JP7314982B2 - 低反射コーティング剤、コーティング剤キット、硬化物及び積層物 - Google Patents

Description

本開示は、低反射コーティング剤、コーティング剤キット、硬化物及び積層物に関する。

近年、テレビ、パーソナルコンピュータ等の表示装置として、液晶表示装置が使用されている。このような液晶表示装置において、外光の映りを防止して画質を向上させるため、低屈折率層を含む反射防止膜を使用することが提案されている（特許文献１）。

特開２０１４－０８５３８３号公報

コーティング剤に低反射性（低屈折率性）を持たせるため、中空粒子を使用することがある。この場合、粒子が中空であるため、耐擦傷性が低くなるという問題がある。

中空粒子を配合したコーティング剤に対し、中実アルミナ粒子をさらに配合することで、耐擦傷性の低下を抑制することができる。しかし、中空粒子及び中実アルミナ粒子をひとつの系に共存させた状態は安定性が問題となることが分かった。

そこで、発明が解決しようとする課題の１つは安定性が良好な低反射コーティング剤を提供することとする。

発明が解決しようとする課題の１つは低反射性を維持しつつ、耐擦傷性が良好な積層物を製造できるコーティング剤キットを提供することとする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の成分を用いることにより上記課題が解決されることを見出した。

本開示により以下の項目が提供される。
（項目１）
酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、
中空無機粒子及び
中実アルミナ粒子を含み、
前記中実アルミナ粒子の含有量が固形分中２～１５質量％である、
低反射コーティング剤。
（項目２）
（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルを含む、上記項目に記載の低反射コーティング剤。
（項目３）
中実アルミナ粒子を固形分中２～１５質量％含む低反射コーティング剤及び
中実アルミナ粒子を含むアンカー剤を含む、コーティング剤キット。
（項目４）
上記項目のいずれか１項に記載の低反射コーティング剤及び／又は上記項目に記載のコーティング剤キットの硬化物。
（項目５）
上記項目に記載の硬化物を含む、積層物。

本開示において、上述した１又は複数の特徴は、明示された組み合わせに加え、さらに組み合わせて提供され得る。

本実施形態に係る低反射コーティング剤は安定性が良好である。

本実施形態に係るコーティング剤キットを用いることにより、低反射性及び耐擦傷性、が良好な積層物を製造できる。

本開示の全体にわたり、各物性値、含有量等の数値の範囲は、適宜（例えば下記の各項目に記載の上限及び下限の値から選択して）設定され得る。具体的には、数値αについて、数値αの上限及び下限としてＡ３、Ａ２、Ａ１（Ａ３＞Ａ２＞Ａ１とする）等が例示される場合、数値αの範囲は、Ａ３以下、Ａ２以下、Ａ３未満、Ａ２未満、Ａ１以上、Ａ２以上、Ａ１より大きい、Ａ２より大きい、Ａ１～Ａ２（Ａ１以上Ａ２以下）、Ａ１～Ａ３、Ａ２～Ａ３、Ａ１以上Ａ３未満、Ａ１以上Ａ２未満、Ａ２以上Ａ３未満、Ａ１より大きくＡ３未満、Ａ１より大きくＡ２未満、Ａ２より大きくＡ３未満、Ａ１より大きくＡ３以下、Ａ１より大きくＡ２以下、Ａ２より大きくＡ３以下等が例示される。

［低反射コーティング剤：コーティング剤ともいう］
本開示は、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、
中空無機粒子及び
中実アルミナ粒子を含み、
前記中実アルミナ粒子の含有量が固形分中２～１５質量％である、
低反射コーティング剤を提供する。

＜酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート＞
酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上で使用され得る。

本開示において、「酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート」は、酸性基を１個以上、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物を意味する。

本開示において、「酸性基」は、水素原子が１個以上解離して塩基が生じる基を意味する。

酸性基は、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等が例示される。

本開示において「（メタ）アクリル」は「アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」は「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。また「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル及びメタクリロイルからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートを用いることにより、低反射性コーティング剤の安定性を向上させることができると考えられる。この原因は、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートが中実アルミナ粒子に対して分散剤として働き、中実アルミナ粒子の凝集・沈降を防いでいるためであると考えられる。なお、上記はあくまでも１つの説であり、本発明が上記説に拘束されることを意図するものではない。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートは、水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート、カルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレート等が例示される。

（水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート）
水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートは、水酸基含有（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、水酸基含有（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート、水酸基含有（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート等が例示される。

・水酸基含有（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート
（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは、式（Ａ’）等で表される化合物である。
［式中、ｎは０～２の整数であり、Ｒ^ｂ１’～Ｒ^{ｂ６ ’}は、それぞれ独立に水素原子、
｛式中、ｑはそれぞれ独立に０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^３’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、
Ｒ^ｂ４’、及びＲ^ｂ５’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
式（Ａ^’）中においてＲ^ｂ１’～Ｒ^{ｂ６ ’}のうち２個以上が
｛式中、ｑは０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^{３ ’}はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、Ｒ^ｂ１’～Ｒ^{ｂ６ ’}のうち１個以上が水素原子である。］

なお、本開示において「各構成単位ごとに基が異なっていてもよい」は、例えば式（Ａ’）において、ｎが２であるとき、
Ｒ^ｂ４ＡとＲ^ｂ４Ｂとは異なる基であってよく、Ｒ^ｂ５ＡとＲ^ｂ５Ｂとは異なる基であってよいことを意味する。

本開示において「水酸基含有（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「水酸基含有ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、水酸基含有ペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート及び水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１つ」を意味する。

水酸基含有ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートは、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、ペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が例示される。

水酸基含有ペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、ペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールトリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールペンタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘキサ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘプタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールオクタ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールトリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールペンタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘキサ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリペンタエリスリトールヘプタ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が例示される。

水酸基含有ポリペンタエリスリトールポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールジエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサエポキシ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

・水酸基含有（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート
水酸基含有（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは式（Ｂ’）等で表される化合物である。
［式中、ｍは０～２の整数であり、Ｒ^ｂ７’～Ｒ^{ｂ１０ ’}は、それぞれ独立に水素原子、
｛式中、ｑはそれぞれ独立に０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^３’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、
Ｒ^ｂ９’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
式（Ｂ^’）中においてＲ^ｂ７’～Ｒ^{ｂ１０ ’}のうち２個以上が
｛式中、ｑは０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^{３ ’}はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、Ｒ^ｂ７’～Ｒ^{ｂ１０ ’}のうち１個以上が水素原子である。］

