JP7345846B2 - 新規sp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボン - Google Patents
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Description
カーボン原料(sp2ハイブリダイゼーションカーボンが好ましい)をプリプレス金型に入れて、プレス機作用によって、カーボン原料をカーボン原料プリフォームにプリ成形した後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱する工程(1)と、
工程(1)でプリ加熱されたカーボン原料プリフォームをアセンブリブロックに入れた後、カーボン原料プリフォームを含むアセンブリブロックを乾燥ボックス内に入れて乾燥する工程(2)と、
工程(2)のアセンブリブロックを取り出して冷却し(室温まで冷却することが好ましい)、続いてプレス機に入れて高温高圧操作を行い、その後、再度冷却して圧力開放操作を行う工程(3)と、
プレス機からアセンブリブロックを取り出して、前記sp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンを得る工程(4)と、
を含む前記sp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンであるGradiaカーボンの調製方法を提供する。
カーボン原料をプリプレス金型に入れて、プレス機作用によって、カーボン原料をカーボン原料プリフォームにプリ成形した後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱する工程(1)と、
工程(1)でプリ加熱されたカーボン原料プリフォームをアセンブリブロックに入れた後、カーボン原料プリフォームを含むアセンブリブロックを乾燥ボックス内に入れて乾燥する工程(2)と、
工程(2)のアセンブリブロックを取り出して冷却し(室温まで冷却することが好ましい)、続いてプレス機に入れて高温高圧操作を行い、その後、再度冷却して圧力開放操作を行う工程(3)と、
プレス機からアセンブリブロックを取り出して、前記sp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボン(ブロック)を得る工程(4)と、を含む。
グラファイト、フラーレン、カーボンナノチューブ、アモルファスカーボン及びオニオンカーボンなどの一種類以上のsp2ハイブリダイゼーションカーボン材料を含むsp2ハイブリダイゼーションカーボン含有材料をプリプレス金型に入れて、プレス機作用によって、sp2ハイブリダイゼーションカーボン材料を直円筒形のプリフォームにプリ成形した後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱を行い、そのプリ加熱温度は400~1800℃であり、プリ加熱時間は10~60minであり、プリ加熱圧力は30~50MPaである工程(1)と、
工程(1)でプリ加熱されたsp2ハイブリダイゼーションカーボン材料プリフォームをアセンブリブロックに入れた後、sp2ハイブリダイゼーションカーボン材料プリフォームを含むアセンブリブロックを乾燥ボックス内に入れて乾燥し、その乾燥温度は100~250℃であり、乾燥時間は1~3hである工程(2)と、
工程(2)のアセンブリブロックを取り出して室温まで冷却し、続いて米国、Rockland Research社製のT25型プレス機に入れて高温高圧操作を行い、その合成圧力は1~25GPaであり、温度は25~2500℃であり、保温時間は5~120分であり、その後、再度冷却して圧力開放操作を行う工程(3)と、
プレス機からアセンブリブロックを取り出して(焼結体の周囲のアセンブリブロックを取り外す)、新規sp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンであるGradiaカーボンを得る工程(4)と、を含む。
工程(1):グラファイトを金型にプリプレスし、プレス機を用いて20~40MPaの圧力で5~10minプリ成形して、円筒形のプリフォームを得て、その後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱する。そのプリ加熱温度は1000~1600℃に制御され、プリ加熱時間は20~40minに制御される。
工程(1):カーボンナノチューブを金型にプリプレスし、プレス機を用いて30~50MPaの圧力で5~10minプリ成形して、円筒形のプリフォームを得て、その後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱する。そのプリ加熱温度は800~1600℃に制御され、プリ加熱時間は15~40minに制御される。
工程(1):フラーレンを金型にプリプレスし、プレス機を用いて20~50MPaの圧力で5~15minプリ成形して、円筒形のプリフォームを得る。
工程(1):グラファイト原料を希塩酸に入れて不純物を除去し、酸洗浄後、カーボン原料を液体から分離し、脱イオン水で複数回洗浄する。洗浄後のカーボン原料を乾燥処理して、基本的に精製されたカーボン原料を得る。原料をプリプレス金型に入れ、プレース機を用いて20MPaの圧力で5分間のプリ成形を行い、円筒形のプリフォームを取た後、真空熱圧焼結炉内に入れてプリ加熱する。そのプリ加熱圧力は30MPaであり、プリ加熱温度は1200℃であり、プリ加熱時間は20minである。
実施例4の工程(1)~(4)を繰り返すが、工程(3)における合成温度を1600℃に設定した。
実施例4の工程(1)~(4)を繰り返すが、工程(1)におけるプリ加熱圧力を50MPa、プリ加熱温度を1400℃に設定し、工程(3)における合成温度を2100℃に設定した。
Claims (5)
- 基本構造ユニットが、sp2ハイブリダイゼーションのグラファイト様構造ユニットと、sp3ハイブリダイゼーションのダイヤモンド様構造ユニットとが特定の共格子結晶面で形成された構成であり、
前記sp2ハイブリダイゼーションのグラファイト様構造ユニットは、前記特定の共格子結晶面の一方の側に位置し、前記sp3ハイブリダイゼーションのダイヤモンド様構造ユニットは、前記特定の共格子結晶面の他方の側に位置する、
ことを特徴とするsp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボン。 - 前記sp2ハイブリダイゼーションのグラファイト様構造ユニット及び前記sp3ハイブリダイゼーションのダイヤモンド様構造ユニットの空間群は、それぞれ独立に、10(P2/m)又は11(P21/m)又は12(C2/m)である、
ことを特徴とする請求項1に記載のsp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボン。 - 請求項1に記載のsp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンを含む切削工具。
- 請求項1に記載のsp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンを含む研削工具。
- 請求項1に記載のsp2-sp3ハイブリダイゼーションクリスタルカーボンを含む半導体デバイス。
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