JP7314309B2 - トリメチルクロロシランの調製方法 - Google Patents

トリメチルクロロシランの調製方法 Download PDF

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Description

本発明は、Al触媒の存在下でジメチルジクロロシラン(M2)を不均化することによってトリメチルクロロシラン(M3)及びメチルトリクロロシラン(M1)を調製する方法に関し、ジメチルジクロロシランは、80~100重量%のジメチルジクロロシラン(M2)を含み、100重量%からの含有率の差は、M1及びM3を含むシラン混合物の形態で使用される。
トリメチルクロロシラン(M3)は、例えば、シリコーンの製造、例えば、疎水化及び有機合成に使用される工業的に重要な原料である。
しかし、工業的に利用できるM3の量は限られている。例えば、ミュラー-ロショー方法で副生成物として形成されるか、又はミュラー-ロショー方法の副生成物と同様にテトラメチルシラン(TMS)から得ることができる。ミュラー-ロショー方法で形成されるシラン混合物は、70重量%~90重量%の濃度の主生成物ジメチルジクロロシラン(M2)を含むが、メチルトリクロロシラン(M1)、トリメチルクロロシラン(M3)、ジメチルテトラクロロジシラン及び他のシランも含む。これらは精留によって分離されなければならない。
M3及びM1へのM2の不均化に関する多くの方法は既に文献に記載されている。
EP0219718A1号は、この点において、AlX及びCuXの触媒錯体を用いたM3及びM1へのM2の不均化を開示しており、Xはハロゲン原子であり、nは1又は2である。より具体的には、実施例2及び3では、(CHSiClを34.5~37.95barの間の圧力のオートクレーブ中でCuCl/AlClの存在下で264~300℃の範囲内の温度で5時間反応させる多くの実験が行われている。CuCl/AlClモル比及び温度の両方を変化させている。
このようにして、実施例3において、1つの例では323℃、5.05重量%のAlCl及び0.26というCuCl/AlClモル比で、別の例では、322℃、5.05重量%のAlCl及び0.5というCuCl/AlClモル比で最大で8.19重量%のM3が得られる。しかし、これらの条件もそれぞれ17.03重量%,17.99重量%のM1が製造された。8.19重量%というM3含有率は、M3に関連した潜在的熱力学平衡の85%に相当するはずである。
開示された方法に関する基本的にマイナスの点は、AlClが約180℃で昇華し、したがって反応器の外に運ばれるであろうことになるので、連続方法が不可能であろうということである。また、生成物混合物におけるM1の超化学量論的割合は、メチルクロロシランの分解が起こったに違いないこと、すなわち、好ましくない副反応が起こっていることを示している。このように、記載されている方法は、M3を工業的に適切な量で生産するのには適していない。
US3384652号は、結晶性アルミノケイ酸塩触媒(ゼオライト)の存在下でのオルガノ(クロロ)シランの不均化反応を開示する。とりわけ開示されているのは、25%のM3、22%のM1、5%のSiCl及び8%のTMSが得られる、還流条件下での水素ゼオライトY上でのトリメチルクロロシラン(M3)及びメチルトリクロロシラン(M1)へのジメチルジクロロシラン(M2)の不均化である。また、生成物混合物中には、反応しなかった40%のM2も存在する。しかし、得られたM3及びM1の量及びSiCl及びTMSの生成は不均化反応の熱力学と矛盾する。
文献からも知られているのは、(ミュラー-ロショー方法からの)低沸点シラン混合物中のトリメチルクロロシラン(M3)の濃縮方法である。
EP0147834A1号は、一般式RSiX4-n(式中、R=H、フェニル又はC~Cアルキル、X=ハロゲン及びn=1、2又は3)の個々のシランの不均化のための連続方法を開示し、ここで対応するシランを、活性化された結晶性γ-酸化アルミニウム触媒又はη-酸化アルミニウム触媒と、200~450℃の温度で最大10分間接触させ、活性化させ、これは、触媒が、(a)500~600℃で0.5~2時間、又は(b)400~500℃の減圧下で、又は(c)HF又はHClのような反応性ガスで予め処理されていることを意味する。より具体的には、実施例1では、M2(初期組成:M2=50.4%、TMS=35.8%)でミュラー-ロショー方法からの低沸点画分を濃縮し、(γ-Al SA-6173、3.2mm押出物、400℃で0.5時間活性化)の存在下、管状反応器中で反応させる、多くの実験が行われる。温度及び流量の両方を変えて、加圧しないで反応が行われる。このようにして、300又は400℃、0.27~1.07ml/分の間の流速で58.0~68.3%の間のM3含有率が得られる。