本開示において「水酸基含有（ポリ）トリメチロールプロパンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「水酸基含有トリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、水酸基含有トリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート及び水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つ」を意味する。

水酸基含有トリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレートは、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、トリメチロールプロパンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリメチロールプロパンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が例示される。

水酸基含有トリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、トリメチロールプロパンジエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジトリメチロールプロパントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が例示される。

水酸基含有ポリトリメチロールプロパンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、ジトリメチロールプロパンジエポキシ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

・水酸基含有（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート
水酸基含有（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレートは、式（Ｃ’）等で表される化合物である。
［式中、ｐは０～７の整数であり、Ｒ^ｂ１１’～Ｒ^{ｂ１４ ’}は、それぞれ独立に水素原子、
｛式中、ｑは０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^３’はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、
Ｒ^ｂ１３’は各構成単位ごとに基が異なっていてもよく、
式（Ｃ^’）中においてＲ^ｂ１１’～Ｒ^{ｂ１４ ’}の２個以上が
｛式中、ｑは０～１６の整数であり、Ｒ^１’～Ｒ^{３ ’}はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基であり、Ｒ^１’は各単位ごとに基が異なっていてもよい。｝
であり、Ｒ^ｂ１１’～Ｒ^{ｂ１４ ’}の１個以上が水素原子である。］

本開示において「水酸基含有（ポリ）グリセリンポリ（アルキレンオキサイド変性又はエポキシ変性）（メタ）アクリレート」は、「水酸基含有グリセリンポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有グリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、水酸基含有グリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレート、水酸基含有ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート及び水酸基含有ポリグリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つ」を意味する。

水酸基含有グリセリンポリ（メタ）アクリレートは、グリセリンジ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有グリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、グリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、グリセリンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）等が例示される。

水酸基含有グリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、グリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリグリセリンポリ（メタ）アクリレートは、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、トリグリセリンジ（メタ）アクリレート、トリグリセリントリ（メタ）アクリレート、トリグリセリンテトラ（メタ）アクリレート等が例示される。

水酸基含有ポリグリセリンポリアルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートは、ジグリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンジ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリントリ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンテトラ（エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、ジグリセリントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンジ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリントリ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、トリグリセリンテトラ（プロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレート）、等が例示される。

水酸基含有ポリグリセリンポリエポキシ変性（メタ）アクリレートは、ジグリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリンジエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリントリエポキシ（メタ）アクリレート、トリグリセリンテトラエポキシ（メタ）アクリレート等が例示される。

（カルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレート）
カルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレートは、水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートとカルボン酸無水物との反応物等が例示される。

カルボン酸無水物は、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水コハク酸等が例示される。

カルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレートの製品は、アロニックスＭ５１０（酸価：８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、東亞合成（株）製）、アロニックスＭ５２０（酸価：２０～４０ｍｇＫＯＨ／ｇ、東亞合成（株）製）等が例示される。

１つの実施形態において、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートは、硬化物の耐擦傷性が良好である観点から、カルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとカルボン酸無水物との反応物がより好ましく、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとカルボン酸無水物との反応物がさらに好ましく、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸無水物との反応物が特に好ましい。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの分子量の上限及び下限は、５００００、４００００、３００００、２００００、１００００、５０００、４０００、２０００、１０００、９００、８００、７００、６００、５００、４５０、４００、３００、２５０、１００、５０等が例示される。１つの実施形態において、上記分子量は、５０～５００００が好ましい。

本開示において、単に「分子量」と記載する場合、式量又は数平均分子量のどちらかを意味する。特定の化学式で一義的に化合物の構造を表現できる（すなわち分子量分布が１である）場合、上記分子量は式量を意味する。一方、特定の化学式で一義的に化合物の構造を表現できない（すなわち分子量分布が１より大きい）場合、上記分子量は数平均分子量を意味する。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの酸価の上限及び下限は、３００、２９０、２８０、２７０、２６０、２５０、２４０、２３０、２２０、２１０、２００、１９０、１８０、１７０、１６０、１５０、１４０、１３０、１２０、１１０、１００、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ等が例示される。１つの実施形態において、上記酸価は、１０～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの水酸基価の上限及び下限は、２８０、２７０、２６０、２５０、２４０、２３０、２２０、２１０、２００、１９０、１８０、１７０、１６０、１５０、１４０、１３０、１２０、１１０、１００、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、１０、５、０ｍｇＫＯＨ／ｇ等が例示される。１つの実施形態において、上記水酸基価は、０～２８０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、１０～２８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの（メタ）アクリロイル基個数の上限及び下限は、３０、２８、２６、２４、２２、２０、１８、１６、１４、１２、１０、９、８、７、６、５、４、３、２個等が例示される。１つの実施形態において、上記個数は、２～３０個程度が好ましい。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの酸性基個数の上限及び下限は、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１個等が例示される。１つの実施形態において、上記個数は１～１０個が好ましい。

コーティング剤固形分１００質量％中の酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの含有量の上限及び下限は、７０、６５、６０、５７、５５、５４、５３、５２、５１、５０、４９、４８、４７、４６、４５、４４、４３、４２、４１、４０、３５、３０、２５、２０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は２０～７０質量％が好ましい。

＜中空無機粒子＞
中空無機粒子は、単独又は２種以上で使用され得る。

中空粒子は、内部に空孔を有している粒子であれば特に制限なく用いることができる。中空粒子は、球状、棒状、板状、繊維状、不定形状のいずれであってもよい。

中空無機粒子は、中空シリカ粒子、中空アルミノシリケート粒子、中空アルミナ粒子、中空ムライト粒子、中空酸化チタン粒子、中空フッ化マグネシウム粒子、フライアッシュバルーン等が例示される。

１つの実施形態において、中空無機粒子は、表面が変性された変性中空無機粒子が好ましい。変性中空無機粒子は、（メタ）アクリル変性中空無機粒子、シリコーン変性中空無機粒子等が例示される。

変性中空無機粒子１００質量％に対する変性部分の含有量の上限及び下限は、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、１、０．１、０．０１質量％等が例示される。１つの実施形態において、粒子の分散性、硬化物の耐擦傷性を向上させる観点から、上記含有量は、０．０１～４０質量％程度が好ましく、０．１～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％がさらに好ましい。

