JP7238325B2 - LAMINATED FILM AND POLARIZING PLATE USING THE SAME - Google Patents

LAMINATED FILM AND POLARIZING PLATE USING THE SAME Download PDF

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Description

本発明は、積層フィルム及びそれを用いた偏光板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laminated film and a polarizing plate using the same.

ポリエステルフィルムなどの複屈折性を有するフィルムを蛍光灯又は冷陰極管光源の環境下で使用した場合、レタデーションに起因する虹斑が生じることが知られていた。そのため、液晶ディスプレイなどに用いられる偏光子の保護フィルムには光学的に等方性を有するセルロース系のフィルムが用いられてきた。 It has been known that when a birefringent film such as a polyester film is used under the environment of a fluorescent lamp or a cold cathode tube light source, iridescence caused by retardation occurs. Therefore, optically isotropic cellulose-based films have been used as protective films for polarizers used in liquid crystal displays and the like.

最近、高いレタデーションを有するフィルムを連続的な発光スペクトルを有する白色光源と組み合わせることで虹斑を解消する技術が提案されており(例えば、特許文献1、特許文献2等)、偏光サングラスに対応した偏光解消フィルム又は偏光子保護フィルムとして液晶ディスプレイ等で実用化されてきた。しかしながら、この技術は、冷陰極管光源又はKSF蛍光体(KSiF結晶にMnを添加した蛍光体)と呼ばれるような発光スペクトルの赤色域に急峻な発光ピークを持つ光源を用いる場合に改善の余地があった。また、高いレタデーションを確保するためにはフィルムに厚みが必要であり、近年の画像表示装置の薄型化には十分対応しきれない恐れがあった。 Recently, a technique has been proposed to eliminate iridescence by combining a film having a high retardation with a white light source having a continuous emission spectrum (e.g., Patent Document 1, Patent Document 2, etc.), which is compatible with polarized sunglasses. It has been put to practical use as a depolarizing film or a polarizer protective film in liquid crystal displays and the like. However, this technology is improved when using a light source with a sharp emission peak in the red region of the emission spectrum, such as a cold cathode tube light source or a KSF phosphor (a phosphor in which Mn is added to K 2 SiF 6 crystal). There was room for In addition, the film needs to be thick in order to ensure a high retardation, and there is a fear that it will not be able to sufficiently cope with the thinning of image display devices in recent years.

急峻な発光ピークを持つ光源を用いた液晶ディスプレイの偏光解消フィルムとして、複屈折を有するフィルムの表面に凹凸を設けることで肉眼で視認可能なレベルより小さな領域内で局所的にλ/4以上の位相差を発生させたフィルムが提案されている(例えば特許文献3)。しかし、かかる従来技術には、コントラストが低い、強い外光環境下では画面が白くなり画像が見えにくい、という問題点があった。 As a depolarizing film for a liquid crystal display using a light source with a steep emission peak, by providing unevenness on the surface of the film having birefringence, it is possible to locally reduce the wavelength to λ/4 or more within a region smaller than the level visible to the naked eye. A film in which retardation is generated has been proposed (for example, Patent Document 3). However, such prior art has the problem that the screen is white and the image is difficult to see in an environment of low contrast and strong external light.

特開2011-215646号公報JP 2011-215646 A 国際公開第2011/162198号WO2011/162198 特開2017-161599号公報JP 2017-161599 A

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、急峻な発光ピークを持つ光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保できる位相差層付偏光板を提供することにある。 The present invention has been made against the background of such problems of the prior art. That is, the object of the present invention is to provide a polarizing plate with a retardation layer that can suppress iridescence and ensure high transparency and clear image displayability when used in an environment with a light source having a steep emission peak. to provide.

本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。
すなわち本発明は、以下の態様を包含する。
項1.
下記(a)~(c)の特徴を有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有する偏光板。
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.2~10μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(Bfnx-Bfny)が0.04~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとする)
項2.
項1に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
項3.
項1に記載の偏光板を含む有機EL表示装置。
The present inventor has completed the present invention as a result of intensive studies to achieve this object.
That is, the present invention includes the following aspects.
Section 1.
A polarizing plate comprising, in this order, a laminate film having a substrate film and an optically isotropic layer, a polarizer, and a retardation layer made of a liquid crystal compound, which have the following characteristics (a) to (c).
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.2 to 10 μm.
(b) The refractive index anisotropy (Bfnx-Bfny) of the base film is from 0.04 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is from Bfny−0.15 to Bfnx+0.15.
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, and the refractive index in the fast axis direction is Bfny.)
Section 2.
A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to Item 1.
Item 3.
An organic EL display device comprising the polarizing plate according to Item 1.

本発明の偏光板により、急峻な発光ピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。一実施形態において、本発明の位相差層付偏光板は薄型化に適しており、液晶表示装置の光学補償機能を一体化させた偏光板として、また有機EL表示装置などの反射防止用の円偏光板として好適に用いることができる。 The polarizing plate of the present invention can suppress iridescence and ensure high transparency and vivid image display properties when used in an environment of a light source having a steep emission peak. In one embodiment, the polarizing plate with a retardation layer of the present invention is suitable for thinning, and can be used as a polarizing plate integrated with an optical compensation function for a liquid crystal display device, or as a circular antireflection plate for an organic EL display device or the like. It can be suitably used as a polarizing plate.

偏光板は、凹凸面(粗面化面)を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有するこのが好ましい。なお、以下、単に「積層フィルム」という場合は凹凸面(粗面化面)を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層との積層フィルムを意味する。また、積層フィルムに偏光子が積層されたものを「偏光子積層フィルム」と称する場合がある。
(基材フィルム)
まず、基材フィルムに関して説明する。
The polarizing plate comprises, in this order, a laminated film having a refractive index anisotropic base film having an uneven surface (roughened surface) and an optically isotropic layer, a polarizer, and a retardation layer made of a liquid crystal compound. is preferred. Hereinafter, the term "laminated film" simply means a laminated film of an optically isotropic layer and a refractive index anisotropic base film having an uneven surface (roughened surface). Also, a laminated film with a polarizer laminated thereon may be referred to as a "polarizer laminated film".
(Base film)
First, the base film will be explained.

少なくとも基材フィルムとしては、屈折率異方性を持たせられるものであれば特に限定はなく、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられる。中でも屈折率異方性の高いフィルムが容易に得られる点でポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートなどが挙げられ、中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらのポリエステルは、フィルムとしての機械的物性、耐熱性、及び寸法安定性を損なわない程度(例えば10モル%以下)であれば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノールビスフェノールAのエチレンオキシド(EO)1~2モル付加物等を共重合してもよい。なお、例えばポリエチレンテレフタレートの重合体であれば通常重合時に副生成物のジエチレングリコールが1~2モル共重合するが、このような副生成物を含んでいてもよい。 At least the base film is not particularly limited as long as it can have refractive index anisotropy, and examples thereof include polyester, polyamide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, polyamide, and polycarbonate. Among them, polyester is preferable because a film having high refractive index anisotropy can be easily obtained. Examples of polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polytetramethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, etc. Among them, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. These polyesters include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and ethylene glycol, as long as they do not impair the mechanical properties, heat resistance, and dimensional stability of the film (for example, 10 mol % or less). . For example, in the case of a polyethylene terephthalate polymer, 1 to 2 mol of diethylene glycol, which is a by-product, is usually copolymerized during polymerization, and such a by-product may be contained.

基材フィルムは複屈折性を有する。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の下限は、好ましくは1.65であり、より好ましくは1.66であり、さらに好ましくは1.67であり、特に好ましくは1.68である。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の上限は、好ましくは1.73であり、より好ましくは1.72であり、さらに好ましくは1.71であり、特に好ましくは1.7である。 The base film has birefringence. The lower limit of the slow axis refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.65, more preferably 1.66, still more preferably 1.67, and particularly preferably 1.68. The upper limit of the slow axis direction refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.73, more preferably 1.72, still more preferably 1.71, and particularly preferably 1.7.

基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の下限は、好ましくは1.53であり、より好ましくは1.55であり、さらに好ましくは1.56であり、特に好ましくは1.57である。基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の上限は、好ましくは1.62であり、より好ましくは1.61であり、さらに好ましくは1.6である。 The lower limit of the fast axis refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.53, more preferably 1.55, still more preferably 1.56, and particularly preferably 1.57. The upper limit of the fast axis direction refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.62, more preferably 1.61, still more preferably 1.6.

基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy=Bfnx-Bfny)の下限は、好ましくは0.04であり、より好ましくは0.05であり、さらに好ましくは0.06であり、特に好ましくは0.07である。当該下限が0.04以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。基材フィルムの屈折率異方性の上限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.18であり、さらに好ましくは0.17であり、特に好ましくは0.16である。当該上限が0.2以下であると進相軸方向の機械的強度を実用範囲に調節することができ、製造も容易になる。なお、基材フィルムの屈折率は、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy=Bfnx−Bfny) of the substrate film is preferably 0.04, more preferably 0.05, still more preferably 0.06, and particularly preferably 0.07. When the lower limit is 0.04 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the refractive index anisotropy of the substrate film is preferably 0.2, more preferably 0.18, still more preferably 0.17, and particularly preferably 0.16. When the upper limit is 0.2 or less, the mechanical strength in the fast axis direction can be adjusted within a practical range, and production is facilitated. The refractive index of the base film is a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.

凹凸面付与前(粗面化前)の基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは20μmであり、さらに好ましくは25μmである。当該下限が15μm以上であれば、凹凸付与時に厚みが低減しても、優れた機械的強度を有する。凹凸面付与前の基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは200μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が200μm以下であれば、取り扱い性に優れており、薄型にする(例:薄型の画像表示装置に用いる)のに好適である。 The lower limit of the thickness of the base film before providing the uneven surface (before roughening) is preferably 15 μm, more preferably 20 μm, and still more preferably 25 μm. If the lower limit is 15 μm or more, excellent mechanical strength is obtained even if the thickness is reduced when the unevenness is imparted. The upper limit of the thickness of the base film before the uneven surface is provided is preferably 200 μm, more preferably 150 μm, still more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. If the upper limit is 200 μm or less, it is excellent in handleability and suitable for thinning (eg, for use in thin image display devices).

凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, even more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, most preferably 4000 nm. is. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, even more preferably 15000 nm, still more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm, more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.

凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)と厚み方向のレタデーション(Rth)との比(Re/Rth)の下限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.5であり、さらに好ましくは0.6である。当該下限が0.2以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムのRe/Rthの上限は、機械的強度の観点で好ましくは2であり、より好ましくは1.5であり、さらに好ましくは1.2であり、特に好ましくは1である。 The lower limit of the ratio (Re/Rth) between the in-plane retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) of the base film before the uneven surface is imparted is preferably 0.2, more preferably 0.5, and even more preferably. is 0.6. When the lower limit is 0.2 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of Re/Rth of the base film before the rough surface is provided is preferably 2, more preferably 1.5, still more preferably 1.2, and particularly preferably 1 from the viewpoint of mechanical strength.

基材フィルムのNz係数の下限は、好ましくは1.3であり、より好ましくは1.4であり、さらに好ましくは1.45である。当該下限が1.3以上であると進相軸方向の機械的強度も優れる。基材フィルムのNz係数の上限は、好ましくは2.5であり、より好ましくは2.2であり、さらに好ましくは2であり、特に好ましくは1.8であり、最も好ましくは1.7である。当該上限が2.5以下であると虹斑をより効果的に解消することができる。 The lower limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 1.3, more preferably 1.4, still more preferably 1.45. When the lower limit is 1.3 or more, the mechanical strength in the fast axis direction is also excellent. The upper limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 2.5, more preferably 2.2, even more preferably 2, particularly preferably 1.8, most preferably 1.7. When the upper limit is 2.5 or less, iridescence can be more effectively eliminated.

基材フィルムの面配向度ΔPの下限は、好ましくは0.08であり、より好ましくは0.09であり、さらに好ましくは0.1である。当該下限が0.08以上であると虹斑をより効果的に解消することができるだけでなく、フィルムの厚み斑を低減することもできる。基材フィルムの面配向度ΔPの上限は、好ましくは0.15であり、より好ましくは0.14であり、さらに好ましくは0.13である。当該上限が0.15以下であると屈折率異方性をより高く保つことができる。 The lower limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.08, more preferably 0.09, and still more preferably 0.1. When the lower limit is 0.08 or more, not only can iridescence be effectively eliminated, but also thickness unevenness of the film can be reduced. The upper limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.15, more preferably 0.14, and still more preferably 0.13. When the upper limit is 0.15 or less, the refractive index anisotropy can be kept higher.

基材フィルムは屈折率異方性を持たせるため、一軸方向に配向されていることが好ましい。配向方法としては、それぞれの樹脂に合わせた通常の方法で行うことができる。例えば、溶融した樹脂を冷却ロール上にシート状に押し出して製造する場合であれば、冷却ロールを押し出される樹脂の速度以上に設定して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法などが挙げられる。 The substrate film is preferably uniaxially oriented in order to have refractive index anisotropy. Orientation can be carried out by a normal method suitable for each resin. For example, if the melted resin is extruded on a cooling roll to form a sheet, the cooling roll is set to a speed higher than the speed of the extruded resin, and the unstretched film that has been melted and extruded is heated. Examples include a method of stretching and orienting the film in the longitudinal direction with a group of rolled rolls, and a method of stretching and orienting the unstretched film melted and extruded in the transverse direction or oblique direction by heating in a tenter.

これらの中でも、基材フィルムの配向方法としては、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、及び、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法が好ましい。縦方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。横方向、又は斜め方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。 Among these, the method of orienting the base film includes a method of stretching and orienting a melted and extruded unstretched film in the longitudinal direction with a group of heated rolls, and a method of stretching the melted and extruded unstretched film. A method of orientation by heating in a tenter and stretching in a horizontal direction or an oblique direction is preferred. The draw ratio in the longitudinal direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times. The draw ratio in the transverse direction or oblique direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times.

なお、縦方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、縦方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)横方向の延伸を加えたり、縦方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)横方向の延伸を加えてもよい。同様に、横方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、横方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)縦方向の延伸を加えたり、横方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)縦方向の延伸を加えてもよい。また、より配向方向の配向性を上げるため、横方向の延伸時又は延伸後に縦方向に若干収縮させてもよい。収縮後の幅は、延伸時の幅に対して0.7~0.995倍が好ましく、さらには0.8~0.99倍が好ましく、特には0.9~0.98倍が好ましい。なお、縦方向の延伸、及び横方向の延伸は、テンター型の同時二軸延伸機で行ってもよい。 In addition, even in the case of orientation in the machine direction, it is weak (about 2.2 times or less) before stretching in the machine direction in order to increase the mechanical strength in the direction perpendicular to the orientation direction and to adjust the shrinkage characteristics. 2) transverse stretching may be added, or weak transverse stretching (about 1.5 times or less) may be added after longitudinal stretching. Similarly, even in the case of orientation in the transverse direction, a weak (about 2.2 times (less than 1.5 times) or weaker (less than about 1.5 times) stretching in the machine direction may be added after the stretching in the transverse direction. Further, in order to further increase the orientation in the orientation direction, the film may be slightly shrunk in the machine direction during or after stretching in the transverse direction. The width after shrinkage is preferably from 0.7 to 0.995 times, more preferably from 0.8 to 0.99 times, particularly preferably from 0.9 to 0.98 times the width during stretching. The stretching in the longitudinal direction and the stretching in the transverse direction may be performed by a tenter-type simultaneous biaxial stretching machine.

延伸時の温度(及び予備加熱の温度)は、縦方向、及び横方向とも80~150℃が好ましい。また、延伸後は、基材フィルムの耐熱性を確保するため、延伸時の加熱温度より高温で熱固定することが好ましい。熱固定温度としては150~250℃が好ましく、さらに好ましくは170~245℃である。 The stretching temperature (and preheating temperature) is preferably 80 to 150° C. both in the machine direction and in the transverse direction. Moreover, after stretching, in order to ensure the heat resistance of the base film, it is preferable to heat set at a temperature higher than the heating temperature during stretching. The heat setting temperature is preferably 150 to 250°C, more preferably 170 to 245°C.

基材フィルムは、波長380nmの光線透過率が20%以下であることが望ましい。波長380nmの光線透過率は15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましい。なお、波長380nmの光線透過率は、フィルムの平面に対して垂直方向に測定したものであり、分光光度計(例えば、日立U-3500型)を用いて測定することができる。 The base film preferably has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 380 nm. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is more preferably 15% or less, even more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is measured in the direction perpendicular to the plane of the film, and can be measured using a spectrophotometer (for example, Hitachi U-3500).

基材フィルムの波長380nmの光線透過率を20%以下にするためには、基材フィルムに配合する紫外線吸収剤の種類、濃度、及び基材フィルムの厚みを適宜調節することが望ましい。本発明で使用される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤が挙げられる。透明性の観点から、有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが、上述した光線透過率の範囲であれば特に限定されない。耐久性の観点からは、ベンゾトリアゾール系、及び環状イミノエステル系が特に好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。 In order to keep the light transmittance of the base film at a wavelength of 380 nm to 20% or less, it is desirable to appropriately adjust the type and concentration of the ultraviolet absorber to be blended in the base film, and the thickness of the base film. The ultraviolet absorbent used in the present invention includes organic ultraviolet absorbents and inorganic ultraviolet absorbents. From the viewpoint of transparency, organic UV absorbers are preferred. Examples of organic UV absorbers include benzotriazole-based, benzophenone-based, cyclic iminoester-based, and combinations thereof, but are not particularly limited as long as the light transmittance is within the range described above. From the viewpoint of durability, benzotriazole-based and cyclic iminoester-based are particularly preferred. When two or more ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet rays of different wavelengths can be absorbed at the same time, so that the ultraviolet absorption effect can be further improved.

