JP7272753B2 - 化粧被膜の製造方法 - Google Patents
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Description
従って、本発明の課題は、クレンジング剤等を使用することなく化粧料を取り除くことができる化粧被膜の形成手段を提供することにある。
B)次いで形成された被膜に粉体を含有する化粧料を塗布する工程とを有することを特徴とする皮膚上への化粧被膜の製造方法を提供するものである。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー。
又、エタノールは成分(a)の揮発性物質の全量に対して、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることが更に好ましく、80質量%以上であることが一層好ましい。また100質量%以下であることが好ましい。エタノールは成分(a)の揮発性物質の全量に対して、50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、65質量%以上100質量%以下であることが更に好ましく、80質量%以上100質量%以下であることが一層好ましい。
また、噴霧用組成物中のエタノールと成分(b)の含有量の比率((a)/(b))は、静電スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発させることができる観点から、0.5以上40以下が好ましく、1以上30以下がより好ましく、2以上25以下がさらに好ましい。
これらのうち、少なくとも、酸化鉄、酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる1種又は2種以上が好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛、ベンガラ、黄酸化鉄及び黒酸化鉄から選ばれる1種又は2種以上がより好ましい。
これらのうち、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、マイカ、無水ケイ酸、タルク、窒化ホウ素、合成マイカが含まれることが好ましい。
これらのうち、セルロースパウダー、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉体、ポリメチルシルセスキオキサン、アクリル樹脂パウダー、ナイロンパウダーが含まれることが好ましい。
表面処理剤の具体例としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルコキシシラン、フッ素変性シリコーン等のフッ素系化合物;ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、環状シリコーン、片末端又は両末端トリアルコキシ基変性オルガノポリシロキサン、架橋型シリコーン、シリコーン樹脂、フッ素変性シリコーン樹脂、アクリル変性シリコーン等のシリコーン系化合物;ステアリン酸アルミニウム、ミリスチン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等の金属石鹸;プロリン、ヒドロキシプロリン、アラニン、グリシン、サルコシン、グルタミン酸、アスパラギン酸、リジン及びそれらの誘導体等のアミノ酸系化合物;レシチン、水添レシチン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン等のアルキルシラン;ポリイソブチレン、ワックス、油脂等の油剤;トリイソステアリン酸イソプロピルチタン等の有機チタネートなどが挙げられる。
例えば、アラビアゴム、トラガカント、アラビノガラクタン、ローカストビーンガム(キャロブガム)、グアーガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、寒天、クインスシード(マルメロ)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ)、アルゲコロイド、トラントガム、ローカストビーンガム等の植物系高分子;キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、プルラン等の微生物系高分子;コラーゲン、カゼイン、アルブミン、デオキシリボ核酸(DNA)及びその塩等の動物系高分子;カルボキシメチルデンプン、メチルヒドロキシプロピルデンプン等のデンプン系高分子;メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セルロース末のセルロース系高分子;アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル等のアルギン酸系高分子;ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子;ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールシラン等のポリオキシエチレン系高分子;ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体系高分子;ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポリアクリル酸アミド等のアクリル系高分子など、さらに、シリカなど無機ケイ酸系化合物などが挙げられる。
本発明において、粉体の平均粒子径は、電子顕微鏡観察、レーザー回折/散乱法による粒度分布測定機によって、測定される。具体的には、レーザー回折/散乱法の場合、エタノールを分散媒として、レーザー回折散乱式粒度分布測定器(例えば、セイシン企業社製、LMS-350)で測定する。なお、粉体を疎水化処理又は親水化処理した場合、成分(c)の平均粒子径、含有量は、疎水化処理又は親水化処理した剤を含めての平均粒子径、質量を意味する。
また、当該化粧料の形態も特に限定されず、粉末化粧料、固形粉末化粧料、リキッド化粧料、油性化粧料、乳化化粧料、油性固形化粧料のいずれでもよい。
すなわち、前記工程B)で得られた化粧被膜の上に、静電スプレーにより多孔性被膜、より好ましくは繊維の堆積物からなる被膜を形成させれば、粉体を含有する化粧料の衣類への色移りや衣類等への付着が効果的に防止され、結果として化粧持ちが向上する。さらには、化粧被膜を指等でピーリングする際のピーリング性が向上し、皮膚から被膜を剥がす際に、容易、かつ綺麗に剥がすことができる。