中空無機粒子の製品は、スルーリア５３２０、スルーリア４３２０、スルーリア４１１０、スルーリア２３２０、スルーリア１１１０、ＪＸ１００８ＳＩＶ、ＪＸ１００９ＳＩＶ（日揮触媒化成工業（株）製）、シリナックス（日鉄鉱業（株）製）等が例示される。

中空無機粒子の粒子径の上限及び下限は１００、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０ｎｍ等が例示される。１つの実施形態において、上記粒子径は、４０～１００ｎｍが好ましい。

中空無機粒子の粒子径は、走査型電子顕微鏡（例えば、ＪＳＭ－７８００Ｆ Ｐｒｉｍｅ（日本電子（株）製））とＳＴＥＭ検出器（ＤＥＢＥＮ ＵＫ Ｌｔｄ．製）を用いて測定する。具体的には以下の手順により測定される。
まず、粒子サンプルをメチルイソブチルケトンにて有効成分０．２％に希釈し、十分に攪拌する。次に、ＳＴＥＭ用の支持膜付きマイクログリッド（ハイレゾカーボン ＨＲＣ－Ｃ１０ ＳＴＥＭ Ｃｕ１００Ｐグリッド仕様（（株）ステム製））に上記分散液を１滴たらし、乾燥させたものを測定サンプルとする。
次に、走査型電子顕微鏡により、加速電圧３０ｋＶの条件のもと、視野中の粒子が十分に測長できる倍率（例えば３００ｋ倍）にて画像を取得し、ランダムに５０個の粒子の粒径を測定して個数基準における粒子径を求める。粒径の測定は手動、または計測ツールを用いても良い。

中空無機粒子の屈折率の上限及び下限は、１．５、１．４、１．３、１．２、１．１等が例示される。１つの実施形態において、中空無機粒子の屈折率は、１．１～１．５が好ましい。

中空無機粒子の屈折率は、活性エネルギー線硬化性樹脂（例えば、新中村化学工業（株）製のジペンタエリスリトールポリアクリレート：製品名 ＮＫエステル Ａ－９５５０Ｗ）中に、被測定物を、固形比で１質量％、１０質量％、２０質量％含む組成物を成膜し、アッベ屈折計（製品名「ＮＡＲ－１Ｔ ＳＯＬＩＤ」、（株）アタゴ製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１４２：２０１４に準拠し、ナトリウムのＤ線の波長に対する屈折率を測定し、固形比１００質量％に外挿して算出される。

コーティング剤固形分１００質量％中の中空無機粒子の含有量の上限及び下限は、６５、６０、５５、５０、４５、４４、４３、４２、４１、４０、３９、３８、３７、３５、３０、２５、２０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は２０～６５質量％が好ましい。

＜中実アルミナ粒子＞
中実アルミナ粒子は、単独又は２種以上で使用され得る。

中実粒子は、内部に空孔を有していない粒子である。

アルミナは、Ａｌ_２Ｏ_３で表される酸化アルミニウムを意味し、α型、γ型、σ型、それらの混合体等の形態が知られている。

中実アルミナ粒子は、球状、棒状、板状、繊維状、不定形状のいずれであってもよい。

１つの実施形態において、中実アルミナ粒子は、表面が変性された変性中実アルミナ粒子が好ましい。変性中実アルミナ粒子は、（メタ）アクリル変性中実アルミナ粒子、シリコーン変性中実アルミナ粒子等が例示される。

中実アルミナ粒子の製品は、アルミゾルＦ－３０００（川研ファインケミカル（株）製）、バイラールＡＬ－７（多木化学（株）製）、ＮＡＮＯＢＹＫ－３６１０（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、Ｏｐｔｉｓｏｌ ＬＡＡ５３０Ｕ（ＲＡＮＣＯ社製）等が例示される。

中実アルミナ粒子の一次粒子径の上限及び下限は、１１０、１００、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、１５、１０、７、３ｎｍ等が例示される。１つの実施形態において、上記一次粒子径は、３～１１０ｎｍが好ましい。

中実アルミナ粒子の一次粒子径は、上記中空無機粒子の粒子径の測定方法と同様の手法により測定できる。

中実アルミナ粒子の二次粒子径の上限及び下限は、１１０、１００、９０、８０、７０、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５ｎｍ等が例示される。１つの実施形態において、上記二次粒子径は、２５～１１０ｎｍが好ましい。

中実アルミナ粒子の二次粒子径は、下記手順により測定される。
まず、粒子サンプルをメチルイソブチルケトンにて有効成分１％に希釈し、サンプル溶液を調製する。次に調製したサンプル溶液を動的光散乱法によるナノ粒子径測定装置（製品名「ナノトラック ＵＰＡ－ＥＸ１５０（マイクロトラック・ベル（株）製）」）を用いて測定を行う。本測定手法により得られる粒子径は体積平均粒子径であり、メジアン径の値を粒子径とする。

コーティング剤固形分１００質量％中の中実アルミナ粒子の含有量の上限及び下限は、１５、１４、１３、１２、１１、１０、９、８、７、６、５、４、３、２質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は、２～１５質量％が好ましく、６～１５質量％がより好ましい。

＜（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル＞
１つの実施形態において、上記コーティング剤は（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルを含み得る。（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルは、単独又は２種以上で使用され得る。

本開示において、（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルは、パーフルオロポリエーテルに１個以上の（メタ）アクリロイル基が結合した化合物を意味する。パーフルオロポリエーテルは、パーフルオロアルキレンエーテルを繰り返し単位とする化合物を意味する。

（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルは、両末端（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル、片末端（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル等が例示される。

（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルの製品は、ＫＹ－１２０３、ＫＹ－１２０７（信越化学工業（株）製）等が例示される。

１つの実施形態において、硬化物表面により撥水撥油性、滑り性、耐指紋付着性を付与できる観点から、ケイ素原子及び（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルが好ましい。ケイ素原子及び（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルの市販品はＫＹ－１２０３等が例示される。

コーティング剤固形分１００質量％中の（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルの含有量の上限及び下限は、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～１０質量％が好ましい。

＜光重合開始剤＞
１つの実施形態において、上記コーティング剤は光重合開始剤を含み得る。光重合開始剤は、単独又は２種以上で使用され得る。

光重合開始剤は、ラジカル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤、アニオン系光重合開始剤等が例示される。