基材フィルムには、紫外線吸収剤以外に、本発明の効果を妨げない範囲で、各種の添加剤を含有させることも好ましい。添加剤として、例えば、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することができる。
また、高い透明性を奏するためには、基材フィルムに粒子を実質的に含有させないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、蛍光X線分析で基材フィルム中の無機元素を定量した場合に50ppm以下、好ましくは10ppm以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。
In addition to the ultraviolet absorber, it is also preferable to incorporate various additives into the substrate film within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of additives include inorganic particles, heat-resistant polymer particles, alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, phosphorus compounds, antistatic agents, light stabilizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, and anti-gelling agents. , surfactants, and the like. These additives can be used alone or in combination of two or more.
Moreover, in order to achieve high transparency, it is also preferred that the base film does not substantially contain particles. The term "substantially contains no particles" means, for example, in the case of inorganic particles, when the inorganic elements in the base film are quantified by fluorescent X-ray analysis, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, particularly preferably less than the detection limit. means a content of

(表面凹凸付与)
本発明では、基材フィルムの少なくとも片面に凹凸面を有する。凹凸面は、基材フィルムの片面のみに設けてもよいし、両面に設けてもよい。なお、凹凸面を有する基材フィルムを、粗面化した基材フィルムと称する場合がある。
(Improvement of surface unevenness)
In the present invention, at least one surface of the substrate film has an uneven surface. The uneven surface may be provided only on one side of the base film, or may be provided on both sides. A substrate film having an uneven surface may be referred to as a roughened substrate film.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の算術平均粗さ(Ra)の下限は、好ましくは0.2μmであり、より好ましくは0.4μmであり、さらに好ましくは0.6μmであり、特に好ましくは0.7μmであり、最も好ましくは0.8μmである。当該Raの上限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは7μmであり、さらに好ましくは5μmであり、特に好ましくは4μmであり、最も好ましくは3μmである。 The lower limit of the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.2 μm, more preferably 0.4 μm, even more preferably 0.6 μm, and particularly preferably 0.7 μm. and most preferably 0.8 μm. The upper limit of Ra is preferably 10 μm, more preferably 7 μm, even more preferably 5 μm, particularly preferably 4 μm, most preferably 3 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の二乗平均平方根粗さ(Rq)の下限は、好ましくは0.3μmであり、より好ましくは0.5μmであり、さらに好ましくは0.7μmであり、特に好ましくは0.9μmであり、最も好ましくは1μmである。当該Rqの上限は、好ましくは13μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは7μmであり、特に好ましくは5μmであり、最も好ましくは4μmである。 The lower limit of the root-mean-square roughness (Rq) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.3 μm, more preferably 0.5 μm, still more preferably 0.7 μm, and particularly preferably 0.9. μm, most preferably 1 μm. The upper limit of Rq is preferably 13 μm, more preferably 10 μm, even more preferably 7 μm, particularly preferably 5 μm, most preferably 4 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の十点平均粗さ(Rz)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは2.0μmであり、さらに好ましくは3.0μmであり、特に好ましくは3.5μmであり、最も好ましくは4.0μmである。当該Rzの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the ten-point average roughness (Rz) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 2.0 μm, still more preferably 3.0 μm, and particularly preferably 3.5. μm, most preferably 4.0 μm. The upper limit of Rz is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大高さ(Ry)の下限は、好ましくは2.0μmであり、より好ましくは3.0μmであり、さらに好ましくは4.0μmであり、特に好ましくは4.5μmであり、最も好ましくは5.0μmである。当該Ryの上限は、好ましくは20μmであり、より好ましくは17μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは13μmである。 The lower limit of the maximum height (Ry) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 2.0 μm, more preferably 3.0 μm, still more preferably 4.0 μm, and particularly preferably 4.5 μm. Yes, most preferably 5.0 μm. The upper limit of Ry is preferably 20 μm, more preferably 17 μm, even more preferably 15 μm, and particularly preferably 13 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大山高さ(Rp)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rpの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum peak height (Rp) of the uneven surface of the roughened base film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, still more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. be. The upper limit of Rp is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, particularly preferably 8 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大谷深さ(Rv)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rvの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum valley depth (Rv) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, even more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. is. The upper limit of Rv is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.

Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が下限以上であると虹斑をより効果的に解消できる。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が上限以上であると生産性に優れる。Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvは、JIS B0601-1994又はJIS B0601-2001に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。 When the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the lower limits, iris spots can be eliminated more effectively. Productivity is excellent when the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the upper limits. Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are calculated from roughness curves measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994 or JIS B0601-2001.

基材フィルムの表面に凹凸を設ける(粗面化する)ことにより、微少領域でリタデーション差を設け、それぞれの領域でのリタデーションによる着色(虹斑)はあるものの、視覚的に着色を見えなくすることができる。このリタデーション差ΔReは、ΔRe=Ra×ΔBfNxyで表すことができる。ΔReの下限は、好ましくは30nmであり、より好ましくは50nmであり、さらに好ましくは70nmであり、特に好ましくは90nmであり、最も好ましくは100nmである。当該下限が30nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。ΔReの上限は、好ましくは1500nmであり、より好ましくは1000nmであり、さらに好ましくは800nmであり、特に好ましくは500nmであり、最も好ましくは300nmである。当該上限が1500nm以下であると生産性にも優れる。 By providing unevenness (roughening) on the surface of the base film, a retardation difference is provided in a minute area, and although there is coloring (rainbow spots) due to retardation in each area, the coloring is visually invisible. be able to. This retardation difference ΔRe can be represented by ΔRe=Ra×ΔBfNxy. The lower limit of ΔRe is preferably 30 nm, more preferably 50 nm, still more preferably 70 nm, particularly preferably 90 nm, most preferably 100 nm. When the lower limit is 30 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of ΔRe is preferably 1500 nm, more preferably 1000 nm, still more preferably 800 nm, particularly preferably 500 nm, most preferably 300 nm. When the upper limit is 1500 nm or less, productivity is also excellent.

粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の下限は、好ましくは5μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは20μmであり、最も好ましくは25μmである。当該下限が5μm以上であると凹凸の斜面が緩やかとなり、画像がより鮮明になる。粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の上限は、好ましくは500μmであり、より好ましくは450μmであり、さらに好ましくは400μmであり、特に好ましくは350μmであり、最も好ましくは300μmである。当該上限が500μm以下であると微少領域のそれぞれのリタデーションによる着色感、又はちらつき感を防止することができる。Smは、JIS B0601-1994に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。 The lower limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 5 µm, more preferably 10 µm, still more preferably 15 µm, particularly preferably 20 µm, and most preferably 25 µm. is. When the lower limit is 5 μm or more, the slope of the unevenness becomes gentle, and the image becomes clearer. The upper limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 500 μm, more preferably 450 μm, still more preferably 400 μm, particularly preferably 350 μm, most preferably 300 μm. is. When the upper limit is 500 μm or less, it is possible to prevent a feeling of coloring or a feeling of flickering due to the retardation of each minute region. Sm is calculated from a roughness curve measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994.

凹凸を付与し、粗面化することで基材フィルムは元の厚みから薄くなることがある。粗面化した基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは25μmであり、最も好ましくは30μmである。当該下限が10μm以上であると保護フィルムとしての強度を十分に確保することができる。粗面化した基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは150μmであり、より好ましくは120μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が150μm以下であると薄型化に適する。
粗面化した基材フィルムの厚みは、粗面化した基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、凹凸面は視野の凸部と凹部の中央を基準として、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
The base film may become thinner than the original thickness by providing unevenness and roughening the surface. The lower limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 10 μm, more preferably 15 μm, even more preferably 20 μm, particularly preferably 25 μm, and most preferably 30 μm. When the lower limit is 10 μm or more, sufficient strength as a protective film can be ensured. The upper limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 150 μm, more preferably 120 μm, even more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. When the upper limit is 150 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the roughened base film is determined by embedding the roughened base film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. , the thickness is measured at 10 points at equal intervals, and the average value is calculated.

粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)のの下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより有効に解消することができる。粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, even more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, and most preferably 4000 nm. is. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, still more preferably 15000 nm, even more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm. is more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.

凹凸付与方法は特に限定するものではなく、従来から知られている粗面化処理の方法が挙げられる。例えば、サンドブラスト処理、サンドペーパー又はやすり、砥石等による処理、サンダー(オービタルサンダー、ランダムサンダー、デルタサンダー、ベルトサンダー、ディスクサンダー、ロールサンダーなど)による処理、金属ブラシなどによる処理、ケミカルエッチング、金型でプレスすることによる賦型等が挙げられる。これらのうち、サンドブラスト処理、サンダーによる処理、ケミカルエッチングが好ましい。
サンドブラスト処理は、例えば、遠心式ブラスト機にロール状の基材フィルムを供給して、基材フィルム面に研磨材を投射する方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、処理時間、回転翼の速度等により調節することができる。また、サンドブラスト処理は、ガラス板に基材フィルムを貼り付け、エアーブラストにセットし、基材フィルム面に研磨材を吹きつける方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、吹きつけ圧力、処理時間等により調節することができる。
サンダーによる処理は、例えば、ロール状の基材フィルムを、フィルムの搬送ロールの一部のロール表面にサンディングペーパーを貼り付けたもの(ロールサンダー)を有する搬送装置に導き処理する方法であってもよい。この場合、粗さはサンディングペーパーの種類、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。また、処理方向は、ロールサンダーとフィルムとの抱き付け角度、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。
また、サンダーによる処理は、ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に基材フィルムを貼り付け、基材フィルム面をサンダーで縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理する方法であってもよい。粗さは、サンダーのサンディングディスクの種類、処理時間等により調節することができる。
なお、サンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起を除くため、さらに処理表面をサンドペーパー等で研磨してもよい。
ケミカルエッチングは、酸又はアルカリ溶液に浸漬し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離し、乾燥する方法であってもよい。粗さは、浸漬時間等により調節することができる。基本的にケミカルエッチングは両面処理になるが、片面のみ処理する場合は、例えば、基材フィルムの片面にマスキングフィルムを貼り合せて行う。
The method for providing unevenness is not particularly limited, and conventionally known methods for surface roughening treatment can be used. For example, sandblasting, sandpaper or file, treatment with a whetstone, etc., treatment with a sander (orbital sander, random sander, delta sander, belt sander, disc sander, roll sander, etc.), treatment with a metal brush, etc., chemical etching, mold Examples include shaping by pressing with. Of these, sandblasting, sanding, and chemical etching are preferred.
Sandblasting may be, for example, a method in which a roll-shaped base film is supplied to a centrifugal blast machine and an abrasive is projected onto the base film surface. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the processing time, the speed of the rotor blades, and the like. Further, the sandblasting treatment may be a method in which a substrate film is attached to a glass plate, set in air blasting, and an abrasive is blown onto the surface of the substrate film. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the spraying pressure, the treatment time, and the like.
The treatment with a sander is, for example, a method in which a roll-shaped base film is guided to a conveying device having a roll sander attached to a part of the roll surface of the film conveying roll (roll sander). good. In this case, the roughness can be adjusted by the type of sanding paper, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like. Also, the processing direction can be adjusted by the angle between the roll sander and the film, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like.
In addition, sanding is performed by attaching urethane foam to a glass plate, then attaching a base film on top of it, and sanding the surface of the base film in four directions: vertical, horizontal, and diagonal (45 degrees, 135 degrees). It may be a method of processing from. Roughness can be adjusted by the type of sanding disk of the sander, processing time, and the like.
In addition, after sanding and sandblasting, the treated surface may be further polished with sandpaper or the like in order to remove local projections.
Chemical etching may be a method of immersing in an acid or alkaline solution, washing with water, peeling off the masking film, and drying. Roughness can be adjusted by immersion time or the like. Chemical etching is basically a double-sided treatment, but in the case of single-sided treatment, for example, a masking film is adhered to one side of the substrate film.

(光学等方層)
基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられていることが好ましい。光学等方層は、前記凹凸面上に接触して設けられていることが好ましい。「接触して設けられている」とは、凹凸面に他の層を介することなく直接接触して設けられていることを意味する。但し、凹凸面と光学等方層との接着力を向上させるための易接着層は設けられていてもよい。易接着層の厚みは光学的に感知されない厚みであることが好ましく、100nm以下が好ましく、さらに好ましくは50nm以下であり、特に好ましくは20nm以下である。なお、易接着層が下記の光学等方層の屈折率の範囲を満たすのであれば、易接着層及びその上に設けられている光学等方層を合わせて、1つの光学等方層とみなすことができる。また、易接着層が光学等方層として十分な厚みを有するのであれば、易接着層を光学等方層とみなしてもよい。光学等方層を設けることで、基材フィルムの表面の凹凸による乱反射を低減させ、透明性を確保することができる。なお、易接着層の好ましい屈折率は、下記の光学等方層の好ましい屈折率の範囲と同様であり、その屈折率の調整方法も同様である。
(optical isotropic layer)
An optically isotropic layer is preferably provided on the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer is preferably provided in contact with the uneven surface. "Provided in contact with" means that it is provided in direct contact with the uneven surface without interposing another layer. However, an easy-adhesion layer may be provided to improve the adhesion between the uneven surface and the optically isotropic layer. The thickness of the easy-adhesion layer is preferably a thickness that is not optically detectable, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. If the easy-adhesion layer satisfies the refractive index range of the optical isotropic layer described below, the easy-adhesion layer and the optically isotropic layer provided thereon together are regarded as one optically isotropic layer. be able to. Moreover, if the easy-adhesion layer has a sufficient thickness as an optically isotropic layer, the easy-adhesion layer may be regarded as an optically isotropic layer. By providing the optically isotropic layer, it is possible to reduce diffused reflection due to unevenness on the surface of the base film and ensure transparency. The preferable refractive index of the easy-adhesion layer is the same as the preferable refractive index range of the optically isotropic layer described below, and the method of adjusting the refractive index is also the same.

光学等方層の屈折率の下限は、好ましくはBfny-0.15であり、より好ましくはBfny-0.12であり、さらに好ましくはBfny-0.1であり、よりさらに好ましくはBfny-0.08であり、特に好ましくはBfnyであり、最も好ましくはBfny+0.02である。
光学等方層の屈折率の上限は、好ましくはBfnx+0.15であり、より好ましくはBfnx+0.12であり、さらに好ましくはBfnx+0.1であり、よりさらに好ましくはBfnx+0.08であり、特に好ましくはBfnxであり、最も好ましくはBfnx-0.02である。
上記範囲にすることにより、コントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。
The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfny-0.15, more preferably Bfny-0.12, even more preferably Bfny-0.1, even more preferably Bfny-0.08, and particularly preferably Bfny, most preferably Bfny+0.02.
The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfnx+0.15, more preferably Bfnx+0.12, even more preferably Bfnx+0.1, even more preferably Bfnx+0.08, and particularly preferably Bfnx, most preferably Bfnx-0.02.
Within the above range, the contrast or sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed.

光学等方層の屈折率の下限は、好ましくは1.44であり、より好ましくは1.47であり、さらに好ましくは1.49であり、よりさらに好ましくは1.51であり、特に好ましくは1.53であり、より特に好ましくは1.55であり、最も好ましくは1.57であり、特に最も好ましくは1.59である。光学等方層の屈折率の上限は、好ましくは1.85であり、より好ましくは1.83であり、さらに好ましくは1.80であり、よりさらに好ましくは1.78であり、特に好ましくは1.76であり、より特に好ましくは1.74であり、最も好ましくは1.72であり、より最も好ましくは1.70であり、特に最も好ましくは1.68である。上記範囲にすることによりコントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。なお、光学等方層の屈折率も、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.44, more preferably 1.47, even more preferably 1.49, even more preferably 1.51, and particularly preferably 1.53, more particularly preferably 1.55, most preferably 1.57, most particularly preferably 1.59. The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.85, more preferably 1.83, even more preferably 1.80, still more preferably 1.78, and particularly preferably 1.76, more particularly preferably 1.74, most preferably 1.72, still most preferably 1.70, most particularly preferably 1.68. By setting the ratio within the above range, the contrast or the sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed. The refractive index of the optically isotropic layer is also a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.

光学等方層の組成としては、特に限定するものではないが、アクリル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、チオエポキシ樹脂等が好ましい。適宜組成を調整することで、屈折率を上記範囲に設定することが可能である。例えば、PMMA(ポリメチルメタクリレート)の場合、一般的に屈折率は1.49程度である。アクリル系の粘着剤では長鎖又は分岐アルキル基を導入する場合が多く、さらに屈折率が低下する。屈折率を上げるためには、芳香族基を有するアクリルモノマーを共重合するか、又はスチレンを共重合することが有効である。
ポリマー又は樹脂中にイオウ、臭素、フルオレン基などを導入することも屈折率を上げる上で好ましい方法であり、これらを含有するモノマーを共重合させたアクリル、フルオレン基含有ポリエステル、フルオレン基含有ポリカーボネート、チオエポキシ樹脂などが高屈折率樹脂として好ましい。
Although the composition of the optically isotropic layer is not particularly limited, acrylic, polystyrene, polyester, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, thioepoxy resin and the like are preferable. By appropriately adjusting the composition, it is possible to set the refractive index within the above range. For example, PMMA (polymethyl methacrylate) generally has a refractive index of about 1.49. In acrylic pressure-sensitive adhesives, a long-chain or branched alkyl group is often introduced, further lowering the refractive index. In order to increase the refractive index, it is effective to copolymerize an acrylic monomer having an aromatic group or copolymerize styrene.
Introducing a sulfur, bromine, fluorene group or the like into a polymer or resin is also a preferred method for increasing the refractive index. A thioepoxy resin or the like is preferable as the high refractive index resin.

