JP7283079B2 - 撮像装置および撮像素子 - Google Patents

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Description

本発明は、撮像装置および撮像素子に関する。
隣接する全画素が遮光画素である画素の信号に基づいて、通常画素の混色を補正するためのパラメータを算出する撮像装置が知られている(特許文献1)。しかし、この撮像装置は、遮光画素の位置からは画像信号が得られない。
日本国特開2011-66801号公報
本発明の第1の態様によると、撮像装置は、光を遮光する遮光状態と光を透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部と、前記フィルタ部を透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部とをそれぞれ有する第1の画素第2の画素及び第3の画素と、を有する撮像素子と、前記第1の画素の前記フィルタ部が遮光状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が遮光状態である第1の撮像のときに前記第1の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が透過状態である第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する補正部と、を備える撮像装置であって、前記撮像素子は、複数の前記第1の画素および複数の前記第3の画素を有し、複数の前記第1の画素は、前記第2の画素の周囲を囲むように配置され、複数の前記第3の画素は、前記第1の画素の周囲を囲むように配置され
本発明の第の態様によると、撮像素子は、光を遮光する遮光状態と光を透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部と、前記フィルタ部を透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部とをそれぞれ有する第1の画素第2の画素及び第3の画素と、前記第1の画素の前記フィルタ部が遮光状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が遮光状態である第1の撮像のときに前記第1の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が透過状態である第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する補正部と、を備える撮像素子であって、前記撮像素子は、複数の前記第1の画素および複数の前記第3の画素を有し、複数の前記第1の画素は、前記第2の画素の周囲を囲むように配置され、複数の前記第3の画素は、前記第1の画素の周囲を囲むように配置される。
第1の実施の形態に係る撮像装置の構成を示すブロック図である。 第1の実施の形態に係る撮像素子の一部の構成を示すブロック図である。 第1の実施の形態に係る撮像素子の構造を説明するための図である。 第1の実施の形態に係る撮像素子の画素の構成を示す回路図である。 第1の実施の形態に係る撮像素子のフィルタ部の状態の一例を示す図である。 第1の実施の形態に係る撮像素子のフィルタ部の状態の別の例を示す図である。 第1の実施の形態に係る撮像装置の動作の一例を示したフローチャートである。 第2の実施の形態に係る撮像装置の動作の一例を示したフローチャートである。 第2の実施の形態に係る撮像素子のフィルタ部の状態の一例を示す図である。 変形例2に係る撮像素子のフィルタ部の状態の一例を示す図である。 変形例3に係る撮像素子のフィルタ部の状態の一例を示す図である。 変形例4に係る撮像素子のフィルタ部の状態の一例を示す図である。
(第1の実施の形態)
図1は、第1の実施の形態に係る撮像装置の構成を示すブロック図である。図1では、第1の実施の形態に係る撮像装置の一例である電子カメラ1(以下、カメラ1と称する)の構成例を示す。カメラ1は、撮像光学系(結像光学系)2、撮像素子3、制御部4、メモリ5、表示部6、および操作部7を備える。撮影光学系2は、複数のレンズおよび絞りを有し、撮像素子3に被写体像を結像する。なお、撮影光学系2は、カメラ1から着脱可能にしてもよい。
撮像素子3は、例えば、CMOSイメージセンサやCCDイメージセンサである。撮像素子3は、撮影光学系2により形成された被写体像を撮像する。撮像素子3には、光電変換部を有する複数の画素が配置される。光電変換部は、例えばフォトダイオード(PD)によって構成される。撮像素子3は、受光量に応じた信号を生成し、生成した信号を制御部4に出力する。
メモリ5は、例えば、メモリカード等の記録媒体である。メモリ5には、画像データ等が記録される。メモリ5へのデータの書き込みや、メモリ5からのデータの読み出しは、制御部4によって行われる。表示部6は、画像データに基づく画像、シャッター速度や絞り値等の撮影に関する情報、およびメニュー画面等を表示する。操作部7は、レリーズボタン、各種設定スイッチ等を含み、それぞれの操作に応じた操作信号を制御部4へ出力する。
制御部4は、CPU、ROM、RAM等により構成され、制御プログラムに基づきカメラ1の各部を制御する。また、制御部4は、補正部4aと、記憶部4bと、画像生成部4cとを有する。補正部4aは、詳細は後述するが、撮像素子3の各画素から出力された画素信号に基づいて、暗電流成分および混色補正係数を算出する。また、補正部4aは、暗電流成分および混色補正係数に基づいて、撮像素子3の各画素から出力された画素信号に対して補正処理を行う。記憶部4bには、補正部4aにより算出された暗電流成分および混色補正係数が記憶される。補正部4aが行う処理については、後で詳しく述べる。
画像生成部4cは、補正部4aにより補正された画素信号に対して各種の画像処理を施し、画像データを生成する。画像処理には、階調変換処理、補間処理、輪郭強調処理等の公知の画像処理が含まれる。
図2および図3を参照して、第1の実施の形態に係る撮像素子3の構成について説明する。図2は、第1の実施の形態に係る撮像素子3の一部の構成を示すブロック図である。図3は、第1の実施の形態に係る撮像素子3の構造を説明するための図である。図3(a)は、撮像素子3の断面構造の一例を示す図であり、図3(b)は、撮像素子3のフィルタ部の透明電極のレイアウト例を説明するための平面図である。
図2に示すように、撮像素子3は、複数の画素10と、フィルタ垂直駆動部40と、フィルタ水平駆動部50と、フィルタ制御部60と、画素垂直駆動部70と、カラム回路部80と、水平走査部90と、出力部100と、システム制御部110とを備える。撮像素子3では、画素10が二次元状(例えば、行方向および列方向)に配置される。図2に示す例では、説明を簡略化するために、画素10は水平方向15画素×垂直方向12画素のみ図示しているが、撮像素子3は、例えば数百万画素~数億画素、又はそれ以上の画素を有する。