ラジカル系光重合開始剤は、アルキルフェノン型光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤、水素引き抜き型光重合開始剤、オキシムエステル型光重合開始剤等が例示される。

アルキルフェノン型光重合開始剤は、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン等のベンジルジメチルケタール、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のα－ヒドロキシアルキルフェノン；２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン等のα－アミノアルキルフェノン等が例示される。

アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤は、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等が例示される。

水素引き抜き型光重合開始剤は、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル等が例示される。

オキシムエステル型光重合開始剤は、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が例示される。

カチオン系光重合開始剤は、ヨードニウム，（４－メチルフェニル）］４－（２－メチルプロピル）フェニル］－ヘキサフルオロホスフェート（１－）及びプロピレンカーボネートの混合物、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリアリールスルホニウム テトラキス－（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が例示される。

アニオン系光重合開始剤は、コバルトアミン系錯体、ｏ－ニトロベンジルアルコールカルバミン酸エステル、オキシムエステル等が例示される。

コーティング剤固形分１００質量％中の光重合開始剤の含有量の上限及び下限は、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～１０質量％が好ましい。

＜有機溶媒＞
１つの実施形態において、上記コーティング剤は有機溶媒を含み得る。有機溶媒は、単独又は２種以上で使用され得る。

有機溶媒は、ケトン溶媒、芳香族溶媒、アルコール溶媒、グリコール溶媒、グリコールエーテル溶媒、エステル溶媒、石油系溶媒、ハロアルカン溶媒、アミド溶媒等が例示される。

ケトン溶媒は、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が例示される。

芳香族溶媒は、トルエン、キシレン等が例示される。

アルコール溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等が例示される。

グリコール溶媒は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が例示される。

グリコールエーテル溶媒は、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔ－ブチルエーテル等が例示される。

エステル溶媒は、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が例示される。

石油系溶媒は、ソルベッソ＃１００（エクソン社製）、ソルベッソ＃１５０（エクソン社製）等が例示される。

ハロアルカン溶媒は、クロロホルム等が例示される。

アミド溶媒は、ジメチルホルムアミド等が例示される。

コーティング剤１００質量％中の有機溶媒の含有量の上限及び下限は、９９、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～９９質量％が好ましい。

コーティング剤における酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートと中空無機粒子との質量比（酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの質量／中空無機粒子の質量）の上限及び下限は、３．５、３．３、３、２．７、２．５、２．３、２、１．７、１．５、１．３、１、０．７、０．５、０．３等が例示される。１つの実施形態において、上記質量比は、０．３～３．５が好ましい。

コーティング剤における酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートと中実アルミナ粒子との質量比（酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートの質量／中実アルミナ粒子の質量）の上限及び下限は、１１．７、１１．５、１１．３、１１、１０．７、１０．５、１０．３、１０、９．７、９．５、９．３、９、８．７、８．５、８．３、８、７．７、７．５、７．３、７、６．７、６．５、６．３、６、５．７、５．５、５．３、５、４．７、４．５、４、３．７、３．５、３．３、３、２．７、２．５、２．３、２、１．７、１．５、１．３等が例示される。１つの実施形態において、上記質量比は、１．３～１１．７が好ましい。

コーティング剤における中空無機粒子と中実アルミナ粒子との質量比（中空無機粒子の質量／中実アルミナ粒子の質量）の上限及び下限は、１０．８、１０．５、１０．３、１０、９．７、９．５、９．３、９、８．７、８．５、８．３、８、７．７、７．５、７．３、７、６．７、６．５、６．３、６、５．７、５．５、５．３、５、４．７、４．５、４、３．７、３．５、３．３、３、２．７、２．５、２．３、２、１．７、１．５、１．３等が例示される。１つの実施形態において、上記質量比は、１．３～１０．８が好ましい。

＜添加剤＞
上記コーティング剤には、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、中空無機粒子、中実アルミナ粒子、（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル、光重合開始剤、有機溶媒のいずれにも該当しない剤を添加剤として含み得る。

添加剤は、バインダー樹脂（アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂等）、防滑剤、スリップ剤、防腐剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、顔料、染料、滑剤、レベリング剤、触媒、消泡剤、光増感剤（アミン類、キノン類等）等が例示される。

１つの実施形態において、添加剤の含有量は、コーティング剤１００質量部に対して、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が例示される。また、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、中空無機粒子、中実アルミナ粒子、（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル、光重合開始剤、有機溶媒のいずれか１００質量部に対して、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が例示される。

上記コーティング剤は、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、中空無機粒子、及び中実アルミナ粒子、並びに必要に応じて（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル、光重合開始剤、有機溶媒及び添加剤が、各種公知の手段により分散・混合されることにより製造され得る。なお、各成分の添加順序は特に限定されない。また、分散・混合手段は、各種公知の装置（乳化分散機、超音波分散装置等）が用いられ得る。

［コーティング剤キット］
本開示は、中実アルミナ粒子を固形分中２～１５質量％含む低反射コーティング剤及び、中実アルミナ粒子を含むアンカー剤を含む、コーティング剤キットを提供する。

コーティング剤キット中の低反射コーティング剤に含まれる成分、量等は上述のもの等が例示される。

なお、コーティング剤キットを製造後、安定性が問題とならない程度の時間内にコーティング剤キットを使用して積層物を製造できる。この場合、コーティング剤キットに酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートが含まれていなくとも所望の積層物が得られる。また、中空無機粒子を使用しなくとも、フッ素系樹脂等を使用することにより、低反射性を実現できる。

＜アンカー剤＞
アンカー剤に含まれる中実アルミナ粒子は上述のもの等が例示される。中実アルミナ粒子は、単独又は２種以上で使用され得る。

アンカー剤固形分１００質量％中の中実アルミナ粒子の含有量の上限及び下限は、１８、１７、１６、１５、１４、１３、１２、１１、１０、９、８、７、６、５、４、３、２質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は２～１８質量％が好ましい。

・ポリ（メタ）アクリレート
１つの実施形態において、アンカー剤はポリ（メタ）アクリレートを含み得る。ポリ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上で使用され得る。