また、ポリマー又は樹脂中に高屈折微粒子を添加することも屈折率を調整する好適な方法である。高屈折微粒子の屈折率は1.60~2.74であることが好ましい。高屈折微粒子としては、TiO2、ZrO2、CeO2、Al23、BaTiO3、Nb25、及びSnO2等の微粒子が挙げられる。高屈折微粒子は、TEM(透過電子顕微鏡)観察による平均一次粒子径が3nm~100nmであることが好ましい。これらの高屈折微粒子を1種又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
なお、明細書において、「平均一次粒径」又は「一次粒子の平均粒子径」とは、体積累積の50%粒径を指す。より詳細には、粒子の一次粒子200個を顕微鏡観察により適切な倍率で観察し、それぞれの直径を測長してその体積を算出し、その体積累積の50%粒径を平均一次粒径とする。
Adding highly refractive fine particles to a polymer or resin is also a suitable method for adjusting the refractive index. The refractive index of the high refractive fine particles is preferably 1.60 to 2.74. Fine particles of TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , BaTiO 3 , Nb 2 O 5 , SnO 2 and the like can be used as high refractive particles. The high-refractive fine particles preferably have an average primary particle size of 3 nm to 100 nm as observed by TEM (transmission electron microscope). These high refractive fine particles may be used singly or in combination of two or more.
In the specification, "average primary particle size" or "average particle size of primary particles" refers to a 50% volume cumulative particle size. More specifically, 200 primary particles of the particles are observed under a microscope at an appropriate magnification, the diameter of each is measured, the volume is calculated, and the 50% particle size of the cumulative volume is taken as the average primary particle size. do.

光学等方層は架橋硬化されていることが好ましい。硬化方法としては特に限定されず、熱硬化、紫外線、電子線などの放射線硬化が好ましい。硬化のための架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド、オキサゾリン化合物、メラミンなどのアミノ樹脂、多官能アクリレート等が挙げられる。 The optically isotropic layer is preferably crosslinked and cured. The curing method is not particularly limited, and radiation curing such as heat curing, ultraviolet rays, and electron beams is preferable. Cross-linking agents for curing include isocyanate compounds, epoxy compounds, carbodiimides, oxazoline compounds, amino resins such as melamine, polyfunctional acrylates, and the like.

光学等方層は、上記の成分からなるコート剤を基材フィルムの凹凸面に塗布する、離型フィルムに塗布して作製した光学等方層を基材フィルムの凹凸面に転写する、又は他のフィルム上に設けた光学等方層を基材フィルムの凹凸面に貼り合わせる等の方法で積層することができる。この場合、コート剤は、溶媒で溶解又は希釈して、塗工し易い粘度にすることが好ましい。また、コート剤は、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤であれば無溶剤であってもよい。 The optical isotropic layer is produced by applying a coating agent comprising the above components to the uneven surface of the base film, applying the release film to the uneven surface of the base film, and transferring the optical isotropic layer to the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer provided on the film can be laminated by a method such as bonding to the uneven surface of the substrate film. In this case, the coating agent is preferably dissolved or diluted with a solvent so as to have a viscosity that facilitates coating. Moreover, the coating agent may be solventless as long as it is a radiation curing type coating agent such as acrylic.

例えば、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤は、通常、光重合性化合物を含有する。 For example, a radiation-curing type coating agent such as acrylic usually contains a photopolymerizable compound.

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。 Photopolymerizable compounds include photopolymerizable monomers, photopolymerizable oligomers, and photopolymerizable polymers, and these can be appropriately adjusted and used. The photopolymerizable compound is preferably a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer.

光重合性モノマー
光重合性モノマーは、重量平均分子量が1000未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、THF等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。
Photopolymerizable Monomer Photopolymerizable monomers are those having a weight average molecular weight of less than 1000. As the photopolymerizable monomer, a polyfunctional monomer having two (that is, bifunctional) or more photopolymerizable functional groups is preferable. As used herein, "weight average molecular weight" is a value obtained by dissolving in a solvent such as THF and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

多官能モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、これらをPO、EO等で変性したものが挙げられる。 Examples of polyfunctional monomers include tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, di Pentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol Penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanurate tri(meth)acrylate, isocyanurate di(meth)acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di( meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra(meth)acrylate, adamantyl di(meth)acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentane di(meth)acrylate, tricyclodecane di(meth)acrylate, Those modified with PO, EO or the like can be mentioned.

これらの中でも硬度が高い機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。 Among these, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and the like are preferable from the viewpoint of obtaining a functional layer with high hardness.

光重合性オリゴマー
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が1000以上10000未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Oligomer The photopolymerizable oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. As the photopolymerizable oligomer, a bifunctional or higher polyfunctional oligomer is preferred. Polyfunctional oligomers include polyester (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, polyol (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, and isocyanurate (meth)acrylate. Acrylate, epoxy (meth)acrylate, and the like.

光重合性ポリマー
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が10000以上のものであり、重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、2官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Polymer The photopolymerizable polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more, preferably 10,000 or more and 80,000 or less, more preferably 10,000 or more and 40,000 or less. If the weight-average molecular weight exceeds 80,000, the resulting laminated film may have poor appearance due to poor coating suitability due to its high viscosity. As the photopolymerizable polymer, a polyfunctional polymer having two or more functionalities is preferable. Polyfunctional polymers include urethane (meth)acrylate, isocyanurate (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate and the like.

コート剤には、上記成分の他に重合開始剤、架橋剤の触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤などが含まれていてもよい。 The coating agent may contain a polymerization initiator, a cross-linking agent catalyst, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a surfactant, and the like, in addition to the above components.

また、基材フィルムの凹凸面上に溶融させた光学等方層組成物を押し出して積層する、基材フィルムの凹凸面と別のフィルムとの間に溶融させた光学等方層組成物を押し出してラミネートするなどの方法も好ましい。 Alternatively, the melted optically isotropic layer composition is extruded and laminated on the uneven surface of the base film, or the melted optically isotropic layer composition is extruded between the uneven surface of the base film and another film. A method such as lamination is also preferred.

光学等方層は凹凸面に設けられることで凹凸面の乱反射を低減する機能を有するが、併せて他の機能を持つものであってもよい。光学等方層は、例えば、ハードコート層、反射防止層、防眩層、帯電防止層などの機能を有していてもよい。また、光学等方層は、他のフィルム又はシート、装置の構成部材と貼り合わせるための粘着剤層、又は接着剤層であってもよい。 The optically isotropic layer has a function of reducing irregular reflection on the uneven surface by being provided on the uneven surface, but may also have other functions. The optically isotropic layer may have functions such as a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and an antistatic layer. Also, the optically isotropic layer may be another film or sheet, a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer for bonding to a constituent member of a device.

光学等方層の厚みの下限は、好ましくは0.5μmであり、より好ましくは1.0μmであり、さらに好ましくは2μmであり、特に好ましくは3μmであり、最も好ましくは4μmである。当該厚みが0.5μm以上であると、基材フィルムの凹凸を平坦化しヘイズを低減することができ、鮮明性を向上することができる。
光学等方層の厚みの上限は、好ましくは30μmであり、より好ましくは25μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは15μmであり、最も好ましくは10μmである。当該厚みが30μm以下であると薄型化に適する。
光学等方層の厚みは、後述の積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引いた値である。
The lower limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 0.5 μm, more preferably 1.0 μm, still more preferably 2 μm, particularly preferably 3 μm, most preferably 4 μm. When the thickness is 0.5 μm or more, the unevenness of the substrate film can be flattened, the haze can be reduced, and the sharpness can be improved.
The upper limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 30 μm, more preferably 25 μm, still more preferably 20 μm, particularly preferably 15 μm, most preferably 10 μm. When the thickness is 30 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the optically isotropic layer is the value obtained by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film described later.

光学等方層の面内レタデーションの上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは50nmであり、より好ましくは30nmであり、さらに好ましくは10nmであり、特に好ましくは5nmである。 The upper limit of the in-plane retardation of the optically isotropic layer is preferably 50 nm, more preferably 30 nm, even more preferably 10 nm, and particularly preferably 5 nm, from the viewpoint of suppressing the occurrence of iridescence.

光学等方層の最も屈折率の高い方向の屈折率と最も屈折率の低い方向の屈折率との屈折率差の上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは0.01であり、より好ましくは0.007であり、さらに好ましくは0.005であり、特に好ましくは0.003であり、最も好ましくは0.002である。 The upper limit of the refractive index difference between the refractive index in the direction of the highest refractive index and the refractive index in the direction of the lowest refractive index of the optically isotropic layer is preferably 0.01, and more It is preferably 0.007, more preferably 0.005, particularly preferably 0.003, most preferably 0.002.

(積層フィルム)
積層フィルムの厚みの下限は、好ましくは12μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは18μmであり、特に好ましくは20μmである。当該下限が12μm以上であると積層フィルムの強度に優れ、製造又はその後の加工の取り扱いが容易になる。
積層フィルムの厚みの上限は、好ましくは180μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは120μmであり、特に好ましくは100μmであり、最も好ましくは90μmである。当該上限が180μm以下であると、各種用途での薄型化に適する。
積層フィルムの厚みは、積層フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
(Laminated film)
The lower limit of the thickness of the laminated film is preferably 12 µm, more preferably 15 µm, even more preferably 18 µm, and particularly preferably 20 µm. When the lower limit is 12 μm or more, the strength of the laminated film is excellent, and handling in production or subsequent processing is facilitated.
The upper limit of the thickness of the laminated film is preferably 180 µm, more preferably 150 µm, still more preferably 120 µm, particularly preferably 100 µm, and most preferably 90 µm. When the upper limit is 180 µm or less, it is suitable for thinning in various applications.
The thickness of the laminated film is calculated by embedding the laminated film in an epoxy resin, cutting out a section of the cross section, observing the section with a microscope, measuring the thickness at 10 points at equal intervals, and calculating the average value.

積層フィルムのヘイズの上限は、好ましくは10%であり、より好ましくは7%であり、さらに好ましくは5%であり、特に好ましくは4%であり、最も好ましくは3%であり、より最も好ましくは2.5%であり、特に最も好ましくは2%である。当該上限が10%以下であると、コントラストの低下、及び、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなることをより有効に抑制することができる。 The upper limit of the haze of the laminated film is preferably 10%, more preferably 7%, still more preferably 5%, particularly preferably 4%, most preferably 3%, and most preferably is 2.5%, most preferably 2%. When the upper limit is 10% or less, it is possible to more effectively suppress a decrease in contrast and a screen from becoming whitish when exposed to strong external light.

積層フィルムは基材フィルムの片面のみが凹凸面であってもよいが、基材フィルムのΔReが比較的低くかったり、凹凸の粗さが比較的小さかったりして虹斑が十分に解消されない場合は、両面に凹凸面と光学等方層を設けることが好ましい。 In the case of the laminate film, only one side of the base film may be uneven, but if the ΔRe of the base film is relatively low or the roughness of the unevenness is relatively small, iridescence cannot be sufficiently eliminated. is preferably provided with an uneven surface and an optically isotropic layer on both sides.

本発明の積層フィルムは、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムを2枚以上有していてもよく、光学等方層を2層以上有していてもよく、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムと光学等方層以外のフィルム又は層を有していてもよい。
積層例としては、下記のタイプ1~4などが挙げられる。
(タイプ1)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
(タイプ2)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ3)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ4)他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
屈折率異方性の基材フィルムのΔBfNxyが比較的小さかったり、凹凸の粗さが比較的小さい場合は、タイプ2~タイプ4の構成を採ることが好ましい。なお、以下の本発明の積層フィルムの用途等の説明で、積層フィルムという場合には上記タイプ1~4の構成も含むものとする。タイプ2~タイプ4の場合、2枚の基材フィルムの遅相軸は、互いに平行又は垂直であることが好ましく、製造の容易さからは平行であることが好ましい。ここで、「平行又は垂直」とは0度又は90度から好ましくは±10度、さらには±7度、特には±5度まで許容される。
The laminated film of the present invention may have two or more substrate films having an uneven surface (roughened surface), may have two or more optically isotropic layers, and may have an uneven surface (roughened surface). It may have a film or layer other than the substrate film having a flattened surface and the optically isotropic layer.
Examples of lamination include types 1 to 4 below.
(Type 1) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other film (Type 2) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven surface) Base film (type 3) Base film (uneven surface) / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / Other film / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven Surface) Base film (Type 4) Other film/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/(Uneven surface) Base film (uneven surface)/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other Film When the ΔBfNxy of the base film with refractive index anisotropy is relatively small or the roughness of the unevenness is relatively small, it is preferable to adopt the configuration of type 2 to type 4. In the following description of the application of the laminated film of the present invention, etc., the term "laminated film" includes the configurations of types 1 to 4 described above. In the case of types 2 to 4, the slow axes of the two base films are preferably parallel or perpendicular to each other, and preferably parallel from the viewpoint of ease of production. Here, "parallel or perpendicular" is allowed from 0 degree or 90 degrees, preferably ±10 degrees, further ±7 degrees, particularly ±5 degrees.

なお、明細書中で粘着剤、又は粘着層という場合は、対象物に粘着剤用のコート剤を塗工して架橋又は乾燥させたもの、又は基材レスの光学用粘着剤シートを転写したものを意味する。 In addition, when referring to an adhesive or an adhesive layer in the specification, a coating agent for an adhesive is applied to an object and crosslinked or dried, or a substrate-less optical adhesive sheet is transferred. means something

積層フィルムは各用途に合わせて、表面に各種の機能層を設けてもよい。各種の機能層とは、ハードコート層、防眩層、反射防止層、低反射層、導電層、帯電防止層、着色層、紫外線吸収層、防汚層、粘着層等が挙げられる。 Various functional layers may be provided on the surface of the laminated film in accordance with each application. Various functional layers include a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, a low reflection layer, a conductive layer, an antistatic layer, a colored layer, an ultraviolet absorption layer, an antifouling layer, an adhesive layer, and the like.

(偏光子)
偏光板に用いる偏光子の種類は特に制限されない。例えば、一軸延伸したポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子、液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させた偏光子、液晶性の二色性色素からなる液晶性の偏光子、ワイヤーグリッド方式の偏光子などを挙げることができる。
(Polarizer)
The type of polarizer used for the polarizing plate is not particularly limited. For example, a polarizer in which iodine or an organic dichroic dye is adsorbed to uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA), a polarizer in which a liquid crystal compound and an organic dichroic dye are oriented, and a liquid crystalline dichroic A liquid crystalline polarizer made of a dye, a wire grid type polarizer, and the like can be mentioned.

一軸延伸したポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させたフィルム状の偏光子の場合は、偏光子の少なくとも片側に積層フィルムを積層させ、偏光板とすることができる。積層は、PVA系の接着剤、紫外線硬化型の接着剤、粘着剤を用いて行うことができる。また、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面と偏光子とを光学等方層に該当する特性を有する接着剤または粘着剤で貼り合わせても良い。この場合、屈折率異方性のフィルムと接着剤または粘着剤が本発明における凹凸面を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方層を有する積層フィルムとなる。このタイプの偏光子の厚みは、例えば、5~50μm、好ましくは10~30μm、より好ましくは12~25μmである。接着剤や粘着剤の厚さは、例えば、1~10μm、好ましくは2~5μmである。 In the case of a film-shaped polarizer in which iodine or an organic dichroic dye is adsorbed on uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA), a polarizing plate can be obtained by laminating a laminated film on at least one side of the polarizer. . Lamination can be performed using a PVA-based adhesive, an ultraviolet curing adhesive, or a pressure-sensitive adhesive. Alternatively, the concave-convex surface of the refractive index anisotropic film provided with concaves and convexes and the polarizer may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive having properties corresponding to the optically isotropic layer. In this case, the refractive index anisotropic film and the adhesive or pressure-sensitive adhesive become the laminated film having the refractive index anisotropic base film having the uneven surface and the optically isotropic layer in the present invention. The thickness of this type of polarizer is, for example, 5-50 μm, preferably 10-30 μm, more preferably 12-25 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is, for example, 1-10 μm, preferably 2-5 μm.

一実施形態において、未延伸または一軸延伸した基材にPVAを塗工し、基材と共に一軸延伸してヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子(基材積層延伸偏光子)が好ましい。この場合、基材に積層された偏光子と積層フィルムとを接着剤または粘着剤で貼り合わせ、その後偏光子を作成する時に用いた基材フィルムを剥離することで、偏光板とすることができる。また、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面と偏光子とを光学等方層に該当する特性を有する接着剤または粘着剤で貼り合わせても良い。偏光子の厚みは、例えば、1~10μm、好ましくは2~8μm、より好ましくは3~6μmである。接着剤や粘着剤の厚さは、例えば、1~10μm、好ましくは2~5μmである。 In one embodiment, a polarizer (substrate-laminated stretched polarizer) in which PVA is applied to an unstretched or uniaxially stretched substrate and uniaxially stretched together with the substrate to adsorb iodine or an organic dichroic dye. is preferred. In this case, a polarizing plate can be obtained by bonding a polarizer laminated on a base material and a laminated film together with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, and then peeling off the base film used to prepare the polarizer. . Alternatively, the concave-convex surface of the refractive index anisotropic film provided with concaves and convexes and the polarizer may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive having properties corresponding to the optically isotropic layer. The thickness of the polarizer is, for example, 1-10 μm, preferably 2-8 μm, more preferably 3-6 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is, for example, 1-10 μm, preferably 2-5 μm.

この様に非常に薄い偏光子であっても離型性支持基材があるために取り扱いが容易であり、薄型の偏光子をポリエステル基材フィルムに容易に積層させることができる。このような薄型の偏光子を用いることでさらに薄型化に対応することができる。このような偏光子は、例えば、特開2001-350021号公報、特開2009-93074号公報など多く紹介されている。 Thus, even a very thin polarizer can be easily handled because of the presence of the releasable supporting substrate, and the thin polarizer can be easily laminated on the polyester substrate film. By using such a thin polarizer, it is possible to further reduce the thickness. Many such polarizers have been introduced, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-350021 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-93074.

