JP7250846B2 - ワイヤグリッド偏光板製造方法 - Google Patents
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Description
[0002] 液晶ディスプレイ(LCD)は、交差した偏光板の間に挟まれた液晶の光変調特性を利用して、画像を表示するディスプレイである。LCDは、限定するものではないが、高精細度テレビ、コンピュータモニタ、及びモバイル装置などを含む広範囲にわたる応用で利用されている。典型的なLCDでは、液晶セルは互いに直交するように配向された2つのリニア偏光板の間で整列される。
Claims (20)
- フラットパネルディスプレイをパターン形成するためのシステムであって、該システムは、
レーザーゲージと、
レーザーゲージミラーと、
複数のハーフDyson光学系と
を備え、前記ハーフDyson光学系の各々は、
一次ミラーと、
正レンズと、
回析格子ラインパターンを有する回析格子を含むレチクルと
を備え、前記回析格子ラインパターンは、
中心線と、
複数の回折格子ラインと
を含み、各回折格子ラインが当該回析格子ラインのサイズを示す長さを有し、且つ前記中心線からある距離だけ離れており、前記中心線からの前記距離が前記中心線からある距離離れた点まで増大するにつれて、前記複数の回折格子ラインの各々の長さは非線形に増大する、システム。 - メニスカスレンズと、
基板ステージと
を更に備える、請求項1に記載のシステム。 - 更にブリッジを備え、前記ブリッジは、前記基板ステージの上方に離間されており、その上に配置された前記複数のハーフDyson光学系を有する、請求項2に記載のシステム。
- 前記一次ミラーは、中心に、照射ビームへのアクセスを提供するための開口部を有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記照射ビームはコリメートされた光で対物回折格子を照射し、いかなるゼロ次回折も除去する手段を提供する、請求項4に記載のシステム。
- 前記正レンズは、溶融石英又はフッ化カルシウムを含む、請求項1に記載のシステム。
- 一次ミラーは、対物面の回折格子からの±1次回折を反射する、請求項1に記載のシステム。
- 方法であって、
アルミニウム被覆を有する基板の上に底部反射防止被覆層を堆積することと、
前記底部反射防止被覆層の上にフォトレジスト層を堆積することと、
前記基板上に位相回折格子マスクを結像することによって、前記基板をパターン形成することと
を含む方法であって、前記位相回折格子マスクは、回析格子ラインパターンを有し、前記回析格子ラインパターンは、
中心線と、
複数の回折格子ラインと
を含み、各回折格子ラインが当該回析格子ラインのサイズを示す長さを有し、且つ前記中心線からある距離だけ離れており、前記中心線からの前記距離が前記中心線からある距離離れた点まで増大するにつれて、前記複数の回折格子ラインの各々の長さは非線形に増大し、
前記基板のパターン形成は、
レーザー照射ビームを一次ミラーの開口部を通して、前記位相回折格子マスクを含むレチクルへ向けることと、
前記レーザー照射ビームを前記レチクルから前記一次ミラーのエッジ近傍の対向領域に回折させることと
を含み、前記方法は更に、
前記基板上に±1次の回折を結像すること
を含む方法。 - 前記フォトレジスト層は前記底部反射防止被覆層の上に堆積されて、前記底部反射防止被覆層に接触する、請求項8に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層を現像することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板の上に狭いトレンチの第1のパターンを形成するために、前記基板の上でアルミニウムエッチングを実施することを更に含む、請求項10に記載の方法。
- 前記基板の上に狭いトレンチの第2のパターンを形成するために、アルミニウム被覆を有する基板の上に底部反射防止被覆層を堆積することと、前記底部反射防止被覆層の上にフォトレジスト層を堆積することと、前記基板上に位相回折格子マスクを結像することによって、前記基板をパターン形成することとを繰り返すことを更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記底部反射防止被覆層は前記アルミニウム被覆の上に堆積されて、前記アルミニウム被覆に接触する、請求項8に記載の方法。
- 前記底部反射防止被覆層は、355nmの光を吸収し、400nm以上の光に対して透明な材料を含む、請求項8に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層を現像することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記基板の上でアルミニウムエッチングを実施することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 回折格子ラインパターンであって、
中心線と、
複数の回折格子ラインと
を含み、各回折格子ラインが当該回析格子ラインのサイズを示す高さと長さを有し、且つ前記中心線からある距離だけ離れており、前記中心線からの前記距離が前記中心線からある距離離れた点まで増大するにつれて、前記複数の回折格子ラインの各々の長さは非線形に増大する、回折格子ラインパターン。 - 前記中心線に近い回折格子ラインの長さは、前記中心線から遠い回折格子ラインの長さを下回る、請求項17に記載の回折格子ラインパターン。
- 前記回折格子ラインの長さは、ガウス形状の強度プロファイルを有するレーザー照射ビームの強度に逆比例し、前記回折格子ラインの長さは、レーザー照射ビームの露光時間に比例する、請求項18に記載の回折格子ラインパターン。
- 前記中心線に近い回折格子ラインの高さは、前記中心線から遠い回折格子ラインの高さを下回る、請求項17に記載の回折格子ラインパターン。
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018212943A1 (en) | 2017-05-16 | 2018-11-22 | Applied Materials, Inc. | Wire grid polarizer manufacturing methods using frequency doubling interference lithography |
CN107219723B (zh) * | 2017-08-02 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置 |
US11036145B2 (en) * | 2018-12-21 | 2021-06-15 | Applied Materials, Inc. | Large area self imaging lithography based on broadband light source |
CN112965288B (zh) * | 2021-02-02 | 2022-04-26 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 内置偏光片的制备方法及偏光片 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000221349A (ja) | 1999-02-03 | 2000-08-11 | Minolta Co Ltd | 導波路型素子 |
JP2011022255A (ja) | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Canon Inc | 回折光学素子及びそれを有する光学系 |
JP2012004564A (ja) | 2010-06-11 | 2012-01-05 | Nikon Corp | 露光方法、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2015502668A (ja) | 2011-12-19 | 2015-01-22 | キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド | インプリントリソグラフィー用のシームレスな大面積マスターテンプレートの製造方法 |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2568062B1 (fr) * | 1984-07-17 | 1986-11-07 | Thomson Alcatel Espace | Antenne bifrequence a meme couverture de zone a polarisation croisee pour satellites de telecommunications |
US4846552A (en) * | 1986-04-16 | 1989-07-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of fabricating high efficiency binary planar optical elements |
US4964705A (en) * | 1988-11-07 | 1990-10-23 | General Signal Corporation | Unit magnification optical system |
US5638211A (en) * | 1990-08-21 | 1997-06-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system |
JPH04257801A (ja) * | 1991-02-13 | 1992-09-14 | Sharp Corp | 偏光回折素子の製造方法 |
JPH0694939A (ja) * | 1992-09-09 | 1994-04-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光導波路素子 |
