JP7348142B2 - ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る製造方法にて製造されるビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶について説明する。このビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶は、ファラデー回転子および光アイソレータに用いるのに好適である。ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶は、下記の組成式(1)で表される。
(Ln3-aBia)(Fe5-bAb)O12 …(1)
本発明に係るビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶は、PbOフリーのメルト組成で結晶育成されるとよい。以下、図1に示すフローチャートを参照して、本発明に係るビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法の具体例について説明する。
Gd2O3、Ho2O3、Fe2O3、およびGa2O3にフラックスとしてBi2O3を加えたものを白金ルツボ中で1080℃で溶融加熱した後に815℃に温度を降下させた。溶融させる原料の重量(メルト組成)は、それぞれ、Gd2O3:68g、Ho2O3:72.8g、Fe2O3:520.8g、Ga2O3:17.4g、Bi2O3:7800gとした。
実施例1と同様の初期の融液組成を、1080℃溶融加熱した後に815℃に温度を降下させた。この融液に、格子定数12.498Åの3インチのNOG基板を浸し、開始から終了まで14℃の温度幅を、42時間かけて緩やかに降温する形で結晶を育成した。このようにして得られた結晶の総育成膜厚は625μmであった。膜表面の格子定数は12.511Å(平均格子定数は12.507Å)であった。このようにして成長させた結晶には、基板外周辺部でクラックが確認された。また、同様にして総育成膜厚475μmの結晶を育成した場合にもクラックが散見された。
Gd2O3、Y2O3、Fe2O3、およびGa2O3にフラックスとしてBi2O3、およびB2O3を加えたものを白金ルツボ中で1080℃で溶融加熱した後に812℃に温度を降下させた。溶融させる原料の重量(メルト組成)は、それぞれ、Gd2O3:22.2g、Y2O3:44.4g、Fe2O3:512.4g、Ga2O3:14.0g、Bi2O3:7820g、B2O3:14.0gとした。
実施例2と同様に初期の融液組成を、1080℃溶融加熱した後に811℃に温度を降下させた。この融液に、格子定数12.498Åの3インチNOG基板を浸し、開始から終了まで12℃の温度幅を、43時間かけて緩やかに降温する形で結晶を育成した。このようにして得られた結晶の総育成膜厚は595μmであった。膜表面の格子定数は12.512Å(平均格子定数は12.505Å)であった。このようにして育成した結晶中でクラックが確認された。また、同様にして総育成膜厚345μmの結晶を育成した場合にクラックは見られなかったが、総育成膜厚425μmの結晶を育成した場合にはクラックが散見された。
Eu2O3、Tb4O7、Fe2O3、およびGa2O3にフラックスとしてBi2O3を加えたものを白金ルツボ中で1090℃で溶融加熱した後に790℃に温度を降下させた。溶融させる原料の重量(メルト組成)は、それぞれ、Eu2O3:21.5g、Tb4O7:174.0g、Fe2O3:525.5g、Ga2O3:24.0g、Bi2O3:10570gとした。
実施例3と同様に初期の融液組成を、1090℃溶融加熱した後に789℃に温度を降下させた。この融液に、格子定数12.498Åの3インチのNOG基板を浸し、開始から終了まで16℃の温度幅を、41時間かけて緩やかに降温する形で結晶を育成した。総育成膜厚は635μmであった。膜表面の格子定数は12.513Å(平均格子定数は12.506Å)であった。このようにして育成した結晶中でクラックが確認された。また、同様にして総育成膜厚345μmの結晶を育成した場合にクラックは見られなかったが、総育成膜厚500μmの結晶を育成した場合にはクラックが散見された。
Claims (4)
- 組成式(Ln3-aBia)(Fe5-bAb)O12で表されるビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜を格子定数Lsの常磁性ガーネットの基板を用いて育成するビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法であって、
前記基板の表面に平均格子定数Lb(ただし、Lb>Ls)のバッファ層を5~30μmの厚さで形成するステップと、
前記バッファ層に重ねて平均格子定数Lf(ただし、Lf>Lb)の目的とする前記ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜を100μm以上育成するステップとを備え、
前記バッファ層における格子定数変化率が前記ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜における格子定数変化率と比較して急峻であり、
前記バッファ層と目的とする前記ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜とは、共通のメルト組成で連続して結晶育成され、且つ、前記バッファ層の育成では、前記ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶膜の育成と比較して、短時間且つ急速に降温されることを特徴とするビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法。ただし、前記組成式において、Lnは、LnはY,ランタノイド(La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,およびLu)から選択される元素およびCa,Mg,Zr、Hfから選択される微量元素から選択され、Aは、Al,Ga,In,Sc,Ti,Si,GeおよびSnから選択される1以上の元素である。 - 常温において、Lb-Lsが+0.001~+0.005Åであり、Lf-Lsが+0.005~+0.015Åであることを特徴とする請求項1に記載のビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法。
- 前記バッファ層の格子定数変化率が10×10-4%/μm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法。
- PbOフリーのメルト組成で結晶育成することを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載のビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法。
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