上記の偏光子は、例えば、次のような手順で得ることができる。未延伸又は長手方向に対して垂直方向に一軸延伸された熱可塑性樹脂の離型性支持基材にPVAを塗布し、その後PVAを塗布した熱可塑性樹脂の離型性支持基材とPVAの積層体を長手方向に2~20倍、好ましくは3~15倍に延伸する。延伸温度は好ましくは80~180℃、さらに好ましくは100~160℃である。引き続き延伸された積層体を二色性色素を含有する浴に浸漬し二色性色素を吸着させる。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。ヨウ素を用いる場合は、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液が好ましい。次いで、ホウ酸の水溶液に浸漬して処理を行い、水洗後、乾燥させる。なお、二色性色素の吸着前に予備延伸として1.5~3倍の延伸を行っても良い。この手順は一例であり、延伸前に二色性色素の吸着を行ってもよく、二色性色素の吸着前にホウ酸での処理を行ってもよい。二色性色素を含有する浴内やホウ酸水溶液の浴中で延伸しても良い。また、これらの工程を多段階に分けて組み合わせて行っても良い。 The above polarizer can be obtained, for example, by the following procedure. PVA is applied to a releasable supporting base material of thermoplastic resin which is unstretched or uniaxially stretched in the direction perpendicular to the longitudinal direction, and then PVA is applied to the releasable supporting base material of thermoplastic resin and PVA is laminated. The body is longitudinally stretched 2 to 20 times, preferably 3 to 15 times. The stretching temperature is preferably 80 to 180°C, more preferably 100 to 160°C. Subsequently, the stretched laminate is immersed in a bath containing a dichroic dye to adsorb the dichroic dye. Dichroic dyes include, for example, iodine and organic dyes. When iodine is used, an aqueous solution of iodine and potassium iodide is preferred. Then, the substrate is immersed in an aqueous solution of boric acid for treatment, washed with water, and dried. It should be noted that the film may be stretched 1.5 to 3 times as preliminary stretching before adsorption of the dichroic dye. This procedure is an example, and the dichroic dye may be adsorbed before stretching, or the treatment with boric acid may be performed before the dichroic dye is adsorbed. The film may be stretched in a bath containing a dichroic dye or in an aqueous boric acid bath. Also, these steps may be divided into multiple stages and combined.

熱可塑性樹脂の離型性支持基材としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタンなどが用いられる。熱可塑性樹脂の離型性支持基材には、コロナ処理を行ったり、離型コートや易接着コートなどを設け、剥離力を調整することができる。 As the releasable supporting base material of thermoplastic resin, polyester such as polyethylene terephthalate, polyolefin such as polypropylene and polyethylene, polyamide, polyurethane, and the like are used. The releasing force can be adjusted by applying a corona treatment to the releasing support base material of thermoplastic resin, providing a releasing coat or an easy-adhesion coating, or the like.

液晶性の偏光子は、積層フィルムに液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させたものや液晶性の二色性色素を含有するコート液を塗工後、乾燥させ、光または熱硬化させて偏光子を積層し、偏光板とすることができる。液晶性の偏光子を配向させる方法としては、積層フィルムの表面をラビング処理する方法、偏光の紫外線を照射して液晶性の偏光子を配向させながら硬化させる方法などが挙げられる。なお、積層フィルムの基材面には、ある程度の配向制御力があるため、塗布のみでも配向が可能な場合がある。また、液晶性の偏光子を設ける前に、積層フィルムに配向層を設けることも好ましい方法である。配向層を設ける方法としては、下記を挙げることができる。
・ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などを塗工しその表面をラビング処理して配向層(ラビング配向層)とする方法。
・シンナモイル基及びカルコン基等の光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光紫外線を照射することによって配向硬化させ配向層(光配向層)とする方法。
なお、凹凸を設けた屈折率異方性のフィルムの凹凸面に光学等方層に該当する特性を有するラビング配向層を設けて凹凸面を有する屈折率異方性の基材フィルムと光学等方性を有するラビング配向層とで積層フィルムを構成してもよい。
Liquid crystalline polarizers are made by coating a laminated film with a liquid crystal compound and an organic dichroic dye or a coating liquid containing a liquid crystalline dichroic dye, followed by drying and curing with light or heat. A polarizing plate can be obtained by laminating the polarizer. Examples of the method of orienting the liquid crystalline polarizer include a method of rubbing the surface of the laminated film, and a method of curing while aligning the liquid crystalline polarizer by irradiating polarized ultraviolet rays. In addition, since the substrate surface of the laminated film has a certain degree of orientation control power, it may be possible to orientate the film only by coating. It is also a preferable method to provide an orientation layer on the laminated film before providing the liquid crystalline polarizer. Methods for providing the orientation layer include the following.
A method of applying polyvinyl alcohol and its derivatives, polyimide and its derivatives, acrylic resin, polysiloxane derivative, etc. and rubbing the surface thereof to form an alignment layer (rubbing alignment layer).
・A coating liquid containing a polymer or monomer having a photoreactive group such as a cinnamoyl group and a chalcone group and a solvent is applied to the substrate film, and the alignment layer (photo-alignment layer) is formed by aligning and curing by irradiating polarized ultraviolet rays. and how.
In addition, a refractive index anisotropic substrate film having an uneven surface provided with a rubbed alignment layer having characteristics corresponding to an optical isotropic layer on the uneven surface of the refractive index anisotropic film and an optically isotropic film. A laminated film may be constructed with a rubbing orientation layer having properties.

次に、液晶性化合物に二色性色素を配合した塗工偏光子に関して詳しく説明する。発明において、基材となる積層フィルム上に直接偏光膜を設けても良いが、積層フィルム上に配向層を設け、その上に偏光膜を設けても良い。なお、本発明において、配向膜と偏光膜を総称して偏光子と呼ぶことがあり、積層フィルム上に配向膜を設けずに偏光膜を設けた場合、偏光膜を偏光子と称することがある。 Next, a coated polarizer obtained by blending a dichroic dye with a liquid crystalline compound will be described in detail. In the invention, the polarizing film may be directly provided on the laminated film as a substrate, or an orientation layer may be provided on the laminated film and the polarizing film may be provided thereon. In the present invention, the alignment film and the polarizing film may be collectively referred to as a polarizer, and when the polarizing film is provided without providing the alignment film on the laminated film, the polarizing film may be referred to as a polarizer. .

(配向層)
配向層は偏光膜の配向方向を制御することで、より偏光度の高い偏光膜を与えることができる。配向層としては、偏光膜の液晶化合物を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向層でもよい。配向層に配向状態を与える方法としては、例えば、表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成などが挙げられる。さらに、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向層とする方法も好ましい。以下に好ましいラビング処理配向層と光配向層の2例を説明する。
(Orientation layer)
The alignment layer can provide a polarizing film with a higher degree of polarization by controlling the alignment direction of the polarizing film. As the alignment layer, any alignment layer may be used as long as it can bring the liquid crystal compound of the polarizing film into a desired alignment state. Methods for imparting an orientation state to the orientation layer include, for example, rubbing the surface, oblique vapor deposition of an inorganic compound, formation of a layer having microgrooves, and the like. Further, a method of forming a photo-alignment layer in which molecules are aligned by irradiating polarized light to produce an alignment function is also preferable. Two examples of preferable rubbing treatment alignment layer and photo alignment layer are described below.

(ラビング処理配向層)
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。
(Rubbing treatment orientation layer)
Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyimide and its derivatives, acrylic resins, polysiloxane derivatives and the like are preferably used as polymer materials for the alignment layer formed by rubbing.

まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向層塗布液を基板フィルム上に塗布した後、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向層を得る。配向層塗布液は架橋剤を有していても良い。 First, a rubbing treatment orientation layer coating liquid containing the above polymer material is applied onto a substrate film, and then heat drying or the like is performed to obtain an orientation layer before rubbing treatment. The alignment layer coating solution may contain a cross-linking agent.

ラビング処理配向層塗布液の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、セロソルブ、などのアルコール;酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマーブチロラクトン、などのエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、などのケトン系溶剤;トルエン又はキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、;テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。 As the solvent for the rubbing treatment alignment layer coating solution, any solvent that dissolves the polymer material can be used without limitation. Specific examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, cellosolve, and other alcohols; ethyl acetate, butyl acetate, gamma-butyrolactone, and other ester solvents; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone. , aromatic hydrocarbon solvents such as toluene or xylene, and ether solvents such as tetrahydrofuran or dimethoxyethane. These solvents may be used alone or in combination.

ラビング処理配向層塗布液の濃度は、ポリマーの種類や製造しようとする配向層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、0.2~20質量%とすることが好ましく、0.3~10質量%の範囲が特に好ましい。 The concentration of the rubbing treatment alignment layer coating solution can be appropriately adjusted depending on the type of polymer and the thickness of the alignment layer to be produced. A range of 3 to 10% by weight is particularly preferred.

塗布方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。 Examples of the coating method include coating methods such as the gravure coating method, die coating method, bar coating method and applicator method, and known methods such as printing methods such as the flexographic method.

加熱乾燥の温度は、基材フィルムにもよるが、PETの場合30℃~170℃の範囲が好ましく、より好ましくは、50~150℃、さらに好ましくは、70~130℃である。乾燥温度が低い場合は乾燥時間を長く取る必要が生じ生産性に劣る場合がある。乾燥温度が高すぎる場合、基材フィルムの配向状態に影響を及ぼし、レタデーションが低下したり、基材フィルムの熱収縮が大きくななったりし、設計通りの光学機能が達成できない、平面性が悪くなるといった場合がある。加熱乾燥時間は例えば0.5~30分であればよく、1~20分がより好ましく、さらには2~10分がより好ましい。 The temperature for drying by heating depends on the substrate film, but in the case of PET, it is preferably in the range of 30°C to 170°C, more preferably 50°C to 150°C, and still more preferably 70°C to 130°C. If the drying temperature is low, it may be necessary to take a long drying time, resulting in poor productivity. If the drying temperature is too high, it will affect the orientation of the base film, retardation will decrease, and the heat shrinkage of the base film will increase. There are cases where it becomes The heat drying time may be, for example, 0.5 to 30 minutes, more preferably 1 to 20 minutes, and even more preferably 2 to 10 minutes.

ラビング処理配向層の厚さは、0.01~10μmであることが好ましく、さらには0.05~5μm、特には0.1μm~1μmであることが好ましい。 The thickness of the rubbed alignment layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 5 μm, especially 0.1 to 1 μm.

ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向膜表面をラビング処理する。 The rubbing treatment can generally be carried out by rubbing the surface of the polymer layer with paper or cloth in one direction. In general, the surface of the alignment film is subjected to rubbing treatment using a rubbing roller made of a raised cloth made of fibers such as nylon, polyester, and acrylic.

ラビングする方向の角度の調整は、ラビングローラーと基材フィルムとの角度調整、基材フィルムの搬送速度とローラーの回転数の調整で行うことが出来る。 The angle of the rubbing direction can be adjusted by adjusting the angle between the rubbing roller and the base film, and by adjusting the conveying speed of the base film and the rotational speed of the roller.

なお、基材フィルムに直接ラビング処理を行い基材フィルム表面に配向層機能を持たせることも可能で、この場合も本発明の技術範囲に含まれる。 It should be noted that it is also possible to impart an alignment layer function to the surface of the base film by directly rubbing the base film, and this case is also included in the technical scope of the present invention.

(光配向層)
光配向層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を基材フィルムに塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、偏光膜のスメクチック液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、C=C結合、C=N結合、N=N結合、C=O結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
(Photo-alignment layer)
The photo-alignment layer is an alignment film obtained by coating a substrate film with a coating solution containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent, and imparting an alignment control force by irradiating polarized light, preferably polarized ultraviolet light. That's what I mean. A photoreactive group refers to a group capable of aligning a liquid crystal by irradiation with light. Specifically, it causes a photoreaction that is the origin of the liquid crystal alignment ability, such as orientation induction of molecules or isomerization reaction, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction caused by light irradiation. be. Among the photoreactive groups, those that cause a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferable from the viewpoint of excellent orientation and maintaining the smectic liquid crystal state of the polarizing film. The photoreactive group capable of causing the above reaction is preferably an unsaturated bond, particularly a double bond, and the group consisting of C=C bond, C=N bond, N=N bond and C=O bond. A group having at least one selected from the above is particularly preferred.

C=C結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ-ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。C=N結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ-ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。 Photoreactive groups having a C═C bond include, for example, vinyl groups, polyene groups, stilbene groups, stilbazole groups, stilbazolium groups, chalcone groups and cinnamoyl groups. Photoreactive groups having a C═N bond include groups having structures such as aromatic Schiff bases and aromatic hydrazones. Examples of photoreactive groups having an N=N bond include azobenzene groups, azonaphthalene groups, aromatic heterocyclic azo groups, bisazo groups, formazan groups, and groups having azoxybenzene as a basic structure. Photoreactive groups having a C=O bond include benzophenone, coumarin, anthraquinone and maleimide groups. These groups may have substituents such as alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, allyloxy groups, cyano groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxyl groups, sulfonic acid groups and halogenated alkyl groups.

上記の中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、(メタ)アクリル、ポリエステル等が挙げられる。 Among the above, a photoreactive group that can cause a photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group and a chalcone group have a relatively small amount of polarized light irradiation required for photoalignment, and photoalignment with excellent thermal stability and temporal stability. It is preferable because a layer is easily obtained. As the polymer having a photoreactive group, a polymer having a cinnamoyl group having a cinnamic acid structure at the end of the polymer side chain is particularly preferred. Examples of the structure of the main chain include polyimide, polyamide, (meth)acryl, polyester and the like.

具体的な配向層は、例えば、特開2006-285197号公報、特開2007-76839号公報、特開2007-138138号公報、特開2007-94071号公報、特開2007-121721号公報、特開2007-140465号公報、特開2007-156439号公報、特開2007-133184号公報、特開2009-109831号公報、特開2002-229039号公報、特開2002-265541号公報、特開2002-317013号公報、特表2003-520878号公報、特表2004-529220号公報、特開2013-33248号公報、特開2015-7702号公報、特開2015-129210号公報に記載の配向層が挙げられる。 Specific alignment layers are, for example, JP-A-2006-285197, JP-A-2007-76839, JP-A-2007-138138, JP-A-2007-94071, JP-A-2007-121721, and JP-A-2007-121721. JP 2007-140465, JP 2007-156439, JP 2007-133184, JP 2009-109831, JP 2002-229039, JP 2002-265541, JP 2002 -317013, JP 2003-520878, JP 2004-529220, JP 2013-33248, JP 2015-7702, the orientation layer described in JP 2015-129210 mentioned.

光配向層形成用塗工液の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としてはラビング処理配向層で挙げたものが例示できる。光配向層形成用塗工液には、光重合開始剤、重合禁止剤、各種安定剤を添加することも好ましい。また、光反応性基を有するポリマー及びモノマー以外のポリマーや光反応性基を有するモノマーと共重合可能な光反応性基を有しないモノマーを加えていても良い。 As the solvent for the coating solution for forming the photo-alignment layer, any solvent can be used without limitation as long as it dissolves the polymer and monomer having a photoreactive group. As specific examples, those mentioned in the rubbing treatment orientation layer can be exemplified. It is also preferable to add a photopolymerization initiator, a polymerization inhibitor, and various stabilizers to the coating solution for forming the photo-alignment layer. Further, a monomer having no photoreactive group that can be copolymerized with a polymer or a monomer having a photoreactive group other than the polymer and the monomer having a photoreactive group may be added.

光配向層形成用塗工液の濃度、塗布方法、乾燥条件もラビング処理配向層で挙げたものが例示できる。厚みもラビング処理配向層の好ましい厚みと同様である。 The concentration, coating method, and drying conditions of the coating liquid for forming the photo-alignment layer can also be exemplified by those mentioned for the rubbing treatment alignment layer. The thickness is also the same as the preferred thickness of the rubbing treatment alignment layer.

この様にして得られた配向前の光配向層に偏光を照射することにより、光配向層が得られる。 A photo-alignment layer is obtained by irradiating the photo-alignment layer thus obtained before alignment with polarized light.

偏光は、配向前の光配向層に配向層面から照射してもよい。なお、光配向膜の配向方向を積層フィルムの基材フィルムの配向方向と平行又は垂直とする場合は積層フィルムを透過させて照射してもよい。 Polarized light may be applied to the photo-alignment layer before alignment from the alignment layer surface. When the alignment direction of the photo-alignment film is parallel or perpendicular to the alignment direction of the base film of the laminated film, the light may be irradiated through the laminated film.

偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収できる波長領域のものが好ましい。具体的には、波長250~400nmの範囲の紫外線が好ましい。 The wavelength of the polarized light is preferably in a wavelength range in which the photoreactive group of the polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, ultraviolet light with a wavelength in the range of 250 to 400 nm is preferred.

偏光の光源は、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrF、ArFなどの紫外光レ-ザ-などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが好ましい。 The polarized light source includes a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an ultraviolet light laser such as KrF and ArF, and the like, and a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp and a metal halide lamp are preferred.

偏光は、例えば前記光源からの光を、偏光子を通過させることにより得られる。前記偏光子の偏光角を調整することにより、偏光の方向を調整することができる。前記偏光子は、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ-ラ-等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子が挙げられる。偏光は、実質的に平行光であると好ましい。 Polarized light is obtained, for example, by passing light from the light source through a polarizer. The direction of polarization can be adjusted by adjusting the polarization angle of the polarizer. Examples of the polarizer include polarizing filters, polarizing prisms such as Glan-Thompson and Glan-Taylor, and wire grid type polarizers. Preferably, the polarized light is substantially parallel light.

照射する偏光の角度を調整することにより、光配向層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。 By adjusting the angle of the irradiated polarized light, the direction of the alignment regulating force of the photo-alignment layer can be arbitrarily adjusted.

照射強度は重合開始剤や樹脂(モノマー)の種類や量で異なるが、例えば365nm基準で10~10000mJ/cmが好ましく、さらには20~5000mJ/cmが好ましい。 The irradiation intensity varies depending on the type and amount of polymerization initiator and resin (monomer), but is preferably 10 to 10,000 mJ/cm 2 , more preferably 20 to 5,000 mJ/cm 2 at 365 nm.

(偏光膜)
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる偏光子としての機能を有し、二色性色素を含む。
(polarizing film)
The polarizing film functions as a polarizer that transmits polarized light in only one direction, and contains a dichroic dye.

(二色性色素)
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。
(Dichroic dye)
A dichroic dye is a dye that has different absorbances in the long-axis direction and the short-axis direction of the molecule.

二色性色素は、300~700nmの範囲に吸収極大波長(λMAX)を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせても良いが、色調を調整(無彩色)にするため、2種以上を組み合わせることが好ましい。特には3種類以上を組み合わせるのが好ましい。特に、3種類以上のアゾ化合物を組み合わせるのが好ましい。 The dichroic dye preferably has an absorption maximum wavelength (λMAX) in the range of 300-700 nm. Such dichroic dyes include, for example, acridine dyes, oxazine dyes, cyanine dyes, naphthalene dyes, azo dyes and anthraquinone dyes, with azo dyes being preferred. The azo dyes include monoazo dyes, bisazo dyes, trisazo dyes, tetrakisazo dyes and stilbenazo dyes, preferably bisazo dyes and trisazo dyes. The dichroic dyes may be used alone or in combination, but it is preferable to combine two or more of them in order to adjust the color tone (achromatic color). In particular, it is preferable to combine three or more kinds. In particular, it is preferable to combine three or more kinds of azo compounds.

好ましいアゾ化合物としては、特開2007-126628号公報、特開2010-168570号、特開2013-101328号、特開2013-210624号に記載の色素が挙げられる。 Preferred azo compounds include dyes described in JP-A-2007-126628, JP-A-2010-168570, JP-A-2013-101328 and JP-A-2013-210624.

二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい形態である。これら二色性色素ポリマーとしては特開2016-4055号で挙げられるポリマー、特開2014-206682号の[化6]~[化12]の化合物が重合されたポリマーが例示できる。 It is also a preferred form that the dichroic dye is a dichroic dye polymer introduced into the side chain of a polymer such as acryl. Examples of these dichroic dye polymers include polymers mentioned in JP-A-2016-4055 and polymers obtained by polymerizing the compounds of [Chemical 6] to [Chemical 12] of JP-A-2014-206682.

偏光膜中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、偏光膜中、0.1~30質量%が好ましく、0.5~20質量%がより好ましく、1.0~15質量%がさらに好ましく、2.0~10質量%が特に好ましい。 The content of the dichroic dye in the polarizing film is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, in the polarizing film from the viewpoint of improving the orientation of the dichroic dye. , more preferably 1.0 to 15% by mass, particularly preferably 2.0 to 10% by mass.

偏光膜には、膜強度や偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、ここで重合性液晶化合物は膜として重合後の物も含まれる。 The polarizing film preferably further contains a polymerizable liquid crystal compound in order to improve film strength, degree of polarization, and film homogeneity. Here, the polymerizable liquid crystal compound includes a polymerized liquid crystal compound as a film.

(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。光重合性基は、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
(Polymerizable liquid crystal compound)
A polymerizable liquid crystal compound is a compound having a polymerizable group and exhibiting liquid crystallinity. A polymerizable group means a group that participates in a polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. A photopolymerizable group is a group capable of undergoing a polymerization reaction with an active radical generated from a photopolymerization initiator described below, an acid, or the like. Examples of the polymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group. Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group are preferred, and an acryloyloxy group is more preferred. The compound exhibiting liquid crystallinity may be thermotropic liquid crystal or lyotropic liquid crystal, and may be nematic liquid crystal or smectic liquid crystal in thermotropic liquid crystal.

重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。 The polymerizable liquid crystal compound is preferably a smectic liquid crystal compound, and more preferably a high-order smectic liquid crystal compound, in that higher polarizing properties can be obtained. When the liquid crystal phase formed by the polymerizable liquid crystal compound is a high-order smectic phase, a polarizing film with a higher degree of orientational order can be produced.

具体的な好ましい重合性液晶化合物は、例えば、特開2002-308832号公報、特開2007-16207号公報、特開2015-163596号公報、特表2007-510946号公報、特開2013-114131号公報、WO2005/045485号公報、Lub et al. Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115, 321-328(1996)などに記載のものが挙げられる。 Specific preferred polymerizable liquid crystal compounds, for example, JP-A-2002-308832, JP-A-2007-16207, JP-A-2015-163596, JP-A-2007-510946, JP-A-2013-114131 Publication, WO2005/045485, Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996) and the like.

偏光膜中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、偏光膜中70~99.5質量%が好ましく、より好ましくは75~99質量%、さらに好ましくは80~97質量%であり、特に好ましくは83~95質量%である。 The content of the polymerizable liquid crystal compound in the polarizing film is preferably 70 to 99.5% by mass, more preferably 75 to 99% by mass, and further preferably 70 to 99.5% by mass in the polarizing film from the viewpoint of increasing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. It is preferably 80 to 97% by mass, particularly preferably 83 to 95% by mass.

偏光膜は偏光膜組成物塗料を塗工して設けることができる。偏光膜組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。 The polarizing film can be provided by applying a polarizing film composition paint. The polarizing film composition paint may contain a solvent, a polymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a polymerizable non-liquid crystal compound, a cross-linking agent, and the like.

溶剤としては、配向層塗布液の溶剤として挙げたものが好ましく用いられる。 As the solvent, those mentioned as the solvent for the alignment layer coating solution are preferably used.

重合開始剤は、重合性液晶化合物を重合させるものであれば限定はされないが、光により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。 The polymerization initiator is not limited as long as it polymerizes the polymerizable liquid crystal compound, but is preferably a photopolymerization initiator that generates active radicals upon exposure to light. Examples of polymerization initiators include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.

増感剤は光増感剤が好ましい、例えば、キサントン化合物、アントラセン化合物、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。 The sensitizer is preferably a photosensitizer such as a xanthone compound, anthracene compound, phenothiazine, rubrene and the like.

重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、チオフェノール類が挙げられる。 Polymerization inhibitors include hydroquinones, catechols, and thiophenols.

重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が(メタ)アクリロイルオキシ基を有する場合は(メタ)クレート類が挙げられる。(メタ)クリレート類は単官能であっても多官能であっても良い。多官能の(メタ)アクリレート類を用いることで、偏光膜の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合は偏光膜中に1~15質量%とすることが好ましく、さらには2~10質量%、特には3~7質量%にすることが好ましい。15質量%を越えると偏光度が低下することがある。 As the polymerizable non-liquid crystal compound, one that is copolymerized with the polymerizable liquid crystal compound is preferable. (Meth)acrylates may be monofunctional or polyfunctional. By using polyfunctional (meth)acrylates, the strength of the polarizing film can be improved. When a polymerizable non-liquid crystal compound is used, it is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 2 to 10% by mass, particularly preferably 3 to 7% by mass, in the polarizing film. If it exceeds 15% by mass, the degree of polarization may decrease.

架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。 Examples of the cross-linking agent include compounds capable of reacting with functional groups of polymerizable liquid crystal compounds and polymerizable non-liquid crystal compounds, such as isocyanate compounds, melamine, epoxy resins, and oxazoline compounds.

偏光膜組成物塗料を基材フィルム上または配向層上に直接塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。 A polarizing film is provided by directly applying a polarizing film composition coating onto a substrate film or an alignment layer, and then drying, heating, and curing as necessary.

塗工方法としては、塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。 As a coating method, a coating method such as a gravure coating method, a die coating method, a bar coating method and an applicator method, or a known method such as a printing method such as a flexographic method is employed.

乾燥は、塗工後の基材フィルムを温風乾燥機、赤外線乾燥機などに導き、30~170℃、より好ましくは50~150℃、さらに好ましくは70~130℃で乾燥される。乾燥時間は0.5~30分が好ましく、1~20分がより好ましく、さらには2~10分がより好ましい。 For drying, the base film after coating is led to a warm air dryer, an infrared dryer, or the like, and dried at 30 to 170°C, more preferably 50 to 150°C, more preferably 70 to 130°C. The drying time is preferably 0.5 to 30 minutes, more preferably 1 to 20 minutes, even more preferably 2 to 10 minutes.

加熱は、偏光膜中の二色性色素および重合性液晶化合物をより強固に配向させるために行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。 Heating can be performed to more strongly orient the dichroic dye and the polymerizable liquid crystal compound in the polarizing film. The heating temperature is preferably within a temperature range in which the polymerizable liquid crystal compound forms a liquid crystal phase.

偏光膜組成物塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合は、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。
光照射における光は、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。
When the polarizing film composition coating contains a polymerizable liquid crystal compound, it is preferably cured. Curing methods include heating and light irradiation, and light irradiation is preferred. Curing can fix the dichroic dye in an oriented state. Curing is preferably performed in a state in which a liquid crystal phase is formed in the polymerizable liquid crystal compound, and curing may be performed by light irradiation at a temperature exhibiting a liquid crystal phase.
Light for light irradiation includes visible light, ultraviolet light, and laser light. Ultraviolet light is preferred because it is easy to handle.

照射強度は重合開始剤や樹脂(モノマー)の種類や量で異なるが、例えば365nm基準で100~10000mJ/cm2が好ましく、さらには200~5000mJ/cm2が好ましい。 The irradiation intensity varies depending on the type and amount of the polymerization initiator and resin (monomer), but is preferably 100 to 10000 mJ/cm2, more preferably 200 to 5000 mJ/cm2, based on 365 nm.

偏光膜は、偏光膜組成物塗料を配向層上に塗布することで、色素が配向層の配向方向に添って配向し、その結果、所定方向の偏光透過軸を有することになるが、配向層を設けず直接基材に塗工した場合は、偏光光を照射して偏光膜形成用組成物を硬化させることで、偏光膜を配向させることもできる。 By applying the polarizing film composition paint on the alignment layer, the polarizing film orients the dye along the alignment direction of the alignment layer, and as a result, has a polarization transmission axis in a predetermined direction. When the composition is applied directly to the substrate without providing the polarizing film, the polarizing film can be oriented by curing the polarizing film-forming composition by irradiating it with polarized light.

偏光膜の厚さは、0.1~5μmであり、好ましくは0.3~3μm、より好ましくは0.5~2μmである。 The thickness of the polarizing film is 0.1 to 5 μm, preferably 0.3 to 3 μm, more preferably 0.5 to 2 μm.

(偏光子と基材フィルムの積層)
基材フィルムに直接配向層や偏光層を設けて積層する方法だけでなく、別の離型性フィルム上に上記の方法に準じて偏光層を設け、これを基材フィルムに転写することも好ましい方法である。離型フィルムとしては前述の離型性支持基材と積層された離型性支持基材積層偏光子で用いられた離型性支持基材が好ましい例として挙げられ、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが、特に好ましい離型フィルムとして挙げられる。離型フィルムはコロナ処理を行ったり、離型コートや易接着コートなどを設け、剥離力を調整しても良い。
(Lamination of polarizer and base film)
In addition to the method of directly providing an alignment layer or a polarizing layer on a base film and laminating them, it is also preferable to provide a polarizing layer on another release film according to the above method and transfer this to the base film. The method. Preferred examples of the release film include the release support substrate laminated with the release support substrate described above and the release support substrate used in the laminated polarizer, such as polyester film and polypropylene film. , as a particularly preferred release film. The release film may be subjected to corona treatment, or provided with a release coat or an easy-adhesion coat to adjust the release force.

基材フィルムに偏光層を転写する方法も前述の離型性支持基材と積層された離型性支持基材積層偏光子での方法と同様である。 The method of transferring the polarizing layer to the substrate film is also the same as the above-described method for the releasing supporting substrate-laminated polarizer laminated with the releasing supporting substrate.

液晶性の偏光子の厚みとしては、0.1~7μmが好ましく、さらには0.3~5μmが好ましく、特には0.5~3μmが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、1~10μmが好ましく、さらに好ましくは2~5μmである。 The thickness of the liquid crystalline polarizer is preferably 0.1 to 7 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, particularly preferably 0.5 to 3 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is preferably 1-10 μm, more preferably 2-5 μm.

ワイヤーグリッド方式であれば、本発明の積層フィルム上に微細導電ワイヤーを設ければよい。微細導電ワイヤーを設けるために微細な溝が必要な場合は、別途溝を設けるための層を設けてもよいし、溝を設けるための層を本発明でいう光学等方層としてもよい。 In the case of a wire grid system, fine conductive wires may be provided on the laminated film of the present invention. When fine grooves are required to provide fine conductive wires, a separate layer for providing the grooves may be provided, or the layer for providing the grooves may be the optically isotropic layer of the present invention.

偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は特に限定するものではないが、積層フィルムを、通常の透過光を直線偏光とするための偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、平行又は垂直であることが好ましい。「平行又は垂直」とは0度又は90度から好ましくは±10度、さらには±7度、特には±5度まで許容される。 The angle formed by the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the laminated film is not particularly limited, but when the laminated film is used as a polarizer protective film for a polarizing plate for linearly polarizing normal transmitted light. are preferably parallel or perpendicular. "Parallel or perpendicular" is allowed from 0 or 90 degrees, preferably ±10 degrees, further ±7 degrees, especially ±5 degrees.

また、積層フィルムを、画像表示装置の視認側に用いる場合などで偏光を解消した光を出射する偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は、好ましくは20~70度であり、より好ましくは25~65度であり、さらに好ましくは30~60度であり、特に好ましくは35~55度である。 Further, when the laminated film is used as a polarizer protective film for a polarizing plate that emits depolarized light, such as when used on the viewing side of an image display device, the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the laminated film The angle formed by the two is preferably 20 to 70 degrees, more preferably 25 to 65 degrees, still more preferably 30 to 60 degrees, and particularly preferably 35 to 55 degrees.

上記で、本発明の積層フィルムの偏光子を積層する面は、基材フィルム面であっても光学等方層面のいずれであってもよい。 The surface of the laminated film of the present invention on which the polarizer is laminated may be either the substrate film surface or the optically isotropic layer surface.

これらの中でも、偏光板が薄型にできるという点で、基材と共に一軸延伸してヨウ素や有機系の二色性色素を吸着させた偏光子(基材積層延伸偏光子)、液層化合物からなる偏光子が好ましい。 Among these, polarizers that are uniaxially stretched together with a substrate to adsorb iodine and organic dichroic dyes (stretched substrate laminated polarizers) and liquid phase compounds are used in terms of making the polarizing plate thinner. Polarizers are preferred.

(位相差層)
偏光子の積層フィルムとは反対側には位相差層を設けることが好ましい。位相差層は薄型化できるという点で液晶化合物からなるものが好ましい。液晶化合物としては、生や負のAプレート、正や負のCプレート、Oプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。
(retardation layer)
A retardation layer is preferably provided on the opposite side of the polarizer to the laminated film. The retardation layer is preferably made of a liquid crystal compound because it can be made thinner. As the liquid crystal compound, a raw or negative A plate, a positive or negative C plate, an O plate, or a rod-shaped liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound can be used according to the purpose.

位相差の程度は、液晶表示装置の光学補償として用いられる場合は、液晶セルのタイプ、セルに用いられる液晶化合物の性質により適宜設定される。例えば、TN方式の場合はディスコティック液晶を用いたOプレートが好ましく用いられる。VA方式やIPS方式の場合、棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物を用いたCプレートやAプレートが好ましく用いられる。また、円偏光板のλ/4位相差層、λ/2位相差層の場合は、棒状化合物を用いて、Aプレートとすることが好ましく用いられる。これらの位相差層は単層だけでなく、組み合わせて複数の層にして用いても良い。 The degree of retardation is appropriately set according to the type of liquid crystal cell and the properties of the liquid crystal compound used in the cell when used as optical compensation for a liquid crystal display device. For example, in the case of the TN system, an O plate using discotic liquid crystal is preferably used. In the case of the VA system or the IPS system, a C plate or A plate using a rod-like liquid crystal compound or discotic liquid crystal compound is preferably used. In the case of a λ/4 retardation layer and a λ/2 retardation layer of a circularly polarizing plate, an A plate is preferably used using a rod-like compound. These retardation layers may be used not only as a single layer, but also as a combination of a plurality of layers.

これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという観点で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物が好ましい。 As the liquid crystal compound used in these retardation layers, a polymerizable liquid crystal compound having a polymerizable group such as a double bond is preferable from the viewpoint that the alignment state can be fixed.

棒状液晶化合物の例としては、特開2002-030042号公報、特開2004-204190号公報、特開2005-263789号公報、特開2007-119415号公報、特開2007-186430号公報、及び特開平11-513360号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
具体的な化合物としては、
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH=CH2
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-P1h-COO-Ph2-OCH3
CH2=CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph-Ph-CH2CH(CH3)C2H5
m、nは2~6の正数
Ph1、Ph2:1,4-フェニル基(Ph2は2位がメチル基であっても良い)
NPh:2,6-ナフチル基
が挙げられる。
これらは、BASF社製からLC242等として市販されており利用することができる。
Examples of rod-like liquid crystal compounds include JP-A-2002-030042, JP-A-2004-204190, JP-A-2005-263789, JP-A-2007-119415, JP-A-2007-186430, and A rod-like liquid crystal compound having a polymerizable group described in JP-A-11-513360 can be mentioned.
As a specific compound,
CH2 =CHCOO-( CH2 )mO- Ph1 -COO- Ph2 -OCO-Ph1 - O-( CH2 )n-OCO-CH= CH2
CH2 =CHCOO-( CH2 )mO- Ph1 -COO-NPh-OCO-Ph1 - O-( CH2 )n-OCO-CH= CH2
CH2 =CHCOO-( CH2 ) mOP1h -COO- Ph2- OCH3
CH2 =CHCOO-( CH2 )mO- Ph1 - COO-Ph-Ph- CH2CH ( CH3 ) C2H5
m and n are positive numbers from 2 to 6
Ph 1 , Ph 2 : 1,4-phenyl group (Ph 2 may be a methyl group at the 2-position)
NPh: includes 2,6-naphthyl groups.
These are commercially available as LC242 from BASF and can be used.

これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 A plurality of these rod-like liquid crystal compounds may be used in combination at any ratio.

また、ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられ、特開2001-155866号公報に様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。 中でもディスコティック化合物としては、下記一般式で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。 Discotic liquid crystal compounds include benzene derivatives, truxene derivatives, cyclohexane derivatives, azacrown-based macrocycles, and phenylacetylene-based macrocycles. is preferably used. Among them, as the discotic compound, a compound having a triphenylene ring represented by the following general formula is preferably used.

Figure 0007238325000001
~Rはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、-O-X;Xは、アルキル基、アシル基、アルコキシベンジル基、エポキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルキル基、又は下記の指式で示される基である。
Figure 0007238325000001
R 1 to R 6 are each independently hydrogen, halogen, alkyl group, —O—X; X is alkyl group, acyl group, alkoxybenzyl group, epoxy-modified alkoxybenzyl group, acryloyloxy-modified alkoxybenzyl group, acryloyloxy It is a modified alkyl group or a group represented by the following formula.

Figure 0007238325000002
(ここで、mは4~10であることが好ましい)
Figure 0007238325000002
(Here, m is preferably 4 to 10)

位相差層は位相差層用組成物塗料を塗工して設けることができる。位相差層用組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向層や液晶偏光子の部分で説明した物を用いることができる。 The retardation layer can be provided by applying a composition paint for retardation layer. The composition paint for retardation layer may contain a solvent, a polymerization initiator, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a leveling agent, a polymerizable non-liquid crystal compound, a cross-linking agent, and the like. As these materials, the materials described in the alignment layer and the liquid crystal polarizer can be used.

位相差層用組成物塗料を偏光子上(転写型であれば基材フィルム上)または配向層上に直接塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。これらの条件も配向層や液晶偏光子の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。 A polarizing film is provided by directly coating the retardation layer composition paint on a polarizer (on a substrate film in the case of a transfer type) or an alignment layer, followed by drying, heating and curing. As for these conditions, the conditions explained in the sections of the alignment layer and the liquid crystal polarizer are preferably used.

偏光子面への位相差層の積層は、偏光子に液晶化合物や配向層を塗布して設けても良いが、別の離型性フィルム上に上記の方法に準じて位相差層を設け、これを偏光子上に転写することも好ましい方法である。複数の位相差層の場合、すべての位相差層を転写で設ける必要はなく、偏光子の上の第一層を偏光子への塗工で設け、さらにその上の第二層を転写で設けても良い。第一層と第二層を別々に転写しても良く、第一層と第二層を離型フィルム上に積層して設け(離型基材/第二層/第一層)これを転写しても良い。 Lamination of the retardation layer on the polarizer surface may be provided by applying a liquid crystal compound or an alignment layer to the polarizer, but a retardation layer is provided on another release film according to the above method, Transferring this onto a polarizer is also a preferred method. In the case of multiple retardation layers, it is not necessary to apply all the retardation layers by transfer. The first layer on the polarizer is applied by coating, and the second layer is applied by transfer. can be The first layer and the second layer may be transferred separately, and the first layer and the second layer are laminated on the release film (release substrate / second layer / first layer) and transferred. You can

偏光子と位相差層の間に保護層を設けても良い。保護層を設けることで位相差層を設ける場合の溶剤や転写で用いる接着剤や粘着剤の溶剤による偏光子の乱れや位相差層や接着層や粘着剤の添加物による偏光子への影響を防ぐことができる。また、位相差層の上や位相差層の間に保護層が設けられていても良い。同様に上層を塗工する時の溶剤の影響等、位相差層面に接着剤や粘着剤を設けて他の部材と貼り合わせる時の溶剤の影響、接着剤や粘着剤の影響を防ぐことができる。 A protective layer may be provided between the polarizer and the retardation layer. By providing a protective layer, the polarizer is disturbed by the solvent used when providing the retardation layer, the solvent of the adhesive or adhesive used for transfer, and the effects of additives in the retardation layer, adhesive layer, and adhesive on the polarizer. can be prevented. A protective layer may be provided on the retardation layer or between the retardation layers. Similarly, it is possible to prevent the influence of the solvent when applying the upper layer, the influence of the solvent when applying the adhesive or adhesive to the retardation layer surface and bonding it to other members, or the influence of the adhesive or the adhesive. .

保護層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加え架橋構造としても良い。また、アクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであっても良い。 Examples of the protective layer include a coating layer of transparent resin. As the transparent resin, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, polyester, polyurethane, polyamide, polystyrene, acrylic resin, epoxy resin and the like are not particularly limited. A cross-linking agent may be added to these resins to form a cross-linked structure. Moreover, what hardened the photocurable compositions, such as acryl, may be used.

(液晶表示装置)
これらの偏光板は液晶表示装置の光源側偏光板、視認側偏光板としてのいずれかの側、または両方に用いることができる。偏光板は積層フィルムを外側として液晶セルに貼り合わせて使用される。貼り合わせは基材レスの光学用粘着剤が好ましい。
(Liquid crystal display device)
These polarizing plates can be used on either side of the liquid crystal display device as the light source side polarizing plate, the viewing side polarizing plate, or both. A polarizing plate is used by bonding it to a liquid crystal cell with the laminated film facing outward. For bonding, an optical pressure-sensitive adhesive that does not require a substrate is preferable.

液晶表示装置のバックライトとしては、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、青緑赤の各色発光ダイオード光源、青色発光ダイオードと緑色蛍光体と赤色蛍光体の光源、量子ドットによる波長変換光源、半導体レーザー光源、冷陰極管など特に制限無く用いることができる。 Backlights for liquid crystal displays include blue light emitting diodes and yellow phosphor light sources, blue, green and red light emitting diode light sources, blue light emitting diodes, green phosphors, and red phosphor light sources, wavelength conversion light sources using quantum dots, and semiconductors. A laser light source, a cold cathode tube, or the like can be used without particular limitation.

本発明の位相差層を有する偏光板は急峻なピークを持つ光源を持つ液晶表示装置であっても虹斑が認識できないレベルに低減されており、各色の発光ピークの半値幅が狭い光源との組合せがより好ましい形態である。光源の半値幅としては、最も半値幅の狭いピークが、好ましくは25nm以下、より好ましくは20nm以下、さらに好ましくは15nm以下、特に好ましくは10nm以下である。半値幅の下限は現実的な値や測定器の分解能の面で0.5nmである。具体的に好適な光源として、QD光源や赤色領域用にKSF蛍光体を用いた光源が挙げられ、一つの好適な光源としてKSF蛍光体を用いたものである。 In the polarizing plate having the retardation layer of the present invention, even in a liquid crystal display device having a light source having a sharp peak, rainbow spots are reduced to a level that cannot be recognized, and the half width of the emission peak of each color is narrow. A combination is the more preferred form. As for the half width of the light source, the peak with the narrowest half width is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, even more preferably 15 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The lower limit of the half-value width is 0.5 nm in terms of a realistic value and the resolution of the measuring instrument. Specifically, suitable light sources include a QD light source and a light source using a KSF phosphor for the red region, and one suitable light source is a light source using a KSF phosphor.

なお、本発明の位相差層を有する偏光板を近年の薄型化に合わせて用いる場合には、位相差層を有する偏光板の厚みも20~80μmが好ましく、より好ましくは25~70μmさらに好ましくは28~60μmとなる。(なお、ここで言う位相差層を有する偏光板の厚みとは、位相差層から積層フィルムまでの厚みを意味し、積層フィルムの反射防止層などの表面塗布層や位相差層上の保護コート層は含まれるが、偏光板を他の部材と積層するための粘着層や接着層は含まれないものとする。このような薄型化のディスプレイの場合は青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、KSF蛍光体を用いた光源、QD光源、白色の有機EL光源などが好ましい。 When the polarizing plate having a retardation layer of the present invention is used in accordance with recent thinning, the thickness of the polarizing plate having a retardation layer is preferably 20 to 80 μm, more preferably 25 to 70 μm, and still more preferably. 28 to 60 μm. (The thickness of the polarizing plate having a retardation layer here means the thickness from the retardation layer to the laminated film, and the surface coating layer such as the antireflection layer of the laminated film and the protective coat on the retardation layer Layers are included, but adhesive layers and adhesive layers for laminating the polarizing plate with other members are not included.In the case of such a thin display, a blue light emitting diode and a yellow phosphor light source, A light source using a KSF phosphor, a QD light source, a white organic EL light source, and the like are preferable.

(EL表示装置)
本発明の偏光板は、EL表示装置等の反射防止用の円偏光板としても好適に用いることができる。円偏光板とするために、位相差層は1/4波長層であることが好ましい。1/4波長層の正面レタデーションは100~180nmが好ましく、さらに好ましくは120~150nmである。
(EL display device)
The polarizing plate of the present invention can also be suitably used as an antireflection circularly polarizing plate for EL display devices and the like. In order to obtain a circularly polarizing plate, the retardation layer is preferably a quarter-wave layer. The front retardation of the quarter-wave layer is preferably 100-180 nm, more preferably 120-150 nm.

また、1/4波長層単独では可視光の広い波長領域で1/4波長とならず、着色する場合がある。この様な場合には、さらに1/2波長層を設けても良い。この場合、偏光子と1/4波長層との間に1/2波長層を設けることが好ましい。1/2波長層の正面レタデーションは200~360nmが好ましく、さらに好ましくは240~300nmである。 In addition, the 1/4 wavelength layer alone does not provide a 1/4 wavelength in a wide wavelength range of visible light, which may cause coloring. In such a case, an additional 1/2 wavelength layer may be provided. In this case, it is preferable to provide a half-wave layer between the polarizer and the quarter-wave layer. The front retardation of the half-wave layer is preferably 200-360 nm, more preferably 240-300 nm.

円偏光板として1/4波長層のみを用いる場合、1/4波長層の配向軸(遅相軸)と偏光子の透過軸は35~55度が好ましく、より好ましくは40度~50度、さらに好ましくは42~48度である。 When only a quarter-wave layer is used as a circularly polarizing plate, the orientation axis (slow axis) of the quarter-wave layer and the transmission axis of the polarizer are preferably 35 to 55 degrees, more preferably 40 to 50 degrees, It is more preferably 42 to 48 degrees.

円偏光板として1/4波長層、1/2波長層を組み合わせて用いる場合、1/2波長層の配向軸(遅相軸)と偏光子の透過軸の角度(θ)は5~20度が好ましく、より好ましくは7度~17度である。1/2波長層の配向軸(遅相軸)と1/4波長層の配向軸(遅相軸)との角度は、2θ+45度±10度の範囲が好ましく、より好ましくは2θ+45度±5度の範囲であり、さらに好ましくは2θ+45度±3度の範囲である。これらの角度は、ラビングの角度や偏光紫外線の照射角度で制御することができる。 When a quarter-wave layer and a half-wave layer are used in combination as a circularly polarizing plate, the angle (θ) between the orientation axis (slow axis) of the half-wave layer and the transmission axis of the polarizer is 5 to 20 degrees. is preferred, and more preferably 7 to 17 degrees. The angle between the orientation axis (slow axis) of the half-wave layer and the orientation axis (slow axis) of the quarter-wave layer is preferably in the range of 2θ+45°±10°, more preferably 2θ+45°±5°. and more preferably 2θ+45°±3°. These angles can be controlled by the rubbing angle and the irradiation angle of polarized ultraviolet rays.

さらに、斜めから見た場合の着色の変化などを低減するために1/4波長層の上にCプレート層を設けることも好ましい形態である。Cプレート層は1/4波長層や1/2波長層の特性に合わせ、正または負のCプレート層が用いられる。 Furthermore, it is also a preferred form to provide a C plate layer on the quarter wavelength layer in order to reduce changes in coloring when viewed obliquely. A positive or negative C plate layer is used according to the characteristics of a quarter wavelength layer or a half wavelength layer.

これらの位相差層の積層方法としては、1/2波長層と1/4波長層であれば、例えば、下記を挙げることができる。
・偏光子上に転写により1/2波長層を設け、さらにその上に1/4波長層を転写により設ける。
・離型フィルム上に1/4波長層と1/2波長層をこの順に設け、これを偏光子上に転写する。
・塗布により偏光子上に1/2波長層を設け、1/4波長層は転写により設ける。
・塗布により偏光子上に1/2波長層を設け、さらに塗布により1/4波長層を設ける。
などの様々な方法を採用することができる。
As a lamination method of these retardation layers, in the case of a 1/2 wavelength layer and a 1/4 wavelength layer, for example, the following can be mentioned.
- A 1/2 wavelength layer is provided on the polarizer by transfer, and a 1/4 wavelength layer is provided thereon by transfer.
- A 1/4 wavelength layer and a 1/2 wavelength layer are provided in this order on a release film and transferred onto a polarizer.
• A half-wave layer is provided on the polarizer by coating, and a quarter-wave layer is provided by transfer.
• A 1/2 wavelength layer is provided on the polarizer by coating, and a 1/4 wavelength layer is further provided by coating.
Various methods such as can be adopted.

また、Cプレートを積層する場合も、偏光子上に設けられた1/4波長層の上にCプレート層を塗布又は転写により設ける方法、転写や貼り合わせる1/4波長層、1/4波長層に予め積層しておく方法、など様々な方法が採用できる。 Also, when laminating a C plate, a method of applying or transferring a C plate layer on a quarter wavelength layer provided on a polarizer, a method of transferring or bonding a quarter wavelength layer, a quarter wavelength Various methods such as a method of preliminarily laminating layers can be employed.

このようにして得られた円偏光板の厚みは、100μm以下であることが好ましい。さらには80μm以下、特には70μm以下が好ましく、最も好ましくは60μm以下である。 The thickness of the circularly polarizing plate thus obtained is preferably 100 μm or less. Furthermore, it is preferably 80 μm or less, particularly preferably 70 μm or less, and most preferably 60 μm or less.

以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。なお、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples, and it is possible to carry out the present invention with appropriate modifications within the scope of the gist of the present invention. All of them are included in the technical scope of the present invention.
Methods for evaluating physical properties in Examples are as follows.

(1)基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)、進相軸方向屈折率(Bfny)、及び屈折率異方性(△BfNxy)
分子配向計(王子計測器株式会社製、MOA-6004型分子配向計)を用いて、粗面化する前の基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように4cm×2cmの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率(Bfnx,Bfny)、及び厚さ方向の屈折率(Bfnz)をアッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR-4T、測定波長589nm)を用いて測定し、前記二軸の屈折率の差の絶対値(|Bfny-Bfnx|)を屈折率異方性(△BfNxy)とした。なお、粗面化した基材フィルムの屈折率は、耐水性の紙やすり等で研磨して粗面化面を平坦化して測定することができる。
(1) Slow axis refractive index (Bfnx), fast axis refractive index (Bfny), and refractive index anisotropy (ΔBfNxy) of the base film
Using a molecular orientation meter (MOA-6004 type molecular orientation meter manufactured by Oji Keisoku Co., Ltd.), the orientation axis direction of the base film before roughening is determined, and the orientation axis direction is 4 cm so that the long side becomes. A 2 cm x 2 cm rectangle was cut out and used as a measurement sample. The biaxial refractive index (Bfnx, Bfny) and the refractive index (Bfnz) in the thickness direction of this sample were measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., NAR-4T, measurement wavelength 589 nm). , and the absolute value of the biaxial refractive index difference (|Bfny−Bfnx|) was defined as the refractive index anisotropy (ΔBfNxy). The refractive index of the roughened substrate film can be measured by polishing the roughened surface with water-resistant emery paper or the like to flatten the roughened surface.

(2)原反フィルムの厚みd
電気マイクロメータ(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて、5点の厚みを測定し、その平均値を求めた。
(2) Thickness d of raw film
Using an electric micrometer (Millitron 1245D manufactured by Fineruff Co.), the thickness was measured at five points, and the average value was obtained.

(3)面内リタデーション(Re)
屈折率の異方性(△BfNxy)とフィルムの厚みd(nm)との積(△BfNxy×d)より、面内リタデーション(Re)を求めた。
(3) In-plane retardation (Re)
The in-plane retardation (Re) was obtained from the product (ΔBfNxy×d) of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy) and the film thickness d (nm).

(4)Nz係数
|Bfnx-Bfnz|/|Bfnx-Bfny|で得られる値をNz係数とした。
(4) Nz Coefficient A value obtained by |Bfnx−Bfnz|/|Bfnx−Bfny| was used as the Nz coefficient.

(5)面配向度(ΔP)
(Bfnx+Bfny)/2-Bfnzで得られる値を面配向度(ΔP)とした。
(5) Degree of plane orientation (ΔP)
A value obtained by (Bfnx+Bfny)/2-Bfnz was defined as the degree of planar orientation (ΔP).

(6)厚さ方向リタデーション(Rth)
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの2つの複屈折△BfNxz(=|Bfnx-Bfnz|)、△BfNyz(=|Bfny-Bfnz|)にそれぞれフィルム厚さdを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でBfnx、Bfny、Bfnzとフィルム厚みd(nm)を求め、(△BfNxz×d)と(△BfNyz×d)との平均値を算出して厚さ方向リタデーション(Rth)を求めた:Rth=(△BfNxz×d+△BfNyz×d)/2。
(6) Retardation in thickness direction (Rth)
The retardation in the thickness direction is obtained by multiplying the two birefringences ΔBfNxz (=|Bfnx−Bfnz|) and ΔBfNyz (=|Bfny−Bfnz|) when viewed from the cross section in the thickness direction of the film by the film thickness d. is a parameter that indicates the average retardation obtained by Bfnx, Bfny, Bfnz and the film thickness d (nm) are obtained in the same manner as described above, and the average value of (ΔBfNxz×d) and (ΔBfNyz×d) is calculated to calculate the thickness direction retardation (Rth). Calculated: Rth=(ΔBfNxz×d+ΔBfNyz×d)/2.