図3(a)に示すように、撮像素子3は、半導体基板220と、配線層210と、支持基板200と、マイクロレンズ31と、フィルタ部35とを備える。図3(a)に示す例では、撮像素子3は、裏面照射型の撮像素子として構成されている。半導体基板220は、配線層210を介して支持基板200に積層される。半導体基板220は、シリコン等の半導体基板により構成され、支持基板200は、半導体基板やガラス基板等により構成される。配線層210は、導体膜(金属膜)および絶縁膜を含む配線層であり、複数の配線やビアなどが配置される。導体膜には、銅、アルミニウム等が用いられる。絶縁膜は、酸化膜や窒化膜などで構成される。撮影光学系2を通過した光は、主にZ軸プラス方向へ向かって入射する。また、座標軸に示すように、Z軸に直交する紙面右方向をX軸プラス方向、Z軸およびX軸に直交する紙面奥方向をY軸プラス方向とする。
画素10(図3においては画素10A~10C)は、マイクロレンズ31と、フィルタ部35と、光電変換部32とを含んで構成される。マイクロレンズ31は、入射した光を光電変換部32に集光する。光電変換部32は、入射した光を光電変換して電荷を生成する。
フィルタ部35は、マイクロレンズ31側から半導体基板220側に向かって順次積層されたエレクトロクロミック(以下、ECと称する)層21、22、23と、透明電極11、12、13、14とを有する。EC層21~23は、金属酸化物等のエレクトロクロミック材料を用いて形成される。透明電極11~14は、例えばITO(酸化インジウムスズ)等により形成される。EC層21と透明電極12との間、EC層22と透明電極13との間、及びEC層23と透明電極14との間には、絶縁膜33がそれぞれ設けられる。また、フィルタ部35には、不図示の電解質層(電解質膜)が設けられる。
透明電極11は、図3(b)に明示したように、第1の方向であるX方向に、即ち行方向に配列された複数のEC層21の一方の面を覆うように、行方向に配列された複数のEC層毎に、配置される。図2に示した例では、画素10の配列は、12行であるので、透明電極11は、12本並置されている。透明電極12及び透明電極13は、透明電極11と同様に、X方向に配置された複数のEC層22及びEC層23の一方の面を覆うように配置される。
透明電極14は、3つのEC層21、22、23に共通の電極で、EC層23の他方の面側に配置される。共通透明電極14は、図3(b)に明示したように、X方向と交差する第2の方向であるY方向、即ち列方向に配列された複数のEC層23に沿って、列方向に配列された複数のEC層毎に、配置される。図2に示した例では、画素10の配列は、15列であるので、共通透明電極14は、15本並置されている。
透明電極11~13および共通透明電極14は、EC層21、22、23に対してマトリクス状(網目状)に配置される電極となる。透明電極11~13は、フィルタ垂直駆動部40に接続され、共通透明電極14は、フィルタ水平駆動部50に接続される。これにより、本実施の形態では、マトリクス状の電極を用いてEC層21、22、23の駆動制御を行うアクティブマトリクス駆動を行うことができる。
EC層21は、透明電極11と共通透明電極14とによる駆動信号の供給によって酸化還元反応を生じることによりB(青)を発色する。従って、EC層21は、駆動信号の供給によって、入射光のうち、B(青)に対応する波長域の光を透過させる。EC層22は、透明電極12と共通透明電極14とによる駆動信号の供給によって酸化還元反応を生じることによりG(緑)を発色する。従って、EC層22は、駆動信号の供給によって、入射光のうち、G(緑)に対応する波長域の光を透過させる。EC層23は、透明電極13と共通透明電極14とによる駆動信号の供給によって酸化還元反応を生じることによりR(赤)を発色する。従って、EC層23は、駆動信号の供給によって、入射光のうち、R(赤)に対応する波長域の光を透過させる。EC層21、22、23は、上述の駆動信号の供給を停止した場合は、一定時間の間は上記の発色が持続され、リセット信号を供給した場合は、入射する光のうちの全ての波長域の光を透過する透明(消色)の状態になる。
上述のように、複数のフィルタ部35の各々は、B(青)を発色するEC層21、G(緑)を発色するEC層22、およびR(赤)を発色するEC層23の3つのフィルタにより構成される。3つのEC層21、22、23のいずれにも、駆動信号が供給されていない状態では、3層EC透過波長域は、W(白)となる。3つのEC層21、22、23の全てに駆動信号を供給すると、3層EC透過波長域は、BK(黒)となる。同様に、EC層21のみに、EC層22のみに、及びEC層23のみに、それぞれ駆動信号を供給した場合には、3層EC透過波長域は、それぞれB(青)、G(緑)、R(赤)になる。
これにより、フィルタ部35は、EC層21~23の透過波長の組み合わせにより、W(白)、BK(黒)、R(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかの波長域の光を主に透過させることが可能となる。
以下の説明において、フィルタ部35の3層EC透過波長域がB(青)になった画素をB画素と称し、3層EC透過波長域がG(緑)になった画素をG画素と称し、3層EC透過波長域がR(赤)になった画素をR画素と称する。また、フィルタ部35の3層EC透過波長域がBK(黒)になった画素を、BK画素、又はフィルタ部35が入射光を遮光するので遮光画素と称する。
このように各画素10は、フィルタ部35を透過する波長が適宜変更され、その波長の光成分を光電変換する。また、フィルタ部35が全色透過するなら、画素10はWの光成分を光電変換し、フィルタ部35が全色吸収するなら、画素10は遮光された状態の信号を出力する。
図2において、フィルタ制御部60は、フィルタ垂直駆動部40およびフィルタ水平駆動部50から各フィルタ部35に入力される信号を制御することにより、各フィルタ部35の透過波長を設定(変更)する。フィルタ垂直駆動部40は、複数のフィルタ部35の行を選択して、即ち、複数の透明電極11~13のうちの所定の透明電極を選択してそれに駆動信号を供給する。フィルタ水平駆動部50は、複数のフィルタ部35の列を選択して、即ち、複数の共通透明電極14のうちの所定の共通透明電極を選択してそれに駆動信号を供給する。こうして、フィルタ垂直駆動部40によって選択された透明電極11~13とフィルタ水平駆動部50によって選択された共通透明電極14との両方に関するEC層が発色する。
例えば、図3(b)において、フィルタ水平駆動部50が3本の共通透明電極14のうちの右端の共通透明電極14を選択して駆動信号を供給し、フィルタ垂直駆動部40が9本の透明電極11~13のうち上端の透明電極11を選択して駆動信号を供給すると右上端に位置するEC層21が発色する。また、フィルタ水平駆動部50が右端の共通透明電極14を選択して駆動信号を供給し、フィルタ垂直駆動部40が上端の透明電極12を選択して駆動信号を供給すると右上端のEC層22が発色する。また、フィルタ水平駆動部50が右端の共通透明電極14を選択して駆動信号を供給し、フィルタ垂直駆動部40が上端の透明電極13を選択して駆動信号を供給すると、右上端のEC層23が発色する。
図2において、システム制御部110は、カメラ1の制御部4からの信号に基づいて、フィルタ制御部60、画素垂直駆動部70、カラム回路部80、水平走査部90、および出力部100を制御する。画素垂直駆動部70は、システム制御部110からの信号に基づいて、後述する信号TX、信号RST、信号SELなどの制御信号を各画素10に供給して、各画素10の動作を制御する。