ポリ（メタ）アクリレートは、酸性基含有ポリ（メタ）アクリレート、ウレタンポリ（メタ）アクリレート等が例示される。

酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートは上述のもの等が例示される。

ウレタンポリ（メタ）アクリレートは、水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート及びポリイソシアネートを含む化合物群の反応物等が例示される。

ウレタンポリ（メタ）アクリレートの原料となる水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートは上述のもの等が例示される。

本開示において、「ポリイソシアネート」とは、２個以上のイソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）を有する化合物である。

ポリイソシアネートは、直鎖脂肪族ポリイソシアネート、分岐脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート、芳香族ポリイソシアネート並びにこれらのビウレット体、イソシアヌレート体（ヌレート体）、アロファネート体、アダクト体等が例示される。

直鎖脂肪族ポリイソシアネートは、メチレンジイソシアネート、ジメチレンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート等が例示される。

分岐脂肪族ポリイソシアネートは、ジエチルペンチレンジイソシアネート、トリメチルブチレンジイソシアネート、トリメチルペンチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が例示される。

脂環族ポリイソシアネートは、単環脂環族ポリイソシアネート、架橋環脂環族ポリイソシアネート、縮合環脂環族ポリイソシアネート等が例示される。

単環脂環族ポリイソシアネートは、水添キシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、シクロヘプチレンジイソシアネート、シクロデシレンジイソシアネート、３，５，５－トリメチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が例示される。

架橋環脂環族ポリイソシアネートは、トリシクロデシレンジイソシアネート、アダマンタンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート等が例示される。

縮合環脂環族ポリイソシアネートは、ビシクロデシレンジイソシアネート等が例示される。

芳香族基は、単環芳香族基、縮合環芳香族基等が例示される。また芳香族基は、１個以上の水素原子が直鎖又は分岐アルキル基によって置換されていてもよい。

単環芳香族基は、フェニル基（フェニレン基）、トリル基（トリレン基）、メシチル基（メシチレン基）等が例示される。また縮合環芳香族基は、ナフチル基（ナフチレン基）等が例示される。

芳香族ポリイソシアネートは、単環芳香族ポリイソシアネート、縮合環芳香族ポリイソシアネート等が例示される。

単環芳香族ポリイソシアネートは、４，４’－ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート等のジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルテトラメチルメタンジイソシアネート等のテトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’－ジベンジルイソシアネート、１，３－フェニレンジイソシアネート、１，４－フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ｍ－テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が例示される。

縮合環芳香族ポリイソシアネートは、１，５－ナフチレンジイソシアネート等が例示される。

ポリイソシアネートのビウレット体は、
下記構造式：
［式中、ｎ^ｂは、１以上の整数であり、Ｒ^ｂＡ～Ｒ^ｂＥはそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^ｂα～Ｒ^ｂβはそれぞれ独立に、イソシアネート基又は
（ｎ^ｂ１は、０以上の整数であり、Ｒ^ｂ１～Ｒ^ｂ５はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^ｂ’～Ｒ ^ｂ''はそれぞれ独立に、イソシアネート基又はＲ^ｂα～Ｒ^ｂβ自身の基である。Ｒ^ｂ４～Ｒ^ｂ５、Ｒ ^ｂ''は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）である。Ｒ^ｂＤ～Ｒ^ｂＥ、Ｒ^ｂβは、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。］で表される化合物等が例示される。

ポリイソシアネートのビウレット体は、デュラネート２４Ａ－１００、デュラネート２２Ａ－７５Ｐ、デュラネート２１Ｓ－７５Ｅ（以上旭化成（株）製）、デスモジュールＮ３２００Ａ（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体）（以上住化コベストロウレタン（株）製）等が例示される。

ポリイソシアネートのイソシアヌレート体は、
下記構造式：
［式中、ｎ^ｉは、０以上の整数であり、Ｒ^ｉＡ～Ｒ^ｉＥはそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^ｉα～Ｒ^ｉβはそれぞれ独立に、イソシアネート基又は
（ｎ^ｉ１は、０以上の整数であり、Ｒ^ｉ１～Ｒ^ｉ５はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^ｉ’～Ｒ ^ｉ'' はそれぞれ独立に、イソシアネート基又はＲ^ｉα～Ｒ^ｉβ自身の基である。Ｒ^ｉ５、Ｒ^ｉ''は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）である。Ｒ^ｉＤ～Ｒ^ｉＥ、Ｒ^ｉβは、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。］で表される化合物等が例示される。

ポリイソシアネートのイソシアヌレート体の市販品は、デュラネートＴＰＡ－１００、デュラネートＴＫＡ－１００、デュラネートＭＦＡ－７５Ｂ、デュラネートＭＨＧ－８０Ｂ（以上旭化成（株）製）、コロネートＨＸＲ、コロネートＨＸ、コロネートＨＫ（ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体）、コロネート２０３７（以上東ソー（株）製）、タケネートＤ－１２７Ｎ（水添キシレンジイソシアネートのイソシアヌレート体）、タケネートＤ－１３１Ｎ（キシレンジイソシアネートのイソシアヌレート体）、タケネートＤ－２０４ＥＡ－１（トリレンジイソイアネートのイソシアヌレート体）（以上三井化学（株）製）、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０／１００（イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体）（以上エボニック・ジャパン（株）製）等が例示される。

ポリイソシアネートのアロファネート体は、
下記構造式：
［式中、ｎは、０以上の整数であり、Ｒ^Ａは、アルキル基又はアリール基であり、Ｒ^Ｂ～Ｒ^Ｇはそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^α～Ｒ^γはそれぞれ独立に、イソシアネート基又は
（ｎ１は、０以上の整数であり、Ｒ^１～Ｒ^６はそれぞれ独立に、アルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ’～Ｒ’’’はそれぞれ独立に、イソシアネート基又はＲ^α～Ｒ^γ自身の基である。Ｒ^１～Ｒ^４、Ｒ’～Ｒ’’は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）である。Ｒ^Ｂ～Ｒ^Ｅ、Ｒ^α～Ｒ^βは、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。］で表される化合物等が例示される。

