JP7299357B2 - 表示パネル - Google Patents

Description

本願は、２０１９年１１月２５日に中国特許局に出願された、出願番号が「２０１９１１１６６８９０．２」である中国特許出願の優先権を主張し、そのすべての内容を引用によって本願に組み込む。

本願は表示技術分野に関し、具体的には表示パネルに関する。

表示パネルにおいては一般に、表示領域と表示領域の周辺にある非表示領域とが画定される。表示パネルのカソードは一般に表示領域から非表示領域まで延びて、非表示領域におけるカソード重ね接続アセンブリに接続する。外部の駆動回路はカソード重ね接続アセンブリを介して電気信号をカソードに送信することができる。

しかしながら、カソード重ね接続アセンブリにおける電線は周辺の有機物の内部にある微量の水と酸素により浸食されやすくて、表示品質が影響されてしまう可能性がある。

本発明が主に解決しようとする技術的課題は、カソード接続線が受ける、有機平坦化層にある水と酸素による浸食を低減できる表示パネルを提供することである。

上記の技術問題を解決するために、本発明に係る1つの技術案においては、表示パネルを提供する。当該表示パネルにおいては、表示領域と、表示領域の周辺にある非表示領域とが画定されており、前記表示パネルは前記表示パネルの前記非表示領域に位置するカソード重ね接続アセンブリを備え、前記カソード重ね接続アセンブリは、順次に積層されて設置される有機平坦化層、シール層、カソード接続線及びカソードリード線を備える。その中、前記カソードリード線は前記表示領域における前記カソードに接続するように延在し、前記カソード接続線は外部回路信号を受信して前記カソードリード線に送信するように構成され、前記シール層は前記有機平坦化層にある水と酸素を遮断するように構成される。

本発明の有益な効果は以下の通りである。本発明に係る表示パネルは非表示領域に配置されるカソード重ね接続アセンブリを備え、カソード重ね接続アセンブリは順次に積層されて設置される有機平坦化層、シール層、カソード接続線及びカソードリード線を備え、その中、カソードリード線は表示領域におけるカソードに接続するように延在し、カソード接続線は外部回路信号を受信してカソードリード線に送信するように構成され、シール層は有機平坦化層にある水と酸素を遮断するように構成される。このようにシール層を設置することによって、有機平坦化層にある水と酸素の、カソード接続線に対する浸食を遮断することができるため、カソード接続線を保護し、カソードリード線とカソード接続線とが効果的に重ね接続されるように支え、表示パネルの耐用年数を延ばすことができる。しかも、上述のシール層の設計方式は、プロセスが簡単で実現されやすく、カソードリード線とカソード接続線とが面対面で重ね接続されることができ、カソードリード線とカソード接続線が占める面積を削減し、狭額縁の達成に有利である。

本発明の表示パネルの１つの実施形態を示す構造模式図。 本発明の表示パネルの他の実施形態を示す構造模式図。 本発明の表示パネルのもう１つの実施形態を示す構造模式図。

以下、本発明の実施例による図面を参照しながら、本発明の実施例に係る技術案に対して明確で完全に説明する。明らかに、説明される実施例は本発明の一部の実施例に過ぎず、すべての実施例ではない。当業者が本発明の実施例に基づいて創造的な労働をせずに得られる他の実施例は、すべて本発明の保護範囲に属するべきである。

図１に示すように、図１は本発明の表示パネルの1つの実施形態を示す構造模式図である。該表示パネル１０はＯＬＥＤ表示パネル、Ｍｉｃｒｏ－ＬＥＤ表示パネルなどであってもよく、その中では表示領域ＡＡと表示領域ＡＡの周辺にある非表示領域ＣＣとが画定される。該表示パネル１０は表示パネル１０の非表示領域ＣＣに配置されるカソード重ね接続アセンブリ１００を備える。カソード重ね接続アセンブリ１００は、順次積層されて設置される有機平坦化層１０００、シール層１００２、カソード接続線１００４及びカソードリード線１００６を備える。その中で、カソードリード線１００６は表示領域ＡＡにおけるカソード１０２に接続するように延在する。カソード接続線１００４は、外部回路信号を受信し、外部回路信号をカソードリード線１００６に送信して外部回路信号がカソード１０２まで伝達されるように構成される。シール層１００２は有機平坦化層１０００にある水と酸素を遮断するように構成される。