カラム回路部80は、複数のアナログ/デジタル変換部(AD変換部)を含んで構成され、各画素10から後述する垂直信号線30を介して入力された信号をデジタル信号に変換し、変換後のデジタル信号を水平走査部90に出力する。水平走査部90は、カラム回路部80から出力された信号を、出力部100に順次出力する。出力部100は、不図示の信号処理部を有し、水平走査部90から入力された信号に対して相関二重サンプリングや信号量を補正する処理等の信号処理を行い、カメラ1の制御部4に出力する。出力部100は、LVDSやSLVS等の高速インタフェースに対応した入出力回路等を有し、信号を制御部4に高速に伝送する。
次に、撮像素子3における互いに近傍の画素の間に生じる混色、即ちクロストークについて説明する。混色は、或る画素に入射した光束がその画素の近傍の画素に入り込むこと、又は、或る画素で光電変換により発生した電荷がその画素の近傍の画素に漏れ出ることなどで発生する。このような混色について、図3(a)を用いて以下に説明する。
撮像素子3では、画素10のフィルタ部35を透過した光の一部が、その画素10の周辺画素の光電変換部32に漏れる場合が生じる。図3(a)において、破線61は、画素10Bのフィルタ部35を透過して画素10Cの光電変換部32に入射する光を模式的に表している。画素10Cの光電変換部32は、画素10Cのフィルタ部35を透過した光に基づく電荷に加えて、画素10Bのフィルタ部35を透過した光に基づく電荷を生成することになる。
図3(a)に示す破線62は、画素10Bの光電変換部32により生成された電荷の一部が、画素10Cの光電変換部32に漏れることを模式的に表している。画素10Cは、画素10Cの光電変換部32により生成された電荷と、画素10Bの光電変換部32により生成された電荷とに基づく画素信号を生成することになる。
このように、撮像素子3では、画素信号には、近傍画素の間で混色によるノイズ成分が混入する。そこで、詳細は後述するが、カメラ1の制御部4は、近傍画素間で信号が漏れる割合を示す情報である混色補正係数を求めて、混色補正係数を用いて画素信号を補正することによって、画素信号から混色によるノイズ成分を除去する。
また、撮像素子3に設けられる光電変換部32(フォトダイオード)では、暗電流が生じる。画素信号のうち暗電流に起因する信号成分は、画素信号にとってノイズ成分となる。そこで、詳細は後述するが、カメラ1の制御部4は、撮像素子3から遮光状態の画素の画素信号を読み出すことで、暗電流成分を検出する。そして、制御部4は、補正対象となる画素の画素信号から暗電流成分を減算することによって、画素信号から暗電流によるノイズ成分を除去する。
図4は、第1の実施の形態に係る撮像素子3の画素10の構成例を示す回路図である。画素10は、上述した光電変換部32と、読み出し部20とを有する。読み出し部20は、転送部25と、リセット部26と、フローティングディフュージョン(以下、FDと称する)27と、増幅部28と、選択部29とを有する。図2に示す画素垂直駆動部70は、上述したように、信号TX、信号RST、信号SELなどの制御信号を各画素10に供給して、各画素10の動作を制御する。
転送部25は、信号TXにより制御され、光電変換部32で光電変換された電荷をフローティングディフュージョン27に転送する。すなわち、転送部25は、光電変換部32およびフローティングディフュージョン27の間に電荷転送路を形成する。フローティングディフュージョン27は電荷を保持(蓄積)する。増幅部28は、フローティングディフュージョン27に保持された電荷による信号を増幅し、選択部29を介して垂直信号線30に出力する。図2に示す例では、増幅部28は、ドレイン端子、ゲート端子およびソース端子がそれぞれ、電源VDD、フローティングディフュージョン27および選択部29に接続されるトランジスタM3により構成される。増幅部28のソース端子は、選択部29を介して垂直信号線30に接続される。増幅部28は、不図示の電流源を負荷電流源としてソースフォロワ回路の一部として機能する。
リセット部26は、信号RSTにより制御され、フローティングディフュージョン27の電荷をリセットし、フローティングディフュージョン27の電位をリセット電位(基準電位)にリセットする。選択部29は、信号SELにより制御され、増幅部28からの信号を垂直信号線30に出力する。転送部25、排出部26、および選択部29は、例えば、それぞれトランジスタM1、トランジスタM2、トランジスタM4により構成される。
撮像素子3は、画像データの生成に用いる画素信号を取得するための撮像動作(以下、本撮像と称する)を行う場合と、暗電流成分及び混色補正係数の算出に用いる画素信号を取得するための撮像動作(以下、補正撮像と称する)を行う場合とで、各フィルタ部35の状態を切り換える。フィルタ制御部60は、撮像素子3が本撮像を行う場合は、画素10がベイヤー配列に従って配置されるように、各画素10のフィルタ部35を制御する。図5は、本撮像時の各画素のフィルタ部35の入射光の透過・遮光状態を示す図であり、図6は、補正撮像時の各画素のフィルタ部35の入射光の透過・遮光状態を示す図である。図5に示すように、フィルタ制御部60は、本撮像時にはフィルタ部35を駆動制御して、G画素10とB画素10とが行方向に交互に配置された画素列と、R画素10とG画素10とが行方向に交互に配置された画素列とを列方向に交互に並べる。
一方、フィルタ制御部60は、補正撮像を行う場合は、図6に示すように一部の画素10がB画素10、G画素10、R画素10となり、残りの画素10がBK画素10、即ち遮光画素となるように、各画素10のフィルタ部35を制御する。なお、図5及び図6に示す例では、説明を簡略化するために、行方向32画素×列方向16画素のみ図示している。
図6において、R画素10に隣接する隣接画素に関する混色補正係数を算出するための領域41と、G画素10に隣接する隣接画素に関する混色補正係数を算出するための領域42と、G画素10に隣接する隣接画素に関する混色補正係数を算出するための領域43と、B画素10に隣接する隣接画素に関する混色補正係数を算出するための領域44とが、散在している。本実施の形態では、領域41~44の各々は、3画素×3画素の9画素から構成される。領域41は、その中心位置に、R画素10を有し、このR画素10を囲む周囲の8画素はBK画素(遮光画素)10bk2である。同様に、領域42、43の各々は、その中心位置に、G画素10を有し、このG画素10を囲む周囲の8画素はBK画素10bk2である。領域44は、その中心位置に、B画素10を有し、このB画素10を囲む周囲の8画素はBK画素10bk2である。なお、領域41の中心位置の画素はR画素10であるが、これは、中心位置の画素が撮像時もR画素となるように、領域41の位置が定められている。他の領域42~44も同様である。
また、各領域41~44の大きさは、中心画素からの混色の影響、即ちクロストークの影響が及ぶ範囲として、定められている。従って、本実施の形態では、例えば、領域41の中心画素のR画素10からの混色(クロストーク)は、それに隣接する周囲の8画素にしか、及ばない。もし、混色(クロストーク)が上記の周囲8画素よりも外側の画素にまで及ぶ場合には、領域41~44は、その外側の画素を含むように選定される。