ポリイソシアネートのアロファネート体の市販品は、コロネート２７９３（東ソー（株）製）、タケネートＤ－１７８Ｎ（三井化学（株）製）等が例示される。

ポリイソシアネートのアダクト体は、
下記構造式：
［式中、ｎ^adは０以上の整数であり、Ｒ^adＡ～Ｒ^adＥは、それぞれ独立にアルキレン基又はアリーレン基であり、Ｒ^ad１～Ｒ^ad２は、それぞれ独立に
（式中、ｎ^ad’は０以上の整数であり、
Ｒ^ad’～Ｒ^ad’’は、それぞれ独立にアルキレン基又はアリーレン基であり、
Ｒ^ad’’’は、Ｒ^ad１～Ｒ^ad２自身の基であり、
Ｒ^ad’～Ｒ^ad’’’は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）
であり、Ｒ^adＤ～Ｒ^adＥ、Ｒ^ad２は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。］
で示されるトリメチロールプロパンとポリイソシアネートのアダクト体、
下記構造式
［式中、ｎ^ad1は０以上の整数であり、
Ｒ^adα～Ｒ^adεは、それぞれ独立にアルキレン基又はアリーレン基であり、
Ｒ^adＡ～Ｒ^adＢは、それぞれ独立に
（式中、ｎ^ad1’は０以上の整数であり、
Ｒ^adδ’～Ｒ^adε’は、それぞれ独立にアルキレン基又はアリーレン基であり、
Ｒ^adＢ’は、Ｒ^adＡ～Ｒ^adＢ自身の基であり、
Ｒ^adδ’～Ｒ^adε’、Ｒ^adＢ’は、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。）である。
Ｒ^adδ～Ｒ^adεは、各構成単位ごとに基が異なっていてもよい。］
で示されるグリセリンとポリイソシアネートのアダクト体等が例示される。

ポリイソシアネートのアダクト体は、デュラネートＰ３０１－７５Ｅ（以上旭化成（株）製）、タケネートＤ１１０Ｎ、タケネートＤ１６０Ｎ（以上三井化学（株）製）、コロネートＬ、コロネートＨＬ（以上東ソー（株）製）等が例示される。

ポリイソシアネートのＮＣＯ含有率（ＮＣＯ％）の上限及び下限は、３０、２５、２０、１５、１０％等が例示される。１つの実施形態において、上記ＮＣＯ含有率（ＮＣＯ％）は、１０～３０％が好ましい。

ポリイソシアネートのイソシアネート基当量の上限及び下限は、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１ｍｅｑ／ｇ等が例示される。１つの実施形態において、上記イソシアネート基当量は１～１０ｍｅｑ／ｇが好ましい。

本開示において、イソシアネート基当量は、固形１ｇ中に存在するイソシアネート基の物質量を意味する。

ウレタンポリ（メタ）アクリレートの原料となる化合物群には、アルキレンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオール、ポリオレフィンポリオール等が含まれていてもよい。

アルキレンポリオール
アルキレンポリオールは、直鎖アルキレンポリオール、分岐アルキレンポリオール等が例示される。

直鎖アルキレンポリオールは、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール、ノナンジオール、デカンジオール等が例示される。

分岐アルキレンポリオールは、ネオペンチルグリコール、２，４－ジエチル－１，５－ペンタンジオール、２，４－ジブチル－１，５－ペンタンジオール、１－メチルエチレングリコール、１－エチルエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が例示される。

シクロアルキレンポリオールは、単環シクロアルキレンポリオール、架橋環シクロアルキレンポリオール等が例示される。

単環シクロアルキレンポリオールは、１，４－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、２，２’－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン等が例示される。

架橋環シクロアルキレンポリオールは、トリシクロデカンジメタノール等が例示される。

ポリエーテルポリオール
本開示において、「ポリエーテルポリオール」は、ヒドロキシ基を２個以上及びエーテル結合を含む繰り返し単位を２個以上有する化合物を意味する。ポリエーテルポリオールは二種以上を併用してもよい。１つの実施形態において、ポリエーテルポリオールは下記構造式
ＨＯ－（Ｒ^３’－Ｏ－）_ｎＨ
（式中、Ｒ^３’は、アルキレン基、又はシクロアルキレン基であり、ｎは２以上の整数である。）で表わされる。

ポリエーテルポリオールは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が例示される。

ポリエステルポリオール
本開示において、「ポリエステルポリオール」は、ヒドロキシ基を２個以上及び分子内にエステル結合を含む繰り返し単位を２個以上有する化合物を意味する。ポリエステルポリオールは二種以上を併用してもよい。１つの実施形態において、ポリエステルポリオールは下記構造式
ＨＯ－｛Ｒ^４ａ’－ＯＣ（Ｏ）－Ｒ^４ｂ’－Ｃ（Ｏ）Ｏ｝_ｍ－Ｒ^４ａ’－ＯＨ
（式中、Ｒ^４ａ’及びＲ^４ｂ’はそれぞれ独立に、アルキレン基、又はシクロアルキレン基であり、ｍは２以上の整数である。）で表わされる。

本開示において、「ポリエステルポリオール」はポリカルボン酸又はその無水物と、ポリオールとの反応生成物である。

ポリカルボン酸は、ジカルボン酸等が例示される。

ジカルボン酸は、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２－メチルコハク酸、２－メチルアジピン酸、３－メチルアジピン酸、３－メチルペンタン二酸、２－メチルオクタン二酸、３，８－ジメチルデカン二酸、３，７－ジメチルデカン二酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、トリメリト酸、トリメシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等のジカルボン酸等が例示される。

ポリカルボン酸無水物は、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリト酸等が例示される。

ポリオールは、上記アルキレンポリオール、上記シクロアルキレンポリオール等が例示される。

ポリカーボネートポリオール
本開示において、「ポリカーボネートポリオール」は、例えば、ヒドロキシ基を２個以上及びカーボネート結合を含む繰り返し単位を２個以上有する化合物を意味する。ポリカーボネートポリオールは単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

１つの実施形態において、ポリカーボネートポリオールは、下記構造式
ＨＯ－｛Ｒ^{ａＣａｒｂｏ}－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ｝_ｐ－Ｒ^{ｂＣａｒｂｏ}－ＯＨ
（式中、Ｒ^{ａＣａｒｂｏ}、及びＲ^{ｂＣａｒｂｏ}はそれぞれ独立に、アルキレン基、又はシクロアルキレン基であり、ｐは２以上の整数である。）で表わされる。

