JP2023115047A - 被膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】静電スプレーにより皮膚上に形成された被膜の外観が良好で、耐擦過性及び耐伸張性に優れる被膜の製造方法の提供。【解決手段】A)成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xを直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する工程と、(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、(b)被膜形成能を有するポリマーB)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法。(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、(d)水 40質量%以上95質量%以下【選択図】なし
Description
本発明は、被膜の製造方法に関する。
静電スプレーによって皮膚上に被膜を形成する方法が報告されている。例えば、特許文
献1には、皮膚に組成物を静電スプレーすることを含む皮膚を処理する方法が記載されて
いる。この方法で用いられる組成物は、液体絶縁性物質と、導電性物質と、粒子状粉末物
質と、増粘剤とを含んでいる。この組成物としては、典型的には顔料を含む化粧品やスキ
ンケア組成物が用いられている。具体的には、組成物として化粧用ファンデーションが用
いられている。すなわち、特許文献1に記載の発明は、美容の目的で化粧用ファンデーシ
ョンを静電スプレーして、皮膚を化粧することを主として想定している。また特許文献2
には、化粧品の静電スプレー装置に使用するための使い捨てカートリッジが記載されてい
る。
献1には、皮膚に組成物を静電スプレーすることを含む皮膚を処理する方法が記載されて
いる。この方法で用いられる組成物は、液体絶縁性物質と、導電性物質と、粒子状粉末物
質と、増粘剤とを含んでいる。この組成物としては、典型的には顔料を含む化粧品やスキ
ンケア組成物が用いられている。具体的には、組成物として化粧用ファンデーションが用
いられている。すなわち、特許文献1に記載の発明は、美容の目的で化粧用ファンデーシ
ョンを静電スプレーして、皮膚を化粧することを主として想定している。また特許文献2
には、化粧品の静電スプレー装置に使用するための使い捨てカートリッジが記載されてい
る。
しかしながら、特許文献1及び2に記載の方法に従い静電スプレーを行い皮膚に被膜を
形成した場合、皮膚と静電スプレーによって形成された被膜との密着性が十分でなく、摩
擦等の外力に起因して被膜が損傷したり剥離したりすることがあることが判明した。そこ
で、本出願人は、皮膚に静電スプレーによる被膜形成の前又は後に、水、ポリオール又は
20℃で液体の油を含有する液剤、あるいは20℃で固体状の油を10質量%以上含有す
る化粧料を塗布すれば、静電スプレーによって得られた被膜の密着性が向上することを見
出し、特許出願した(特許文献3、4)。
形成した場合、皮膚と静電スプレーによって形成された被膜との密着性が十分でなく、摩
擦等の外力に起因して被膜が損傷したり剥離したりすることがあることが判明した。そこ
で、本出願人は、皮膚に静電スプレーによる被膜形成の前又は後に、水、ポリオール又は
20℃で液体の油を含有する液剤、あるいは20℃で固体状の油を10質量%以上含有す
る化粧料を塗布すれば、静電スプレーによって得られた被膜の密着性が向上することを見
出し、特許出願した(特許文献3、4)。
しかしながら、特許文献3及び4記載の方法によって得られる皮膚上の被膜は、皮膚へ
の密着性に優れているが、手指等の擦過や皮膚の伸縮により膜がはがれたり、膜が浮くこ
とがあり、膜の透明性も更に改良の余地があることが判明した。
従って、本発明は、静電スプレーにより皮膚上に形成された被膜の外観が良好で、耐擦
過性及び耐伸張性に優れる被膜の製造方法を提供することにある。
の密着性に優れているが、手指等の擦過や皮膚の伸縮により膜がはがれたり、膜が浮くこ
とがあり、膜の透明性も更に改良の余地があることが判明した。
従って、本発明は、静電スプレーにより皮膚上に形成された被膜の外観が良好で、耐擦
過性及び耐伸張性に優れる被膜の製造方法を提供することにある。
そこで本発明者は、皮膚上への静電スプレーの前又は後に塗布する組成物の組成につい
て種々検討した。まず、さっぱりした感触の被膜を得るため水を含有する組成物の塗布を
検討したが、目的とする被膜は得られなかった。そこで、少量の水溶性ポリマーと多量の
水とを含有する組成物を用いれば、透明性が良好で、耐擦過性及び耐伸張性に優れ、さっ
ぱり感を有する被膜が形成できることを見出し、本発明を完成した。
て種々検討した。まず、さっぱりした感触の被膜を得るため水を含有する組成物の塗布を
検討したが、目的とする被膜は得られなかった。そこで、少量の水溶性ポリマーと多量の
水とを含有する組成物を用いれば、透明性が良好で、耐擦過性及び耐伸張性に優れ、さっ
ぱり感を有する被膜が形成できることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、A)成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xを直接皮膚に
静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する工程と、
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー
B)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で
又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法を提供するものである。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する工程と、
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー
B)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で
又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法を提供するものである。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
また、本発明は、直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する前又はその後
に、静電スプレー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成
物Yであって、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを提供するものである。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
に、静電スプレー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成
物Yであって、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを提供するものである。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
本発明の被膜の製造方法によれば、静電スプレーにより皮膚上に形成された被膜の外観
が良好で、かつ当該被膜は手指による擦過や皮膚の伸縮によって破れや浮きがなく密着性
、耐久性に優れている。
が良好で、かつ当該被膜は手指による擦過や皮膚の伸縮によって破れや浮きがなく密着性
、耐久性に優れている。
本発明においては、A)組成物Xを直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成
する工程(工程A))と、B)組成物Yを皮膚に適用する工程(工程B))とを含む。
工程A)における被膜の形成方法として、本発明では静電スプレー法を採用している。
静電スプレー法は、組成物に正又は負の高電圧を印加して該組成物を帯電させ、帯電した
該組成物を対象物に向けて噴霧する方法である。噴霧された組成物はクーロン反発力によ
って微細化を繰り返しながら空間に広がり、その過程で、又は対象物に付着した後に、揮
発性物質である溶媒が乾燥することで、対象物の表面に被膜を形成する。
する工程(工程A))と、B)組成物Yを皮膚に適用する工程(工程B))とを含む。
工程A)における被膜の形成方法として、本発明では静電スプレー法を採用している。
静電スプレー法は、組成物に正又は負の高電圧を印加して該組成物を帯電させ、帯電した
該組成物を対象物に向けて噴霧する方法である。噴霧された組成物はクーロン反発力によ
って微細化を繰り返しながら空間に広がり、その過程で、又は対象物に付着した後に、揮
発性物質である溶媒が乾燥することで、対象物の表面に被膜を形成する。
本発明において用いられる前記の組成物X(以下、この組成物Xのことを「噴霧用組成
物」ともいう。)は、静電スプレー法が行われる環境下において液体のものである。この
組成物Xは、以下の成分(a)及び成分(b)を含んでいる。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質。
(b)被膜形成能を有するポリマー。
以下、各成分について説明する。
物」ともいう。)は、静電スプレー法が行われる環境下において液体のものである。この
組成物Xは、以下の成分(a)及び成分(b)を含んでいる。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質。
(b)被膜形成能を有するポリマー。
以下、各成分について説明する。
成分(a)の揮発性物質は、液体の状態において揮発性を有する物質である。噴霧用組
成物において成分(a)は、電界内に置かれた該噴霧用組成物を十分に帯電させた後、ノ
ズル先端から皮膚に向かって吐出され、成分(a)が蒸発していくと、噴霧用組成物の電
荷密度が過剰となり、クーロン反発によって更に微細化しながら成分(a)が更に蒸発し
ていき、最終的に乾いた被膜を皮膚上に形成させる目的で配合される。この目的のために
、揮発性物質はその蒸気圧が20℃において0.01kPa以上、106.66kPa以
下であることが好ましく、0.13kPa以上、66.66kPa以下であることがより
好ましく、0.67kPa以上、40.00kPa以下であることが更に好ましく、1.
33kPa以上、40.00kPa以下であることがより一層好ましい。
成物において成分(a)は、電界内に置かれた該噴霧用組成物を十分に帯電させた後、ノ
ズル先端から皮膚に向かって吐出され、成分(a)が蒸発していくと、噴霧用組成物の電
荷密度が過剰となり、クーロン反発によって更に微細化しながら成分(a)が更に蒸発し
ていき、最終的に乾いた被膜を皮膚上に形成させる目的で配合される。この目的のために
、揮発性物質はその蒸気圧が20℃において0.01kPa以上、106.66kPa以
下であることが好ましく、0.13kPa以上、66.66kPa以下であることがより
好ましく、0.67kPa以上、40.00kPa以下であることが更に好ましく、1.
33kPa以上、40.00kPa以下であることがより一層好ましい。
成分(a)の揮発性物質のうち、アルコールとしては例えば一価の鎖式脂肪族アルコー
ル、一価の環式脂肪族アルコール、一価の芳香族アルコールが好適に用いられる。一価の
鎖式脂肪族アルコールとしてはC1~C6アルコールが、一価の環式脂肪族アルコールとし
てはC4~C6環式アルコールが、一価の芳香族アルコールとしてはベンジルアルコール、
フェニルエチルアルコール等がそれぞれ挙げられる。それらの具体例としては、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、フェニルエチルアルコール、n-プロ
パノール、n-ペンタノールなどが挙げられる。これらのアルコールは、これらから選ば
れる1種又は2種以上を用いることができる。
ル、一価の環式脂肪族アルコール、一価の芳香族アルコールが好適に用いられる。一価の
鎖式脂肪族アルコールとしてはC1~C6アルコールが、一価の環式脂肪族アルコールとし
てはC4~C6環式アルコールが、一価の芳香族アルコールとしてはベンジルアルコール、
フェニルエチルアルコール等がそれぞれ挙げられる。それらの具体例としては、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、フェニルエチルアルコール、n-プロ
パノール、n-ペンタノールなどが挙げられる。これらのアルコールは、これらから選ば
れる1種又は2種以上を用いることができる。
成分(a)の揮発性物質のうち、ケトンとしてはジC1-C4アルキルケトン例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。これらのケトン
は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。これらのケトン
は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
成分(a)の揮発性物質は、より好ましくはエタノール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール及び水から選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくはエタノール
及びブチルアルコールから選ばれる1種又は2種以上であり、そして更に好ましくは少な
くともエタノールを含む揮発性物質である。
チルアルコール及び水から選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくはエタノール
及びブチルアルコールから選ばれる1種又は2種以上であり、そして更に好ましくは少な
くともエタノールを含む揮発性物質である。
噴霧用組成物における成分(a)の含有量は、30質量%以上であることが好ましく、
55質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが一層好ましい。
また98質量%以下であることが好ましく、96質量%以下であることが更に好ましく、
94質量%以下であることが一層好ましい。噴霧用組成物における成分(a)の含有量は
、30質量%以上98質量%以下であることが好ましく、55質量%以上96質量%以下
であることが更に好ましく、60質量%以上94質量%以下であることが一層好ましい。
この割合で噴霧用組成物中に成分(a)を含有することで、静電スプレー法を行うときに
噴霧用組成物を十分に揮発させることができる。
又、エタノールは成分(a)の揮発性物質の全量に対して、50質量%以上であること
が好ましく、65質量%以上であることが更に好ましく、80質量%以上であることが一
層好ましい。また100質量%以下であることが好ましい。エタノールは成分(a)の揮
発性物質の全量に対して、50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、65
質量%以上100質量%以下であることが更に好ましく、80質量%以上100質量%以
下であることが一層好ましい。
更に、水は、繊維形成性と導電性の観点から、(a)の揮発性物質の全量に対して50
質量%未満であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、10質量
%以下であることが一層好ましく、5質量%以下であることがより一層好ましく、0.2
質量%以上であることが好ましく、0.4質量%以上であることがより好ましい。
55質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが一層好ましい。
また98質量%以下であることが好ましく、96質量%以下であることが更に好ましく、
94質量%以下であることが一層好ましい。噴霧用組成物における成分(a)の含有量は
、30質量%以上98質量%以下であることが好ましく、55質量%以上96質量%以下
であることが更に好ましく、60質量%以上94質量%以下であることが一層好ましい。
この割合で噴霧用組成物中に成分(a)を含有することで、静電スプレー法を行うときに
噴霧用組成物を十分に揮発させることができる。
又、エタノールは成分(a)の揮発性物質の全量に対して、50質量%以上であること
が好ましく、65質量%以上であることが更に好ましく、80質量%以上であることが一
層好ましい。また100質量%以下であることが好ましい。エタノールは成分(a)の揮
発性物質の全量に対して、50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、65
質量%以上100質量%以下であることが更に好ましく、80質量%以上100質量%以
下であることが一層好ましい。
更に、水は、繊維形成性と導電性の観点から、(a)の揮発性物質の全量に対して50
質量%未満であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、10質量
%以下であることが一層好ましく、5質量%以下であることがより一層好ましく、0.2
質量%以上であることが好ましく、0.4質量%以上であることがより好ましい。
成分(b)である被膜形成能を有するポリマーは、一般に、成分(a)の揮発性物質に
溶解することが可能な物質である。ここで、溶解するとは20℃において分散状態にあり
、その分散状態が目視で均一な状態、好ましくは目視で透明又は半透明な状態であること
を言う。
溶解することが可能な物質である。ここで、溶解するとは20℃において分散状態にあり
、その分散状態が目視で均一な状態、好ましくは目視で透明又は半透明な状態であること
を言う。