<1>A)成分(a)及び成分(b)を含有する組成物を直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する工程と、
B)次いで形成された被膜に粉体を含有する化粧料を塗布する工程とを有することを特徴とする皮膚上への化粧被膜の製造方法。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー。
<3>前記工程B)の後に、さらにC)前記成分(a)及び成分(b)を含有する組成物を前記化粧被膜上に静電スプレーする工程を有する<1>又は<2>記載の化粧被膜の製造方法。
<4>工程A)及び工程C)で静電スプレーして形成された被膜が、多孔性被膜である<1>~<3>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<5>前記静電スプレーする工程A)及びC)が、静電スプレー装置を用いて皮膚に前記組成物を静電スプレーして繊維の堆積物からなる被膜を形成する工程であり、
前記静電スプレー装置が、前記組成物を収容する容器と、前記組成物を吐出するノズルと、前記容器中に収容されている前記組成物を前記ノズルに供給する供給装置と、前記ノズルに電圧を印加する電源とを備える<1>~<4>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<7>前記成分(a)の揮発性物質のうち、アルコールとしては、一価の鎖式脂肪族アルコール、一価の環式脂肪族アルコール、一価の芳香族アルコールを用い、前記アルコールとしては、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、フェニルエチルアルコール、プロパノール、ペンタノールなどを用い、これらのアルコールは、これらから選ばれる1種又は2種以上を用いる、前記<1>~<6>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<8>前記成分(a)の揮発性物質のうち、ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどを用い、これらのケトンは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる、前記<1>~<7>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。<9>前記成分(a)の揮発性物質は、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、及び水から選ばれる1種又は2種以上であり、好ましくはエタノール、及びブチルアルコールから選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくは少なくともエタノールを含有する揮発性物質であり、さらに好ましくは少なくともエタノールを含む揮発性物質であり、揮発性物質中のエタノールの含有量が50質量%以上100質量%以下である前記<1>~<8>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
前記水溶性である被膜形成能を有するポリマーは、プルラン、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、ポリ-γ-グルタミン酸、変性コーンスターチ、β-グルカン、グルコオリゴ糖、ヘパリン、ケラト硫酸等のムコ多糖、セルロース、ペクチン、キシラン、リグニン、グルコマンナン、ガラクツロン酸、サイリウムシードガム、タマリンド種子ガム、アラビアガム、トラガントガム、大豆水溶性多糖、アルギン酸、カラギーナン、ラミナラン、寒天(アガロース)、フコイダン、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の天然高分子、部分鹸化ポリビニルアルコール(架橋剤と併用しない場合)、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸ナトリウム等の合成高分子であり、これらの水溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いる、前記<1>~<9>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<11>被膜形成能を有するポリマーは水不溶性であり、
前記水不溶性である被膜形成能を有するポリマーは、被膜形成後に不溶化処理できる完全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋処理できる部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリ(N-プロパノイルエチレンイミン)グラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチルシロキサン共重合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、ツエイン(とうもろこし蛋白質の主要成分)、ポリエステル、ポリ乳酸(PLA)、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタクリル酸樹脂等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂であり、これらの水不溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いる、前記<1>~<10>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<12>成分(b)が、好ましくは、完全鹸化又は部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、オキサゾリン変性シリコーン、水溶性ポリエステル及びツエインから選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくはポリビニルブチラール樹脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上である<1>~<11>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<13>成分(a)が少なくともエタノールを含む揮発性物質であり、成分(b)がポリビニルブチラール樹脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上である<1>~<12>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<14>前記組成物における前記成分(a)の含有量は、30質量%以上、好ましくは55質量%以上、更に好ましくは60質量%以上であり、また98質量%以下、好ましくは96質量%以下、更に好ましくは94質量%以下であり、30質量%以上98質量%以下、好ましくは55質量%以上96質量%以下、更に好ましくは60質量%以上94質量%以下である、前記<1>ないし<13>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<15>前記組成物における前記成分(b)の含有量は、2質量%以上、好ましくは4質量%以上、更に好ましくは6質量%以上であり、また30質量%以下、好ましくは45質量%以下、更に好ましくは40質量%以下であり、2質量%以上50質量%以下、好ましくは4質量%以上45質量%以下、更に好ましくは6質量%以上40質量%以下である、前記<1>~<14>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<17>前記組成物中に、成分(a)及び成分(b)のみが含まれているか、あるいは成分(a)及び成分(b)に加えて他の成分が含まれおり、
前記他の成分として、(b)の被膜形成能を有するポリマーの可塑剤、油剤、界面活性剤、UV防御剤、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防腐剤、各種ビタミンが用いられる前記<1>~<16>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<18>前記組成物中に他の成分が含まれる場合、当該他の成分の配合割合は、0.1質量%以上30質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上20質量%以下であることが更に好ましい前記<17>記載の化粧被膜の製造方法。
<19>静電スプレー法を静電スプレー装置を用いて行い、
前記静電スプレー装置はノズルを備えており、
前記ノズルは、金属を初めとする各種の導電体、又はプラスチック、ゴム、セラミックなどの非導電体からなり、その先端から前記組成物の吐出が可能な形状をしている前記<1>~<18>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<20>静電スプレー法を静電スプレー装置を用いて行い、
前記静電スプレー装置はノズル及び筐体を備えており、
前記筐体の長手方向の一端に、前記ノズルが配置されており、
前記ノズルは、前記組成物の吹き出し方向を、前記筐体の縦方向一致させて、肌側に向かい凸状になるように該筐体に配置されている前記<1>~<19>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<21>噴霧された前記組成物を、溶媒である揮発性物質を液滴から揮発させ、溶質である被膜形成能を有するポリマーを固化させつつ、電位差によって伸長変形させながら繊維を形成する前記<1>~<20>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<22>静電スプレー法を静電スプレー装置を用いて行い、
前記静電スプレー装置はノズルを備えており、
前記ノズルと皮膚との間の距離を、50mm以上、150mm以下にする前記<1>~<21>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<23>静電スプレー法によって形成された被膜の坪量は、0.1g/m2以上であることが好ましく、1g/m2以上であることが更に好ましく、30g/m2以下であることが好ましく、20g/m2以下であることが更に好ましく、被膜の坪量は、0.1g/m2以上30g/m2以下であることが好ましく、1g/m2以上20g/m2以下であることが更
に好ましい前記<1>~<22>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<25>無機着色顔料が、ベンガラ、水酸化鉄、チタン酸鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、カーボンブラック、紺青、群青、紺青酸化チタン、黒色酸化チタン、チタン・酸化チタン焼結物、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化クロム、酸化コバルト、チタン酸コバルト等の無機有色顔料;酸化チタン、酸化亜鉛、カラミン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、これらの複合体等の無機白色顔料から選ばれる1種又は2種以上であり、酸化鉄、酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる1種又は2種以上が好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛、ベンガラ、黄酸化鉄及び黒酸化鉄から選ばれる1種又は2種以上がより好ましい<24>記載の化粧被膜の製造方法。
<26>有機着色顔料・有機色素が、赤色3号、赤色102号、赤色104号、赤色106号、赤色201号、赤色202号、赤色204号、赤色205号、赤色220号、赤色226号、赤色227号、赤色228号、赤色230号、赤色401号、赤色405号、赤色505号、橙色203号、橙色204号、橙色205号、黄色4号、黄色5号、黄色401号、青色1号、青色404号等の有機タール系顔料;β-カロチン、カラメル、パプリカ色素等の有機色素から選ばれる1種又は2種以上である<24>記載の化粧被膜の製造方法。