実施例2:初期含有率M2=51.7%及びTMS=38.7%、触媒A(γ-Al SA-6173、3.2mm押出物、400℃で0.5時間活性化)、0~2.4bar圧力、200~400℃、流速0.29~1.17ml/分。30.2~72.9%のM3含有率が達成される。
実施例3:初期含有率M2=36.5%及びTMS=23.2%、触媒A(γ-Al SA-6173、1.6mm押出物、400℃で0.5時間活性化)、400℃反応温度、400℃で0.5時間活性化、0.138bar、44.2~44.4%のM3、接触時間34.5~38.7秒。
2つの例におけるM3の高収率は、出発混合物におけるTMSの高含有率の結果である。
US5493043号は、150℃を超える酸化アルミニウム触媒の存在下で、低沸点メチルシラン混合物をジメチルヒドロクロロシラン又はトリメチルクロロシラン(M3)で濃縮する方法を開示する。メチルシラン混合物はミュラー-ロショー合成の蒸留物に由来する。混合物中でM3を濃縮するためには、混合物中に少なくともテトラメチルシラン(TMS)及びジメチルジクロロシラン(M2)が存在する必要があり、方法の温度は180~304℃の範囲内である必要があった。
オルガノシランの反応における活性アルミニウム含有触媒についても記載されている。
US3207699号は、トリメチルシランの転位のためのトリメチルシリル基を含浸させた触媒を開示する。実施例VIでは、η-Al触媒を湿らせ、510℃でトリメチルシランを含浸させる。
US3346349号は、式RSiX(3-n)のオルガノシラン又はハロシランで活性化される合成シリカ-アルミナ触媒を開示し、ここでR及びRは水素又はC~Cアルキル基であり、Xはハロゲンであり、nは0~3の整数である。触媒はメチル化クロロシランからジメチルジクロロシランを調製するのに用いられる。
この原料の工業的必要性を満たすためには、M3の含有率が熱力学的最大に近い、M3を調製するための簡単な方法がさらに必要である。
欧州特許出願公開第0219718号明細書 米国特許第3384652号明細書 欧州特許出願公開第0147834号明細書 米国特許第5493043号明細書 米国特許第3207699号明細書 米国特許第3346349号明細書
この目的は、請求項1~9においてより詳細に解明される本発明の方法によって達成される。
本発明の方法は、熱力学的最大値に近いM3の非常に良好な収率を提供する。また、M1は化学量論的な量で形成され、そのことは副反応又は分解反応が起こらないことを示している。
本発明は、Al触媒の存在下でジメチルジクロロシラン(M2)を不均化することによってトリメチルクロロシランを調製する方法を提供し、ジメチルジクロロシランは、少なくとも80重量%のジメチルジクロロシラン(M2)を含み、100重量%からの含有率の差は、M1及びM3を含むシラン混合物の形態で使用される。
シランの不均化(disproportionation)、厳密に言えば、これは不均化(dismutation)と呼ばれるべきものであり、個々のシランが2種以上の異なるシラン(例:M2→M3+M1)に転位することを意味し、形成されたシランの置換基(例:Cl及びCH)は元のシランの置換パターンとは異なる置換パターンを示す。シランの不均化反応は、例えば、以下の式(I)によって示すことができる。
Figure 0007314309000001
このジメチルジクロロシランの不均化における熱力学的平衡の位置は、通常、高濃度のジメチルジクロロシランにある。触媒が存在しない場合、不均化反応は非常にゆっくり起こるか、又は全く起こらず、先行技術の触媒及び条件では、同様に反応はやはり遅すぎるか、又は熱力学的に可能なM3の収率を達成しない。
M2は、80~100重量%のジメチルジクロロシラン(M2)を含み、100重量%からの含有率の差は、M1及びM3を含むシラン混合物の形態で使用される。
シラン混合物は好ましくは98~100重量%のM2を含み、最も好ましくは、シラン混合物は99.5~100重量%のM2を含む。含有率の差はもっぱらM1を含むことが好ましい。
Al触媒は、不均化の前に330℃~550℃の範囲内の温度で触媒に以下を通すことにより活性化させることが好ましい。
(i) SiCl、又は
(ii) HClガス、又は