被膜形成能を有するポリマーとしては、成分(a)の揮発性物質の性質に応じて適切な
ものが用いられる。具体的には、被膜形成能を有するポリマーは水溶性ポリマーと水不溶
性ポリマーとに大別される。本明細書において「水溶性ポリマー」とは、1気圧・23℃
の環境下において、ポリマー1gを秤量したのちに、10gのイオン交換水に浸漬し、2
4時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が水に溶解する性質を有するものをいう
。一方、本明細書において「水不溶性ポリマー」とは、1気圧・23℃の環境下において
、ポリマー1g秤量したのちに、10gのイオン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬
したポリマーの0.5g以上が溶解しない性質を有するものをいう。
ものが用いられる。具体的には、被膜形成能を有するポリマーは水溶性ポリマーと水不溶
性ポリマーとに大別される。本明細書において「水溶性ポリマー」とは、1気圧・23℃
の環境下において、ポリマー1gを秤量したのちに、10gのイオン交換水に浸漬し、2
4時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が水に溶解する性質を有するものをいう
。一方、本明細書において「水不溶性ポリマー」とは、1気圧・23℃の環境下において
、ポリマー1g秤量したのちに、10gのイオン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬
したポリマーの0.5g以上が溶解しない性質を有するものをいう。
水溶性である被膜形成能を有するポリマーとしては、例えばプルラン、ヒアルロン酸、
コンドロイチン硫酸、ポリ-γ-グルタミン酸、変性コーンスターチ、β-グルカン、グ
ルコオリゴ糖、ヘパリン、ケラト硫酸等のムコ多糖、セルロース、ペクチン、キシラン、
リグニン、グルコマンナン、ガラクツロン酸、サイリウムシードガム、タマリンド種子ガ
ム、アラビアガム、トラガントガム、大豆水溶性多糖、アルギン酸、カラギーナン、ラミ
ナラン、寒天(アガロース)、フコイダン、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の天然高分子、部分鹸化ポリビニルアル
コール(架橋剤と併用しない場合)、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン(PVP)、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸ナトリウム等の合成高分子など
が挙げられる。これらの水溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いること
ができる。これらの水溶性ポリマーのうち、被膜の製造が容易である観点から、プルラン
、並びに部分鹸化ポリビニルアルコール、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン及びポリエチレンオキサイド等の合成高分子を用いることが好ましい。水溶性ポリ
マーとしてポリエチレンオキサイドを用いる場合、その数平均分子量は、5万以上300
万以下であることが好ましく、10万以上250万以下であることが一層好ましい。
コンドロイチン硫酸、ポリ-γ-グルタミン酸、変性コーンスターチ、β-グルカン、グ
ルコオリゴ糖、ヘパリン、ケラト硫酸等のムコ多糖、セルロース、ペクチン、キシラン、
リグニン、グルコマンナン、ガラクツロン酸、サイリウムシードガム、タマリンド種子ガ
ム、アラビアガム、トラガントガム、大豆水溶性多糖、アルギン酸、カラギーナン、ラミ
ナラン、寒天(アガロース)、フコイダン、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の天然高分子、部分鹸化ポリビニルアル
コール(架橋剤と併用しない場合)、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン(PVP)、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸ナトリウム等の合成高分子など
が挙げられる。これらの水溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いること
ができる。これらの水溶性ポリマーのうち、被膜の製造が容易である観点から、プルラン
、並びに部分鹸化ポリビニルアルコール、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン及びポリエチレンオキサイド等の合成高分子を用いることが好ましい。水溶性ポリ
マーとしてポリエチレンオキサイドを用いる場合、その数平均分子量は、5万以上300
万以下であることが好ましく、10万以上250万以下であることが一層好ましい。
一方、水不溶性である被膜形成能を有するポリマーとしては、例えば被膜形成後に不溶
化処理できる完全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋
処理できる部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリ(N-プロパノイルエチレンイミン)グ
ラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチルシロキサン共重合体等のオキサ
ゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、ツエイン(と
うもろこし蛋白質の主要成分)、ポリエステル、ポリ乳酸(PLA)、ポリアクリロニト
リル樹脂、ポリメタクリル酸樹脂等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などが挙げられ
る。これらの水不溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる
。これらの水不溶性ポリマーのうち、被膜形成後に不溶化処理できる完全鹸化ポリビニル
アルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋処理できる部分鹸化ポリビニルア
ルコール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ(N-プロパノイルエチ
レンイミン)グラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチルシロキサン共重
合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート
及びツエインから選ばれる1種又は2種以上を用いることが好ましく、ポリブチラール樹
脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上を用いることがより好ましい。
化処理できる完全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋
処理できる部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリ(N-プロパノイルエチレンイミン)グ
ラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチルシロキサン共重合体等のオキサ
ゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート、ツエイン(と
うもろこし蛋白質の主要成分)、ポリエステル、ポリ乳酸(PLA)、ポリアクリロニト
リル樹脂、ポリメタクリル酸樹脂等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などが挙げられ
る。これらの水不溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる
。これらの水不溶性ポリマーのうち、被膜形成後に不溶化処理できる完全鹸化ポリビニル
アルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋処理できる部分鹸化ポリビニルア
ルコール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ(N-プロパノイルエチ
レンイミン)グラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチルシロキサン共重
合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチルアミノアセテート
及びツエインから選ばれる1種又は2種以上を用いることが好ましく、ポリブチラール樹
脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上を用いることがより好ましい。
噴霧用組成物における成分(b)の含有量は、2質量%以上であることが好ましく、4
質量%以上であることが更に好ましく、6質量%以上であることが一層好ましい。また5
0質量%以下であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、40質
量%以下であることが一層好ましい。噴霧用組成物における成分(b)の含有量は、2質
量%以上50質量%以下であることが好ましく、4質量%以上45質量%以下であること
が更に好ましく、6質量%以上40質量%以下であることが一層好ましい。この割合で噴
霧用組成物中に成分(b)を配合することで、繊維の堆積物からなり、素肌の表面をマス
キングし、時間を経過しても、よれにくく、化粧持続性に優れる被膜を首尾よく形成する
ことができる。
質量%以上であることが更に好ましく、6質量%以上であることが一層好ましい。また5
0質量%以下であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、40質
量%以下であることが一層好ましい。噴霧用組成物における成分(b)の含有量は、2質
量%以上50質量%以下であることが好ましく、4質量%以上45質量%以下であること
が更に好ましく、6質量%以上40質量%以下であることが一層好ましい。この割合で噴
霧用組成物中に成分(b)を配合することで、繊維の堆積物からなり、素肌の表面をマス
キングし、時間を経過しても、よれにくく、化粧持続性に優れる被膜を首尾よく形成する
ことができる。
噴霧用組成物中の成分(a)と成分(b)の含有量の比率((a)/(b))は、静電
スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発させることができる観点から、0.5以
上40以下が好ましく、1以上30以下がより好ましく、2以上25以下が更に好ましい
。
また、噴霧用組成物中のエタノールと成分(b)の含有量の比率((a)/(b))は
、静電スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発させることができる観点から、0
.5以上40以下が好ましく、1以上30以下がより好ましく、2以上25以下が更に好
ましい。
スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発させることができる観点から、0.5以
上40以下が好ましく、1以上30以下がより好ましく、2以上25以下が更に好ましい
。
また、噴霧用組成物中のエタノールと成分(b)の含有量の比率((a)/(b))は
、静電スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発させることができる観点から、0
.5以上40以下が好ましく、1以上30以下がより好ましく、2以上25以下が更に好
ましい。
更に、噴霧用組成物中にグリコールを含有することができる。グリコールとしては、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチ
レングリコール等が挙げられる。静電スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発さ
せることができる観点から、噴霧用組成物中に10質量%以下が好ましく、3質量%以下
がより好ましく、1質量%以下が好ましい。
チレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチ
レングリコール等が挙げられる。静電スプレー法を行うときに成分(a)を十分に揮発さ
せることができる観点から、噴霧用組成物中に10質量%以下が好ましく、3質量%以下
がより好ましく、1質量%以下が好ましい。
更に、噴霧用組成物に粉体を含有することができる。粉体としては、着色顔料、体質顔
料、パール顔料及び有機粉体が挙げられる。皮膚表面に滑らかな感触を付与する点から、
噴霧用組成物中に5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましく、1質量%以下
が好ましく、実質的に含まないことが好ましい。
料、パール顔料及び有機粉体が挙げられる。皮膚表面に滑らかな感触を付与する点から、
噴霧用組成物中に5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましく、1質量%以下
が好ましく、実質的に含まないことが好ましい。
噴霧用組成物中には、上述した成分(a)及び成分(b)のみが含まれていてもよく、
あるいは成分(a)及び成分(b)に加えて他の成分が含まれていてもよい。他の成分と
しては、例えば、ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル、シリ
コーン油)等の油剤、界面活性剤、UV防御剤、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防
腐剤、制汗剤、各種ビタミン等が挙げられる。なお、これらの各剤は、各剤としての用途
に限られず、目的に応じて他の用途、例えば制汗剤を香料として使用することができる。
あるいは、他の用途との併用として、例えば制汗剤と香料としての効果を奏するものとし
て使用することができる。噴霧用組成物中に他の成分が含まれる場合、当該他の成分の含
有割合は、0.1質量%以上30質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上2
0質量%以下であることが更に好ましい。
あるいは成分(a)及び成分(b)に加えて他の成分が含まれていてもよい。他の成分と
しては、例えば、ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル/オクチルドデシル、シリ
コーン油)等の油剤、界面活性剤、UV防御剤、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防
腐剤、制汗剤、各種ビタミン等が挙げられる。なお、これらの各剤は、各剤としての用途
に限られず、目的に応じて他の用途、例えば制汗剤を香料として使用することができる。
あるいは、他の用途との併用として、例えば制汗剤と香料としての効果を奏するものとし
て使用することができる。噴霧用組成物中に他の成分が含まれる場合、当該他の成分の含
有割合は、0.1質量%以上30質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上2
0質量%以下であることが更に好ましい。
本発明方法においては、工程Bの前又は後に、噴霧用組成物を皮膚に直接静電スプレー
して皮膚表面に被膜を形成する。
して皮膚表面に被膜を形成する。
静電スプレー法を行う場合、噴霧用組成物として、その粘度が、25℃において、好ま
しくは1mPa・s以上、より好ましくは10mPa・s以上、更に好ましくは50mP
a・s以上であるものを用いる。また粘度が、25℃において、好ましくは5000mP
a・s以下、より好ましくは2000mPa・s以下、更に好ましくは1500mPa・
s以下であるものを用いる。噴霧用組成物の粘度は、25℃において、好ましくは1mP
a・s以上5000mPa・s以下であり、より好ましくは10mPa・s以上2000
mPa・s以下であり、更に好ましくは50mPa・s以上1500mPa・s以下であ
る。この範囲の粘度を有する噴霧用組成物を用いることで、静電スプレー法によって被膜
、特に繊維の堆積物からなる多孔性被膜を首尾よく形成することができる。多孔性被膜の
形成は、皮膚の蒸れ防止等を向上させる観点、被膜の皮膚への密着性を向上させる観点、
皮膚から被膜を剥がす際に、容易、かつ綺麗に剥がすことができる等の観点から有利なも
のである。噴霧用組成物の粘度は、E型粘度計を用いて25℃で測定される。E型粘度計
としては例えば、例えば東京計器株式会社製のE型粘度計を用いることができる。その場
合のローターとしては、ローターNo.43を用いることができる。
しくは1mPa・s以上、より好ましくは10mPa・s以上、更に好ましくは50mP
a・s以上であるものを用いる。また粘度が、25℃において、好ましくは5000mP
a・s以下、より好ましくは2000mPa・s以下、更に好ましくは1500mPa・
s以下であるものを用いる。噴霧用組成物の粘度は、25℃において、好ましくは1mP
a・s以上5000mPa・s以下であり、より好ましくは10mPa・s以上2000
mPa・s以下であり、更に好ましくは50mPa・s以上1500mPa・s以下であ
る。この範囲の粘度を有する噴霧用組成物を用いることで、静電スプレー法によって被膜
、特に繊維の堆積物からなる多孔性被膜を首尾よく形成することができる。多孔性被膜の
形成は、皮膚の蒸れ防止等を向上させる観点、被膜の皮膚への密着性を向上させる観点、
皮膚から被膜を剥がす際に、容易、かつ綺麗に剥がすことができる等の観点から有利なも
のである。噴霧用組成物の粘度は、E型粘度計を用いて25℃で測定される。E型粘度計