本実施例において、シール層１００２は、酸化ケイ素層、窒化ケイ素層、酸化アルミニウム層及びグラフェン層のうちの１層又は複数層の積層により形成されることができる。これらの材質からなるシール層１００２は取得されやすく且つ水と酸素に対する遮断効果がよい。シール層１００２の厚さは０．５μｍ－３μｍ（例えば、１μｍ、２μｍなど）であってもよい。該厚さ範囲内の厚さを有するシール層１００２は、水と酸素を遮断する効果を果たすとともに、表示パネル１０の枠の厚さを拡大しない。シール層１００２の材質が酸化アルミニウムを含む場合、酸化アルミニウムの材質の緻密性が高いので、その厚さをより狭い範囲に抑えることができ、例えば０．５μｍ－１μｍ（例えば、０．６μｍ、０．８μｍなど）であってもよい。

上述のシール層１００２の設置方式によると、有機平坦化層１０００にある水と酸素のカソード接続線１００４に対する浸食を遮断してカソード接続線１００４を保護することができ、カソードリード線１００６とカソード接続線１００４とが効果的に重ね接続されるように支え、表示パネル１０の耐用寿命を延ばすことができる。且つ、上述のシール層１００２の設計方式は、プロセスが簡単で実現されやすく、カソードリード線１００６とカソード接続線１００４とが面対面で重ね接続されるようにすることができ、カソードリード線１００６とカソード接続線１００４が占める面積を削減して、狭額縁の達成に有利である。

本実施例において、上述の有機平坦化層１０００はさらに、表示パネル１０の表示領域ＡＡまで延びることができる。有機平坦化層１０００の、カソードリード線１００６及びカソード１０２と反対の一方側には他の構造が更に設けられることができる。有機平坦化層１０００は、製作プロセスにより招来される、他の構造表面に凹凸を有する問題を緩和させるか又は最小化することができる。

また、上述のカソードリード線１００６はカソード１０２と材質が同じであってもよく、その材質が金属（例えばマグネシウム銀合金など）であってもよい。このような設計方式によって、製造時にはカソードリード線１００６とカソード１０２とが同時に形成される（例えば、蒸着によって同時に形成する）ことができるため、製造工程を簡略化させることができる。また、上述の表示パネル１０の表示領域ＡＡはアノード１０４を更に備える。アノード１０４はカソード１０２に対して離間して配置され、且つアノード１０４はカソード１０２よりも有機平坦化層１０００に近接する。アノード１０４の材質はカソード接続線１００４と材質が同じであってもよく、その材質が酸化インジウムスズなどであってもよい。このような設計方式によって、製造時にはカソード接続線１００４とアノード１０４とが同時に形成されることができるため、製造工程を簡略化させることができる。

さらに、上述の表示パネル１０の表示領域ＡＡにおけるアノード１０４とカソード１０２との間の離間領域には発光層１０１が更に設けられてもよい。発光層１０１は赤、緑または青などの光を発光することができ、発光層１０１の最も外側の境界は表示領域ＡＡと非表示領域ＣＣとの間の境界とみなされてもよい。

図１に示すように、上記カソード重ね接続アセンブリ１００は、離間して配置される第１の有機位置決め部１００８と第２の有機位置決め部１００１とを更に備える。第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１は有機平坦化層１０００上に設けられ、第１の有機位置決め部１００８は第２の有機位置決め部１００１よりも表示パネル１０の表示領域ＡＡに近接する。シール層１００２及びカソード接続線１００４は第１の有機位置決め部１００８と第２の有機位置決め部１００１との間の離間領域にあり、カソードリード線１００６は、表示領域ＡＡにおけるカソード１０２に接続するように、第１の有機位置決め部１００８と第２の有機位置決め部１００１との間の離間領域、及び、第１の有機位置決め部１００８の表面を被覆する。上述の第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１の設置方式によって、シール層１００２及びカソード接続線１００４の位置を効果よく限定することができ、表示パネル１０の枠幅を抑えることに寄与する。また、上述の第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１はいずれも有機平坦化層１０００と接触するため、有機平坦化層１０００にある水と酸素は第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１を介して伝播されて分散されることができる。また、水蒸気を更に除去するために、第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１の内部には乾燥用顆粒が設けられてもよい。