(7)表面粗さ(Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、Rv、Sm)
表面粗さの各パラメータは、接触型粗さ計(ミツトヨ社製,SJ-410,検出器:178-396-2,スタイラス:標準スタイラス122AC731(2μm))を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線:R
フィルタ:GAUSS
λc:0.8mm
λs:2.5μm
測定長さ:5mm
測定速度:0.5mm/s
なお、RqはJIS B0601-2001に準拠し、その他はJIS B0601-1994に準拠して、求めた。
(7) Surface roughness (Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, Rv, Sm)
Each parameter of the surface roughness is obtained from a roughness curve measured using a contact roughness meter (Mitutoyo, SJ-410, detector: 178-396-2, stylus: standard stylus 122AC731 (2 μm)). asked. The settings are as follows.
Curve: R
Filter: GAUSS
λc: 0.8mm
λs: 2.5 µm
Measuring length: 5mm
Measurement speed: 0.5mm/s
Rq was determined according to JIS B0601-2001, and others were determined according to JIS B0601-1994.

(8)光学等方層の厚み
粗面化した基材フィルム及び積層フィルムの厚みは、各フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出し、顕微鏡で観察して等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値とした。なお、界面が見にくい場合は偏光顕微鏡を用いた。また、粗面化した基材フィルムの凹凸面は、視野の凸部と凹部の中央を基準とした。光学等方層の厚みは、積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引くことにより求めた。
(8) Thickness of optically isotropic layer The thickness of the roughened base film and laminated film was determined by embedding each film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. The thickness was measured and taken as the average value. A polarizing microscope was used when the interface was difficult to see. In addition, the uneven surface of the roughened base film was based on the center of the convex portion and the concave portion in the field of view. The thickness of the optically isotropic layer was determined by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film.

(9)光学等方層の屈折率
離型フィルムに光学異方層を凹凸面に設ける場合と同じ条件で、厚みが約20μmとなるように設け、離型フィルムから剥離したサンプルの屈折率を基材フィルムと同様にして測定した。nx、ny、nzが同じ値であることを確認した。
(9) Refractive index of optically isotropic layer Under the same conditions as in the case of providing an optically anisotropic layer on a release film on an uneven surface, the refractive index of a sample peeled off from the release film was measured so as to have a thickness of about 20 μm. It was measured in the same manner as the base film. It was confirmed that nx, ny, and nz are the same value.

(易接着層成分の製造)
(ポリエステル樹脂の重合)
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート194.2質量部、ジメチルイソフタレート184.5質量部、ジメチル-5-ナトリウムスルホイソフタレート14.8質量部、ジエチレングリコール233.5質量部、エチレングリコール136.6質量部、及びテトラ-n-ブチルチタネート0.2質量部を仕込み、160℃から220℃の温度で4時間かけてエステル交換反応を行った。次いで255℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、30Paの減圧下で1時間30分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ0.70dl/gであった。DSCによるガラス転移温度は40℃であった。
(Production of easy-adhesion layer component)
(Polymerization of polyester resin)
194.2 parts by weight of dimethyl terephthalate, 184.5 parts by weight of dimethyl isophthalate, and 14.8 parts by weight of dimethyl-5-sodium sulfoisophthalate were added to a stainless steel autoclave equipped with an agitator, thermometer, and partial reflux condenser. , 233.5 parts by mass of diethylene glycol, 136.6 parts by mass of ethylene glycol, and 0.2 parts by mass of tetra-n-butyl titanate were charged, and transesterification was carried out at a temperature of 160° C. to 220° C. over 4 hours. Then, the temperature was raised to 255° C., and the pressure in the reaction system was gradually reduced, followed by reaction under a reduced pressure of 30 Pa for 1 hour and 30 minutes to obtain a copolymerized polyester resin. The resulting copolymerized polyester resin was pale yellow and transparent. When the reduced viscosity of the copolymerized polyester resin was measured, it was 0.70 dl/g. The glass transition temperature by DSC was 40°C.

(ポリエステル水分散体の調製)
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂30質量部、及びエチレングリコールn-ブチルエーテル15質量部を入れ、110℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水55質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分30質量%の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。
(Preparation of polyester aqueous dispersion)
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux device was charged with 30 parts by mass of a copolymer polyester resin and 15 parts by mass of ethylene glycol n-butyl ether, heated at 110° C. and stirred to dissolve the resin. After the resin was completely dissolved, 55 parts by mass of water was gradually added to the polyester solution with stirring. After the addition, the liquid was cooled to room temperature while stirring to prepare a milky white polyester water dispersion having a solid content of 30% by mass.

(易接着層で用いるブロックポリイソシアネート系架橋剤の重合)
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物(旭化成ケミカルズ製、デュラネートTPA)100質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル(平均分子量750)30質量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃で4時間保持した。その後、反応液温度を50℃に下げ、メチルエチルケトオキシム47質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分75質量%のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。
(Polymerization of block polyisocyanate-based cross-linking agent used in easy-adhesion layer)
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser was charged with 100 parts by mass of a polyisocyanate compound having an isocyanurate structure made from hexamethylene diisocyanate (Duranate TPA, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) and 55 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. , and 30 parts by mass of polyethylene glycol monomethyl ether (average molecular weight: 750) were charged and held at 70° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to 50° C., and 47 parts by mass of methyl ethyl ketoxime was added dropwise. By measuring the infrared spectrum of the reaction solution, it was confirmed that the absorption of isocyanate groups had disappeared, and an aqueous blocked polyisocyanate dispersion having a solid content of 75% by mass was obtained.

(易接着層用塗工液の調整)
下記の塗剤を混合しP1塗布液を作成した。
水 50.00質量%
イソプロパノール 33.00質量%
ポリエステル水分散体 12.00質量%
ブロックイソシアネート系架橋剤 0.80質量%
粒子 1.40質量%
(平均粒径100nmのシリカゾル、固形分濃度40質量%)
触媒
(有機スズ系化合物 固形分濃度14質量%) 0.30質量%
界面活性剤 0.50質量%
(シリコン系、固形分濃度10質量%)
(Adjustment of coating liquid for easy adhesion layer)
A P1 coating solution was prepared by mixing the following coating agents.
Water 50.00% by mass
Isopropanol 33.00% by mass
Polyester water dispersion 12.00% by mass
Block isocyanate-based cross-linking agent 0.80% by mass
Particles 1.40% by mass
(Silica sol with an average particle size of 100 nm, solid content concentration of 40% by mass)
Catalyst (organotin compound solid content concentration 14% by mass) 0.30% by mass
Surfactant 0.50% by mass
(Silicone type, solid content concentration 10% by mass)

(フィルム用ポリエステル樹脂の製造)
(製造例1-ポリエステルX)
エステル化反応缶を昇温し、200℃に到達した時点で、テレフタル酸を86.4質量部及びエチレングリコール64.6質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを0.017質量部、酢酸マグネシウム4水和物を0.064質量部、及びトリエチルアミン0.16質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧0.34MPa、240℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸0.014質量部を添加した。さらに、15分かけて260℃に昇温し、リン酸トリメチル0.012質量部を添加した。次いで15分後に、高圧分散機で分散処理を行い、15分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、280℃で減圧下重縮合反応を行った。
(Manufacture of polyester resin for film)
(Production Example 1-Polyester X)
When the temperature of the esterification reactor reaches 200° C., 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol are charged, and 0.017 parts by mass of antimony trioxide as a catalyst is added while stirring. , 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate, and 0.16 parts by mass of triethylamine were charged. Then, the pressure was increased and the temperature was increased, and the pressure esterification reaction was performed under the conditions of gauge pressure 0.34 MPa and 240° C., then the pressure in the esterification reactor was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added. . Furthermore, the temperature was raised to 260° C. over 15 minutes, and 0.012 parts by mass of trimethyl phosphate was added. After 15 minutes, dispersion treatment was performed with a high-pressure disperser. After 15 minutes, the obtained esterification reaction product was transferred to a polycondensation reactor, and polycondensation reaction was performed at 280°C under reduced pressure.

重縮合反応が終了した後、95%カット径が5μmのナスロン(登録商標)製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理(孔径:1μm以下)を行った冷却水を用いて冷却し、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂(X)の固有粘度は0.62dl/gであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。(以後、PET(X)と略す。) After the polycondensation reaction is completed, filtration is performed with a NASLON (registered trademark) filter having a 95% cut diameter of 5 μm, extruded from the nozzle in strand form, and cooling water that has been pre-filtered (pore size: 1 μm or less) is filtered. It was cooled, solidified and cut into pellets. The resulting polyethylene terephthalate resin (X) had an intrinsic viscosity of 0.62 dl/g and contained substantially no inert particles or internal precipitated particles. (Hereinafter abbreviated as PET (X).)

(原反フィルムA、Bの製造)
フィルム用原料として粒子を含有しないPET(X)樹脂ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。次いで、リバースロール法によりこの未延伸PETフィルムの両面にP1塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が0.12g/mになるように塗布した後、乾燥機に導き80℃で20秒間乾燥した。
(Production of raw films A and B)
PET (X) resin pellets containing no particles as a raw material for film are supplied to an extruder, extruded in a sheet form from a nozzle, and then wound around a casting drum with a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic casting method. It was cooled and solidified to produce an unstretched film. Next, the P1 coating liquid was applied to both sides of this unstretched PET film by a reverse roll method so that the coating amount after drying was 0.12 g / m 2 , and then led to a dryer and dried at 80 ° C. for 20 seconds. bottom.

この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度135℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に3.8倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度225℃で30秒間処理し、その後、130℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断し、0.5kg/mmの張力で耳部を切り取った後に巻き取り、フィルム厚み80μmの原反フィルムAを得た。 The unstretched film with the coating layer formed thereon was guided to a tenter stretching machine, and while holding the ends of the film with clips, was guided to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.8 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, it was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds, and then cut at both ends of the film cooled to 130 ° C. with a shear blade, and a tension of 0.5 kg / mm 2 After cutting off the selvages, the film was wound up to obtain a raw film A having a film thickness of 80 μm.

キャスティング以降のラインスピードを速くして未延伸フィルムの厚みを変えた以外は原反フィルムAと同様にして製膜し、フィルム厚みの異なる原反フィルムBを得た。 A raw film B having a different film thickness was obtained in the same manner as the raw film A except that the thickness of the unstretched film was changed by increasing the line speed after casting.

(原反フィルムCの製造)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に2.0倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に4.0倍延伸し、原反フィルムCを得た。
(Manufacturing raw film C)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After being stretched 2.0 times in the running direction in the same manner as the raw film A, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 4.0 times in the width direction to obtain a raw film C.

(原反フィルムD)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に3.5倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に3.5倍延伸し、原反フィルムDを得た。
(Original film D)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After the film was stretched 3.5 times in the running direction, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.5 times in the width direction by the same method as for raw film A, to obtain raw film D.

Figure 0007238325000003
Figure 0007238325000003

(表面粗面化フィルムの製造)
ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、この原反フィルム面を手持ちタイプのベルトサンダー(サンディングベルト#320)で縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理を行い、表面粗面化フィルムA1を得た。
ガラス板に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、乾式のサンドブラスターにセットし、研磨材を吹き付けで処理(サンドブラスト処理)し、表面粗面化フィルムA2を得た。
原反フィルムAの片面にポリプロピレンフィルム製マスキングフィルムを貼り合わせ、これを38%の水酸化カリウム水溶液(95℃)に浸漬(ケミカルエッチング)し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離して乾燥し、表面粗面化フィルムA4を得た。
ベルトサンダーの条件(サンディングベルトの種類等)、サンドブラストの条件(研磨材の粒径等)を変え、原反フィルムA、B、C、及びDから表2に示す各表面粗面化フィルムを得た。
なお、B1及びC1の製造には#320のサンディングベルトを用い、A3及びD1の製造には#180のサンディングベルトを用いた。また、サンドブラスターの研磨材はA5、A6、B2、A2の順に大きなものを用いた。
なお、ベルトサンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起の影響を除くため、処理表面を#400のサンドペーパーで軽く研磨した。
(Production of surface-roughened film)
Attach urethane foam to a glass plate, and then attach the periphery of the original film A with double-sided tape. 45 degrees and 135 degrees) to obtain a surface-roughened film A1.
The periphery of raw film A was attached to a glass plate with double-sided tape, set in a dry sandblaster, and treated by spraying an abrasive (sandblasting) to obtain surface-roughened film A2.
A masking film made of polypropylene film is attached to one side of the original film A, which is immersed in a 38% potassium hydroxide aqueous solution (95 ° C.) (chemical etching), washed with water, and then the masking film is peeled off and dried. A surface-roughened film A4 was obtained.
Various surface-roughened films shown in Table 2 were obtained from raw films A, B, C, and D by changing the belt sander conditions (sanding belt type, etc.) and sandblasting conditions (abrasive particle size, etc.). rice field.
A #320 sanding belt was used to manufacture B1 and C1, and a #180 sanding belt was used to manufacture A3 and D1. Abrasives of the sand blaster were used in the order of A5, A6, B2 and A2.
In addition, in order to eliminate the influence of local projections, the belt-sanded and sandblasted surfaces were lightly polished with #400 sandpaper.

Figure 0007238325000004
Figure 0007238325000004

(積層フィルムF1~F17の製造)
(光学等方層用のコート剤の準備)
光学等方層用のコート剤として表3に示すものを準備した。
(Production of laminated films F1 to F17)
(Preparation of coating agent for optically isotropic layer)
As a coating agent for the optically isotropic layer, those shown in Table 3 were prepared.

Figure 0007238325000005
Figure 0007238325000005

20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、上述の易接着層を水/イソプロパノール=2/1の溶液で4倍に希釈したものを塗工して乾燥させ、約30nmの易接着層を設けた。さらにその上に光学等方層用のコート剤aをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて積層フィルムF1を得た。 On the uneven surface of the surface roughened film A1 of 20 cm × 30 cm, the above-mentioned easy adhesion layer diluted 4 times with a solution of water / isopropanol = 2/1 is applied and dried to obtain an easy adhesion of about 30 nm. layer was established. Further, the coating agent a for the optically isotropic layer was applied thereon with an applicator, and then cured from the coated surface with a high-pressure mercury lamp to obtain a laminated film F1.

表面粗面化フィルム及び/又はコート剤の種類を変更した以外は、実施例1と同様にして、積層フィルムF2~F16を得た。なお、積層フィルムF14は両面に光学等方層を設けた。 Laminated films F2 to F16 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the type of surface-roughened film and/or coating agent was changed. Note that the laminated film F14 was provided with an optical isotropic layer on both sides.

20cm×30cmの粗面化フィルムB2の凹凸面に、バイロン(登録商標)200(RV200)(東洋紡社製)の20%トルエン/メチルエチルケトン混合溶媒の溶液を塗工した後に乾燥させ、光学等方層を設けた。得られた2枚の光学等方層積層フィルムの光学等方層面を重ね、100℃に加熱したロール間を通過させ、2枚の光学等方層積層フィルムを貼り合せ、光学等方層積層フィルムF17を得た。なお、貼り合せの際、粗面化フィルムB2の遅相軸同士が平行となるように貼り合わせた。バイロン200の屈折率は1.55である。 A solution of Vylon (registered trademark) 200 (RV200) (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) in a 20% toluene/methyl ethyl ketone mixed solvent is applied to the uneven surface of the 20 cm × 30 cm roughened film B2, and then dried to form an optically isotropic layer. was established. The optically isotropic layer surfaces of the obtained two optically isotropic layered laminated films are superimposed and passed between rolls heated to 100° C. to bond the two optically isotropic layered laminated films to obtain an optically isotropic layered laminated film. F17 was obtained. In addition, the slow axes of the surface-roughened film B2 were bonded together so that they were parallel to each other. Byron 200 has a refractive index of 1.55.

積層フィルムF1~F17の構成及び物性を表4に示す。 Table 4 shows the structures and physical properties of the laminated films F1 to F17.

Figure 0007238325000006
Figure 0007238325000006

(積層フィルムの評価)
(クロスニコル下での虹斑の観察)
積層フィルムを、クロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に基材フィルムの遅相軸が光源側の偏光板の透過軸と45度になるように置き、視認側の偏光板から約60cm離れた正面から透過光の状態を観察し、虹斑の有無を下記の基準に従って評価した。なお、光源は冷陰極管を用いた。
○:虹斑は観察されなかった
△:わずかに虹斑が観察された
×:虹斑が観察された
(Evaluation of laminated film)
(Observation of rainbow spots under crossed Nicols)
The laminated film was placed between two polarizing plates arranged in crossed Nicols so that the slow axis of the base film was at 45 degrees with the transmission axis of the polarizing plate on the light source side, and about 60 cm away from the polarizing plate on the viewing side. The state of transmitted light was observed from the front, and the presence or absence of iridescence was evaluated according to the following criteria. A cold cathode tube was used as the light source.
○: No iridescence was observed △: Slight iridescence was observed ×: Iridescence was observed

(白化)
積層フィルムの光学等方層を上にし、下方からハロゲンランプを照射し、斜め上方45度の方向から積層体の白化度合いを下記の基準に従って評価した。
◎:白化はほとんど認められなかった。
○:少し白化が認められたが、透明性は高かった。
△:白化が認められ、透明性がやや劣っていた。
×:白化があり、透明性も低かった。
なお、実施例31~36は偏光板で評価を行った。実施例31~36の結果は表5に記載した。
(whitening)
With the optically isotropic layer of the laminate film facing upward, the laminate was irradiated with a halogen lamp from below, and the degree of whitening of the laminate was evaluated from an obliquely upward direction of 45 degrees according to the following criteria.
A: Almost no whitening was observed.
◯: Slight whitening was observed, but the transparency was high.
Δ: Whitening was observed, and the transparency was slightly inferior.
x: Whitening was observed, and the transparency was also low.
Incidentally, Examples 31 to 36 were evaluated using a polarizing plate. The results of Examples 31-36 are listed in Table 5.