としては例えば、例えば東京計器株式会社製のE型粘度計を用いることができる。その場
合のローターとしては、ローターNo.43を用いることができる。
噴霧用組成物は静電スプレー法によって、ヒトの皮膚に直接噴霧される。静電スプレー
法は、静電スプレー工程において、静電スプレー装置を用いて、皮膚に噴霧用組成物を静
電スプレーして、被膜を形成する工程を含む。該静電スプレー装置は、噴霧用組成物を収
容する容器と、噴霧用組成物を吐出するノズルと、容器中に収容されている噴霧用組成物
をノズルに供給する供給装置と、ノズルに電圧を印加する電源とを備える。図1には、本
発明で好適に用いられる静電スプレー装置の構成を表す概略図が示されている。図1に示
す静電スプレー装置10は、低電圧電源11を備えている。低電圧電源11は、数Vから
十数Vの電圧を発生させ得るものである。静電スプレー装置10の可搬性を高める目的で
、低電圧電源11は1個又は2個以上の電池からなることが好ましい。また、低電圧電源
11として電池を用いることで、必要に応じ取り替えを容易に行えるという利点もある。
電池に代えて、ACアダプタ等を低電圧電源11として用いることもできる。
法は、静電スプレー工程において、静電スプレー装置を用いて、皮膚に噴霧用組成物を静
電スプレーして、被膜を形成する工程を含む。該静電スプレー装置は、噴霧用組成物を収
容する容器と、噴霧用組成物を吐出するノズルと、容器中に収容されている噴霧用組成物
をノズルに供給する供給装置と、ノズルに電圧を印加する電源とを備える。図1には、本
発明で好適に用いられる静電スプレー装置の構成を表す概略図が示されている。図1に示
す静電スプレー装置10は、低電圧電源11を備えている。低電圧電源11は、数Vから
十数Vの電圧を発生させ得るものである。静電スプレー装置10の可搬性を高める目的で
、低電圧電源11は1個又は2個以上の電池からなることが好ましい。また、低電圧電源
11として電池を用いることで、必要に応じ取り替えを容易に行えるという利点もある。
電池に代えて、ACアダプタ等を低電圧電源11として用いることもできる。
静電スプレー装置10は、高電圧電源12も備えている。高電圧電源12は、低電圧電
源11と接続されており、低電圧電源11で発生した電圧を高電圧に昇圧する電子回路(
図示せず)を備えている。昇圧電子回路は一般にトランス、キャパシタ及び半導体素子等
から構成されている。
源11と接続されており、低電圧電源11で発生した電圧を高電圧に昇圧する電子回路(
図示せず)を備えている。昇圧電子回路は一般にトランス、キャパシタ及び半導体素子等
から構成されている。
静電スプレー装置10は、補助的電気回路13を更に備えている。補助的電気回路13
は、上述した低電圧電源11と高電圧電源12との間に介在し、低電圧電源11の電圧を
調整して高電圧電源12を安定的に動作させる機能を有する。更に補助的電気回路13は
、後述するポンプ機構14に備えられているモータの回転数を制御する機能を有する。モ
ータの回転数を制御することで、後述する噴霧用組成物の容器15からポンプ機構14へ
の噴霧用組成物の供給量が制御される。補助的電気回路13と低電圧電源11との間には
スイッチSWが取り付けられており、スイッチSWの入り切りによって、静電スプレー装
置10を運転/停止できるようになっている。
は、上述した低電圧電源11と高電圧電源12との間に介在し、低電圧電源11の電圧を
調整して高電圧電源12を安定的に動作させる機能を有する。更に補助的電気回路13は
、後述するポンプ機構14に備えられているモータの回転数を制御する機能を有する。モ
ータの回転数を制御することで、後述する噴霧用組成物の容器15からポンプ機構14へ
の噴霧用組成物の供給量が制御される。補助的電気回路13と低電圧電源11との間には
スイッチSWが取り付けられており、スイッチSWの入り切りによって、静電スプレー装
置10を運転/停止できるようになっている。
静電スプレー装置10は、ノズル16を更に備えている。ノズル16は、金属を初めと
する各種の導電体や、プラスチック、ゴム、セラミックなどの非導電体からなり、その先
端から噴霧用組成物の吐出が可能な形状をしている。ノズル16内には噴霧用組成物が流
通する微小空間が、該ノズル16の長手方向に沿って形成されている。この微小空間の横
断面の大きさは、直径で表して100μm以上1000μm以下であることが好ましい。
ノズル16は、管路17を介してポンプ機構14と連通している。管路17は導電体でも
よく、あるいは非導電体でもよい。また、ノズル16は、高電圧電源12と電気的に接続
されている。これによって、ノズル16に高電圧を印加することが可能になっている。こ
の場合、ノズル16に人体が直接触れた場合に過大な電流が流れることを防止するために
、ノズル16と高電圧電源12とは、電流制限抵抗19を介して電気的に接続されている
。
する各種の導電体や、プラスチック、ゴム、セラミックなどの非導電体からなり、その先
端から噴霧用組成物の吐出が可能な形状をしている。ノズル16内には噴霧用組成物が流
通する微小空間が、該ノズル16の長手方向に沿って形成されている。この微小空間の横
断面の大きさは、直径で表して100μm以上1000μm以下であることが好ましい。
ノズル16は、管路17を介してポンプ機構14と連通している。管路17は導電体でも
よく、あるいは非導電体でもよい。また、ノズル16は、高電圧電源12と電気的に接続
されている。これによって、ノズル16に高電圧を印加することが可能になっている。こ
の場合、ノズル16に人体が直接触れた場合に過大な電流が流れることを防止するために
、ノズル16と高電圧電源12とは、電流制限抵抗19を介して電気的に接続されている
。
管路17を介してノズル16と連通しているポンプ機構14は、容器15中に収容され
ているポンプ機構14をノズル16に供給する供給装置として機能する。ポンプ機構14
は、低電圧電源11から電源の供給を受けて動作する。また、ポンプ機構14は、補助的
電気回路13による制御を受けて所定量の噴霧用組成物をノズル16に供給するように構
成されている。
ているポンプ機構14をノズル16に供給する供給装置として機能する。ポンプ機構14
は、低電圧電源11から電源の供給を受けて動作する。また、ポンプ機構14は、補助的
電気回路13による制御を受けて所定量の噴霧用組成物をノズル16に供給するように構
成されている。
ポンプ機構14には、フレキシブル管路18を介して容器15が接続されている。容器
15中には噴霧用組成物が収容されている。ポンプ機構14としては、ギヤポンプ式、ピ
ストンポンプ式が好ましい。
容器15は、カートリッジ式の交換可能な形態をしていることが好ましい。
15中には噴霧用組成物が収容されている。ポンプ機構14としては、ギヤポンプ式、ピ
ストンポンプ式が好ましい。
容器15は、カートリッジ式の交換可能な形態をしていることが好ましい。
以上の構成を有する静電スプレー装置10は、例えば図2に示すように使用することが
できる。図2には、片手で把持できる寸法を有するハンディタイプの静電スプレー装置1
0が示されている。同図に示す静電スプレー装置10は、図1に示す構成図の部材のすべ
てが円筒形の筐体20内に収容されている。筐体20の長手方向の一端10aには、ノズ
ル(図示せず)が配置されている。ノズルは、その組成物の吹き出し方向を、筐体20の
縦方向と一致させて、被膜形成対象物である肌側に向かい凸状になるように該筐体20に
配置されている。ノズル先端が筐体20の縦方向においてに被膜形成対象物に向かい凸状
になるように配置されていることによって、筐体に噴霧用組成物が付着しにくくなり、安
定的に被膜を形成することができる。
できる。図2には、片手で把持できる寸法を有するハンディタイプの静電スプレー装置1
0が示されている。同図に示す静電スプレー装置10は、図1に示す構成図の部材のすべ
てが円筒形の筐体20内に収容されている。筐体20の長手方向の一端10aには、ノズ
ル(図示せず)が配置されている。ノズルは、その組成物の吹き出し方向を、筐体20の
縦方向と一致させて、被膜形成対象物である肌側に向かい凸状になるように該筐体20に
配置されている。ノズル先端が筐体20の縦方向においてに被膜形成対象物に向かい凸状
になるように配置されていることによって、筐体に噴霧用組成物が付着しにくくなり、安
定的に被膜を形成することができる。
被膜形成対象皮膚が使用者の自身の皮膚である場合、静電スプレー装置10を動作させ
るときには、使用者、すなわち静電スプレーによって自己の皮膚に被膜を形成する者が該
装置10を手で把持し、ノズル(図示せず)が配置されている該装置10の一端10aを
、静電スプレーを行う対象部位に向ける。図2では、使用者の前腕部内側に静電スプレー
装置10の一端10aを向けている状態が示されている。この状態下に、装置10のスイ
ッチをオンにして静電スプレー法を行う。装置10に電源が入ることで、ノズルと皮膚と
の間には電界が生じる。図2に示す実施形態では、ノズルに正の高電圧が印加され、皮膚
が負極となる。ノズルと皮膚との間に電界が生じると、ノズル先端部の噴霧用組成物は、
静電誘導によって分極してその先端部分がコーン状になり、コーン先端から帯電した噴霧
用組成物の液滴が電界に沿って、皮膚に向かって空中に吐出される。空間に吐出され且つ
帯電した噴霧用組成物から溶媒である成分(a)が蒸発していくと、噴霧用組成物表面の
電荷密度が過剰となり、クーロン反発力によって微細化を繰り返しながら空間に広がり、
皮膚に到達する。この場合、噴霧用組成物の粘度を適切に調整することで、噴霧された該
組成物を液滴の状態で皮膚に到達させることができる。あるいは、空間に吐出されている
間に、溶媒である揮発性物質の成分(a)を該組成物から揮発させ、溶質である被膜形成
能を有するポリマーを固化させつつ、電位差によって伸長変形させながら繊維を形成し、
その繊維を皮膚の表面に堆積させることもできる。例えば、噴霧用組成物の粘度を高める
と、該組成物を繊維の形態で皮膚の表面に堆積させやすい。これによって、繊維の堆積物
からなる被膜が皮膚の表面に形成される。繊維の堆積物からなる被膜は、ノズルと皮膚と
の間の距離や、ノズルに印加する電圧を調整することでも形成することが可能である。
るときには、使用者、すなわち静電スプレーによって自己の皮膚に被膜を形成する者が該
装置10を手で把持し、ノズル(図示せず)が配置されている該装置10の一端10aを
、静電スプレーを行う対象部位に向ける。図2では、使用者の前腕部内側に静電スプレー
装置10の一端10aを向けている状態が示されている。この状態下に、装置10のスイ
ッチをオンにして静電スプレー法を行う。装置10に電源が入ることで、ノズルと皮膚と
の間には電界が生じる。図2に示す実施形態では、ノズルに正の高電圧が印加され、皮膚
が負極となる。ノズルと皮膚との間に電界が生じると、ノズル先端部の噴霧用組成物は、
静電誘導によって分極してその先端部分がコーン状になり、コーン先端から帯電した噴霧
用組成物の液滴が電界に沿って、皮膚に向かって空中に吐出される。空間に吐出され且つ
帯電した噴霧用組成物から溶媒である成分(a)が蒸発していくと、噴霧用組成物表面の
電荷密度が過剰となり、クーロン反発力によって微細化を繰り返しながら空間に広がり、
皮膚に到達する。この場合、噴霧用組成物の粘度を適切に調整することで、噴霧された該
組成物を液滴の状態で皮膚に到達させることができる。あるいは、空間に吐出されている
間に、溶媒である揮発性物質の成分(a)を該組成物から揮発させ、溶質である被膜形成
能を有するポリマーを固化させつつ、電位差によって伸長変形させながら繊維を形成し、
その繊維を皮膚の表面に堆積させることもできる。例えば、噴霧用組成物の粘度を高める
と、該組成物を繊維の形態で皮膚の表面に堆積させやすい。これによって、繊維の堆積物
からなる被膜が皮膚の表面に形成される。繊維の堆積物からなる被膜は、ノズルと皮膚と
の間の距離や、ノズルに印加する電圧を調整することでも形成することが可能である。
静電スプレー法を行っている間は、被膜形成対象物である皮膚とノズルとの間に高い電
位差が生じている。しかし、インピーダンスが非常に大きいので、人体を流れる電流は極
めて微小である。例えば通常の生活下において生じる静電気によって人体に流れる電流よ
りも、静電スプレー法を行っている間に人体に流れる電流の方が数桁小さいことを、本発
明者は確認している。
位差が生じている。しかし、インピーダンスが非常に大きいので、人体を流れる電流は極
めて微小である。例えば通常の生活下において生じる静電気によって人体に流れる電流よ
りも、静電スプレー法を行っている間に人体に流れる電流の方が数桁小さいことを、本発
明者は確認している。
静電スプレー法によって繊維の堆積物を形成する場合、該繊維の太さは、円相当直径で
表した場合、10nm以上であることが好ましく、50nm以上であることが更に好まし
い。また3000nm以下であることが好ましく、2000nm以下であることが更に好
ましい。繊維の太さは、例えば走査型電子顕微鏡(SEM)観察によって、繊維を100
00倍に拡大して観察し、その二次元画像から欠陥(繊維の塊、繊維の交差部分、液滴)
を除き、繊維を任意に10本選び出し、繊維の長手方向に直交する線を引き、繊維径を直
接読み取ることで測定することができる。
表した場合、10nm以上であることが好ましく、50nm以上であることが更に好まし
い。また3000nm以下であることが好ましく、2000nm以下であることが更に好
ましい。繊維の太さは、例えば走査型電子顕微鏡(SEM)観察によって、繊維を100
00倍に拡大して観察し、その二次元画像から欠陥(繊維の塊、繊維の交差部分、液滴)
を除き、繊維を任意に10本選び出し、繊維の長手方向に直交する線を引き、繊維径を直
接読み取ることで測定することができる。
前記の繊維は、製造の原理上は無限長の連続繊維となるが、少なくとも繊維の太さの1
00倍以上の長さを有することが好ましい。本明細書においては、繊維の太さの100倍
以上の長さを有する繊維のことを「連続繊維」と定義する。そして、静電スプレー法によ
って製造される被膜は、連続繊維の堆積物からなる多孔性の不連続被膜であることが好ま
しい。このような形態の被膜は、集合体として1枚のシートとして扱えるだけでなく、非
常に柔らかい特徴を持っており、それに剪断力が加わってもばらばらになりにくく、身体
の動きへの追従性に優れるという利点がある。また、皮膚から生じた汗の放散性に優れる
という利点もある。更に、被膜の剥離が容易であるという利点もある。これに対して、細
孔を有さない連続被膜は剥離が容易でなく、また汗の放散性が非常に低いので、皮膚に蒸
れが生じやすい。
00倍以上の長さを有することが好ましい。本明細書においては、繊維の太さの100倍
以上の長さを有する繊維のことを「連続繊維」と定義する。そして、静電スプレー法によ
って製造される被膜は、連続繊維の堆積物からなる多孔性の不連続被膜であることが好ま
しい。このような形態の被膜は、集合体として1枚のシートとして扱えるだけでなく、非
常に柔らかい特徴を持っており、それに剪断力が加わってもばらばらになりにくく、身体
の動きへの追従性に優れるという利点がある。また、皮膚から生じた汗の放散性に優れる
という利点もある。更に、被膜の剥離が容易であるという利点もある。これに対して、細
孔を有さない連続被膜は剥離が容易でなく、また汗の放散性が非常に低いので、皮膚に蒸
れが生じやすい。
繊維状となった噴霧用組成物は、帯電した状態で皮膚に到達する。先に述べたとおり皮
膚も帯電しているので、繊維は静電力によって皮膚に密着する。皮膚の表面には肌理等の
微細な凹凸が形成されているので、その凹凸によるアンカー効果と相まって繊維は皮膚の
表面に一層密着する。このようにして静電スプレーが完了したら、静電スプレー装置10
の電源を切る。これによってノズルと皮膚との間の電界が消失し、皮膚の表面は電荷が固
定化される。その結果、被膜の密着性が一層発現する。
膚も帯電しているので、繊維は静電力によって皮膚に密着する。皮膚の表面には肌理等の
微細な凹凸が形成されているので、その凹凸によるアンカー効果と相まって繊維は皮膚の
表面に一層密着する。このようにして静電スプレーが完了したら、静電スプレー装置10
の電源を切る。これによってノズルと皮膚との間の電界が消失し、皮膚の表面は電荷が固
定化される。その結果、被膜の密着性が一層発現する。
以上の説明は、被膜として繊維の堆積物からなる多孔性被膜についてのものであったが
、被膜の形態はこれに限られず、細孔を有さない連続被膜を形成してもよく、繊維の堆積
物以外の形態を有する多孔性被膜、例えば連続被膜に不規則に又は規則的に複数の貫通孔
が形成されてなる多孔性被膜、すなわち不連続被膜を形成してもよい。上述のとおり、噴
霧用組成物の粘度、ノズルと皮膚との間の距離、及びノズルに印加する電圧などを制御す
ることで任意の形状の被膜を形成することができる。
、被膜の形態はこれに限られず、細孔を有さない連続被膜を形成してもよく、繊維の堆積
物以外の形態を有する多孔性被膜、例えば連続被膜に不規則に又は規則的に複数の貫通孔
が形成されてなる多孔性被膜、すなわち不連続被膜を形成してもよい。上述のとおり、噴
霧用組成物の粘度、ノズルと皮膚との間の距離、及びノズルに印加する電圧などを制御す
ることで任意の形状の被膜を形成することができる。
ノズルと皮膚との間の距離は、ノズルに印加する電圧にも依存するが、50mm以上、
150mm以下であることが、被膜を首尾よく形成する上で好ましい。ノズルと皮膚との
間の距離は、一般的に用いられる非接触式センサ等で測定することができる。
150mm以下であることが、被膜を首尾よく形成する上で好ましい。ノズルと皮膚との
間の距離は、一般的に用いられる非接触式センサ等で測定することができる。
静電スプレー法によって形成された被膜が多孔性のものであるか否かを問わず、被膜の
坪量は、0.1g/m2以上であることが好ましく、1g/m2以上であることが更に好ま
しい。また30g/m2以下であることが好ましく、20g/m2以下であることが更に好
ましい。例えば被膜の坪量は、0.1g/m2以上30g/m2以下であることが好ましく