これらの4つの領域41~44は、図6において、上下左右方向に互いに隣接配置されている。即ち、領域42と領域44とが互いに左右方向(画素配列の行方向)に隣接配置され、領域41と領域43とが互いに左右方向に隣接配置されている。これらの互いに隣接配置された領域41~44は、撮像素子3の撮像面全体に、上下左右方向に略等間隔で分散して配置されている。
領域41~44以外の画素10は、全てBK画素10であり、領域41~44以外のBK画素10は、暗電流測定用の画素である。この暗電流測定用のBK画素10bk1は、領域41~44内のBK画素10bk2と区別するために、点線の四角で囲まれている。
次に、暗電流成分の算出及び撮像時の暗電流成分の補正について説明する。撮像素子3は、補正撮像を行う場合に、各画素10のフィルタ部35を制御して図6に示すように、暗電流測定用のBK画素10bk1を配置する。点線の四角で囲まれた暗電流測定用のBK画素10bk1は、入射光が光電変換部32に入射せず、かつ、領域41~44の中心画素からの混色(クロストーク)の影響を受けないので、当該BK画素10bk1の暗電流量に応じた画素信号を出力する。補正部4aは、撮像素子3から出力された暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号に基づいて暗電流成分を算出する。補正部4aは、算出した暗電流成分と、BK画素10bk1の位置に関する情報とを対応付けて、記憶部4bに記憶させる。
撮像素子3は、本撮像を行う場合に、各画素10のフィルタ部35を制御して図5に示すように、R画素10、G画素10、およびB画素10をベイヤー配列で配置する。補正部4aは、本撮像時に撮像素子3の各画素から出力された画素信号から、記憶部4bに記憶された暗電流成分を減算して、画素信号を補正する。補正部4aは、本撮像時に取得した画素信号が補正撮像時に図6の暗電流測定用のBK画素10bk1であった画素から出力されたものである場合には、補正撮像時に当該暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号を用いて予め算出した暗電流成分で、画素信号を補正する。
補正撮像時の図6の領域41~44内の中心画素は、暗電流量に応じた画素信号が生成されないため、中心画素の暗電流成分を予め算出することができない。そこで、補正部4aは、本撮像時に取得した画素信号が補正撮像時に図6の領域41~44内の中心画素であった画素から出力されたものである場合には、補正撮像時に当該画素の近傍の暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号を用いて予め算出した暗電流成分で、画素信号を補正する。
補正撮像時の図6の領域41~44内のBK画素10bk2は、暗電流量に応じた画素信号が生成されないため、BK画素10bk2の暗電流成分を予め算出することができない。そこで、補正部4aは、本撮像時の画素信号が補正撮像時に図6の領域41~44内のBK画素10bk2であった画素から出力されたものである場合には、補正撮像時に当該画素の近傍の暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号を用いて予め算出した暗電流成分で、画素信号を補正する。このように処理を行うことにより、補正部4aは、補正対象となる画素の画素信号から暗電流によるノイズ成分を取り除くことができる。
次に、混色補正係数の算出及び撮像時の混色のノイズ成分の除去について説明する。補正撮像を行う場合に、撮像素子3は、各画素10のフィルタ部35を制御して図6に示すように、複数の領域41~44を構成する画素を配置して、混色補正係数の算出を行う。例えば、領域41の中心画素であるR画素10からの混色(クロストーク)は、その中心画素に隣接する8つのBK画素10bk2に影響する。そして、隣接のBK画素10bk2は、混色による画素信号(ノイズ信号)を出力する。
制御部4の補正部4aは、R画素10からの画素信号と、隣接のBK画素10bk2からの画素信号とを比較することで、R画素10の画素信号R1と隣接するBK画素10bk2に現れる画素信号r1との比(r1/R1)、すなわち混色補正係数を、隣接BK画素10bk2毎に算出する。例えば、補正部4aは、領域41のR画素10からの画素信号とR画素10の上に位置するBK画素10bk2(Y方向に一つずれた位置の画素)からの画素信号とを比較して、R画素10からR画素10の上に位置するBK画素10bk2に混入する信号成分に関する混色補正係数を算出する。
同様にして、補正部4aは、R画素10から右上のBK画素10bk2(X方向に一つかつY方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分、R画素10から右のBK画素10bk2(X方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分、およびR画素10から右下のBK画素10bk2(X方向に一つかつ-Y方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分のそれぞれについての混色補正係数を算出する。また、補正部4aは、R画素10から下(-Y方向に一つずれた位置の画素)のBK画素10bk2に混入する信号成分、R画素10から左下のBK画素10bk2(-X方向に一つかつ-Y方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分、R画素10から左のBK画素10bk2(-X方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分、およびR画素10から左上のBK画素10bk2(-X方向に一つかつY方向に一つずれた位置の画素)に混入する信号成分のそれぞれについての混色補正係数を算出する。これにより、補正部4aは、領域41のR画素10と、R画素10に対して上下左右および斜め方向に位置するBK画素10bk2とに関して合成8個の混色補正係数を取得する。
なお、補正部4aは、上述の混色補正係数の算出の前に領域41~44の画素の画素信号から暗電流成分を減算して、暗電流成分を除去した画素信号に基づき、混色補正係数の算出を行ってもよい。例えば、暗電流測定用の複数のBK画素10bk1のうち、領域41~44の画素10の各々に最も近い位置のBK画素10bk1の暗電流成分を用いて、領域41~44の画素10の各々の画素信号から暗電流成分を減算する。このように、補正部4aは、暗電流成分が取り除かれた画素信号を用いて混色補正係数の算出を行うことによって、混色補正係数を精度良く算出することができる。
また、補正部4aは、領域42~44についても同様の処理を行うことで、領域42のG画素10、領域43のG画素10、領域44のB画素10から隣接画素への混色に関する混色補正係数を算出することができる。補正部4aは、算出した混色補正係数と、BK画素10bk2の位置に関する位置情報とを対応付けて、記憶部4bに記憶させる。