ポリカーボネートポリオールは、ポリオールとホスゲンとの反応物、環状炭酸エステル（アルキレンカーボネート等）の開環重合物等が例示される。

ポリオールは、上記アルキレンポリオール等が例示される。

アルキレンカーボネートは、エチレンカーボネート、トリメチレンカーボネート、テトラメチレンカーボネート、ヘキサメチレンカーボネート等が例示される。

アクリルポリオール
アクリルポリオールは、水酸基含有モノマーを含む単量体群の重合物である。上記単量体群には、水酸基非含有モノマーが含まれていてもよい。

ポリオレフィンポリオール
ポリオレフィンポリオールは、水酸基を２個以上有するポリオレフィンである。ポリオレフィンポリオールは、ポリブタジエンポリオール、水素添加ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素添加ポリイソプレンポリオール、これらの塩素化物等が例示される。

アンカー剤に含まれるポリ（メタ）アクリレートが有する（メタ）アクリロイル基の個数の上限及び下限は、１５、１４、１２、１３、１１、１０、９、８、７、６、５、４、３、２個等が例示される。１つの実施形態において、上記個数は、２～１５が好ましく、３～１５がより好ましい。

アンカー剤固形分１００質量％中のポリ（メタ）アクリレートの含有量の上限及び下限は、９４、９０、８８、８５、８０、７５、７０、６６、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～９４質量％が好ましい。

・光重合開始剤
１つの実施形態において、アンカー剤は光重合開始剤を含み得る。光重合開始剤は、単独又は２種以上で使用され得る。

光重合開始剤は上述のもの等が例示される。

アンカー剤固形分１００質量％中の光重合開始剤の含有量の上限及び下限は、１０、９、８、７、６、５、４、３、２、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～１０質量％が好ましい。

アンカー剤におけるポリ（メタ）アクリレートと中実アルミナ粒子との質量比（ポリ（メタ）アクリレートの質量／中実アルミナ粒子の質量）の上限及び下限は、４７、４５、４３、４１、４０、３９、３７、３５、３３、３１、３０、２９、２７、２５、２３、２１、２０、１９、１７、１５、１３、１１、１０、９、８、７、５、４、３、２、１、０．５、０．２、０．１、０等が例示される。１つの実施形態において、上記質量比は、０～４７が好ましい。

アンカー剤における光重合開始剤と中実アルミナ粒子との質量比（光重合開始剤の質量／中実アルミナ粒子の質量）の上限及び下限は、５、４．５、４、３．５、３、２．５、２、１．５、１、０．９、０．７、０．５、０．４、０．３、０．２、０．１、０等が例示される。１つの実施形態において、上記質量比は、０～５が好ましい。

・有機溶媒
１つの実施形態において、アンカー剤は有機溶媒を含み得る。有機溶媒は、単独又は２種以上で使用され得る。

有機溶媒は上述のもの等が例示される。

アンカー剤固形分１００質量％中の有機溶媒の含有量の上限及び下限は、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、１５、１０、５、２、１、０質量％等が例示される。１つの実施形態において、上記含有量は０～８０質量％が好ましい。

・アンカー剤用添加剤
上記アンカー剤には、中実アルミナ粒子、ポリ（メタ）アクリレート、光重合開始剤、有機溶媒のいずれにも該当しない剤をアンカー剤用添加剤として含み得る。

アンカー剤用添加剤は、上述のもの等が例示される。

１つの実施形態において、アンカー剤用添加剤の含有量は、アンカー剤１００質量部に対して、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が例示される。また、アンカー剤中の中実アルミナ粒子、ポリ（メタ）アクリレート、光重合開始剤、有機溶媒のいずれか１００質量部に対して、アンカー剤用添加剤の含有量は、１質量部未満、０．１質量部未満、０．０１質量部未満、０質量部等が例示される。

上記アンカー剤は、中実アルミナ粒子、並びに必要に応じてポリ（メタ）アクリレート、光重合開始剤、有機溶媒及びアンカー剤添加剤が、各種公知の手段により分散・混合されることにより製造され得る。なお、各成分の添加順序は特に限定されない。また、分散・混合手段は、各種公知の装置（乳化分散機、超音波分散装置等）が用いられ得る。

［硬化物］
本開示は、上記低反射コーティング剤及び／又は上記コーティング剤キットの硬化物を提供する。

硬化条件は後述のもの等が例示される。

［積層物］
本開示は、上記硬化物を含む、積層物を提供する。

１つの実施形態において、基材の少なくとも片面に上記低反射コーティング剤又は上記コーティング剤キットの硬化物からなる硬化物層が積層している。１つの実施形態において、基材の少なくとも片面に上記アンカー剤の硬化物からなるアンカー剤硬化物層が積層し、アンカー剤硬化物層に低反射コーティング剤の硬化物からなる低反射コーティング剤硬化物層が積層している。

基材の厚みの上限及び下限は、１２５、１２０、１１０、１００、９０、７５、５０、２５、１０、９、５、１μｍ等が例示される。１つの実施形態において、基材の厚みは、１～１２５μｍが好ましい。

低反射コーティング剤硬化物層の厚みの上限及び下限は、２００、１７５、１５０、１２５、１００、９０、７５、６０、５５ｎｍ等が例示される。１つの実施形態において、低反射コーティング剤硬化物層の厚みは、５５～２００ｎｍが好ましい。

アンカー剤硬化物層の厚みの上限及び下限は、６、５、４、３、２、１μｍ等が例示される。１つの実施形態において、アンカー剤硬化物層の厚みは、１～６μｍが好ましい。

上記積層物は各種公知の方法で製造される。１つの実施形態において、積層物の製造方法は、アンカー剤を基材の少なくとも片面に塗工する工程（アンカー剤塗工工程）、低反射コーティング剤をアンカー剤塗工層の上に塗工する工程（低反射コーティング剤塗工工程）、活性エネルギー線を照射することにより、硬化物層を形成する工程（活性エネルギー線硬化工程）を含む。

アンカー剤塗工工程、低反射コーティング剤塗工工程をまとめて塗工工程ともいう。

（塗工工程）
塗工方法は、バーコーター塗工、ワイヤーバー塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、フローコート塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷法等が例示される。

塗工量は特に限定されない。塗工量は、乾燥後の質量が０．１～３０ｇ／ｍ^２が好ましい。

（活性エネルギー線硬化工程）
活性エネルギー線硬化反応に用いる活性エネルギー線は、紫外線や電子線等が例示される。紫外線の光源は、キセノンランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプを有する紫外線照射装置等が例示される。なお、光量や光源配置、搬送速度等は必要に応じて調整できる。高圧水銀灯を使用する場合には、８０～１６０Ｗ／ｃｍ程度の光量を有するランプ１灯に対して搬送速度２～５０ｍ／分程度で硬化させるのが好ましい。一方、電子線の場合には、１０～３００ｋＶ程度の加速電圧を有する電子線加速装置により、搬送速度５～５０ｍ／分程度の条件で硬化させるのが好ましい。