、1g/m2以上20g/m2以下であることが更に好ましい。被膜の坪量をこのように設
定することで、被膜の密着性を向上させることができる。なお、皮膚に組成物を直接に静
電スプレーして被膜を形成する静電スプレー工程とは、皮膚に静電スプレーして、被膜を
形成する工程を意味する。組成物を皮膚以外の場所に静電スプレーして繊維からなるシー
トを作製し、そのシートを皮膚に塗布する工程は、前記静電スプレー工程とは異なる。
坪量は、0.1g/m2以上であることが好ましく、1g/m2以上であることが更に好ま
しい。また30g/m2以下であることが好ましく、20g/m2以下であることが更に好
ましい。例えば被膜の坪量は、0.1g/m2以上30g/m2以下であることが好ましく
、1g/m2以上20g/m2以下であることが更に好ましい。被膜の坪量をこのように設
定することで、被膜の密着性を向上させることができる。なお、皮膚に組成物を直接に静
電スプレーして被膜を形成する静電スプレー工程とは、皮膚に静電スプレーして、被膜を
形成する工程を意味する。組成物を皮膚以外の場所に静電スプレーして繊維からなるシー
トを作製し、そのシートを皮膚に塗布する工程は、前記静電スプレー工程とは異なる。
次に、工程B)について説明する。
工程B)は、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程であ
る。この工程B)は、静電スプレー工程A)の前又は後に行なわれる。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下。
工程B)は、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程であ
る。この工程B)は、静電スプレー工程A)の前又は後に行なわれる。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下。
この工程B)は、組成物Yを静電スプレー以外の手段により皮膚に適用する工程である
。
。
組成物Yに用いられる成分(c)水溶性ポリマーは、静電スプレーにより皮膚上に形成
された被膜の透明性の向上、耐擦過性及び耐伸張性の向上に寄与する。(c)水溶性ポリ
マーは、1気圧・23℃の環境下において、ポリマー1g秤量したのちに、10gのイオ
ン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が溶解する性質を
有するものであればよいが、植物系高分子、微生物系高分子、動物系高分子、アルギン酸
系高分子、ムコ多糖類、セルロース系高分子、デンプン系高分子、ビニル系高分子、アク
リル系高分子、ポリオキシエチレン系高分子等が挙げられる。
された被膜の透明性の向上、耐擦過性及び耐伸張性の向上に寄与する。(c)水溶性ポリ
マーは、1気圧・23℃の環境下において、ポリマー1g秤量したのちに、10gのイオ
ン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が溶解する性質を
有するものであればよいが、植物系高分子、微生物系高分子、動物系高分子、アルギン酸
系高分子、ムコ多糖類、セルロース系高分子、デンプン系高分子、ビニル系高分子、アク
リル系高分子、ポリオキシエチレン系高分子等が挙げられる。
植物系高分子としては、アラビアゴム、トラガカント、アラビノガラクタン、ローカス
トビーンガム、タラガム、グアーガム、フェヌグリークガム、カラヤガム、カラギーナン
、ペクチン、寒天、クインスシード(マルメロ)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレ
イショ、コムギ)、アルゲコロイド、トラントガム等が挙げられる。
微生物系高分子としては、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、プルラ
ン等が挙げられる。
動物系高分子としては、コラーゲン、カゼイン、アルブミン、デオキシリボ核酸(DN
A)及びその塩等が挙げられる。
アルギン酸系高分子としては、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコー
ルエステル等が挙げられる。
ムコ多糖類としては、ヒアルロン酸、チューベロース多糖体、シロキクラゲ多糖体等が
挙げられる。
セルロース系高分子としては、メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキ
シプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロ
ース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セルロ
ース末、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテルヒドロキシ
プロピルスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。
デンプン系高分子としては、カルボキシメチルデンプン、メチルヒドロキシプロピルデ
ンプン等が挙げられる。
ビニル系高分子としては、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシビニルポリマー等が挙げられる。
アクリル系高分子としては、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポ
リアクリル酸アミド、アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体/(アクリレーツ/アク
リル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(アクリル酸Na/アクリロイルジ
メチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロスポリマー-6等のアクリル系
高分子等が挙げられる。
ポリオキシエチレン系高分子としては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールシラン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体系高分子等が挙げられる
。
これらの水溶性ポリマーは1種又は2種以上を用いることができる。
トビーンガム、タラガム、グアーガム、フェヌグリークガム、カラヤガム、カラギーナン
、ペクチン、寒天、クインスシード(マルメロ)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレ
イショ、コムギ)、アルゲコロイド、トラントガム等が挙げられる。
微生物系高分子としては、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、プルラ
ン等が挙げられる。
動物系高分子としては、コラーゲン、カゼイン、アルブミン、デオキシリボ核酸(DN
A)及びその塩等が挙げられる。
アルギン酸系高分子としては、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコー
ルエステル等が挙げられる。
ムコ多糖類としては、ヒアルロン酸、チューベロース多糖体、シロキクラゲ多糖体等が
挙げられる。
セルロース系高分子としては、メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキ
シプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロ
ース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セルロ
ース末、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテルヒドロキシ
プロピルスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。
デンプン系高分子としては、カルボキシメチルデンプン、メチルヒドロキシプロピルデ
ンプン等が挙げられる。
ビニル系高分子としては、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシビニルポリマー等が挙げられる。
アクリル系高分子としては、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポ
リアクリル酸アミド、アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体/(アクリレーツ/アク
リル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(アクリル酸Na/アクリロイルジ
メチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロスポリマー-6等のアクリル系
高分子等が挙げられる。
ポリオキシエチレン系高分子としては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ールシラン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体系高分子等が挙げられる
。
これらの水溶性ポリマーは1種又は2種以上を用いることができる。
これらの水溶性ポリマーのうち、カラギーナン、寒天、キサンタンガム、プルラン、ヒ
アルロン酸、チューベロース多糖体(TPS)、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテ
ルヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニル
ポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(ア
クリル酸Na/アクリロイルジメチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロ
スポリマー-6から選ばれる1種又は2種以上が、耐擦過性及び耐伸張性の向上、透明性
の向上の点からより好ましい。
アルロン酸、チューベロース多糖体(TPS)、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテ
ルヒドロキシプロピルスルホン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニル
ポリマー、(アクリレーツ/アクリル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(ア
クリル酸Na/アクリロイルジメチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロ
スポリマー-6から選ばれる1種又は2種以上が、耐擦過性及び耐伸張性の向上、透明性
の向上の点からより好ましい。
組成物Y中の(c)水溶性ポリマーの含有量は、被膜の透明感、及び被膜の耐擦過性及
び耐伸張性の観点から、0.3質量%以上10質量%以下である。好ましくは0.4質量
%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上である。また、好ましくは8質量%以下
であり、より好ましくは7質量%以下であり、更に好ましくは6質量%以下である。具体
的には、0.4質量%以上8質量%以下が好ましく、0.4質量%以上7質量%以下がよ
り好ましく、0.5質量%以上6質量%以下が更に好ましい。
び耐伸張性の観点から、0.3質量%以上10質量%以下である。好ましくは0.4質量
%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上である。また、好ましくは8質量%以下
であり、より好ましくは7質量%以下であり、更に好ましくは6質量%以下である。具体
的には、0.4質量%以上8質量%以下が好ましく、0.4質量%以上7質量%以下がよ
り好ましく、0.5質量%以上6質量%以下が更に好ましい。
組成物Yに用いられる成分(d)は、水である。(e)水溶性ポリマーを多量の(d)
水に溶解した溶液(組成物Y)を、工程A)の前又は後に皮膚に適用することにより、形
成された被膜の透明性が向上し、更に耐擦過性及び耐伸張性が向上する。組成物Y中の(
d)水の含有量は、被膜の透明性の向上、耐擦過性及び耐伸張性の向上の点から、40質
量%以上95質量%以下である。好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%
以上、更に好ましくは70質量%以上である。また、好ましくは94.8質量%以下、よ
り好ましくは94.5質量%以下、更に好ましくは94.0質量%以下である。具体的に
は、50質量%以上94.8質量%以下が好ましく、60質量%以上94.5質量%以下
がより好ましく、70質量%以上94.0質量%以下が更に好ましい。
水に溶解した溶液(組成物Y)を、工程A)の前又は後に皮膚に適用することにより、形
成された被膜の透明性が向上し、更に耐擦過性及び耐伸張性が向上する。組成物Y中の(
d)水の含有量は、被膜の透明性の向上、耐擦過性及び耐伸張性の向上の点から、40質
量%以上95質量%以下である。好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%
以上、更に好ましくは70質量%以上である。また、好ましくは94.8質量%以下、よ
り好ましくは94.5質量%以下、更に好ましくは94.0質量%以下である。具体的に
は、50質量%以上94.8質量%以下が好ましく、60質量%以上94.5質量%以下
がより好ましく、70質量%以上94.0質量%以下が更に好ましい。
組成物Y中の成分(c)に対する成分(d)の質量割合((d)/(c))は、被膜の
透明性、耐擦過性及び耐伸張性の向上の観点及びさっぱり感を得る観点から、10以上が
好ましく、15以上がより好ましく、20以上が更に好ましく、また400以下が好まし
く、300以下がより好ましく、250以下が更に好ましい。具体的には、10以上40
0以下が好ましく、15以上300以下がより好ましく、20以上250以下が更に好ま
しい。
透明性、耐擦過性及び耐伸張性の向上の観点及びさっぱり感を得る観点から、10以上が
好ましく、15以上がより好ましく、20以上が更に好ましく、また400以下が好まし
く、300以下がより好ましく、250以下が更に好ましい。具体的には、10以上40
0以下が好ましく、15以上300以下がより好ましく、20以上250以下が更に好ま
しい。
組成物Yは、更に成分(e)ポリオールを含有するのが、被膜の透明性向上、耐擦過性
及び耐伸張性の向上の観点から、好ましい。
ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-
プロパンジオール、1,3-ブタンジオール等のアルキレングリコール類;ジエチレング
リコール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類;グリセリン、ジグリセリン、
トリグリセリン等のグリセリン類等が挙げられる。これらのうち、被膜の透明性の向上、
耐擦過性及び耐伸張性の向上の点から、エチレングリコール、プロピレングリコール、1
,3-ブタンジオール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレング
リコール、グリセリン、ジグリセリンが好ましく、プロピレングリコール、1,3-ブタ
ンジオール、グリセリンがより好ましく、少なくともグリセリンを含むことが更に好まし
い。
及び耐伸張性の向上の観点から、好ましい。
ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-
プロパンジオール、1,3-ブタンジオール等のアルキレングリコール類;ジエチレング
リコール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール類;グリセリン、ジグリセリン、
トリグリセリン等のグリセリン類等が挙げられる。これらのうち、被膜の透明性の向上、
耐擦過性及び耐伸張性の向上の点から、エチレングリコール、プロピレングリコール、1
,3-ブタンジオール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレング
リコール、グリセリン、ジグリセリンが好ましく、プロピレングリコール、1,3-ブタ
ンジオール、グリセリンがより好ましく、少なくともグリセリンを含むことが更に好まし
い。
組成物Y中の成分(e)の含有量は、被膜の透明性の向上、耐擦過性及び耐伸張性の向
上の観点から、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がより好ましく、3質量%以上が
更に好ましい。また、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましく、20
質量%以下が更に好ましい。具体的には、1質量%以上30質量%以下が好ましく、2質
量%以上25質量%以下がより好ましく、3質量%以上、20質量%以下が更に好ましい
。
上の観点から、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がより好ましく、3質量%以上が
更に好ましい。また、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましく、20
質量%以下が更に好ましい。具体的には、1質量%以上30質量%以下が好ましく、2質
量%以上25質量%以下がより好ましく、3質量%以上、20質量%以下が更に好ましい
。
組成物Y中の成分(c)に対する成分(e)の質量割合((e)/(c))は、被膜の
耐擦過性及び耐伸張性の向上の観点から、0.3以上が好ましく、0.5以上がより好ま
しく、1以上が更に好ましい。また、100以下が好ましく、40以下がより好ましく、
14以下が更に好ましい。具体的には、0.3以上100以下が好ましく、0.5以上4
0以下がより好ましく、1以上14以下が更に好ましい。
耐擦過性及び耐伸張性の向上の観点から、0.3以上が好ましく、0.5以上がより好ま
しく、1以上が更に好ましい。また、100以下が好ましく、40以下がより好ましく、
14以下が更に好ましい。具体的には、0.3以上100以下が好ましく、0.5以上4
0以下がより好ましく、1以上14以下が更に好ましい。
組成物Yには、前記成分の他、界面活性剤、少量の油剤、酸化防止剤、香料、色素、防
腐剤、pH調整剤、血行促進剤、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、保湿剤、清涼剤等
が含まれていてもよい。界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活
性剤、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。組成物Yの形態としては、水
溶液であっても、水中油型乳化組成物であってもよい。また、組成物Y中の油剤の含有量
は、被膜のさっぱり感、透明性等の点から、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がよ
り好ましく、1質量%以下が更に好ましい。
腐剤、pH調整剤、血行促進剤、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、保湿剤、清涼剤等
が含まれていてもよい。界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、カチオン性界面活
性剤、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。組成物Yの形態としては、水
溶液であっても、水中油型乳化組成物であってもよい。また、組成物Y中の油剤の含有量
は、被膜のさっぱり感、透明性等の点から、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がよ
り好ましく、1質量%以下が更に好ましい。
組成物Yを皮膚に適用する工程(工程B))は、工程A)の前であっても後であっても
よい。また組成物Yを皮膚に適用する手段は、静電スプレー以外の手段であればいずれの
手段でもよい。手指等で皮膚に塗布する手段、アプリケータを用いて皮膚に適用する手段
等が挙げられる。
よい。また組成物Yを皮膚に適用する手段は、静電スプレー以外の手段であればいずれの
手段でもよい。手指等で皮膚に塗布する手段、アプリケータを用いて皮膚に適用する手段
等が挙げられる。
また、工程A)及び工程B)の前、中間又は後に、粉体を含有する化粧料を皮膚に塗布
することにより(工程C))皮膚を化粧することもできる。例えば、工程A)、工程B)
、工程C)の順;工程B)、工程A)、工程C)の順で行うことができる。この工程C)
も静電スプレー以外の手段で実施するのが好ましい。
することにより(工程C))皮膚を化粧することもできる。例えば、工程A)、工程B)
、工程C)の順;工程B)、工程A)、工程C)の順で行うことができる。この工程C)
も静電スプレー以外の手段で実施するのが好ましい。
工程C)の化粧料に用いられる粉体としては、着色顔料、体質顔料、パール顔料、有機
粉体等が挙げられる。着色顔料としては、無機着色顔料、有機着色顔料、有機色素が挙げ
られ、これらを1種又は2種以上用いることができる。
粉体等が挙げられる。着色顔料としては、無機着色顔料、有機着色顔料、有機色素が挙げ
られ、これらを1種又は2種以上用いることができる。
無機着色顔料としては、具体的には、ベンガラ、水酸化鉄、チタン酸鉄、黄酸化鉄、黒
酸化鉄、カーボンブラック、紺青、群青、紺青酸化チタン、黒色酸化チタン、チタン・酸
化チタン焼結物、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化ク
ロム、酸化コバルト、チタン酸コバルト等の無機有色顔料;酸化チタン、酸化亜鉛、カラ
ミン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、これら
の複合体等の無機白色顔料が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができる
。
これらのうち、少なくとも、酸化鉄、酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる1種又は2
種以上が好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛、ベンガラ、黄酸化鉄及び黒酸化鉄から選ばれ
る1種又は2種以上がより好ましい。
酸化鉄、カーボンブラック、紺青、群青、紺青酸化チタン、黒色酸化チタン、チタン・酸
化チタン焼結物、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、酸化クロム、水酸化ク
ロム、酸化コバルト、チタン酸コバルト等の無機有色顔料;酸化チタン、酸化亜鉛、カラ
ミン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、これら
の複合体等の無機白色顔料が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができる
。
これらのうち、少なくとも、酸化鉄、酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる1種又は2
種以上が好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛、ベンガラ、黄酸化鉄及び黒酸化鉄から選ばれ
る1種又は2種以上がより好ましい。
有機着色顔料・有機色素としては、赤色3号、赤色102号、赤色104号、赤色10
6号、赤色201号、赤色202号、赤色204号、赤色205号、赤色220号、赤色
226号、赤色227号、赤色228号、赤色230号、赤色401号、赤色405号、
赤色505号、橙色203号、橙色204号、橙色205号、黄色4号、黄色5号、黄色
401号、青色1号、青色404号等の有機タール系顔料;β-カロチン、カラメル、パ
プリカ色素等の有機色素が挙げられる。また、セルロース、ポリメタクリル酸エステル等
の高分子で被覆したもの等が挙げられる。これらのうち、少なくとも赤色102号が含ま
れることが好ましい。
6号、赤色201号、赤色202号、赤色204号、赤色205号、赤色220号、赤色
226号、赤色227号、赤色228号、赤色230号、赤色401号、赤色405号、
赤色505号、橙色203号、橙色204号、橙色205号、黄色4号、黄色5号、黄色
401号、青色1号、青色404号等の有機タール系顔料;β-カロチン、カラメル、パ
プリカ色素等の有機色素が挙げられる。また、セルロース、ポリメタクリル酸エステル等
の高分子で被覆したもの等が挙げられる。これらのうち、少なくとも赤色102号が含ま
れることが好ましい。
体質顔料としては、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、カオリン、セリサイト、ケイ酸、無水ケイ酸、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸カ
ルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、ヒドロキシ
アパタイト、バーミキュライト、クレー、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライ
ト、スメクタイト、ゼオライト、セラミックスパウダー、第二リン酸カルシウム、アルミ
ナ、シリカ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、合成マイカ、合成セリサイト、金属石鹸
、硫酸バリウム処理マイカ等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができ
る。
これらのうち、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、マイカ、無水ケイ酸、タルク、窒化ホ
ウ素、合成マイカが含まれることが好ましい。
ウム、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、カオリン、セリサイト、ケイ酸、無水ケイ酸、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、ケイ酸カ
ルシウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、ヒドロキシ
アパタイト、バーミキュライト、クレー、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライ
ト、スメクタイト、ゼオライト、セラミックスパウダー、第二リン酸カルシウム、アルミ
ナ、シリカ、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、合成マイカ、合成セリサイト、金属石鹸
、硫酸バリウム処理マイカ等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができ
る。
これらのうち、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、マイカ、無水ケイ酸、タルク、窒化ホ
ウ素、合成マイカが含まれることが好ましい。
パール顔料(光輝性粉体)としては、魚鱗箔、酸化チタン被覆雲母(雲母チタン)、オ
キシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆タルク、酸化チ
タン被覆着色雲母、酸化チタン酸化鉄被覆雲母、微粒子酸化チタン被覆雲母チタン、微粒
子酸化亜鉛被覆雲母チタン、有機顔料処理雲母チタン、低次酸化チタン被覆雲母、酸化チ
タン被覆合成雲母、酸化チタン被覆板状シリカ、中空板状酸化チタン、酸化鉄被覆雲母、
板状酸化鉄(MIO)、アルミニウムフレーク、ステンレスフレーク、酸化チタン被覆板
状アルミナ、ガラスフレーク、酸化チタン被覆ガラスフレーク、真珠殻、金箔、金蒸着樹
脂フィルム、金属蒸着樹脂フィルム等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いるこ
とができる。
キシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆タルク、酸化チ
タン被覆着色雲母、酸化チタン酸化鉄被覆雲母、微粒子酸化チタン被覆雲母チタン、微粒
子酸化亜鉛被覆雲母チタン、有機顔料処理雲母チタン、低次酸化チタン被覆雲母、酸化チ
タン被覆合成雲母、酸化チタン被覆板状シリカ、中空板状酸化チタン、酸化鉄被覆雲母、
板状酸化鉄(MIO)、アルミニウムフレーク、ステンレスフレーク、酸化チタン被覆板
状アルミナ、ガラスフレーク、酸化チタン被覆ガラスフレーク、真珠殻、金箔、金蒸着樹
脂フィルム、金属蒸着樹脂フィルム等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いるこ
とができる。
有機粉体としては、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコーンゴム粉体、ポ
リメチルシルセスキオキサン、ポリアミドパウダー、ナイロンパウダー、ポリエステルパ
ウダー、ポリプロピレンパウダー、ポリスチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、ビニ
ル樹脂パウダー、尿素樹脂パウダー、フェノール樹脂パウダー、フッ素樹脂パウダー、ケ
イ素樹脂パウダー、アクリル樹脂パウダー、メラミン樹脂パウダー、ポリカーボネート樹
脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、シルクパウダー、ウールパウダー、セルロー
スパウダー、長鎖アルキルリン酸金属塩、N-モノ長鎖アルキルアシル塩基性アミノ酸、
これらの複合体等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができる。
これらのうち、セルロースパウダー、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコ
ーンゴム粉体、ポリメチルシルセスキオキサン、アクリル樹脂パウダー、ナイロンパウダ
ーが含まれることが好ましい。
リメチルシルセスキオキサン、ポリアミドパウダー、ナイロンパウダー、ポリエステルパ
ウダー、ポリプロピレンパウダー、ポリスチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、ビニ
ル樹脂パウダー、尿素樹脂パウダー、フェノール樹脂パウダー、フッ素樹脂パウダー、ケ
イ素樹脂パウダー、アクリル樹脂パウダー、メラミン樹脂パウダー、ポリカーボネート樹
脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、シルクパウダー、ウールパウダー、セルロー
スパウダー、長鎖アルキルリン酸金属塩、N-モノ長鎖アルキルアシル塩基性アミノ酸、
これらの複合体等が挙げられる。これらを1種又は2種以上用いることができる。
これらのうち、セルロースパウダー、シリコーンゴム粉体、シリコーン樹脂被覆シリコ
ーンゴム粉体、ポリメチルシルセスキオキサン、アクリル樹脂パウダー、ナイロンパウダ
ーが含まれることが好ましい。
本発明で用いる粉体は、いずれも、そのまま使用することができ、これらの1種又は2
種以上が疎水化処理されたものを用いることもできる。疎水化処理としては、通常の化粧
料用粉体に施されている処理であれば制限されず、フッ素化合物、シリコーン系化合物、
金属石鹸、アミノ酸系化合物、レシチン、アルキルシラン、油剤、有機チタネート等の表
面処理剤を用い、乾式処理、湿式処理等を行えばよい。
表面処理剤の具体例としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルリン
酸エステル、パーフルオロアルキルアルコキシシラン、フッ素変性シリコーン等のフッ素
系化合物;ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、環状シリコ
ーン、片末端又は両末端トリアルコキシ基変性オルガノポリシロキサン、架橋型シリコー
ン、シリコーン樹脂、フッ素変性シリコーン樹脂、アクリル変性シリコーン等のシリコー
ン系化合物;ステアリン酸アルミニウム、ミリスチン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛
、ステアリン酸マグネシウム等の金属石鹸;プロリン、ヒドロキシプロリン、アラニン、
グリシン、サルコシン、グルタミン酸、アスパラギン酸、リジン及びそれらの誘導体等の
アミノ酸系化合物;レシチン、水添レシチン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメ
トキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルト
リエトキシシラン等のアルキルシラン;ポリイソブチレン、ワックス、油脂等の油剤;ト
リイソステアリン酸イソプロピルチタン等の有機チタネートなどが挙げられる。
種以上が疎水化処理されたものを用いることもできる。疎水化処理としては、通常の化粧
料用粉体に施されている処理であれば制限されず、フッ素化合物、シリコーン系化合物、
金属石鹸、アミノ酸系化合物、レシチン、アルキルシラン、油剤、有機チタネート等の表
面処理剤を用い、乾式処理、湿式処理等を行えばよい。
表面処理剤の具体例としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルリン
酸エステル、パーフルオロアルキルアルコキシシラン、フッ素変性シリコーン等のフッ素
系化合物;ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、環状シリコ
ーン、片末端又は両末端トリアルコキシ基変性オルガノポリシロキサン、架橋型シリコー
ン、シリコーン樹脂、フッ素変性シリコーン樹脂、アクリル変性シリコーン等のシリコー
ン系化合物;ステアリン酸アルミニウム、ミリスチン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛
、ステアリン酸マグネシウム等の金属石鹸;プロリン、ヒドロキシプロリン、アラニン、
グリシン、サルコシン、グルタミン酸、アスパラギン酸、リジン及びそれらの誘導体等の
アミノ酸系化合物;レシチン、水添レシチン;メチルトリメトキシシラン、エチルトリメ
トキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルト
リエトキシシラン等のアルキルシラン;ポリイソブチレン、ワックス、油脂等の油剤;ト
リイソステアリン酸イソプロピルチタン等の有機チタネートなどが挙げられる。
また、本発明で用いる粉体は、更に、これらの1種又は2種以上が親水化処理されたも
のを用いることもできる。親水化処理としては、通常の化粧料用粉体に施されている処理
であれば制限されない。
例えば、アラビアゴム、トラガカント、アラビノガラクタン、ローカストビーンガム(
キャロブガム)、グアーガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、寒天、クインスシ
ード(マルメロ)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ)、アルゲコロ
イド、トラントガム、ローカストビーンガム等の植物系高分子;キサンタンガム、デキス
トラン、サクシノグルカン、プルラン等の微生物系高分子;コラーゲン、カゼイン、アル
ブミン、デオキシリボ核酸(DNA)及びその塩等の動物系高分子;カルボキシメチルデ