US5266790A (en) | 1992-12-21 | 1993-11-30 | Ultratech Stepper, Inc. | Focusing technique suitable for use with an unpatterned specular substrate |
US5402205A (en) * | 1992-12-21 | 1995-03-28 | Ultratech Stepper, Inc. | Alignment system for a Half-Field Dyson projection system |
US5561558A (en) * | 1993-10-18 | 1996-10-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Diffractive optical device |
CA2197706A1 (en) * | 1997-02-14 | 1998-08-14 | Peter Ehbets | Method of fabricating apodized phase mask |
US6970232B2 (en) * | 2001-10-30 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems |
TWI278722B (en) * | 2002-05-22 | 2007-04-11 | Nikon Corp | Exposing method, exposing device and manufacturing method for device |
JP4172204B2 (ja) * | 2002-05-22 | 2008-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
US6943941B2 (en) | 2003-02-27 | 2005-09-13 | Asml Netherlands B.V. | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems |
US7206059B2 (en) | 2003-02-27 | 2007-04-17 | Asml Netherlands B.V. | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems |
TWI319124B (en) * | 2003-02-27 | 2010-01-01 | Asml Netherlands Bv | Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems |
US7304719B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-12-04 | Asml Holding N.V. | Patterned grid element polarizer |
US7630133B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-12-08 | Moxtek, Inc. | Inorganic, dielectric, grid polarizer and non-zero order diffraction grating |
KR100656999B1 (ko) | 2005-01-19 | 2006-12-13 | 엘지전자 주식회사 | 선 격자 편광필름 및 선 격자 편광필름의 격자제조용 몰드제작방법 |
CN100388056C (zh) * | 2006-06-02 | 2008-05-14 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜光学系统 |
JP4778873B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2011-09-21 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 液晶表示装置 |
US8023105B2 (en) | 2007-11-19 | 2011-09-20 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Compact projection exposure device and associated exposure process performed by the device for exposing film-shaped tape to form circuit patterns |
CN101539661B (zh) * | 2009-04-24 | 2010-12-01 | 广西大学 | 差动光栅空间光桥接器 |
EP2454619A4 (en) * | 2009-07-17 | 2016-01-06 | Hewlett Packard Development Co | NON PERIODIC FILTER REFLECTORS WITH FOCUSING STRENGTH AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
KR20130015471A (ko) | 2011-08-03 | 2013-02-14 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이패널 및 이를 채용한 디스플레이장치 |
EP2562568B1 (en) * | 2011-08-23 | 2014-06-25 | SICK STEGMANN GmbH | Fabrication method of cylindrical gratings |
KR101924309B1 (ko) | 2011-12-20 | 2018-11-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 처리 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법 |
US9341951B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-05-17 | Ultratech, Inc. | Wynn-dyson imaging system with reduced thermal distortion |
EP2965134A1 (en) * | 2013-03-05 | 2016-01-13 | Rambus Inc. | Phase gratings with odd symmetry for high-resoultion lensless optical sensing |
CN108710263B (zh) | 2013-04-18 | 2021-01-26 | 株式会社尼康 | 扫描曝光装置 |
CN103235441B (zh) * | 2013-04-22 | 2015-10-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶显示装置、专用眼镜及显示器件 |
CN110045580B (zh) | 2013-06-14 | 2021-07-23 | 株式会社尼康 | 扫描曝光装置 |
JP5983596B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-08-31 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線偏光光照射方法及び光配向層付き基板の製造方法 |
JP6221849B2 (ja) * | 2014-03-07 | 2017-11-01 | ウシオ電機株式会社 | 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置 |
-
2017
- 2017-02-10 WO PCT/US2017/017319 patent/WO2017151291A1/en active Application Filing
- 2017-02-10 CN CN201780015199.7A patent/CN108885289B/zh active Active
- 2017-02-10 US US16/076,677 patent/US10983389B2/en active Active
- 2017-02-10 JP JP2018546486A patent/JP6882316B2/ja active Active
-
2021
- 2021-05-06 JP JP2021078248A patent/JP7250846B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000221349A (ja) | 1999-02-03 | 2000-08-11 | Minolta Co Ltd | 導波路型素子 |
JP2011022255A (ja) | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Canon Inc | 回折光学素子及びそれを有する光学系 |
JP2012004564A (ja) | 2010-06-11 | 2012-01-05 | Nikon Corp | 露光方法、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2015502668A (ja) | 2011-12-19 | 2015-01-22 | キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド | インプリントリソグラフィー用のシームレスな大面積マスターテンプレートの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6882316B2 (ja) | 2021-06-02 |
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