JP7284990B2 - チタノシリケートとその製造方法 - Google Patents
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[1]アルミノシリケートの骨格内のアルミニウムの一部を、チタンに置き換えてなるチタノシリケートの製造方法であって、第一シリカ源、アルカリ源、水、および構造規定剤の混合物を、攪拌しながら調製する第一工程と、調製した前記混合物を、攪拌しながら加熱する第二工程と、加熱した前記混合物を冷却する第三工程と、冷却した前記混合物に、第二シリカ源およびアルミナ源を加えて攪拌しながら再調製する第四工程と、再調製した前記混合物を加熱する第五工程と、加熱した前記混合物を、洗浄およびろ過した上で乾燥させる第六工程と、前記第六工程を経て得た有機複合体を加熱し、包接されている有機物を取り除き、アルミノシリケートYNU-5を得る第七工程と、前記アルミノシリケートYNU-5を焼成する第八工程と、焼成した前記アルミノシリケートYNU-5を酸処理する第九工程と、酸処理した前記アルミノシリケートYNU-5を、気相の塩化チタンまたはチタンアルコキシドとともに加熱する第十工程と、を順に有することを特徴とするチタノシリケートの製造方法。
[2]前記第一シリカ源としてコロイダルシリカを用い、前記第二シリカ源および前記アルミナ源としてY型ゼオライトを用い、前記構造規定剤として、ジメチルジプロピルアンモニウムを用いることを特徴とする[1]に記載のチタノシリケートの製造方法。
[3]前記酸処理を、前記アルミノシリケートYNU-5に含まれるシリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)が、300以上となるように行うことを特徴とする[1]または[2]のいずれかに記載のチタノシリケートの製造方法。
[4]前記第九工程において、前記アルミノシリケートYNU-5を、硝酸(HNO3)が60重量%以上含まれる水溶液に浸漬することを特徴とする[1]~[3]のいずれか一つに記載のチタノシリケートの製造方法。
[5]前記第九工程において、前記アルミノシリケートYNU-5を、100℃以上の温度で加熱することを特徴とする[1]~[4]のいずれか一つにチタノシリケートの製造方法。
[6]前記第一工程において、前記混合物にアルコールを添加することを特徴とする[1]~[5]のいずれか一つに記載のチタノシリケートの製造方法。
[7]前記第一シリカ源に対する前記水のモル比を、6以上8以下とすることを特徴とする請求項[1]~[6]のいずれか一つに記載のチタノシリケートの製造方法。
[8]前記第十工程後に、さらに焼成を行うことを特徴とする[1]~[7]のいずれか一つに記載のチタノシリケートの製造方法。
[9]アルミノシリケートYNU-5の骨格内のアルミニウムの一部が、チタンに置き換えられてなり、粒径が1000nm以上2000nm以下であることを特徴とするチタノシリケート。
[10]アルミノシリケートYNU-5の骨格内に含まれるシリコンとチタンのモル比(Si/Ti)が、60以上であることを特徴とする[9]に記載のチタノシリケート。
第一実施形態に係るチタノシリケートの製造方法は、アルミノシリケートYNU-5を構成するAlの一部をTiに同型置換して、チタノシリケート[Ti]-YNU-5を調製するものである。各製造工程の処理について、以下に説明する。
まず、アルミノシリケートYNU-5の原料として、第一シリカ源、アルカリ源、水、および構造規定剤を容器に入れて攪拌しながら、それらの混合物(ゲル)を調製する。アルミノシリケートYNU-5の原料として、さらにエタノール、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコールを添加してもよい。この場合には、粒子径を制御することができる等の効果が得られる。
次に、第一工程で調製した混合物を、攪拌しながら加熱する。具体的には、60℃以上に加熱されたホットプレート上で混合物を攪拌しながら、混合物を所定の量まで濃縮するために水を一部蒸発させる。
次に、第一加熱工程で加熱した混合物を、室温程度まで冷却する。なお、第二工程と第三工程とは、セットで省略することも可能である。
次に、第三工程で冷却した混合物を、必要に応じて、第二シリカ源およびアルミナ源を加えて再調製する。第二シリカ源およびアルミナ源としては、Y型ゼオライト(SiO2)FAU、(AlO3)FAU)を用いる。Y型ゼオライト中のシリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)は、通常、2.5以上50以下であるが、3以上20以下が好ましく、3.5以上10以下がより好ましく、4以上6以下がさらに好ましく、約5.3が最も好ましい。アルミナ源としては、例えば、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、アルミノシリケートゲル、金属アルミニウム等のうち、1種又は2種以上を用いることもできる。
第四工程で再調製した混合物(原料)を、通常、室温で攪拌した上で加熱する。ここでの加熱は、室温の混合物を、オートクレーブに収容した状態で、通常、100~200℃、好ましくは、120~190℃、より好ましくは、140~180℃、さらに好ましくは、150~170℃であり、約160℃が最も好ましい。オーブン中に通常、12時間から10日間程度、好ましくは1日から7日間程度、静置、あるいは撹拌状態で行う。