ンプン、メチルヒドロキシプロピルデンプン等のデンプン系高分子;メチルセルロース、
エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セ
ルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セ
ルロース末のセルロース系高分子;アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコ
ールエステル等のアルギン酸系高分子;ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリド
ン、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子;ポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコールシラン等のポリオキシエチレン系高分子;ポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレン共重合体系高分子;ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポ
リアクリル酸アミド等のアクリル系高分子など、更に、シリカなど無機ケイ酸系化合物な
どが挙げられる。
のを用いることもできる。親水化処理としては、通常の化粧料用粉体に施されている処理
であれば制限されない。
例えば、アラビアゴム、トラガカント、アラビノガラクタン、ローカストビーンガム(
キャロブガム)、グアーガム、カラヤガム、カラギーナン、ペクチン、寒天、クインスシ
ード(マルメロ)、デンプン(コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ)、アルゲコロ
イド、トラントガム、ローカストビーンガム等の植物系高分子;キサンタンガム、デキス
トラン、サクシノグルカン、プルラン等の微生物系高分子;コラーゲン、カゼイン、アル
ブミン、デオキシリボ核酸(DNA)及びその塩等の動物系高分子;カルボキシメチルデ
ンプン、メチルヒドロキシプロピルデンプン等のデンプン系高分子;メチルセルロース、
エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セ
ルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、セ
ルロース末のセルロース系高分子;アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコ
ールエステル等のアルギン酸系高分子;ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリド
ン、カルボキシビニルポリマー等のビニル系高分子;ポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコールシラン等のポリオキシエチレン系高分子;ポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレン共重合体系高分子;ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチルアクリレート、ポ
リアクリル酸アミド等のアクリル系高分子など、更に、シリカなど無機ケイ酸系化合物な
どが挙げられる。
粉体としては、化粧料に通常用いられる粉体であれば、球状、板状、針状、不定形状等
の形状、煙霧状、微粒子状、顔料級等の粒子径、多孔質、無孔質等の粒子構造等のものを
用いることができる。
の形状、煙霧状、微粒子状、顔料級等の粒子径、多孔質、無孔質等の粒子構造等のものを
用いることができる。
粉体の平均粒子径は、肌の皮丘・皮溝・毛穴に均一に密着し、自然な化粧感を与える点
から平均粒子径0.001μm以上200μm以下が好ましく、0.01μm以上50μ
m以下がより好ましく、0.02μm以上20μm以下が更に好ましく、0.05μm以
上10μm以下が更に好ましい。
本発明において、粉体の平均粒子径は、電子顕微鏡観察、レーザー回折/散乱法による
粒度分布測定機によって、測定される。具体的には、レーザー回折/散乱法の場合、エタ
ノールを分散媒として、レーザー回折散乱式粒度分布測定器(例えば、セイシン企業社製
、LMS-350)で測定する。なお、粉体を疎水化処理又は親水化処理した場合、成分
(c)の平均粒子径、含有量は、疎水化処理又は親水化処理した剤を含めての平均粒子径
、質量を意味する。
から平均粒子径0.001μm以上200μm以下が好ましく、0.01μm以上50μ
m以下がより好ましく、0.02μm以上20μm以下が更に好ましく、0.05μm以
上10μm以下が更に好ましい。
本発明において、粉体の平均粒子径は、電子顕微鏡観察、レーザー回折/散乱法による
粒度分布測定機によって、測定される。具体的には、レーザー回折/散乱法の場合、エタ
ノールを分散媒として、レーザー回折散乱式粒度分布測定器(例えば、セイシン企業社製
、LMS-350)で測定する。なお、粉体を疎水化処理又は親水化処理した場合、成分
(c)の平均粒子径、含有量は、疎水化処理又は親水化処理した剤を含めての平均粒子径
、質量を意味する。
粉体は、1種又は2種以上を用いることができ、含有量は、化粧料の形態により相違す
るが、仕上がりの観点から、化粧料中に1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好
ましく、5質量%以上が更に好ましく、99質量%以下が好ましく、95質量%以下がよ
り好ましく、90質量%以下が更に好ましい。また、粉体の含有量は、化粧料中に1質量
%以上99質量%以下が好ましく、3質量%以上95質量%以下がより好ましく、5質量
%以上90質量%以下が更に好ましい。
るが、仕上がりの観点から、化粧料中に1質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好
ましく、5質量%以上が更に好ましく、99質量%以下が好ましく、95質量%以下がよ
り好ましく、90質量%以下が更に好ましい。また、粉体の含有量は、化粧料中に1質量
%以上99質量%以下が好ましく、3質量%以上95質量%以下がより好ましく、5質量
%以上90質量%以下が更に好ましい。
全粉体に対する着色顔料の質量割合〔着色顔料/全粉体〕は、仕上がり、粉体を含有す
る化粧料が時間を経過しても、よれにくく、化粧持続性に優れる観点からが0.2以上が
好ましく、0.3以上がより好ましく、0.4以上が更に好ましく、また1.0以下が好
ましい。
る化粧料が時間を経過しても、よれにくく、化粧持続性に優れる観点からが0.2以上が
好ましく、0.3以上がより好ましく、0.4以上が更に好ましく、また1.0以下が好
ましい。
工程C)に用いられる化粧料の種類は、粉体含有化粧料であれば特に限定されず、化粧
下地、ファンデーション、コンシーラー、ほお紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナ
ー、アイブロウ、オーバーコート剤、口紅等のメイクアップ化粧料;日焼け止め乳液、日
焼け止めクリーム等の紫外線防御化粧料などとして適用することができる。なかでも、化
粧下地、ファンデーション、コンシーラー、日焼け止め乳液、日焼け止めクリームがより
好ましい。
また、当該化粧料の形態も特に限定されず、粉末化粧料、固形粉末化粧料、リキッド化
粧料、油性化粧料、乳化化粧料、油性固形化粧料のいずれでもよい。
下地、ファンデーション、コンシーラー、ほお紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナ
ー、アイブロウ、オーバーコート剤、口紅等のメイクアップ化粧料;日焼け止め乳液、日
焼け止めクリーム等の紫外線防御化粧料などとして適用することができる。なかでも、化
粧下地、ファンデーション、コンシーラー、日焼け止め乳液、日焼け止めクリームがより
好ましい。
また、当該化粧料の形態も特に限定されず、粉末化粧料、固形粉末化粧料、リキッド化
粧料、油性化粧料、乳化化粧料、油性固形化粧料のいずれでもよい。
工程C)に用いられる化粧料に含有される粉体以外の成分としては、油剤(液体油及び
固形油を含む)、乳化剤、水溶性高分子、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防腐剤、
増粘剤、pH調整剤、血行促進剤、各種ビタミン、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤
、保湿剤等が挙げられる。
固形油を含む)、乳化剤、水溶性高分子、香料、忌避剤、酸化防止剤、安定剤、防腐剤、
増粘剤、pH調整剤、血行促進剤、各種ビタミン、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤
、保湿剤等が挙げられる。
工程C)の化粧料の塗布は、静電スプレー以外の手段であって、化粧料の種類に応じた
通常の塗布手段で行えばよく、例えば指や手のひらを用いてのび広げたり、おさえたりし
て塗布、専用の道具を用いてのび広げたり、おさえたりして塗布する等が挙げられる。
通常の塗布手段で行えばよく、例えば指や手のひらを用いてのび広げたり、おさえたりし
て塗布、専用の道具を用いてのび広げたり、おさえたりして塗布する等が挙げられる。
本発明は、また、直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する前又はその後
に、静電スプレー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成
物Yであって、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを提供する。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
また、当該組成物Yにおいては、静電スプレーに用いる組成物が、成分(a)及び成分
(b)を含有する組成物Xであるのが好ましい。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質
(b)被膜形成能を有するポリマー
に、静電スプレー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成
物Yであって、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを提供する。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
また、当該組成物Yにおいては、静電スプレーに用いる組成物が、成分(a)及び成分
(b)を含有する組成物Xであるのが好ましい。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質
(b)被膜形成能を有するポリマー
上述した実施形態に関し、本発明は更に以下の方法、組成物を開示する。
<1>A)成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xを直接皮膚に静電スプレーして
皮膚表面に被膜を形成する工程と、
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー
B)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で
又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
皮膚表面に被膜を形成する工程と、
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー
B)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で
又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
<2>工程A)で静電スプレーして形成される被膜が多孔性被膜である<1>記載の被膜
の製造方法。
<3>工程A)が、静電スプレー装置を用いて皮膚に組成物Xを静電スプレーして繊維の
堆積物からなる被膜を形成する工程であり、静電スプレー装置が、前記組成物Xを収容す
る容器と、前記組成物Xを吐出するノズルと、前記容器中に収容されている前記組成物X
を前記ノズルに供給する供給装置と、前記ノズルに電圧を印加する電源とを備える<1>
又は<2>記載の被膜の製造方法。
<4>成分(a)の揮発性物質が、好ましくはエタノール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール及び水から選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくはエタノール
及びブチルアルコールから選ばれる1種又は2種以上であり、更に好ましくは少なくとも
エタノールを含む揮発性物質である<1>~<3>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<5>組成物X中の成分(a)の含有量が、30質量%以上であることが好ましく、55
質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが一層好ましく、また
98質量%以下であることが好ましく、96質量%以下であることが更に好ましく、94
質量%以下であることが一層好ましい<1>~<4>のいずれかに記載の被膜の製造方法
。
<6>成分(b)が、水不溶性のポリマーが好ましく、被膜形成後に不溶化処理できる完
全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋処理できる部分
鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ(N-
プロパノイルエチレンイミン)グラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチ
ルシロキサン共重合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチル
アミノアセテート及びツエインから選ばれる1種又は2種以上がより好ましく、ポリブチ
ラール樹脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上がより好ましい<1>~
<5>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<7>組成物X中の成分(b)の含有量が、2質量%以上であることが好ましく、4質量
%以上であることが更に好ましく、6質量%以上であることが一層好ましく、また50質
量%以下であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、40質量%
以下であることが一層好ましい<1>~<6>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<8>成分(c)が、1気圧・23℃の環境下において、ポリマー1g秤量したのちに、
10gのイオン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が溶
解する性質を有するものが好ましく、植物系高分子、微生物系高分子、動物系高分子、ア
ルギン酸系高分子、ムコ多糖類、セルロース系高分子、デンプン系高分子、ビニル系高分
子、アクリル系高分子及びポリオキシエチレン系高分子から選ばれる1種又は2種以上が
より好ましい<1>~<7>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<9>カラギーナン、寒天、キサンタンガム、プルラン、ヒアルロン酸、チューベロース
多糖体(TPS)、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテルヒドロキシプロピルスルホ
ン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、(アクリレーツ/ア
クリル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(アクリル酸Na/アクリロイル
ジメチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロスポリマー-6から選ばれる
1種又は2種以上である<1>~<8>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<10>組成物Y中の(c)水溶性ポリマーの含有量が、好ましくは0.4質量%以上であ
り、より好ましくは0.5質量%以上であり、また、好ましくは8質量%以下であり、よ
り好ましくは7質量%以下であり、更に好ましくは6質量%以下である<1>~<9>の
いずれかに記載の被膜の製造方法。
<11>組成物Y中の(d)水の含有量が、好ましくは50質量%以上、より好ましくは6
0質量%以上、更に好ましくは70質量%以上であり、また、好ましくは94.8質量%
以下、より好ましくは94.5質量%以下、更に好ましくは94.0質量%以下である<
1>~<10>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<12>組成物Y中の成分(c)に対する成分(d)の質量割合((d)/(c))が、1
0以上が好ましく、15以上がより好ましく、20以上が更に好ましく、また400以下
が好ましく、300以下がより好ましく、250以下が更に好ましい<1>~<11>の
いずれかに記載の被膜の製造方法。
<13>組成物Yが、更に成分(e)ポリオールを含有する<1>~<12>のいずれかに
記載の被膜の製造方法。
<14>成分(e)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオ
ール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレングリコール、グリセ
リン、ジグリセリンが好ましく、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、グリ
セリンがより好ましく、少なくともグリセリンを含むことが更に好ましい<13>記載の
被膜の製造方法。
<15>組成物Y中の成分(e)の含有量が、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がよ
り好ましく、3質量%以上が更に好ましく、また、30質量%以下が好ましく、25質量
%以下がより好ましく、20質量%以下が更に好ましい<13>又は<14>記載の被膜
の製造方法。
<16>組成物Y中の成分(c)に対する成分(e)の質量割合((e)/(c))が、0
.3以上が好ましく、0.5以上がより好ましく、1以上が更に好ましく、また、100
以下が好ましく、40以下がより好ましく、15以下が更に好ましい<13>~<15>
のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<17>工程A)及び工程B)の前、中間又は後に、更に粉体を含有する化粧料を皮膚に塗
布する工程(工程C))を行う<1>~<16>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<18>直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する前又はその後に、静電スプ
レー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成物Yであって
、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Y。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
<19>静電スプレーに用いる組成物が、成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xで
ある<18>記載の組成物Y。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質
(b)被膜形成能を有するポリマー
の製造方法。
<3>工程A)が、静電スプレー装置を用いて皮膚に組成物Xを静電スプレーして繊維の
堆積物からなる被膜を形成する工程であり、静電スプレー装置が、前記組成物Xを収容す
る容器と、前記組成物Xを吐出するノズルと、前記容器中に収容されている前記組成物X
を前記ノズルに供給する供給装置と、前記ノズルに電圧を印加する電源とを備える<1>
又は<2>記載の被膜の製造方法。
<4>成分(a)の揮発性物質が、好ましくはエタノール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール及び水から選ばれる1種又は2種以上であり、より好ましくはエタノール
及びブチルアルコールから選ばれる1種又は2種以上であり、更に好ましくは少なくとも
エタノールを含む揮発性物質である<1>~<3>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<5>組成物X中の成分(a)の含有量が、30質量%以上であることが好ましく、55
質量%以上であることが更に好ましく、60質量%以上であることが一層好ましく、また
98質量%以下であることが好ましく、96質量%以下であることが更に好ましく、94
質量%以下であることが一層好ましい<1>~<4>のいずれかに記載の被膜の製造方法
。
<6>成分(b)が、水不溶性のポリマーが好ましく、被膜形成後に不溶化処理できる完
全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することで被膜形成後に架橋処理できる部分
鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ(N-
プロパノイルエチレンイミン)グラフト-ジメチルシロキサン/γ-アミノプロピルメチ
ルシロキサン共重合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ポリビニルアセタールジエチル
アミノアセテート及びツエインから選ばれる1種又は2種以上がより好ましく、ポリブチ
ラール樹脂及びポリウレタン樹脂から選ばれる1種又は2種以上がより好ましい<1>~
<5>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<7>組成物X中の成分(b)の含有量が、2質量%以上であることが好ましく、4質量
%以上であることが更に好ましく、6質量%以上であることが一層好ましく、また50質
量%以下であることが好ましく、45質量%以下であることが更に好ましく、40質量%
以下であることが一層好ましい<1>~<6>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<8>成分(c)が、1気圧・23℃の環境下において、ポリマー1g秤量したのちに、
10gのイオン交換水に浸漬し、24時間経過後、浸漬したポリマーの0.5g以上が溶
解する性質を有するものが好ましく、植物系高分子、微生物系高分子、動物系高分子、ア
ルギン酸系高分子、ムコ多糖類、セルロース系高分子、デンプン系高分子、ビニル系高分
子、アクリル系高分子及びポリオキシエチレン系高分子から選ばれる1種又は2種以上が
より好ましい<1>~<7>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<9>カラギーナン、寒天、キサンタンガム、プルラン、ヒアルロン酸、チューベロース
多糖体(TPS)、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロースヒドロキシプロピルステアリルエーテルヒドロキシプロピルスルホ
ン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、(アクリレーツ/ア
クリル酸アルキル(C10-30))クロスポリマー、(アクリル酸Na/アクリロイル
ジメチルタウリンNa)コポリマー、ポリアクリレートクロスポリマー-6から選ばれる
1種又は2種以上である<1>~<8>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<10>組成物Y中の(c)水溶性ポリマーの含有量が、好ましくは0.4質量%以上であ
り、より好ましくは0.5質量%以上であり、また、好ましくは8質量%以下であり、よ
り好ましくは7質量%以下であり、更に好ましくは6質量%以下である<1>~<9>の
いずれかに記載の被膜の製造方法。
<11>組成物Y中の(d)水の含有量が、好ましくは50質量%以上、より好ましくは6
0質量%以上、更に好ましくは70質量%以上であり、また、好ましくは94.8質量%
以下、より好ましくは94.5質量%以下、更に好ましくは94.0質量%以下である<
1>~<10>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<12>組成物Y中の成分(c)に対する成分(d)の質量割合((d)/(c))が、1
0以上が好ましく、15以上がより好ましく、20以上が更に好ましく、また400以下
が好ましく、300以下がより好ましく、250以下が更に好ましい<1>~<11>の
いずれかに記載の被膜の製造方法。
<13>組成物Yが、更に成分(e)ポリオールを含有する<1>~<12>のいずれかに
記載の被膜の製造方法。
<14>成分(e)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオ
ール、ジプロピレングリコール、分子量1000以下のポリエチレングリコール、グリセ
リン、ジグリセリンが好ましく、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、グリ
セリンがより好ましく、少なくともグリセリンを含むことが更に好ましい<13>記載の
被膜の製造方法。
<15>組成物Y中の成分(e)の含有量が、1質量%以上が好ましく、2質量%以上がよ
り好ましく、3質量%以上が更に好ましく、また、30質量%以下が好ましく、25質量
%以下がより好ましく、20質量%以下が更に好ましい<13>又は<14>記載の被膜
の製造方法。
<16>組成物Y中の成分(c)に対する成分(e)の質量割合((e)/(c))が、0
.3以上が好ましく、0.5以上がより好ましく、1以上が更に好ましく、また、100
以下が好ましく、40以下がより好ましく、15以下が更に好ましい<13>~<15>
のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<17>工程A)及び工程B)の前、中間又は後に、更に粉体を含有する化粧料を皮膚に塗
布する工程(工程C))を行う<1>~<16>のいずれかに記載の被膜の製造方法。
<18>直接皮膚に静電スプレーして皮膚表面に被膜を形成する前又はその後に、静電スプ
レー以外の手段で皮膚に適用して皮膚上に被膜を製造するために用いる組成物Yであって
、成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Y。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
<19>静電スプレーに用いる組成物が、成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xで
ある<18>記載の組成物Y。
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質
(b)被膜形成能を有するポリマー
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かか
る実施例に制限されない。特に断らない限り、「%」は「質量%」を意味する。
る実施例に制限されない。特に断らない限り、「%」は「質量%」を意味する。
合成例1
(1)撹拌機、温度計及び冷却管を備えた1000mLのガラス製セパラブル反応容器に
、重量平均分子量約80万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエチルセル
ロース(HEC-QP4400,ユニオンカーバイド社製)50g、88%イソプロピル
アルコール400g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3.5gを加えてスラリー液を調
製し、窒素雰囲気下室温で30分間撹拌した。これに、ステアリルグリシジルエーテル5
.4gを加え、80℃で8時間反応させて疎水化を行った。疎水化反応終了後、反応液を
酢酸で中和し、反応生成物をろ別した。反応生成物を80%アセトン500gで2回、次
いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロ
キシエチルセルロース誘導体49.4gを得た。
(2)撹拌機、温度計及び冷却管を備えた500mLのガラス製セパラブル反応容器に、
(1)で得られた疎水化ヒドロキシエチルセルロース誘導体10.0g、イソプロピルア
ルコール80.0g及び48%水酸化ナトリウム水溶液0.33gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応液に、3-クロロ-2-ヒドロキシ
プロパンスルホン酸ナトリウム6.4g、48%水酸化ナトリウム水溶液2.7g及び水
20.0gからなる混合液を加え、50℃で9時間スルホン化を行った。反応終了後、反
応液を酢酸で中和し、生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水20%)500g
で3回、次いで、アセトン500gで2回洗浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステア
リルグリセリルエーテル基とスルホ-2-ヒドロキシプロピル基で置換された水溶性アル
キル置換多糖誘導体(1)7.2gを得た。
得られた水溶性アルキル置換多糖誘導体(1)のステアリルグリセリルエーテル基の置
換度は0.030、スルホ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.15であり、疎水
部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比率は30:150であった。
(1)撹拌機、温度計及び冷却管を備えた1000mLのガラス製セパラブル反応容器に
、重量平均分子量約80万、ヒドロキシエチル基の置換度1.8のヒドロキシエチルセル
ロース(HEC-QP4400,ユニオンカーバイド社製)50g、88%イソプロピル
アルコール400g及び48%水酸化ナトリウム水溶液3.5gを加えてスラリー液を調
製し、窒素雰囲気下室温で30分間撹拌した。これに、ステアリルグリシジルエーテル5
.4gを加え、80℃で8時間反応させて疎水化を行った。疎水化反応終了後、反応液を
酢酸で中和し、反応生成物をろ別した。反応生成物を80%アセトン500gで2回、次
いでアセトン500gで2回洗浄し、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、疎水化されたヒドロ
キシエチルセルロース誘導体49.4gを得た。
(2)撹拌機、温度計及び冷却管を備えた500mLのガラス製セパラブル反応容器に、
(1)で得られた疎水化ヒドロキシエチルセルロース誘導体10.0g、イソプロピルア
ルコール80.0g及び48%水酸化ナトリウム水溶液0.33gを仕込んでスラリー液
を調製し、窒素気流下室温で30分間撹拌した。反応液に、3-クロロ-2-ヒドロキシ
プロパンスルホン酸ナトリウム6.4g、48%水酸化ナトリウム水溶液2.7g及び水
20.0gからなる混合液を加え、50℃で9時間スルホン化を行った。反応終了後、反
応液を酢酸で中和し、生成物をろ別した。生成物を80%アセトン(水20%)500g
で3回、次いで、アセトン500gで2回洗浄後、減圧下70℃で1昼夜乾燥し、ステア
リルグリセリルエーテル基とスルホ-2-ヒドロキシプロピル基で置換された水溶性アル
キル置換多糖誘導体(1)7.2gを得た。
得られた水溶性アルキル置換多糖誘導体(1)のステアリルグリセリルエーテル基の置
換度は0.030、スルホ-2-ヒドロキシプロピル基の置換度は0.15であり、疎水
部置換基(a)と親水部置換基(b)の数の比率は30:150であった。
[試験1]
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの100μLをマイクロピペットによ
りヒトの手の甲に滴下し、直径4cm以上6cm未満の面積に指で塗り広げてなじませて
薄層を形成した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮
革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条
件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、手の甲に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。
直径4cm以上6cm未満の円状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた
。
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの100μLをマイクロピペットによ
りヒトの手の甲に滴下し、直径4cm以上6cm未満の面積に指で塗り広げてなじませて
薄層を形成した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮
革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条
件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、手の甲に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。
直径4cm以上6cm未満の円状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた
。
[試験2]
試験1において、液剤適用工程と、静電スプレー工程との順序を逆にしたものである。こ
れ以外は試験1と同様にして、繊維の堆積物からなる多孔性被膜を得た。
その後、手の甲上に形成された被膜を、以下の基準で官能評価した。
試験1において、液剤適用工程と、静電スプレー工程との順序を逆にしたものである。こ
れ以外は試験1と同様にして、繊維の堆積物からなる多孔性被膜を得た。
その後、手の甲上に形成された被膜を、以下の基準で官能評価した。
[評価1]耐擦過性
実施例及び比較例で形成された被膜について、皮膚との密着性を評価した。評価は、皮
膚と垂直な方向から被膜に指で触れて微細振動荷重を与え、また皮膚と平行な方向に指を
往復させて被膜に剪断力を加え、その後の被膜の状態を目視観察することで行った。その
結果を表1に示す。評価基準は以下のとおりとした。
1 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
2 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜を形成する繊維が一部剥離する。
3 垂直方向は剥離しないが、平行方向に剪断力を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
4 垂直方向は剥離しないが、指で平行方向に剪断力を与えると被膜又は繊維が一部剥離
する。