また、図6に示すように、撮像素子3は、領域41~44に隣接する全ての画素が暗電流測定用のBK画素10bk1であるので、領域41~44のBK画素10bk2に隣接画素からの混色が生じることが抑制される。このため、補正部4aは、領域41~44のBK画素10bk2の画素信号を用いることによって、混色補正係数を精度良く算出することができる。この結果、補正部4aは、補正処理の精度を向上させることができる。
次に、撮像時の混色によるノイズ成分の補正、即ち除去について説明する。補正部4aは、本撮像時の画素信号に対して、記憶部4bに記憶された混色補正係数を用いて補正処理を行う。補正部4aは、補正対象画素の上下左右および斜め方向に位置するそれぞれの画素から混入する信号成分に関する混色補正係数を用いて、補正対象画素の画素信号の補正を行う。この場合、補正部4aは、記憶部4bに記憶された領域41~44のBK画素10bk2に関する混色補正係数に基づいて、補正対象である補正対象画素の画素信号を補正するための混色補正係数を算出する。
補正対象画素がR画素の場合には、補正部4aは、R画素の上に位置するG画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数、R画素の右上のB画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数、およびR画素の右のG画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数をそれぞれ算出する。また、補正部4aは、R画素の右下に位置するB画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数、R画素の下のG画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数、およびR画素の左下のB画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数をそれぞれ算出する。また、補正部4aは、R画素の左に位置するG画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数、およびR画素の左上のB画素からR画素に混入する信号成分についての混色補正係数をそれぞれ算出する。
補正部4aは、領域41~44のBK画素10bk2に関する混色補正係数に基づいて、補正対象画素についての混色補正係数を算出する。例えば、補正部4aは、領域41~44のBK画素10bk2のうち、補正対象画素に最も近い位置のBK画素10bk2について予め算出した混色補正係数を、補正対象画素の混色補正係数として用いる。
なお、補正部4aは、領域41~44のBK画素10bk2のうち、補正対象画素の近傍の3つのBK画素10bk2について予め算出した混色補正係数の平均値を、補正対象画素の混色補正係数として用いてもよい。混色補正係数の平均値は、2つのBK画素10bk2の混色補正係数を平均して算出してもよいし、4つのBK画素10bk2の混色補正係数を平均して算出してもよく、算出に用いるBK画素10bk2の数は、特に限定されない。また、補正部4aは、各画素についての輝度値を算出しておき、補正対象画素の輝度値との差が小さいBK画素10bk2のうち、補正対象画素に最も近い位置のBK画素10bk2の混色補正係数を、補正対象画素の混色補正係数として用いてもよい。この場合、補正撮像時にBK画素10bk2の画素信号を用いて輝度値を求めることはできないため、輝度値を算出するための撮像動作を行って、BK画素10bk2の輝度値を算出するようにする。なお、補正部4aは、特許文献1に記載の方法を用いて、補正対象画素の混色補正係数を算出するようにしてもよい。例えば、補正部4aは、特許文献1に記載の線形補間法を用いて、混色補正係数を算出するようにしてもよい。
補正部4aは、補正対象画素に隣接する隣接画素の画素信号に、算出した補正対象画素の混色補正係数を乗算して、補正対象画素の画素信号中の混色ノイズ成分を算出し、算出した混色ノイズ成分を補正対象画素の画素信号から減算する。補正対象画素がR画素の場合には、補正部4aは、補正対象画素に隣接する8つの画素のそれぞれの画素信号に、8つの画素の各々から補正対象画素に混入する信号成分に関する混色補正係数をそれぞれ乗算して、8つの画素からR画素に混入するノイズ成分を求める。補正部4aは、算出した隣接画素からのノイズ成分を、補正対象画素の画素信号から減算することで、補正対象画素の画素信号から混色によるノイズ成分を取り除くことができる。このように、本実施の形態では、補正撮像時に撮像素子3の全領域に渡って設けられる複数のBK画素10bk2に関する混色補正係数を用いて、補正対象となる補正対象画素を補正するための混色補正係数を算出することができる。このため、補正対象画素の混色補正係数を精度良く算出することができ、補正処理の精度を向上させることができる。
図7は、第1の実施の形態に係る撮像装置1の動作の一例を示したフローチャートである。この図7のフローチャート、図5、および図6を参照して、撮像装置1の動作例について説明する。図7に示す処理は、例えばユーザによりレリーズボタンが操作されて撮影の指示が行われた場合に実行される。
ステップS100において、撮像素子3のフィルタ制御部60は、各画素10のフィルタ部35を制御して図6に示すように、暗電流測定用のBK画素10bk1と、複数の領域41~44を構成する画素とを生成する。このステップS100は、後述の本撮像前毎に行う必要はなく、例えばカメラ1の電源投入毎に行われる。
ステップS110において、制御部4は、撮像素子3に補正撮像を行わせて、図6の各画素10から画素信号を読み出す。ステップS120において、制御部4の補正部4aは、撮像素子3から出力された暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号に基づいて暗電流成分を算出する。ステップS130において、補正部4aは、算出した暗電流成分と、BK画素10bk1の位置に関する情報とを対応付けて、記憶部4bに記憶させる。
ステップS140において、補正部4aは、領域41~44の各画素10の画素信号に基づいて、中心画素に隣接するBK画素10bk2に関する混色補正係数を算出する。ステップS150において、補正部4aは、算出した混色補正係数と当該混色補正係数を使用する画素とを対応付けて、混色補正係数と対応する画素の位置情報とを記憶部4bに記憶させる。なお、制御部4は、撮像光学系2の焦点距離、撮像光学系2のレンズ、絞り値、シャッター時間、フィルタ部35の透過波長等が変更された場合に、ステップ100からステップ150までの処理を実行して、暗電流成分および混色補正係数を再度、取得してもよい。また、制御部4は、製品出荷前にステップ100からステップ150までの処理を実行して、暗電流成分および混色補正係数を取得するようにしてもよい。
ステップS160において、撮像素子3のフィルタ制御部60は、フィルタ部35を制御して、図5に示すように、R画素10、G画素10、およびB画素10をベイヤー配列に従うように生成する。ステップS170において、制御部4は、撮像素子3に本撮像を行わせる。