一般的に、表示パネル１０は、表示領域ＡＡの有機平坦化層１０００上に設けられる画素限定層１０６を備える。画素限定層１０６の材質は一般に有機物である。画素限定層１０６同士の間の開口領域においては、各サブ画素にそれぞれ対応するアノード１０４、発光層１０１及びカソード１０２が設けられる。上述の第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１の材質は画素限定層１０６の材質と同じであってもよく、それによって、第１の有機位置決め部１００８、第２の有機位置決め部１００１及び画素限定層１０６は製造工程中に同時に形成されることができ、製造工程の困難さが下がる。あるいは、表示パネル１０は画素限定層１０６の、有機平坦化層１０００とは反対の一方側に設けられるスペーサ（図示せず）を備えてもよい。スペーサの材質は一般的に有機物である。上述の第１の有機位置決め部１００８および第２の有機位置決め部１００１の材質はスペーサの材質と同じであってもよく、それによって、第１の有機位置決め部１００８、第２の有機位置決め部１００１及びスペーサは製造工程中に同時に形成されることができ、製造工程の困難さが下がる。あるいは、上述の第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１は上述の画素限定層１０６及びスペーサからなる積層により構成されてもよく、本発明はこれについて限定しない。

また、本実施例において、図１に示すように、第１の有機位置決め部１００８の、第２の有機位置決め部１００１とは反対の一方側は、表示領域ＡＡの発光層１０１に接触する。すなわち、第１の有機位置決め部１００８は、シール層１００２及びカソード接続線１００４を限定するだけではなく、発光層１０１を限定する役割も果たしている。第１の有機位置決め部１００８は表示領域ＡＡと非表示領域ＣＣとの境界線に位置してもよく、それによって表示パネル１０の非表示領域ＣＣの幅が小さくなって、狭額縁の達成に有利である。

さらに、図１に示すように、第１の有機位置決め部１００８は、カソード接続線１００４から突出する凸部１００８０を備え、且つ、凸部１００８０の側壁（符号なし）とカソード接続線１００４が位置する平面との間の挟角αは９０°以上であり且つ１８０°より小さく、例えば、該挟角αは１２０°、１３５°、１５０°などであってもよい。このような挟角の設計方式によって、その後の工程で形成される、第１の有機位置決め部１００８を被覆するカソードリード線１００６に破断が発生する確率を低下させることができる。

1つの実施例において、有機平坦化層１０００からカソード接続線１００４への方向において、第１の有機位置決め部１００８の断面は等脚台形である。このように設計することによって、第１の有機位置決め部１００８を被覆するカソードリード線１００６が破断する確率を低下させるとともに、第１の有機位置決め部１００８を形成する工程を簡単化することができる。さらに、図１に示すように、有機平坦化層１０００からカソード接続線１００４への方向において、第２の有機位置決め部１００１の断面が逆台形である。このように設計することによって、第１の有機位置決め部１００８と第２の有機位置決め部１００１との間の離間空間を拡大して、カソード接続線１００４の被覆面積を拡大して、カソードリード線１００６とカソード接続線１００４との間の重ね接続面積が大きくなり、重ね接続の電気抵抗を低減して表示パネルの表示品質を高めることができる。

もちろん、他の実施例において、有機平坦化層１０００からカソード接続線１００４への方向において、上述の第１の有機位置決め部１００８の断面及び第２の有機位置決め部１００１の断面は他の構造であってもよく、例えば、上記第１の有機位置決め部１００８の凸部１００８０の断面が等脚台形であり、凸部１００８０以下の部分の断面が矩形又は他のタイプの台形などであってもよい。また、他の例においては、上述の第１の有機位置決め部１００８の断面及び第２の有機位置決め部１００１の断面がいずれも矩形などであってもよい。

もう１つの実施形態において、図２に示すように、図２は本発明の表示パネルの他の実施形態を示す構造模式図である。第１の有機位置決め部１００８ａと第２の有機位置決め部１００１ａとの間に位置する有機平坦化層１０００ａは、カソード接続線１００４ａに面した側の表面が、連続的な凹凸構造（符号なし）となる。シール層１００２ａ及びカソード接続線１００４ａは、該凹凸構造を被覆して、連続的な凹凸状になる。パターニングにより形成される該凹凸構造は、カソードリード線１００６ａとカソード接続線１００４ａとの間の重ね接続面積を増加させ、重ね接続の電気抵抗を低減し、表示パネルの表示品質を高めることができる。また、同一条件で、このような設計方式は表示パネル１０ａの枠幅の削減に有利であり、つまり狭額縁の達成に寄与する。