(iii) HClガス及び式(II)の少なくとも1種のクロロシランの混合物
SiCl4-x (II)、
式中、基Rは(i)水素及び(ii)C~Cアルキル基からなる群から独立して選択され、添え字xは0、1、2又は3の値を有する。
式(II)の基Rは、メチル基又は水素から独立して選択されることが好ましい。
式(II)のクロロシランの例は、MeSiCl、MeSiCl、MeSiCl、MeClSiH、ClSiH、SiClである。
Al触媒は、触媒にHClガスを通すことによって不均化の前に活性化されることが特に好ましい。
活性化における接触時間は、通常1~100秒である。
BET比表面積が100~200m/gの範囲内にあり、より好ましくは150~180m/gの範囲内にあるAl触媒を用いることが好ましい。
BET比表面積は、ブルナウアー-エメット-テラー法(J.Am.Chem.Soc.1938、60、309-319)に基づく規格ASTM D3663-78に従って窒素を吸着して求めた比表面積である。
使用するAl触媒は、0.1~1cm/gの範囲内、より好ましくは0.4~0.5cm/gの範囲内の細孔容積を有することが好ましい。
細孔容積は、例えば、水銀ポロシメトリーによって決定することができる。
Al触媒は、最大20重量%の他の元素、例えば、炭素、又はより少量のケイ素及び/又は塩素を含むことができる。例えば、成形に使用される補助物質の残留物がこのようにして存在する場合がある。
Al触媒は通常、成形体の形態で存在する。成形体の例は、錠剤、顆粒、球、環、円柱、円筒である。
成形体は、1~10mmの範囲内、より好ましくは2~4mmの範囲内のサイズを有することが好ましい。
γ-Al触媒を用いることが特に好ましい。最も好ましくは、100~200m/gの範囲内のBET比表面積、0.1~1cm/gの範囲内の細孔容積及び1~10mmの範囲内のサイズを有する成形体の形態のγ-Al触媒が使用される。
本発明の方法は、特に好ましくは、390℃~490℃の範囲内の温度及び1bar未満の圧力で実行される。
方法は連続的に又はバッチ式に実行され、連続的な方法が好ましい。方法の連続操作により、M2を蒸留により生成物混合物から分離し、方法にフィードバックすることができる。
シラン混合物の接触時間は、通常0.1~120秒の範囲内であり、好ましくは1~30秒の範囲内であり、より好ましくは、接触時間は10~15秒の範囲内である。
反応の終了時には、トリメチルクロロシランを反応混合物から、例えば、蒸留によって分離することができる。
実験は、Al(「Al 3438 T 1/8」ペレット、BASF)を充填した管状反応器で行った。反応器を加熱ジャケットで加熱し、触媒を充填した加熱域は約30cmの高さ、5cmの直径を有していた。M2をまず気化し、触媒に接触できるようになる前に予熱した。還流冷却器を用いて生成物混合物を凝縮し、回収した。
Agilent 6890N(WLD検出器、カラム:AgilentからHP5、長さ:30m/直径:0.32mm/フィルム厚:0.25μm;RestekからRTX-200:長さ:60m/直径:0.32mm/フィルム厚:1μm)を用いてGC測定を行った。保持時間を市販の物質と比較し、全ての薬品は購入した状態で使用した。全ての値は重量%で表される。
[実施例1]
450℃(床の中心での内部測定)で気化させたSiClで触媒を活性化させた。150mLの気化させたM2を378℃の反応器内温及び約20秒の反応器内接触時間で触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。
生成物混合物は、76.9重量%のM2、13.3重量%のM1及び9.6重量%のM3からなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[実施例2]
実施例1と同じ触媒充填で、377℃の反応器内部温度及び約30秒の反応器内接触時間で、150mLの気化させたM2を触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。
生成物混合物は、74.1重量%のM2、15.4重量%のM2及び10.2重量%のM3からなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[実施例3]
実施例1と同じ触媒充填で、485℃の反応器内部温度及び約7秒の反応器内接触時間で、150mLの気化されたM2を触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。