ステップS180において、補正部4aは、記憶部4bに記憶された暗電流成分および混色補正係数を用いて、本撮像によって生成された各画素10の画素信号を補正する。これにより、補正部4aは、画素信号から暗電流および混色によるノイズ成分を取り除くことができる。ステップS190において、画像生成部4cは、補正部4aにより補正された画素信号に基づいて画像データを生成する。
上述した実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)カメラ1は、入射光を遮光する遮光状態と入射光のうちの所定の波長の光を選択的に透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部35と、フィルタ部35を透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部32と、光電変換部32で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部(読み出し部20)とをそれぞれ有する第1の画素及び第2の画素と、第1の画素のフィルタ部35が遮光状態にされて、第2の画素のフィルタ部35が透過状態にされたときに第1の画素の出力部から出力された信号で、第1の画素のフィルタ部35が透過状態にされたときに第1の画素の出力部から出力された信号を補正する補正部4aと、を備える。本実施の形態によるカメラ1は、或る画素10を遮光状態にして算出した混色補正係数を用いて、その画素10を透過状態にして生成された画素信号を補正する。このため、より厳密な補正を行うことができ、補正処理の精度を向上させることができる。また、補正された画素信号を用いることによって、高品質な画像(データ)を生成することができる。
(2)本実施の形態によるカメラ1では、画素10は、入射光を遮光する遮光状態と入射光のうちの所定の波長の光を選択的に透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部35を有する。このため、各画素10を遮光状態にして混色補正係数および暗電流成分を算出し、被写体像の撮像を行う場合は各画素10を透過状態にすることができる。このため、本撮像時に混色補正係数および暗電流成分を取得するための遮光画素を設ける必要がなく、本撮像時に欠陥画素が生じることを防ぐことができる。また、各画素から画像データを生成するための画素信号を取得することができるため、高品質な画像(データ)を生成することができる。
(3)本実施の形態によるカメラ1では、画素10毎に透過波長を変更可能なフィルタ部35が設けられる。このため、制御部4は、暗電流測定用のBK画素10bk1および混色補正係数を算出するための領域41~44を、所望の位置に配置することができる。また、図6に示すように、撮像領域の全領域に暗電流測定用の画素および領域41~44を配置することにより、各画素についての暗電流成分、混色補正係数を正確に取得することが可能となる。
(第2の実施の形態)
図面を参照して、第2の実施の形態に係る撮像装置を説明する。第2の実施の形態の撮像装置は、図1に示した撮像装置1の構成と同様の構成を有する。第2の実施の形態の撮像装置は、撮像素子3に設けられる全画素の暗電流成分を算出する。図8は、第2の実施の形態に係る撮像装置1の動作の一例を示したフローチャートである。この図8のフローチャートおよび図9等を参照して、撮像装置1の動作例について説明する。なお、図中、第1の実施の形態と同一もしくは相当部分には、同一の参照番号を付し、相違点を主に説明する。
ステップS200において、撮像素子3のフィルタ制御部60は、第1の実施の形態の場合と同様に図6に示すように、各画素10のフィルタ部35を制御して、暗電流測定用のBK画素10bk1と、複数の領域41~44を構成する画素とを生成する。
ステップS210において、制御部4は、撮像素子3に補正撮像を行わせて、撮像素子3の各画素10から画素信号を読み出す。ステップS220において、制御部4の補正部4aは、撮像素子3から出力された暗電流測定用のBK画素10bk1の画素信号に基づいて、暗電流成分を算出する。ステップS230において、補正部4aは、算出した暗電流成分と、暗電流測定用のBK画素10bk1の位置に関する情報とを対応付けて、記憶部4bに記憶させる。
ステップS240において、補正部4aは、領域41~44の各画素10の画素信号に基づいて、中心画素に隣接するBK画素10bk2に関する混色補正係数を算出する。ステップS250において、補正部4aは、算出した混色補正係数と、当該BK画素10bk2の位置情報とを対応付けて、記憶部4bに記憶させる。
ステップS260において、補正部4aは、暗電流成分を算出していない画素が無いか否かを判定する。補正部4aは、全画素の暗電流成分を算出した場合は、ステップS270へ進み、全画素の暗電流成分を算出していない場合は、ステップS200へ戻る。
ステップS200へ戻った場合は、撮像素子3のフィルタ制御部60は、各画素10のフィルタ部35を制御してBK画素10の位置を変更する。例えば図9に示すように、フィルタ制御部60は、それまでとは異なる新たな領域に、領域41~44を配置する。図9においては、図6の場合に領域41~領域44のBK画素10bk2であった画素のうちの一部の画素が、領域41~領域44の中心画素に変更されている。これにより、補正部4aは、図6に示す暗電流測定用のBK画素10bk1における暗電流成分と、図9に示す暗電流測定用のBK画素10bk1における暗電流成分と、をそれぞれ算出することが可能となる。
ステップS270において、撮像素子3のフィルタ制御部60は、フィルタ部35を制御して、第1の実施の形態の場合と同様に図5に示すように、R画素10、G画素10、およびB画素10をベイヤー配列に従うように生成する。ステップS280において、制御部4は、撮像素子3に本撮像を行わせる。
ステップS290において、補正部4aは、記憶部4bに記憶された各画素の暗電流成分および混色補正係数を用いて、本撮像によって生成された各画素10の画素信号を補正する。これにより、補正部4aは、画素信号から暗電流および混色によるノイズ成分を取り除くことができる。ステップS300において、画像生成部4cは、補正部4aにより補正された画素信号に基づいて画像データを生成する。
このように、本実施の形態による撮像装置1は、BK画素10の位置を変更して暗電流成分を算出する処理を繰り返すことによって、全画素の暗電流成分を取得することができる。また、撮像素子3に設けられる各画素の暗電流成分および混色補正係数を用いて、各画素の画素信号を補正するため、厳密な補正を行うことができ、補正処理の精度を向上させることができる。また、補正された画素信号を用いることによって、高品質な画像(データ)を生成することができる。