本実施例において、有機平坦化層１０００ａからカソード接続線１００４ａへの方向において、図２による有機平坦化層１０００ａの表面の凹凸構造における突起部の断面は方形、矩形、菱形及び等脚台形などであってもよい。また、該凹凸構造の、有機平坦化層１０００ａのカソード接続線１００４ａに面した側の表面での正投影は、メッシュ状又は他の形状であってもよく、該メッシュ状はハニカム状などであってもよく、本発明はこれについて限定しない。

また、図２による有機平坦化層１０００ａの表面の凹凸構造の高さｈは、有機平坦化層１０００ａ全体の厚さの２０％－８０％（例えば、３０％、５０％、７０％など）を占める。該厚さ範囲に属する凹凸構造は、カソードリード線１００６ａとカソード接続線１００４aとの接触面積を拡大するとともに、有機平坦化層１０００ａの凹凸構造の下にあるパターニングされていない部分がその下の層構造にある凹凸表面（粒子など）を平坦化させることができるように、保証することができる。

もう１つの実施形態において、図３に示すように、図３は本発明の表示パネルのもう１つの実施形態を示す構造模式図である。該表示パネル１０ｃと上述の図１による表示パネル１０との相違点として、シール層１００２ｃはさらに、第１の有機位置決め部１００８ｃ及び第２の有機位置決め部１００１ｃの互いに対面する表面の少なくとも一部を被覆することができ、かつシール層１００２ｃの少なくとも一部が第１の有機位置決め部１００８ｃとカソード接続線１００４ｃとの間に位置し、シール層１００２ｃの少なくとも一部が第２の有機位置決め部１００１ｃとカソード接続線１００４ｃとの間に位置する。このような設計方式によって、第１の有機位置決め部１００８ｃ及び第２の有機位置決め部１００１ｃにある水と酸素が外周部からカソード接続線１００４ｃを浸食することを避けて、カソードリード線１００６ｃとカソード接続線１００４ｃとが効果的に重ね接続されるように保障することができ、表示パネル１０ｃの耐用寿命を延ばす。

以下、再び図１を参照しながら、本発明に係る表示パネル１０について、製造方法の視角から更に説明する。

Ａ、基板（図１に示さず）を提供する。該基板はリジット基板であってもよく、フレキシブル基板であってもよい。基板においては表示領域ＡＡ及び非表示領域ＣＣが画定される。

Ｂ、基板の一方側において薄膜トランジスタ層を形成する。薄膜トランジスタ層は表示領域ＡＡを被覆する。該薄膜トランジスタ層は表示パネル１０中の画素がオン又はオフになるように駆動するように構成される。

Ｃ、基板の、薄膜トランジスタ層が設けられた一方側において、有機平坦化層１０００を形成する。有機平坦化層１０００は表示領域ＡＡに位置する薄膜トランジスタ層と、非表示領域ＣＣとを被覆する。

Ｄ、有機平坦化層１０００の、基板とは反対側の表示領域ＡＡにおいて、パターニングされた画素限定層１０６を形成し、有機平坦化層１０００の、基板とは反対側の非表示領域ＣＣにおいて、第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１を形成する。ここで、画素限定層１０６、第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１の材質が同じである場合、画素限定層１０６、第１の有機位置決め部１００８及び第２の有機位置決め部１００１は同時に形成されることができる。

Ｅ、第１の有機位置決め部１００８と第２の有機位置決め部１００１との間の離間領域において、化学気相成長法によりシール層１００２を形成する。

Ｆ、シール層１００２上にカソード接続線１００４を形成し、画素限定層１０６の開口内にアノード１０４を形成する。カソード接続線１００４及びアノード１０４の材質が同じである場合、カソード接続線１００４はアノード１０４と同時に形成されることができる。

Ｇ、アノード１０４上に発光層１０１を形成する。

Ｈ、カソード接続線１００４上にカソードリード線１００６を形成し、発光層１０１上にカソード１０２を形成する。ここで、カソード１０２とカソードリード線１００６とは電気的に接続される。カソードリード線１００６及びカソード１０２の材質が同じである場合、カソードリード線１００６とカソード１０２は同時に形成されることができる。