次に、第2の加熱工程で加熱した混合物を、洗浄およびろ過した上で、さらに乾燥させる。ここでの乾燥の方法には、例えば、洗浄およびろ過した混合物を、約80℃のオーブン中に一晩静置して行う方法、天日で干して行う方法等がある。
乾燥工程を経て得た有機複合体に対して、さらに加熱(焼成)を行うことにより、包接されている有機物(構造規定剤として用いたMe2Pr2NOH)を除去することができる。ここでの加熱は、得られた結晶性固体を、マッフル炉に収容した状態で約550℃の加熱を行う。具体的には、約1.5℃/minで室温から550℃程度まで昇温し、この温度を約6時間保持し、最後に放冷する。
次に、結晶化したYNU-5の粉末を焼成する。焼成温度は、400℃以上900℃以下の範囲であれば好ましく、500℃程度であればより好ましい。焼成時間は、3時間以上24時間以下の範囲であれば好ましく、10時間であればより好ましい。
焼成したYNU-5の粉末(結晶)に対して、硝酸、塩酸、硫酸などの酸性溶液を用いて酸処理(脱アルミ処理)を行う。具体的には、YNU-5の粉末を酸性溶液に混合し、一定時間の攪拌の後に、加熱して乾燥させる。これにより、YNU-5の骨格から、一部のアルミニウムを除去(脱アルミ)することができる。この酸処理に用いる酸性溶液とその濃度、乾燥温度、乾燥時間については、脱アルミ後のYNU-5に含まれるシリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)が、結晶構造の安定性を考慮し、300以上となるように調整して決定する。実際には、酸性溶液として、例えば硝酸、硫酸等の酸処理剤を、約55重量%以上65重量%以下、好ましくは約60重量%の濃度で含む溶液が用いられる。酸処理は、約100℃以上150℃以下の温度で、1~24時間程度行う。これより弱い条件で酸処理を行うと、アルミニウムを十分に除去しきれず、チタンを取り込めないため、アルミニウムのチタンへの置き換え効率が低くなってしまう。また、これより強い条件で酸処理を行うと、アルミニウムが過剰に除去されてしまうため、残った結晶粒子同士のバランスが崩れ、YNU-5の結晶構造が壊れてしまう。
酸処理したYNU-5の粉末に対して、チタン処理、すなわち、YNU-5の骨格のうちアルミニウムが除去されたサイトに、チタンを導入する処理を行う。具体的には、酸処理したYNU-5を、気相の塩化チタンまたはチタンアルコキシドとともに加熱する。図1は、チタン処理装置10の構成例を示す図である。
本発明のゼオライト([Ti]-YNU-5cal)の構造規定剤として用いる、ジメチルジプロピルアンモニウムヒドロキシドの製造例を示す。
まず、次式で示すように、ジプロピルジメチルアンモニウムを合成した。
1.07(6H、t、J=7.4Hz、CH2-CH2-CH3)
1.82(4H、m、CH2-CH2-CDCl3)
3.38(6H、s、N+-CH3)
3.54(4H、m、N+-CH2-CH2)
(ii)13C NMR(126MHz、CDCl3)で測定した場合のδ:
10.58、16.40、51.52、65.80
次に、次式で示すように、ステップ1で得たMe2Pr2NIを、Me2Pr2NOH(ジメチルジプロピルアンモニウムヒドロキシド)に変換した。
製造例1で得たMe2Pr2NOHを構造規定剤として用い、ゼオライト(アルミノシリケートYNU-5)の合成を行った。この合成を、次の手順で行った。まず、内容積150mLのフッ素樹脂(PFA)製容器に、製造例1で得たMe2Pr2NOH水溶液(2.097mmol/g)を16.21gとり、9.37gのNaOH水溶液(3.200mmol/g)、9.53gのKOH水溶液(3.153mmol/g)、21.39gのLudox AS-40(アルドリッチ社製)を順次加えた(第一工程)。
本発明のチタノシリケートの製造方法において、第一工程~第九工程を経た[Ti]-YNU-5粒子サンプルを作製した。具体的な作製手順については、実施例1の第一工程~第九工程と同様とした。合成されたチタノシリケートの骨格内において、シリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)は370、シリコンとチタンのモル比(Si/Ti)は63.1であった。
第一実施形態のチタノシリケートの製造方法において、第一工程~第八工程を経たYNU-5粒子サンプル(deAl-YNU-5)を作製した。具体的な作製手順については、実施例1の第一工程~第八工程と同様とした。脱アルミ処理後のアルミノシリケートの骨格内において、シリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)は300であった。
第一実施形態のチタノシリケートの製造方法において、第一工程~第七工程を経たYNU-5粒子サンプル([Al]-YNU-5cal)を作製した。具体的な作製手順については、実施例1の第一工程、第七工程と同様とした。焼成されたアルミノシリケートの骨格内において、シリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)は8.7であった。
第一実施形態のチタノシリケートの製造方法において、第一工程~第六工程を経たYNU-5粒子サンプル([Al]-YNU-5as)を作製した。具体的な作製手順については、実施例1の第一工程と同様とした。
触媒学会によって、アジア参照触媒(Asia Reference Catalyst; ARC)として指定され、配布されているチタニウムシリカライト-1(TS-1)を準備した。
