂層形成用樹脂組成物及び低粘度樹脂層形成用樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を用いて特許第6187665号の実施例3と同様にして実験例6~9の異方性導電フィルムを作製した。この場合、絶縁性樹脂層の層厚を4μm、低粘度樹脂層の層厚を14μmとした。導電粒子としては、金属被覆樹脂粒子(積水化学工業(株)、AUL703、平均粒子径3μm)を使用した。
導電粒子の平面配置は次の通りとした。
実験例6:図1Kに示した配置(L1=L2=L3:7.5μm、ピッチpa:8.4μm、ひずみ量s:2.1μm、角度α:75°、粒子個数密度:16000個/mm)。
実験例7:図1Aに示した配置(L1=L2=L3:7.4μm、ピッチpa:8.6μm、ひずみ量s:1.8μm、角度α:76°、粒子個数密度:16000個/mm)。
実験例8:6方格子で、図5Bに示したようにx方向に対する配列軸の傾斜角が0°(x方向の粒子ピッチ(粒子中心間距離):8.5μm、粒子個数密度:16000個/mm)。
実験例9:6方格子で、図5Aに示したx方向に対する配列軸の傾斜角γが15°(粒子個数密度:16000個/mm)。
したがって、実験例6、7が本発明の実施例となる。
Figure 0007381841000003
(接続試験1)
実験例6~9で製造した異方性導電フィルムを用いて、各端子の軸がストレートで同方向にストレートに配列している端子列を有する次の導通評価用ICとガラス基板とを次の熱圧着方法で接続し、各端子における導電粒子の捕捉数を数えた。
導通評価用IC
外形:0.7×20mm、厚みt=0.2mm
端子幅:14μm
端子長:100μm
端子高さ:12μm
端子間スペース:14μm
ガラス基板
ノンアルカリガラス基板
電極:ITO配線
厚み:0.7mm
熱圧着方法
実験例6~9の異方性導電フィルムを導通評価用ICとガラス基板との間に挟み、熱圧着ツール(ツール幅1.0mm)で加熱加圧(180℃、60MPa、5秒)し、評価用の接続構造体を得た。この場合、実験例6、7では粒子配置のa方向を端子の配列方向xとした。
熱圧着により得られた実験例6~9の接続構造体を、金属顕微鏡でガラス側から観察することで個々の端子に捕捉された導電粒子数を計測し、端子1個あたりの捕捉数(以下、単に捕捉数ともいう)とその捕捉数となった端子の出現数を求め、さらにその出現割合(以下、頻度ともいう)を求めた。計測した端子数は、それぞれ1800個である。結果を図8A~図8Dに示す。
図8A~図8Dから、実験例8の異方性導電フィルムでは捕捉数10個と15個にピークがあるダブルピークの分布パターンとなったこと、実験例9の異方性導電フィルムでは、シングルピークだが捕捉数が12個と13個に集中しており、全体として捕捉数が少ないことがわかる。
これに対し、実験例6の異方性導電フィルムを使用すると、最も頻度が高い端子は捕捉数13個で頻度36%、その次は捕捉数12個で頻度28%、その次は捕捉数14個で頻度25%であった。これらの頻度の合計は89%となる。この分布パターンはシングルピークを有するものであった。
また、実験例7の異方性導電フィルムでは、最も頻度が高い端子は捕捉数13個で頻度37%、次は捕捉数14個で頻度26%、その次は捕捉数12個で頻度17%、その次は捕捉数15個で頻度14%であり、これらの合計は94%であった。この分布パターンもシングルピークであった。
なお、最小捕捉数は実験例8では10個、実験例9では11個であるのに対し、実験例6では12個、実験例7では11個であった。
また、捕捉数を計測する際、実験例6、7は実験例8、9よりも計測に時間がかからず、計測が比較的容易であった。
これらのことから、本発明の異方性導電フィルムを用いて異方性導電接続した場合、得られた接続構造体では個々の端子において捕捉数が極めて安定することが分かる。
なお、実験例6~9の接続構造体の初期導通抵抗はいずれも2Ω未満であり、実用上問題ないことが確認できた。
(接続試験2)
実験例6~9で製造した異方性導電フィルムを用いて、次の仕様のファンアウト型端子配列の導通評価用FPCとガラス基板とを接続試験1と同様の熱圧着方法で接続し、各端子における導電粒子の捕捉数とその捕捉数となった端子の出現割合(頻度)を接続試験1と同様の方法で求めた。結果を図9A~図9Dに示す。また、実験例6、8、9について、熱圧着後の圧痕写真を図10A~図10Cに示す。
導通評価用FPC
ポリイミドフィルム(S’perFlex、住友金属鉱山株式会社) フィルム厚:38μm、端子高さ:8μm
測定長(端子測定に用いた長さ):400μm
端子幅:8μm
端子ピッチ:20μm
ファンアウト角度:-9°~9°
ガラス基板
電極:ITO配線
厚み:0.7mm
図9A~図9Dから、実験例6~実験例9のいずれの異方性導電フィルムを用いた場合にも、捕捉数と頻度の関係はシングルピークとなったが、実験例8、9に比して実験例6、7の異方性導電フィルムを使用した方が端子1個あたりの捕捉数が多いことがわかる。