<27>体質顔料が、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、カオリン、セリサイト、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、ヒドロキシアパタイト、バーミキュライト、クレー、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、スメクタイト、ゼオライト、セラミックスパウダー、第二リン酸カルシウム、アルミナ、シリカ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、合成マイカ、合成セリサイト、金属石鹸、硫酸バリウム処理マイカ等から選ばれる1種又は2種以上であり、好ましくは硫酸バリウム、炭酸カルシウム、マイカ、無水ケイ酸、タルク、窒化ホウ素及び合成マイカから選ばれる1種又は2種以上である<24>記載の化粧被膜の製造方法。
<28>パール顔料(光輝性粉体)が、魚鱗箔、酸化チタン被覆雲母(雲母チタン)、オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆タルク、酸化チタン被覆着色雲母、酸化チタン酸化鉄被覆雲母、微粒子酸化チタン被覆雲母チタン、微粒子酸化亜鉛被覆雲母チタン、有機顔料処理雲母チタン、低次酸化チタン被覆雲母、酸化チタン被覆合成雲母、酸化チタン被覆板状シリカ、中空板状酸化チタン、酸化鉄被覆雲母、板状酸化鉄(MIO)、アルミニウムフレーク、ステンレスフレーク、酸化チタン被覆板状アルミナ、ガラスフレーク、酸化チタン被覆ガラスフレーク、真珠殻、金箔、金蒸着樹脂フィルム、金属蒸着樹脂フィルムから選ばれる1種又は2種以上である<24>記載の化粧被膜の製造方法。
<29>有機粉体が、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉体、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリアミドパウダー、ナイロンパウダー、ポリエステルパウダー、ポリプロピレンパウダー、ポリスチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、ビニル樹脂パウダー、尿素樹脂パウダー、フェノール樹脂パウダー、フッ素樹脂パウダー、ケイ素樹脂パウダー、アクリル樹脂パウダー、メラミン樹脂パウダー、ポリカーボネート樹脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、シルクパウダー、ウールパウダー、セルロースパウダー、長鎖アルキルリン酸金属塩、N-モノ長鎖アルキルアシル塩基性アミノ酸、これらの複合体から選ばれる1種又は2種以上であり、好ましくはセルロースパウダー、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉体、ポリメチルシルセスキオキサン、アクリル樹脂パウダー、ナイロンパウダーから選ばれる1種又は2種以上である<24>記載の化粧被膜の製造方法。
<30>前記粉体が、疎水化処理された粉体であり、好ましくはフッ素化合物、シリコーン系化合物、金属石鹸、アミノ酸系化合物、レシチン、アルキルシラン、油剤、有機チタネートから選ばれる疎水化処理された粉体である<24>~<29>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<31>前記粉体が、親水化処理された粉体である<24>~<29>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<32>粉体の平均粒子径が0.001μm以上200μm以下が好ましく、0.01μm以上50μm以下がより好ましく、0.02μm以上20μm以下がさらに好ましく、0.05μm以上10μm以下がさらに好ましい<1>~<31>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<33>粉体の前記化粧料中の含有量が、1質量%以上であり、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、99質量%以下であり、95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、1質量%以上99質量%以下が好ましく、3質量%以上95質量%以下がより好ましく、5質量%以上90質量%以下がさらに好ましい<1>~<32>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<34>前記化粧料における全粉体に対する着色顔料の質量割合〔着色顔料/成分(c)〕が、0.2以上が好ましく、0.3以上がより好ましく、0.4以上がさらに好ましく、1.0以下が好ましい<1>~<33>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<35>前記化粧料が、化粧下地、ファンデーション、コンシーラー、ほお紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナー、アイブロウ、口紅等のメイクアップ化粧料;日焼け止め乳液、日焼け止めクリーム等の紫外線防御化粧料であり、好ましくは化粧下地、ファンデーション、コンシーラー、日焼け止め乳液、日焼け止めクリームである<1>~<34>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<36>前記化粧料の形態が、粉末化粧料、固形粉末化粧料、リキッド化粧料、油性化粧料、乳化化粧料又は油性固形化粧料である<1>~<35>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
<37>前記化粧料が、さらに油剤(液体油及び固形油を含む)、乳化剤、水溶性高分子、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防腐剤、増粘剤、pH調整剤、血行促進剤、各種ビタミン、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、保湿剤から選ばれる少なくとも1種又は2種以上を含む<1>~<36>のいずれかに記載の化粧被膜の製造方法。
〔実施例1~11〕