5 垂直方向に剥離せず、且つ平行方向に剪断力を与えても、被膜又は繊維が剥離しない
。
実施例及び比較例で形成された被膜について、皮膚との密着性を評価した。評価は、皮
膚と垂直な方向から被膜に指で触れて微細振動荷重を与え、また皮膚と平行な方向に指を
往復させて被膜に剪断力を加え、その後の被膜の状態を目視観察することで行った。その
結果を表1に示す。評価基準は以下のとおりとした。
1 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
2 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜を形成する繊維が一部剥離する。
3 垂直方向は剥離しないが、平行方向に剪断力を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
4 垂直方向は剥離しないが、指で平行方向に剪断力を与えると被膜又は繊維が一部剥離
する。
5 垂直方向に剥離せず、且つ平行方向に剪断力を与えても、被膜又は繊維が剥離しない
。
[試験3]
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.厚さ0.7mmの人工皮革(出光テクノファイン社製、プロテインレザー PBZ
13001BK)に組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの50mgを、人工皮革
の5cm×5cmの範囲に塗布した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮
革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条
件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、人工皮革の表面に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成
された。被膜は7cm×7cmの正方形状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた
後、1晩、室温にて乾燥させた。
その後、人工皮革上に形成された被膜を、以下の基準で評価した。
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.厚さ0.7mmの人工皮革(出光テクノファイン社製、プロテインレザー PBZ
13001BK)に組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの50mgを、人工皮革
の5cm×5cmの範囲に塗布した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮
革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条
件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、人工皮革の表面に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成
された。被膜は7cm×7cmの正方形状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた
後、1晩、室温にて乾燥させた。
その後、人工皮革上に形成された被膜を、以下の基準で評価した。
[評価2]外観
形成された被膜(人工皮革)をスキャナ(EPSON社製、GTX830、24bit、600dpi)により
画像を取り込み、ImageJにより液剤が塗布された範囲のGray Value(0~255)の平均
値を算出した。
形成された被膜(人工皮革)をスキャナ(EPSON社製、GTX830、24bit、600dpi)により
画像を取り込み、ImageJにより液剤が塗布された範囲のGray Value(0~255)の平均
値を算出した。
[評価3]耐伸張性
形成された被膜(人工皮革)の10cmの辺の両端を手で12cmに引っ張り、10回
繰り返したのちに、被膜にシワ、浮き、ひび割れが生じるか否かを評価した。
評価基準:
1:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の75%以上の部分にシワ
、浮きや割れが生じる
2:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の50%以上、75%未満
の部分にシワ、浮きや割れが生じる
3:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の25%以上、50%未満
の部分にシワ、浮きや割れが生じる
4:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の25%未満の部分にシワ
、浮きや割れが生じる
5:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の外観に変化がない
形成された被膜(人工皮革)の10cmの辺の両端を手で12cmに引っ張り、10回
繰り返したのちに、被膜にシワ、浮き、ひび割れが生じるか否かを評価した。
評価基準:
1:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の75%以上の部分にシワ
、浮きや割れが生じる
2:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の50%以上、75%未満
の部分にシワ、浮きや割れが生じる
3:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の25%以上、50%未満
の部分にシワ、浮きや割れが生じる
4:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の25%未満の部分にシワ
、浮きや割れが生じる
5:10回の引張試験で、組成物Yが塗布された範囲の被膜の外観に変化がない
[評価4]感触評価
形成された被膜(人工皮革)を5人の評価者が指で触り、油性感のなさを1(油性感大
)~5(油性感小)で評価を行い、5人の評価の平均を取った。
形成された被膜(人工皮革)を5人の評価者が指で触り、油性感のなさを1(油性感大
)~5(油性感小)で評価を行い、5人の評価の平均を取った。
*1)三栄源エス・エフ・アイ社製 カラギニン CS-67
*2)DSP五協フード&ケミカル株式会社 エコガムT
*3)林原社製 化粧品用プルラン
*4)ヒアルロン酸Na
*5)花王社製 ソフケアTP-S
*6)第一工業製薬社製 セロゲンF5A
*7)ダイセルファインケム社製HECダイセル SE400
*8)BASF社製 ルビスコールK90
*9)Lubrizol Advanced Materials社製 カーボポール 980
*10)Lubrizol Advanced Materials社製 カーボポールETD2020
*11)Lubrizol Advanced Materials社製 ペムレンTR-1
*12)SEPPIC社製SIMULGEL EG
*13)SEPPIC社製SEPIMAX ZEN
*2)DSP五協フード&ケミカル株式会社 エコガムT
*3)林原社製 化粧品用プルラン
*4)ヒアルロン酸Na
*5)花王社製 ソフケアTP-S
*6)第一工業製薬社製 セロゲンF5A
*7)ダイセルファインケム社製HECダイセル SE400
*8)BASF社製 ルビスコールK90
*9)Lubrizol Advanced Materials社製 カーボポール 980
*10)Lubrizol Advanced Materials社製 カーボポールETD2020
*11)Lubrizol Advanced Materials社製 ペムレンTR-1
*12)SEPPIC社製SIMULGEL EG
*13)SEPPIC社製SEPIMAX ZEN
表2~表6より、組成物Y中に(c)水溶性ポリマー及び(d)水を含有することが必
要であることがわかる。
要であることがわかる。
10 静電スプレー装置
11 低電圧電源
12 高電圧電源
13 補助的電気回路
14 ポンプ機構
15 容器
16 ノズル
17 管路
18 フレキシブル管路
19 電流制限抵抗
20 筐体
11 低電圧電源
12 高電圧電源
13 補助的電気回路
14 ポンプ機構
15 容器
16 ノズル
17 管路
18 フレキシブル管路
19 電流制限抵抗
20 筐体
[試験1]
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2~3記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの100μLをマイクロピペットによりヒトの手の甲に滴下し、直径4cm以上6cm未満の面積に指で塗り広げてなじませて薄層を形成した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、手の甲に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。
直径4cm以上6cm未満の円状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた。
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2~3記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの100μLをマイクロピペットによりヒトの手の甲に滴下し、直径4cm以上6cm未満の面積に指で塗り広げてなじませて薄層を形成した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、手の甲に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。
直径4cm以上6cm未満の円状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた。
[評価1]耐擦過性
実施例及び比較例で形成された被膜について、皮膚との密着性を評価した。評価は、皮膚と垂直な方向から被膜に指で触れて微細振動荷重を与え、また皮膚と平行な方向に指を往復させて被膜に剪断力を加え、その後の被膜の状態を目視観察することで行った。その結果を表4~6に示す。評価基準は以下のとおりとした。
1 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
2 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜を形成する繊維が一部剥離する。
3 垂直方向は剥離しないが、平行方向に剪断力を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
4 垂直方向は剥離しないが、指で平行方向に剪断力を与えると被膜又は繊維が一部剥離する。
5 垂直方向に剥離せず、且つ平行方向に剪断力を与えても、被膜又は繊維が剥離しない。
実施例及び比較例で形成された被膜について、皮膚との密着性を評価した。評価は、皮膚と垂直な方向から被膜に指で触れて微細振動荷重を与え、また皮膚と平行な方向に指を往復させて被膜に剪断力を加え、その後の被膜の状態を目視観察することで行った。その結果を表4~6に示す。評価基準は以下のとおりとした。
1 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
2 指で垂直方向に微細振動荷重を与えると被膜を形成する繊維が一部剥離する。
3 垂直方向は剥離しないが、平行方向に剪断力を与えると被膜がほぼすべて剥離する。
4 垂直方向は剥離しないが、指で平行方向に剪断力を与えると被膜又は繊維が一部剥離する。
5 垂直方向に剥離せず、且つ平行方向に剪断力を与えても、被膜又は繊維が剥離しない。
[試験3]
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2~3記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.厚さ0.7mmの人工皮革(出光テクノファイン社製、プロテインレザー PBZ13001BK)に組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの50mgを、人工皮革の5cm×5cmの範囲に塗布した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、人工皮革の表面に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。被膜は7cm×7cmの正方形状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた後、1晩、室温にて乾燥させた。
その後、人工皮革上に形成された被膜を、以下の基準で評価した。
(1)噴霧用組成物の調製
噴霧用組成物として、表1の組成物を用いた。
(2)組成物Yの調製
表2~3記載の液剤(組成物Y)を用いた。
(3)評価ステップ
ア.厚さ0.7mmの人工皮革(出光テクノファイン社製、プロテインレザー PBZ13001BK)に組成物Yを塗布した(工程B))。組成物Yの50mgを、人工皮革の5cm×5cmの範囲に塗布した。
イ.静電スプレー(工程A))を行った。
図1に示す構成を有し、図2に示す外観を有する静電スプレー装置10を用い、人工皮革の組成物を塗った範囲に向けて静電スプレー法を60秒間行った。静電スプレー法の条件は以下に示すとおりとした。
・印加電圧:10kV
・ノズルと皮膚との距離:100mm
・噴霧用組成物の吐出量:5mL/h
・環境:25℃、50%RH
この静電スプレーによって、人工皮革の表面に繊維の堆積物からなる多孔性被膜が形成された。被膜は7cm×7cmの正方形状に塗布された。
ウ.指またはスポンジなどにより、被膜を軽く押さえて、被膜を組成物Yに馴染ませた後、1晩、室温にて乾燥させた。
その後、人工皮革上に形成された被膜を、以下の基準で評価した。
Claims (1)
- A)成分(a)及び成分(b)を含有する組成物Xを直接皮膚に静電スプレーして皮膚表
面に被膜を形成する工程と、
(a)水、アルコール及びケトンから選ばれる1種又は2種以上の揮発性物質、
(b)被膜形成能を有するポリマー
B)成分(c)及び成分(d)を含有する組成物Yを皮膚に適用する工程とを、この順で
又は逆の順で有する、皮膚上への被膜の製造方法。
(c)水溶性ポリマー 0.3質量%以上10質量%以下、
(d)水 40質量%以上95質量%以下
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US6531142B1 (en) | 1999-08-18 | 2003-03-11 | The Procter & Gamble Company | Stable, electrostatically sprayable topical compositions |
US20040086474A1 (en) * | 2002-06-17 | 2004-05-06 | The Procter & Gamble Company | Multi-step cosmetic benefit foundation kit and associated methods |
US20050008605A1 (en) * | 2003-07-02 | 2005-01-13 | L'oreal | Composition containing water-soluble polymer |
US8420066B2 (en) * | 2005-11-18 | 2013-04-16 | Kao Corporation | O/W emulsion cosmetic composition |
US20080226574A1 (en) * | 2006-11-17 | 2008-09-18 | L'oreal | Line of cosmetic compositions |
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AU2016340485B2 (en) * | 2015-10-19 | 2018-06-28 | Kao Corporation | Method for producing coating film |
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TWI744423B (zh) * | 2016-11-22 | 2021-11-01 | 日商花王股份有限公司 | 化妝料用覆膜之製造方法 |
WO2018194143A1 (ja) * | 2017-04-19 | 2018-10-25 | 花王株式会社 | 被膜の製造方法 |
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- 2019-10-17 CN CN201980069153.2A patent/CN112888415A/zh active Pending
- 2019-10-17 US US17/285,709 patent/US20220000725A1/en active Pending
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2023
- 2023-06-07 JP JP2023093819A patent/JP2023115047A/ja not_active Withdrawn
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WO2020080449A1 (ja) | 2020-04-23 |
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