なお、上述した実施の形態では、全画素の暗電流成分を算出する例について説明したが、全画素の暗電流成分を算出する代わりに、全画素の混色補正係数を算出するようにしてもよい。この場合、ステップS260において、補正部4aは、混色補正係数を算出していない画素が無いか否かを判定する。補正部4aは、全画素の混色補正係数を算出した場合は、ステップS270へ進み、全画素の混色補正係数を算出していない場合は、ステップS200へ戻る。ステップS200へ戻った場合は、フィルタ制御部60は、各画素10のフィルタ部35を制御して、例えば図9に示すように、それまでとは異なる新たな領域に領域41~44を配置する。これにより、補正部4aは、図6に示す領域41~44のBK画素10bk2における混色補正係数と、図9に示す領域41~44のBK画素10bk2における混色補正係数と、をそれぞれ算出することが可能となる。また、制御部4は、ステップ200からステップ260までの処理を繰り返し実行することによって、全画素の暗電流成分と全画素の混色補正係数とを取得するようにしてもよい。
本実施の形態では、或る画素から隣接画素に混入するノイズ成分を算出するための混色補正係数と、隣接画素からその画素に混入するノイズ成分を算出するための混色補正係数とを、それぞれ画素毎に取得することができる。
本実施の形態では、全画素についての暗電流成分および混色補正係数の算出を行うため、暗電流成分および混色補正係数の算出にかかる処理時間が長くなる。このため、制御部4は、製品出荷前にステップ200からステップ260までの処理を実行して、全画素の暗電流成分および混色補正係数を取得することが望ましい。なお、制御部4は、撮像光学系2の焦点距離、撮像光学系2のレンズ、絞り値、シャッター時間、フィルタ部35の透過波長等が変更された場合に、ステップ200からステップ260までの処理を実行して、全画素の暗電流成分および混色補正係数を再度、取得してもよい。また、制御部4は、ユーザによりレリーズボタンが操作されて撮影の指示が行われた場合に、ステップ200からステップ260までの処理を実行して、全画素の暗電流成分および混色補正係数を再度、取得するようにしてもよい。
なお、上述した実施の形態では、画素毎に暗電流成分および混色補正係数を算出する例について説明した。しかし、例えば撮像素子3の画素数が非常に多い場合には、全画素10のうちの一部の画素について暗電流成分および混色補正係数を算出するようにしてもよい。例えば、全画素10のうちの特定の行や列の画素を間引いて暗電流成分および混色補正係数の算出を行う画素を選択し、選択した画素について暗電流成分および混色補正係数を算出するようにしてもよい。
次のような変形も本発明の範囲内であり、変形例の一つ、もしくは複数を上述の実施形態と組み合わせることも可能である。
(変形例1)
上述した実施の形態では、暗電流測定用のBK画素10bk1と、複数の領域41~44を構成する画素とを生成して、暗電流成分および混色補正係数を算出する例について説明した。しかし、制御部4は、全画素10が暗電流測定用のBK画素10bk1となるように、各画素10のフィルタ部35を制御するようにしてもよい。これにより、制御部4は、撮像素子3の画素毎の暗電流成分を取得することができる。なお、制御部4は、混色補正係数を算出するための領域41~44のみを生成して、混色補正係数のみを取得するようにしてもよい。
(変形例2)
上述した実施の形態では、撮像領域の全領域に暗電流測定用の画素および領域41~44を生成して暗電流成分および混色補正係数を取得した後に、R画素10、G画素10、およびB画素10を生成して撮像動作を行う例について説明した。しかし、図10に示すように、制御部4は、撮像領域の一部の領域のみに、暗電流測定用のBK画素10bk1および領域41~44が配置されるように各画素10のフィルタ部35を制御してもよい。これにより、制御部4は、撮像時に生成される各画素10の画素信号を用いて、暗電流成分および混色補正係数の算出と、画像データの生成とを行うことができる。この場合、画像生成部4cは、暗電流成分および混色補正係数を算出するために用いるBK画素10の画素信号を、そのBK画素10の周辺画素の画素信号を用いて補間することにより、画像データの生成を行う。
(変形例3)
上述した実施の形態では、撮像時に1つのR画素と、2つのG画素と、1つのB画素とをベイヤー配列の基本単位として繰り返し配置する例について説明した。しかし、図11(a)に示すように、制御部4は、フィルタ部35を制御して、4つのR画素と、8つのG画素と、4つのB画素とをベイヤー配列の基本単位として繰り返し配置するようにしてもよい。この場合、制御部4は、図11(b)に示すように各画素10のフィルタ部35を制御して、暗電流成分および混色補正係数の取得を行う。例えば、制御部4は、2画素×2画素の4つのBK画素10毎に、暗電流成分および混色補正係数を算出する。このように算出した暗電流成分および混色補正係数を用いることで、例えば2画素×2画素の画素信号を加算して加算信号を生成する場合に、加算信号に対する補正処理を精度良く行うことができる。
(変形例4)
制御部4は、カメラ1の電子ズーム機能のズーム倍率に応じて、各画素10のフィルタ部35の透過波長域を変更するようにしてもよい。図12(a)は、電子ズームが比較的低倍率である場合の画素信号の読み出し領域120Aと、R画素、G画素、B画素、BK画素の配列パターンとを示す。図12(b)は、電子ズームが比較的高倍率である場合の画素信号の読み出し領域120Bと、R画素、G画素、B画素、BK画素の配列パターンとを示す。制御部4の画像生成部4cは、読み出し領域120(120A、120B)の各画素10から出力される画素信号に基づいて、画像データを生成する。読み出し領域120内の画素10は有効画素となり、読み出し領域120は有効画素領域となる。
制御部4は、図12に示すように、フィルタ部35を制御して、読み出し領域外の画素10をBK画素10に切り換える。このようにすることで、読み出し領域外のBK画素10では、光電変換動作が行われない。このため、読み出し領域外の画素における光電変換動作に起因して、読み出し領域内の画素の画素信号にノイズが混入することを防ぐことができる。例えば、高輝度被写体を撮像する場合に、読み出し領域外の画素の光電変換部32の電荷が飽和して、読み出し領域内の画素に電荷が漏れることによって、画像にノイズが生じることを防ぐことができる。
(変形例5)
上述した実施の形態および変形例では、フィルタ部35は、R(赤)を発色するEC層、G(緑)を発色するEC層、およびB(青)を発色するEC層の3つのフィルタにより構成される例について説明した。しかし、フィルタ部35は、Mg(マゼンタ)を発色するEC層、Ye(イエロー)を発色するEC層、およびCy(シアン)を発色するEC層の3つのフィルタにより構成するようにしてもよい。また、フィルタ部35には液晶を用いた可変フィルタを用いるようにしてもよい。
なお、フィルタ部35は、第1の波長を透過するフィルタと、第1の波長より長い第2の波長を透過するフィルタと、第2の波長より長い第3の波長を透過するフィルタとを有するカラーフィルタと、光を透過する透過状態と光を遮光する遮光状態とを切り替え可能なフィルタとを組み合わせたものを用いてもよい。例えば、フィルタ部35には、互いに異なる波長領域の光を透過するカラーフィルタ(RGBまたはMgYeCyのカラーフィルタ)と透過状態または遮光状態に変更可能な可変フィルタ(液晶フィルタまたはMEMSシャッター)とを組み合わせたものを用いてもよい。また、フィルタ部35には、上述したような透過波長域を変更可能な色可変フィルタと透過状態または遮光状態に変更可能な可変フィルタとを組み合わせたものを用いてもよい。
(変形例6)