実施例1、2、比較例1~3のサンプルについて、X線回折(XRD)の分析を行った。分析結果を示す回折パターンを、図2のグラフに示す。グラフの横軸は回折角度を示し、縦軸は回折強度を示している。上段側から下段側に向かって順に、実施例1、2、比較例1~3のサンプルの回折パターンが並んでいる。いずれのサンプルにおいても、同様のXRDパターンが得られており、各工程の前後で高い結晶性が維持されていることが分かる。
実施例1、比較例4のサンプルにおけるTiの含有率は、それぞれ、0.262mmol/g、0.367mmol/gであった。これらのサンプルについて、DR/UV-vis測定を行い、Ti配位状態を評価した。測定したDR/UV-Visスペクトルを、図3のグラフに示す。グラフの横軸は波長(nm)を示し、縦軸はKubelka-Munk関数を示している。グラフ中の(a)、(b)のDR/UV-Visスペクトルは、それぞれ、実施例1、比較例4のサンプルに対応している。
図4(a)~(d)は、それぞれ、比較例2、比較例1、実施例2、実施例1として得られたサンプルのSEM像である。4つのSEM像の比較から、サンプルに含まれる粒子の形状、大きさがほぼ変わらないことが分かる。つまり、YNU-5を構成するAlに対するTiによる置き換えが、YNU-5の結晶構造を崩すことなく安定して行われていることが分かる。
実施例1、比較例4のサンプルを触媒とする、次の化学反応式に示すフェノール酸化反応の実験を行った。
実施例1、比較例4のサンプルを触媒とする、次の化学反応式に示すシクロヘキセン酸化反応の実験を行った。
実施例1、比較例4のサンプルを触媒とする、次の化学反応式に示すシクロヘキセン酸化反応の実験を行った。
11 ガラス管
12 加熱器
13 温度コントローラー
14 チタン源の容器
15 不活性ガスの供給源
16 四方バルブ
Claims (8)
- アルミノシリケートの骨格内のアルミニウムの一部を、チタンに置き換えてなるチタノシリケートの製造方法であって、
第一シリカ源、アルカリ源、水、および構造規定剤の混合物を、攪拌しながら調製する第一工程と、
調製した前記混合物を、攪拌しながら加熱する第二工程と、
加熱した前記混合物を冷却する第三工程と、
冷却した前記混合物に、第二シリカ源およびアルミナ源を加えて攪拌しながら再調製する第四工程と、
再調製した前記混合物を加熱する第五工程と、
加熱した前記混合物を、洗浄およびろ過した上で乾燥させる第六工程と、
前記第六工程を経て得た有機複合体を加熱し、包接されている有機物を取り除き、アルミノシリケートYNU-5を得る第七工程と、
前記アルミノシリケートYNU-5を焼成する第八工程と、
焼成した前記アルミノシリケートYNU-5を酸処理する第九工程と、
酸処理した前記アルミノシリケートYNU-5を、気相の塩化チタンまたはチタンアルコキシドとともに加熱し、室温まで放冷し、洗浄し、乾燥させる第十工程と、を順に有し、
前記構造規定剤として、ジメチルジプロピルアンモニウム化合物を用い、
前記第一シリカ源に対する前記水のモル比を、6以上8以下とし、
前記焼成の温度を400℃以上900℃以下、前記焼成の時間を3時間以上24時間以下とし、
前記酸処理に用いる酸性溶液を、硝酸、塩酸、または硫酸を55重量%以上65重量%以下の濃度で含む溶液とし、
前記酸処理の温度を100℃以上150℃以下とし、前記酸処理の時間を1時間以上24時間以下とし、
前記酸処理を、前記アルミノシリケートYNU-5に含まれるシリコンとアルミニウムのモル比(Si/Al)が、300以上となるように行い、
前記第十工程の加熱温度を300℃以上800℃以下、加熱時間を0.5時間以上6時間以下とし、
最終工程後のチタノシリケートの粒径を1000nm以上2000nm以下とすることを特徴とするチタノシリケートの製造方法。 - 前記第一シリカ源としてコロイダルシリカを用い、前記第二シリカ源および前記アルミナ源としてY型ゼオライトを用いることを特徴とする請求項1に記載のチタノシリケートの製造方法。
- 前記第九工程において、前記アルミノシリケートYNU-5を、硝酸が60重量%以上含まれる水溶液に浸漬することを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のチタノシリケートの製造方法。
- 前記第九工程において、前記アルミノシリケートYNU-5を、100℃以上の温度で加熱することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項チタノシリケートの製造方法。
- 前記第一工程において、前記混合物にアルコールを添加することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載のチタノシリケートの製造方法。
- 前記第十工程後に、さらに焼成を行うことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載のチタノシリケートの製造方法。
- アルミノシリケートYNU-5の骨格内のアルミニウムの一部が、チタンに置き換えられてなり、粒径が1000nm以上2000nm以下であることを特徴とするチタノシリケート。
- アルミノシリケートYNU-5の骨格内に含まれるシリコンとチタンのモル比(Si/Ti)が、60以上であることを特徴とする請求項7に記載のチタノシリケート。
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