以下、実施例及び比較例を通じて本発明を具体的に説明する。但し、上述の好ましい実施形態における説明及び以下の実施例は、例示の目的のみに提供され、本発明を限定する目的で提供するものではない。従って、本発明の範囲は、本明細書に具体的に記載された実施形態にも実施例にも限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。また、各実施例及び比較例において、特に説明がない限り、部、％等の数値は質量基準である。

（実施例１－１：低反射コーティング剤の製造）
酸性基含有ポリ（メタ）アクリレートとしてカルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレート（製品名「アロニックスＭ－５１０」、東亞合成（株）製）を４０質量部、中空無機粒子として中空シリカ粒子（製品名「スルーリア４３２０」、２０質量％メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成（株）製）を４２質量部、中実アルミナ粒子（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ－３６１０」、３０質量％メトキシプロピルアセテート、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）を１０質量部、（メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテル（製品名「ＫＹ－１２０３」、信越化学工業（株）製、２０質量％）を４質量部、光重合開始剤として２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ １２７Ｄ」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）を４質量部混合するとともに、メチルイソブチルケトンにて希釈し、固形分２質量％の低反射コーティング剤を製造した。

特段言及がない限り、実施例１－１以外の実施例１及び比較例１は、下記表のように変更した以外は、実施例１－１と同様にして行った。

（低反射コーティング剤の安定性試験）
上記低反射コーティング剤を２０ｍＬスクリュー管に入れ、５０℃の室温、遮光された環境にて１カ月間保管した後、スクリュー管の内容物の状態を評価した。評価基準は以下の通りである。
〇：全部が液状であり、ゲル状の部位が全くない
×：一部又は全部がゲル状に変化している
なお、上述のとおり、中空粒子と中実アルミナ粒子がひとつの系に存在する場合、安定性が問題となる。このことは中空粒子及び中実アルミナ粒子がひとつの系に存在していない比較例の安定性が悪くないことから理解される。

＜略称の説明＞
アロニックスＭ－３０６：ペンタエリスリトールトリアクリレート、東亞合成（株）製
ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業（株）製
ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、新中村化学工業（株）製
ＥＬＣＯＭ Ｖ８８０２：中実シリカ粒子、４０質量％メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成（株）製

（製造例１：アンカー剤の製造）
脂肪族ウレタンアクリレート（製品名「ビームセット５７７」、荒川化学工業（株）製）を６６質量部、ジペンタエリスリトールポリアクリレート（製品名「ＮＫエステル Ａ－９５５０Ｗ」、新中村化学工業（株）製）を２２質量部、（製品名「ＮＡＮＯＢＹＫ－３６１０」、３０質量％メトキシプロピルアセテート、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）を９質量部、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－メチルプロパノン（製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）を３質量部混合するとともに、メチルイソブチルケトンにて希釈し、固形分４０質量％のアンカー剤を調製した。

特段言及がない限り、製造例１以外の製造例及び比較製造例は、下記表のように変更した以外は、製造例１と同様にして行った。

（実施例２－１：積層物の製造）
上記で製造したアンカー剤をポリエステル（ＰＥＴ）フィルム（製品名「ルミラー ５０Ｕ４８３」、東レ（株）製）上にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、８０℃にて１分間乾燥後、高圧水銀灯（２００ｍＪ／ｃｍ^２）を用いて硬化させ、アンカーフィルムを得た。このアンカーフィルムのアンカー剤塗工面に対し、上記で製造した低反射コーティング剤を、バーコーターを用いて乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布し、８０℃にて１分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯（６００ｍＪ／ｃｍ^２）を用いて硬化させて、積層物を得た。

特段言及がない限り、実施例２－１以外の実施例２及び比較例２は、下記表のようにコーティング剤キットの組成を変更した以外は、実施例２－１と同様にして行った。

得られた積層物の特性を下記項目について評価した。その結果を下記表に示す。

（全光線透過率及びＨａｚｅ）
ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１（１９９７）の規格に準拠し、ヘーズメーター（製品名「ＨＺ－Ｖ３」、スガ試験機（株）製）を用いて積層物の全光線透過率、及びＨａｚｅを測定した。

（初期水接触角）
積層物の低反射コーティング剤塗工面が上方を向くようにしてガラス板に固定し、これらを除電したのちに協和界面科学（株）製接触角計「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ ＤＭ５００」を用いて、脱イオン水の液滴２μＬを静かに付着させ、１秒後の接触角を測定した（解析方法：θ／２法）。

（スチールウール試験後の水接触角）
積層物の低反射コーティング剤塗工面が上方を向くようにしてスチールウール試験機に設置し、＃００００のスチールウールを用いて、１ｋｇ／４ｃｍ^２の荷重で４ｃｍの摺動距離にて５００往復擦ることでスチールウール試験を実施した。スチールウール試験後、試験部位について、初期水接触角と同様の方法によって水接触角を測定した。

（耐スチールウール性）
積層物の低反射コーティング剤塗工面が上方を向くようにしてスチールウール試験機に設置し、＃００００のスチールウールを用いて、１ｋｇ／４ｃｍ^２の荷重で４ｃｍの摺動距離にて下記の往復回数を擦ることでスチールウール試験を実施した。試験後、積層物に発生した傷の本数を目視にて確認し、下記基準に沿って評価した。
〇：１０００往復後の傷が５本以下
×：１０００往復後の傷が６本以上

Claims (4)

1. 水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート及びカルボキシル基含有ポリ（メタ）アクリレートからなる群から選択される１つ以上、
   中空無機粒子及び
   中実アルミナ粒子を含み、
   前記中実アルミナ粒子の含有量が固形分中５質量％より大きく１５質量％以下であり、
   前記水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートの水酸基価は、１００～２８０ｍｇＫＯＨ／ｇである、
   低反射コーティング剤。
2. （メタ）アクリロイル基含有パーフルオロポリエーテルを含む、請求項１に記載の低反射コーティング剤。
3. 請求項１又は２に記載の低反射コーティング剤の硬化物。
4. 請求項３に記載の硬化物を含む、積層物。