生成物混合物は、75.1重量%のM2、14.2重量%のM1及び10.7重量%のM3からなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[実施例4]
450℃(床の中心での内部測定)で、HClガスで触媒を活性化させた。150mLの気化されたM2を390℃の反応器内部温度及び約25秒の反応器内接触時間で触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。
生成物混合物は、77.9重量%のM2、12.8重量%のM1及び9.3%のM3からなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[実施例5]
450℃(床の中心での内部測定)でHClガスと気化させたSiClとの混合物で触媒を活性化させた。150mLの気化させたM2を400℃の反応器内部温度及び約18秒の反応器内接触時間で触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。
生成物混合物は、78.0重量%のM2、12.6重量%のM1及び9.4重量%のMからなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[実施例6]
20gの触媒(予めHClで活性化)及び150mLのM2を閉じたオートクレーブで3時間350℃に加熱した。冷却後、オートクレーブを開け、内容物を分析した。
生成物混合物は、76.8重量%のM2、14.1重量%のM1及び9.1重量%のMからなっていた。同定されていない副生成物が少量存在した。
[比較例1]
活性化されない触媒充填で、150mLの気化させたM2を350℃の反応器内部温度及び約60秒の反応器内接触時間で触媒床に送り出し、凝縮させた生成物混合物を分析した。。
生成物混合物は、68.3重量%のM2、14.4重量%のM1及び7.7重量%のM3からなっていた。また、さらに8.4重量%の部分的に塩素化されたメチル化ジシロキサンが存在し、これ以上使用することはできなかった。
実施例は、M3の収率及び生成されたM1の量の両方が、先行技術で達成された値よりもはるかに良好であることを示す。また、これらはEP0219718号に引用されている熱力学的平衡に相当する。

Claims (9)

  1. Al触媒存在下でジメチルジクロロシラン(M2)を不均化することによりトリメチルクロロシラン(M3)及びメチルトリクロロシラン(M1)を調製する方法であって、該ジメチルジクロロシランは、80~100重量%のジメチルジクロロシラン(M2)を含み、100重量%からの含有率の差は、M1及びM3を含むシラン混合物の形態で使用される、方法。
  2. 前記触媒は、不均化の前に330℃~550℃の範囲内の温度で触媒に以下を通すことにより活性化される、請求項1に記載の方法。
    (i) SiCl、又は
    (ii) HClガス、又は
    (iii) HClガス及び式(II)の少なくとも1種のクロロシランの混合物
    SiCl4-x (II)。
    [式中、基Rは(i)水素及び(ii)C~Cアルキル基からなる群から独立して選択され、添え字xは0、1、2又は3の値を有する。]
  3. 前記クロロシランがM2又はSiClである、請求項2に記載の方法。
  4. 前記触媒が、触媒上にHClガスを通すことによって不均化の前に活性化される、請求項2に記載の方法。
  5. 100~200m/gの範囲内のBET比表面積を有するAl触媒が用いられる、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 0.1~1cm/gの範囲内の細孔容積を有するAl触媒が用いられる、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
  7. γ-Al触媒が用いられる、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記シラン混合物が98~100重量%のM2を含む、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記方法が連続的に実行される、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
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