上述した実施の形態および変形例では、光電変換部としてフォトダイオードを用いる例について説明した。しかし、光電変換部として光電変換膜(有機光電膜)を用いるようにしてもよい。
(変形例7)
上述の実施の形態および変形例で説明した撮像素子3は、カメラ、スマートフォン、タブレット、PCに内臓のカメラ、車載カメラ、無人航空機(ドローン、ラジコン機等)に搭載されるカメラ等に適用されてもよい。
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2016年第194627号(2016年9月30日出願)
3 撮像素子、10 画素、20 読み出し部、32 光電変換部、35 フィルタ部、4a 補正部

Claims (13)

  1. 光を遮光する遮光状態と光を透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部と、前記フィルタ部を透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部とをそれぞれ有する第1の画素第2の画素及び第3の画素と、を有する撮像素子と、
    前記第1の画素の前記フィルタ部が遮光状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が遮光状態である第1の撮像のときに前記第1の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が透過状態である第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する補正部と、を備える撮像装置であって、
    前記撮像素子は、複数の前記第1の画素および複数の前記第3の画素を有し、
    複数の前記第1の画素は、前記第2の画素の周囲を囲むように配置され、
    複数の前記第3の画素は、前記第1の画素の周囲を囲むように配置される撮像装置。
  2. 請求項1に記載の撮像装置において、
    前記補正部は、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記フィルタ部が透過状態である間に前記第1の画素の前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を補正する撮像装置。
  3. 請求項1または2に記載の撮像装置において、
    前記補正部は、前記第1の撮像のときに前記第1の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて補正係数を生成し、前記補正係数と、前記第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する、撮像装置。
  4. 請求項3に記載の撮像装置において、
    前記補正部は、前記補正係数と、前記第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とを乗算して得た信号に基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する、撮像装置。
  5. 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の撮像装置において、前記第1の画素と前記第2の画素とが隣り合って配置される撮像装置。
  6. 請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の撮像装置において、
    前記第1の画素および前記第2の画素の前記フィルタ部の透過状態と遮光状態とを制御する制御部を備える撮像装置。
  7. 請求項に記載の撮像装置において、
    前記撮像素子は、複数の前記第1の画素および前記第2の画素を有し、
    前記制御部は、前記フィルタ部が遮光状態または透過状態である前記第1の画素、および前記フィルタ部が遮光状態または透過状態である前記第2の画素の位置を変更する撮像装置。
  8. 請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の撮像装置において、
    記補正部は、前記第1の撮像において前記第3の画素の前記出力部から出力された信号に基づいて、前記第2の撮像において、前記第1の画素、前記第2の画素及び前記第3の画素のうち、少なくとも前記第3の画素の前記出力部から出力された信号を補正する撮像装置。
  9. 請求項に記載の撮像装置において、
    前記補正部は、前記第1の撮像において前記第3の画素の前記フィルタ部が遮光状態である間に前記第3の画素の前記出力部から出力された信号に基づいて、前記第2の撮像において前記第3の画素の前記フィルタ部が透過状態である間に前記第3の画素の前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を補正する撮像装置。
  10. 請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載の撮像装置において、
    前記撮像素子は、複数の前記第2の画素を有し、
    複数の前記第3の画素は、複数の前記第2の画素の周囲を囲むように配置される複数の前記第1の画素の間に配置される撮像装置。
  11. 請求項1から請求項10までのいずれか一項に記載の撮像装置において、
    前記フィルタ部は、透過させる光の波長が変更可能である撮像装置。
  12. 請求項11に記載の撮像装置において、
    前記フィルタ部は、第1の波長の光を透過する第1透過状態と、第2の波長の光を透過する第2透過状態と、第3の波長の光を透過する第3透過状態とを切換え可能である撮像装置。
  13. 光を遮光する遮光状態と光を透過する透過状態とを切換え可能なフィルタ部と、前記フィルタ部を透過した光を光電変換して電荷を生成する光電変換部と、前記光電変換部で生成された電荷に基づく信号を出力する出力部とをそれぞれ有する第1の画素第2の画素及び第3の画素と、
    前記第1の画素の前記フィルタ部が遮光状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が遮光状態である第1の撮像のときに前記第1の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号と、前記第1の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第2の画素の前記フィルタ部が透過状態であり、前記第3の画素の前記フィルタ部が透過状態である第2の撮像のときに前記第2の画素の前記出力部から出力された信号とに基づいて、前記第2の撮像において前記第1の画素の前記出力部から出力された信号を補正する補正部と、を備える撮像素子であって、
    前記撮像素子は、複数の前記第1の画素および複数の前記第3の画素を有し、
    複数の前記第1の画素は、前記第2の画素の周囲を囲むように配置され、
    複数の前記第3の画素は、前記第1の画素の周囲を囲むように配置される撮像素子。
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