表示パネル１０ａの構造が図２に示す構造である場合、上述のステップＥの前に、本発明に係る製造方法は、有機平坦化層１０００ａの、第１の有機位置決め部１００８ａと第２の有機位置決め部１００１ａとの間に位置し且つ基板とは反対側の表面をパターニングすることによって、有機平坦化層１０００ａの表面において凹凸構造を形成するステップを更に含む。

以上の内容は本発明の実施形態に過ぎず、本発明の特許請求の範囲に対する制限にはならない。本発明の明細書及び図面に基づいて得られた均等な構造又は均等な流れ変更、あるいは他の関連技術分野での直接的又は間接的な適用は、すべて本発明の特許保護範囲に属するべきである。

Claims (9)

1. 表示領域と、前記表示領域の周辺にある非表示領域とが画定されている表示パネルであって、
   前記表示パネルはカソード重ね接続アセンブリを備え、
   前記カソード重ね接続アセンブリは前記表示パネルの前記非表示領域に配置され、前記カソード重ね接続アセンブリは順次積層するように配置される有機平坦化層、シール層、カソード接続線及びカソードリード線を備え、
   前記カソードリード線は前記表示領域におけるカソードに接続するように延在し、前記カソード接続線は外部回路信号を受信して前記カソードリード線に伝送するように構成され、前記シール層は前記有機平坦化層にある水と酸素を遮断するように構成され、
   前記カソード重ね接続アセンブリは、離間して配置される第１の有機位置決め部と第２の有機位置決め部を更に備え、
   前記第１の有機位置決め部及び前記第２の有機位置決め部は前記有機平坦化層上に位置し、前記第１の有機位置決め部は前記第２の有機位置決め部よりも前記表示パネルの前記表示領域に近接し、前記シール層及び前記カソード接続線は前記第１の有機位置決め部と前記第２の有機位置決め部との間の離間領域に位置し、
   前記シール層は、前記第１の有機位置決め部及び前記第２の有機位置決め部の互いに対面する表面の少なくとも一部を更に被覆する
   ことを特徴とする表示パネル。
2. 前記有機平坦化層は前記表示パネルの前記表示領域まで延在し、
   前記表示領域は、前記有機平坦化層の一方側に配置される画素限定層を備え、
   前記第１の有機位置決め部、前記第２の有機位置決め部及び前記画素限定層は、材質が同じであり、又は、
   前記有機平坦化層は前記表示パネルの前記表示領域まで延在し、
   前記表示領域は、前記有機平坦化層の一方側に配置される画素限定層と、前記画素限定層の、前記有機平坦化層とは反対の一方側に配置されるスペーサとを備え、
   前記第１の有機位置決め部、前記第２の有機位置決め部及び前記スペーサは、材質が同じである
   ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
3. 前記第１の有機位置決め部は、前記カソード接続線から突出する凸部を備え、
   前記凸部の側壁と前記カソード接続線が位置する平面との間の挟角は９０°以上であり且つ１８０°より小さい
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示パネル。
4. 前記有機平坦化層から前記カソード接続線への方向において、前記第１の有機位置決め部の断面は等脚台形である
   ことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の表示パネル。
5. 前記有機平坦化層から前記カソード接続線への方向において、前記第２の有機位置決め部の断面は逆台形である
   ことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の表示パネル。
6. 前記第１の有機位置決め部と前記第２の有機位置決め部との間における前記有機平坦化層の、前記カソード接続線に面した側の表面は、連続的な凹凸構造となっており、
   前記シール層及び前記カソード接続線は前記凹凸構造を被覆し、前記シール層及び前記カソード接続線は連続的な凹凸状である
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示パネル。
7. 前記シール層の少なくとも一部は、前記第１の有機位置決め部と前記カソード接続線との間に位置し、及び/又は、前記シール層の少なくとも一部は、前記第２の有機位置決め部と前記カソード接続線との間に位置する
   ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
8. 前記シール層は酸化ケイ素層、窒化ケイ素層、酸化アルミニウム層及びグラフェン層のうちの１層又は複数層の積層により構成される
   ことを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の表示パネル。
9. 前記表示パネルは、前記表示領域に位置するアノードを更に備え、前記アノードの材質は前記カソード接続線の材質と同じであり、及び/又は、
   前記カソードリード線と前記カソードとは材質が同じである
   ことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の表示パネル。

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