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)粉末含有化粧料
表2記載の市販のメイクアップ化粧料を用いた。
(3)静電スプレー工程A)
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、ヒトの頬に向けて静電スプレー法を20秒間行った。静電スプレー法の条件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、30%RH
この静電スプレーによって、皮膚の表面に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。被膜は直径約4cmの円であり、質量は約5.5mgであった。上述した方法で測定された繊維の太さは506nmであった。
(4)粉体含有化粧料塗布工程B)
静電工程A)で形成された被膜上に、乳液を塗布して肌に皮膜を馴染ませ、その後、目的の粉体化粧料を適量塗布する。
(5)静電スプレー工程C)
前記静電スプレー工程A)と同様の条件で、粉体含有化粧料を塗布した皮膚に静電スプレーを行った。
静電スプレー工程A)は行なわずに、粉体含有化粧料の塗布、次いで静電スプレー工程C)を行った。
(1)肌に付着した粉体化粧料をピーリング除去した際の肌上の粉体の残留性
専門パネラーにより、表1の手順で肌に各化粧料を塗布した後、クレンジング剤を使用せずに、肌に付着した粉体化粧料を、被膜状態で肌からピーリング除去した時の粉体の残留性を評価した。残留性は、以下の基準で官能評価した。結果を評価者5名の平均値で示す。
〔評価基準〕
4;ピーリング後の肌に粉体化粧料の粉体がまったく付着していない。
3;ピーリング後の肌に粉体化粧料の粉体があまり付着していない。
2;ピーリング後の肌に粉体化粧料の粉体がわずかに付着している。
1;ピーリング後の肌に粉体化粧料の粉体が付着し残っている。
専門パネラーにより、表1の手順で肌に各化粧料を塗布した後、クレンジング剤を使用せずに、肌に付着した粉体化粧料を、被膜状態で肌からピーリング除去した時の粉体化粧料と被膜の剥がれ方を評価した。剥がれ方は、以下の基準で官能評価した。結果を評価者5名の平均値で示す。
〔評価基準〕
4;肌から剥がす時に、粉体化粧料と被膜が均一・一体となって取り除くことができる。
3;肌から剥がす時に、粉体化粧料と被膜がやや一体となって取り除くことができる。
2;肌から剥がす時に、粉体化粧料と被膜がぼそぼそした状態で取り除くことができる。
1;肌から剥がす時に、粉体化粧料と被膜が被膜状態で取り除くことができない。
専門パネラーにより、表1の手順で肌に各化粧料を塗布し、5時間経過後の化粧よれの状態を評価した。化粧よれは、以下の基準で官能評価した。結果を評価者5名の平均値で示す。
〔評価基準〕
4;5時間経過後、まったく化粧よれが見られない。
3;5時間経過後、化粧よれが見られない。
2;5時間経過後、やや化粧よれが見られない。
1;5時間経過後、化粧よれが見られる。
11 低電圧電源
12 高電圧電源
13 補助的電気回路
14 マイクロギヤポンプ
15 容器
16 ノズル
17 管路
18 フレキシブル管路
19 電流制限抵抗
20 筐体
Claims (9)
- A)成分(a)55質量%以上96質量%以下及び成分(b)4質量%以上45質量%以下を含有する組成物を直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に繊維の太さの100倍以上の長さを有する連続繊維の堆積物からなる多孔性の被膜を形成する工程と、
B)次いで形成された被膜に粉体を含有する化粧料を静電スプレー以外の方法で塗布する工程とを有することを特徴とする皮膚上への化粧被膜の製造方法。
(a)エタノールを60質量%以上100質量%以下含む揮発性物質、
(b)ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、ポリメタクリル酸樹脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上の被膜形成能を有するポリマー。 - 前記工程B)の後に、さらにC)前記成分(a)及び成分(b)を含有する組成物を前記化粧被膜上に静電スプレーして前記化粧被膜表面に繊維の太さの100倍以上の長さを有する連続繊維の堆積物からなる多孔性の被膜を形成する工程を有する請求項1記載の化粧被膜の製造方法。
- 前記静電スプレーする工程A)及びC)が、静電スプレー装置を用いて皮膚に前記組成物を静電スプレーして繊維の太さの100倍以上の長さを有する連続繊維の堆積物からなる多孔性の被膜を形成する工程であり、
前記静電スプレー装置が、前記組成物を収容する容器と、前記組成物を吐出するノズルと、前記容器中に収容されている前記組成物を前記ノズルに供給する供給装置と、前記ノズルに電圧を印加する電源とを備える請求項1又は2記載の化粧被膜の製造方法。 - 成分(b)の含有量が、噴霧用組成物中に6質量%以上40質量%以下である請求項1~3のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
- 成分(a)と成分(b)の含有量の比率((a)/(b))が、0.5以上40以下である請求項1~4のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
- 粉体が、着色顔料、体質顔料、パール顔料及び有機粉体から選ばれる1種又は2種以上である請求項1~5のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
- 粉体の含有量が、前記工程B)に用いられる化粧料中に1質量%以上99質量%以下である請求項1~6のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
- 前記工程B)に用いられる化粧料が、メイクアップ化粧料及び紫外線防御化粧料から選ばれる化粧料である請求項1~7のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
- 全粉体に対する着色顔料の質量割合〔着色顔料/成分(c)〕が、0.2以上である請求項1~8のいずれか1項記載の被膜の製造方法。
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