また、図10A~図10Cから、導電粒子の配置が6方格子である場合(実験例8、9)に対し、本発明の実施例の粒子配置によれば、ファンアウト型端子配列における左右の圧痕の均一性が極めて高いこと、したがって端子配列全体で導電粒子の捕捉性が均一であることがわかる。
1 導電粒子
2 絶縁性樹脂層
3 低粘度樹脂層
10A、10B 異方性導電フィルム
11、11a、11b 第1斜方格子領域
12、12a、12b 第2斜方格子領域
20、20a、20b 端子
A 導電粒子の密集領域
a 配列軸の方向
a1 第1斜方格子領域の配列軸
a2 第2斜方格子領域の配列軸
b 第1斜方格子領域において配列軸aに斜交する配列軸の方向
c 第2斜方格子領域において配列軸aに斜交する配列軸の方向
D 導電粒子の平均粒子径
Lb 埋込量
Ld ずれ量
s ひずみ量
x 端子の配列方向
y a方向に垂直な方向
pa 配列軸aにおける粒子ピッチ
α a方向とb方向とがなす角度
β ファンアウト配列の場合にはファンアウト角、ファンアウト配列でない場合には端子の配列方向と端子の長手方向とがなす角度
γ 6方格子の配列軸のx方向に対する傾斜角

Claims (13)

  1. 導電粒子が絶縁性樹脂層に配置された異方性導電フィルムであって、
    導電粒子が所定ピッチでa方向に配置されている導電粒子の配列軸a1が、a方向と角度αで斜交するb方向に複数配列している第1斜方格子領域と、
    導電粒子が所定ピッチでa方向に配置されている導電粒子の配列軸a2が、前記b方向をa方向に対して反転させたc方向に複数配列している第2斜方格子領域とが、繰り返し配置されており、
    a方向と斜交する配列軸について、一方の斜方格子領域の配列軸の延長線が他方の斜方格子領域の配列軸となることなく、第1斜方格子領域と第2斜方格子領域が繰り返し配置されている異方性導電フィルム。
  2. 第1斜方格子領域と第2斜方格子領域とが交互に繰り返し配置されている請求項1記載の異方性導電フィルム。
  3. 第1斜方格子領域の配列軸a1と第2斜方格子領域の配列軸a2において、それぞれ導電粒子が一定のピッチで配置されている請求項1又は2記載の異方性導電フィルム。
  4. 第1斜方格子領域の配列軸a1と第2斜方格子領域の配列軸a2の導電粒子のピッチが等しい請求項記載の異方性導電フィルム。
  5. 第1斜方格子領域において隣接する配列軸a1同士の距離L1と、第2斜方格子領域において隣接する配列軸a2同士の距離L2とが等しい請求項1~のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  6. 隣接する第1斜方格子領域の配列軸a1と第2斜方格子領域の配列軸a2において、導電粒子の位置がa方向にずれている請求項のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  7. 隣接する第1斜方格子領域の配列軸a1と第2斜方格子領域の配列軸a2における、導電粒子のa方向のずれ量Ldが、導電粒子の平均粒子径より大きい請求項記載の異方性導電フィルム。
  8. 第1斜方格子領域における配列軸a1の配列数と第2斜方格子領域における配列軸a2の配列数とが等しい請求項1~のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  9. 第1斜方格子領域における配列軸a1の配列数と第2斜方格子領域における配列軸a2の配列数とが4以下である請求項1~のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  10. 配列軸a1が、異方性導電フィルムの長手方向と平行である、請求項1~のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  11. 第1斜方格子領域と第2斜方格子領域の、a方向に垂直な方向の繰り返しピッチが、接続対象とする端子の端子長以下である請求項10のいずれかに記載の異方性導電フィルム。
  12. 第1の電子部品及び第2の電子部品の一方の電子部品の端子に、請求項1~11のいずれかに記載の異方性導電フィルムを仮貼りして仮圧着し、仮圧着した異方性導電フィルムに他方の電子部品の端子を合わせ、圧着することにより、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子を異方性導電接続する接続構造体の製造方法。
  13. 請求項1~11のいずれかに記載の異方性導電フィルムを介して第1の電子部品と第2の電子部品とが異方性導電接続されている接続構造体。
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