偏光子A(単層偏光子)の製造
ケン化度99.9%のポリビニルアルコール樹脂フィルムを、周速差のあるロールに導き、100℃で3倍に一軸延伸を行った。得られた延伸ポリビニルアルコール延伸フィルムを、ヨウ化カリウム(0.3%)とヨウ素(0.05%)の混合水溶液中で染色した後、72℃のホウ酸10%水溶液中で、1.8倍に一軸延伸した。その後、イオン交換水で水洗処理を行い、さらに6%ヨウ化カリウム水溶液に浸漬し、エアナイフで水溶液を除去した後、45℃で乾燥して偏光子を得た。偏光子の厚みは18μmであった。
Production of polarizer A (single-layer polarizer) A polyvinyl alcohol resin film having a degree of saponification of 99.9% was led to rolls with different peripheral speeds and uniaxially stretched 3 times at 100°C. The obtained stretched polyvinyl alcohol stretched film was dyed in a mixed aqueous solution of potassium iodide (0.3%) and iodine (0.05%), and then dyed in a 10% aqueous solution of boric acid at 72° C. to 1.8%. It was uniaxially stretched twice. Thereafter, the film was washed with ion-exchanged water, immersed in a 6% potassium iodide aqueous solution, and dried at 45° C. to obtain a polarizer after removing the aqueous solution with an air knife. The thickness of the polarizer was 18 μm.

偏光子B(基材積層偏光子)の製造
熱可塑性樹脂基材としてポリエステルXを用いて厚さ100μmの未延伸フィルムを作成し、この未延伸フィルムの片面に、重合度2400、ケン化度99.9モル%のポリビニルアルコールの水溶液を塗布および乾燥して、PVA層を形成した。 得られた積層体を、120℃で周速の異なるロール間で長手方向に2倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を4%のホウ酸水溶液で30秒間の処理を行った後、ヨウ素(0.2%)とヨウ化カリウム(1%)の混合水溶液で60秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム(3%)とホウ酸(3%)の混合水溶液で30秒間処理した。さらに、この積層体を72℃のホウ酸(4%)とヨウ化カリウム(5%)混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、4%ヨウ化カリウム水溶液で洗浄、エアナイフで水溶液を除去した後に80℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅30cm、長さ1000mの基材積層偏光子1を得た。合計の延伸倍率は6.5倍で、偏光子の厚みは5μmであった。なお、厚みは基材積層偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。
Production of polarizer B (substrate-laminated polarizer) An unstretched film having a thickness of 100 μm was prepared using polyester X as a thermoplastic resin substrate, and a degree of polymerization of 2400 and a degree of saponification of 99 were applied to one side of the unstretched film. A PVA layer was formed by applying and drying an aqueous solution of .9 mol % polyvinyl alcohol. The resulting laminate was stretched twice in the longitudinal direction between rolls having different peripheral speeds at 120° C. and wound up. Next, the obtained laminate was treated with a 4% boric acid aqueous solution for 30 seconds, and then immersed in a mixed aqueous solution of iodine (0.2%) and potassium iodide (1%) for 60 seconds for dyeing. , followed by treatment with a mixed aqueous solution of potassium iodide (3%) and boric acid (3%) for 30 seconds. Furthermore, this laminate was uniaxially stretched in the longitudinal direction in a mixed aqueous solution of boric acid (4%) and potassium iodide (5%) at 72° C., washed with a 4% potassium iodide aqueous solution, and the aqueous solution was removed with an air knife. After the removal, the film was dried in an oven at 80° C., both ends were slit and wound up to obtain a substrate-laminated polarizer 1 having a width of 30 cm and a length of 1000 m. The total draw ratio was 6.5 times, and the thickness of the polarizer was 5 μm. The thickness was read by embedding the base-material-laminated polarizer in an epoxy resin, cutting out a slice, and observing it with an optical microscope.

偏光子C(液晶化合物偏光子(ラビング処理))の製造方法
(ラビング配向層の形成)
積層フィルムに下記組成のラビング配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、120℃で3分間乾燥し厚み200nmの膜を形成した。引き続き、得られた膜の表面をナイロン製の起毛布でラビング処理した。配向制御方向はラビング方向で調整した。
Method for manufacturing polarizer C (liquid crystal compound polarizer (rubbing treatment)) (formation of rubbing alignment layer)
A rubbing alignment layer paint having the following composition was applied to the laminated film using a bar coater and dried at 120° C. for 3 minutes to form a film having a thickness of 200 nm. Subsequently, the surface of the obtained film was rubbed with a nylon raised cloth. The alignment control direction was adjusted by the rubbing direction.

ラビング配向層用塗料
完全ケン化型ポリビニルアルコール 分子量800 2質量部
イオン交換水 100質量部
Paint for rubbing alignment layer Fully saponified polyvinyl alcohol Molecular weight 800 2 parts by mass Ion-exchanged water 100 parts by mass

(重合性液晶化合物の合成)
特表2007-510946号公報の[0134]段落の記載および、Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)を参考にして、下記式の化合物(イ:上段)及び(ロ:下段)を合成した。
(Synthesis of polymerizable liquid crystal compound)
The description in paragraph [0134] of JP-A-2007-510946 and Lub et al. Recl. Trav. Chim. With reference to Pays-Bas, 115, 321-328 (1996), compounds of the following formulas (A: upper part) and (B: lower part) were synthesized.

Figure 0007238325000007
Figure 0007238325000007

特開昭63-301850号公報の実施例1を参考にして、下記式の色素(ハ)を合成した。 With reference to Example 1 of JP-A-63-301850, a dye (C) of the following formula was synthesized.

Figure 0007238325000008
Figure 0007238325000008

特公平5-49710号公報の実施例2を参考にして下記式の色素(ニ)を合成した。 A dye (d) of the following formula was synthesized with reference to Example 2 of JP-B-5-49710.

Figure 0007238325000009
Figure 0007238325000009

特公昭63-1357号公報の一般式(1)の化合物の製造方法を参考にして、下記式の色素(ホ)を合成した。 A dye (e) of the following formula was synthesized with reference to the method for producing the compound of general formula (1) in JP-B-63-1357.

Figure 0007238325000010
Figure 0007238325000010

(偏光膜の形成)
化合物(イ)75質量部、化合物(ロ)25質量部、色素(ハ)2.5質量部、色素(ニ)2.5質量部、色素(ホ)2.5質量部、IRGACURE(R) 369E(BASF社製)6質量部、オルトキシレン250質量部からなる偏光膜用塗料をバーコーターを用いて塗布し、110℃で3分間乾燥し厚み2μmの膜を形成した。引き続きUV光を照射し、液晶化合物からなる偏光子を設けた。
(Formation of polarizing film)
Compound (a) 75 parts by mass, compound (b) 25 parts by mass, dye (c) 2.5 parts by mass, dye (d) 2.5 parts by mass, dye (e) 2.5 parts by mass, IRGACURE (R) A polarizing film paint consisting of 6 parts by mass of 369E (manufactured by BASF) and 250 parts by mass of ortho-xylene was applied using a bar coater and dried at 110° C. for 3 minutes to form a film with a thickness of 2 μm. Subsequently, UV light was applied, and a polarizer made of a liquid crystal compound was provided.

偏光子D(液晶化合物偏光子(光配向))の製造方法
(光配向層用塗料の合成)
特開2013-33248号公報の実施例1、実施例2、実施例3の記載に基づき、下記式のポリマー(ヘ)のシクロペンタノン5質量%溶液を製造した。
Method for manufacturing polarizer D (liquid crystal compound polarizer (photo-alignment)) (synthesis of paint for photo-alignment layer)
Based on the descriptions of Examples 1, 2, and 3 of JP-A-2013-33248, a 5% by mass cyclopentanone solution of polymer (f) of the following formula was produced.

Figure 0007238325000011
偏光子E(転写型液晶化合物偏光子)の製造方法
基材として二軸延伸ポリエステルフィルムを用いた以外は偏光子Cと同様にした。
Figure 0007238325000011
Method for producing polarizer E (Transfer-type liquid crystal compound polarizer) The same method as for polarizer C was used, except that a biaxially stretched polyester film was used as the substrate.

(光配向層の形成)
積層フィルムに上記組成の光配向層用塗料をバーコーターを用いて塗布し、80℃で1分間乾燥し厚み150nmの膜を形成した。引き続き、偏光UV光を照射し、光配向層を積層した。配向制御方向は、UVの偏光方向で制御した。
(Formation of photo-alignment layer)
The laminate film was coated with the photo-alignment layer coating composition having the above composition using a bar coater and dried at 80° C. for 1 minute to form a film having a thickness of 150 nm. Subsequently, it was irradiated with polarized UV light to laminate a photo-alignment layer. The alignment control direction was controlled by the UV polarization direction.

λ/4、λ/2複合相差層転写フィルムの製造
基材として厚み50μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムをラビング処理した。ラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に1/4波長層を設けた。さらに、1/4波長層上にポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型の2質量%水溶液(界面活性剤0.2%)を塗布、乾燥し、厚さ約100nmのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。PVAのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、1/2波長層を設けた。1/4波長層を設ける際のラビング方向と1/2波長層を設ける際のラビング方向との角度は60度となるように行った。
Production of λ/4 and λ/2 Composite Retardation Layer Transfer Film A biaxially oriented polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 μm was rubbed as a substrate. A retardation layer-forming solution was applied to the rubbed surface by a bar coating method, dried, oriented, and cured by irradiation with ultraviolet rays to provide a quarter-wave layer on the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. Furthermore, polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol 1000 completely saponified type 2 mass% aqueous solution (surfactant 0.2%) was applied on the quarter-wave layer and dried to obtain a polyvinyl alcohol film with a thickness of about 100 nm. Subsequently, the surface of the polyvinyl alcohol film was subjected to rubbing treatment, and the rubbing-treated surface of PVA was coated with a solution for forming a retardation layer by a bar coating method, dried, and after orientation treatment, was cured by irradiating with ultraviolet rays. A 1/2 wavelength layer was provided, and the angle between the rubbing direction when providing the 1/4 wavelength layer and the rubbing direction when providing the 1/2 wavelength layer was 60 degrees.

位相差層形成用溶液
LC242(BASF社製) 75質量部
下記化合物 20質量部
Retardation layer forming solution LC242 (manufactured by BASF) 75 parts by mass The following compound 20 parts by mass

Figure 0007238325000012
トリメチロールプロパントリアクリレート 5質量部
イルガキュア379 3質量部
界面活性剤 0.1質量部
メチルエチルケトン 250質量部
Figure 0007238325000012
Trimethylolpropane triacrylate 5 parts by mass Irgacure 379 3 parts by mass Surfactant 0.1 parts by mass Methyl ethyl ketone 250 parts by mass

λ/4相差層転写フィルムの製造
厚み50μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムにポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型の2質量%水溶液(界面活性剤0.2%)を塗布、乾燥し、厚さ約100nmのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。PVAのラビング処理面に、位相差層形成用溶液をバーコート法により塗布し、乾燥、配向処理後、紫外線を照射して硬化させ、λ/4波長層を設けた。
Manufacture of λ/4 retardation layer transfer film Polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol 1000 completely saponified 2% by mass aqueous solution (surfactant 0.2%) is applied to a 50 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film, and dried. A polyvinyl alcohol film having a thickness of about 100 nm was obtained, and then the surface of the polyvinyl alcohol film was subjected to a rubbing treatment. After drying and orientation treatment, it was cured by irradiating with ultraviolet rays to form a λ/4 wavelength layer.

なお、これらにおいて、位相差は位相差層の厚みでコントロールした。位相差層の厚みは、1/4波長層で1.2μm、1/2波長層で2.3μmであった。 In these, the retardation was controlled by the thickness of the retardation layer. The thickness of the retardation layer was 1.2 μm for the quarter-wave layer and 2.3 μm for the half-wave layer.

実施例1~26、比較例1~6
積層フィルムF1~F17の基材フィルム面または光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子B(基材積層偏光子)の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ/4、λ/2複合相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のPETフィルムを剥離し、位相差層を有する偏光板を得た。貼り合わせは偏光子の吸収軸と、1/2波長層の配向方向(ラビング方向が15度)、1/4波長層の配向方向(ラビング方向)が75度となるようにした。
Examples 1-26, Comparative Examples 1-6
A commercially available UV-curable acrylic adhesive was applied to the substrate film surface or the optically isotropic layer surface of the laminated films F1 to F17 using an applicator. The polarizer surface of the polarizer B (substrate-laminated polarizer) was adhered to the coated surface, and the laminated film surface was irradiated with a high-pressure mercury lamp for curing. Thereafter, the substrate film of the substrate-laminated polarizer was peeled off to laminate the polarizer. The slow axis of the base film of the laminated film and the light transmission axis of the polarizer were made parallel. A commercially available optical adhesive sheet is attached to this polarizer, the retardation surface of the transfer type λ/4, λ/2 composite retardation layer transfer film is attached to the optical adhesive surface, and the PET film as the base material is peeled off. to obtain a polarizing plate having a retardation layer. The bonding was performed so that the absorption axis of the polarizer, the alignment direction of the half-wave layer (the rubbing direction is 15 degrees) and the alignment direction of the quarter-wave layer (the rubbing direction) are 75 degrees.

実施例27~30
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が垂直になるようにした以外は実施例4、5、17、18と同様にして、位相差層を有する偏光板を得た。
Examples 27-30
A polarizing plate having a retardation layer was obtained in the same manner as in Examples 4, 5, 17, and 18, except that the slow axis of the base film of the laminated film and the light transmission axis of the polarizer were perpendicular to each other. .

実施例31 Example 31

凹凸面を有するフィルムA1の凹凸面に下記高屈折率粘着剤kを乾燥後厚みが5μmになるよう塗工し、加熱して溶剤を除去した後、この塗工面に偏光子B(基材積層偏光子)の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。後は上と同様にしてλ/4、λ/2複合相差層を積層した。 The following high refractive index adhesive k is applied to the uneven surface of the film A1 having an uneven surface so that the thickness after drying is 5 μm, and the solvent is removed by heating. The polarizer surface of the polarizer) was bonded together, and the laminated film surface was irradiated with a high-pressure mercury lamp to cure. Thereafter, the substrate film of the substrate-laminated polarizer was peeled off to laminate the polarizer. After that, λ/4 and λ/2 composite retardation layers were laminated in the same manner as above.

高屈折率粘着剤kの作成
2-エチルヘキシルアクリレート30質量部、エトキシ化o-フェニルフェノールアク
リレート(新中村化学工業社製,製品名:A-LEN-10)70質量部と重合開始剤と
して0.25質量部をアゾビスイソブチロニトリルを酢酸エチル中で反応させて共重合体
(Mw=40万)の酢酸エチル溶液(固形分濃度30質量%)を得た。
Preparation of high refractive index adhesive k 30 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 70 parts by mass of ethoxylated o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-LEN-10), and 0.5 parts by mass as a polymerization initiator. 25 parts by mass of azobisisobutyronitrile was reacted in ethyl acetate to obtain an ethyl acetate solution of a copolymer (Mw=400,000) (solid concentration: 30% by mass).

実施例32~34
凹凸面を有するフィルムA1の凹凸面にそれぞれ光学等方層用コート剤b、e、fを厚みが5μmとなるよう塗布し、この塗工面に偏光子B(基材積層偏光子)の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、基材積層偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。後は上と同様にしてλ/4、λ/2複合相差層を積層した。
実施例35、36
凹凸面を有するフィルムとしてB1を用いた以外は実施例31、33と同様にした。
Examples 32-34
Coating agents b, e, and f for the optical isotropic layer were applied to the uneven surface of the film A1 having the uneven surface so as to have a thickness of 5 μm, and the polarizer of the polarizer B (substrate laminated polarizer) was applied to the coated surface. The surfaces of the laminated film were laminated together and cured by irradiating a high-pressure mercury lamp from the laminated film surface. Thereafter, the substrate film of the substrate-laminated polarizer was peeled off to laminate the polarizer. After that, λ/4 and λ/2 composite retardation layers were laminated in the same manner as above.
Examples 35, 36
The same procedures as in Examples 31 and 33 were performed except that B1 was used as the film having an uneven surface.

実施例37
積層フィルムF5の光学等方層面に市販の紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に偏光子E(転写型液晶化合物偏光子)の偏光子面を貼り合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させた。その後、転写型液晶化合物偏光子の基材フィルムを剥離して偏光子を積層した。積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸は平行になるようにした。この偏光子面に市販の光学用粘着剤シートを貼り合わせ、光学用粘着剤面に転写型λ/4相差層転写フィルムの位相差面を貼り合わせ、基材のPETフィルムを剥離した。貼り合わせは偏光子の吸収軸と1/4波長層の配向方向(ラビング方向)が45度となるようにした。
Example 37
A commercially available UV-curable acrylic adhesive was applied to the optically isotropic layer surface of the laminated film F5 using an applicator. The polarizer surface of the polarizer E (transfer type liquid crystal compound polarizer) was adhered to the coated surface, and the laminated film surface was irradiated with a high-pressure mercury lamp to cure. After that, the base film of the transfer type liquid crystal compound polarizer was peeled off and the polarizer was laminated. The slow axis of the base film of the laminated film and the light transmission axis of the polarizer were made parallel. A commercially available optical pressure-sensitive adhesive sheet was adhered to the polarizer surface, the retardation surface of the transfer type λ/4 retardation layer transfer film was adhered to the optical pressure-sensitive adhesive surface, and the PET film as the substrate was peeled off. The bonding was performed so that the absorption axis of the polarizer and the alignment direction (rubbing direction) of the quarter-wave layer were at 45 degrees.

実施例38
積層フィルムF5の光学等方層面に偏光子C(液晶化合物偏光子(ラビング処理))を設けた。引き続き、実施例37と同様にしてλ/4層を設けた。
Example 38
A polarizer C (liquid crystal compound polarizer (rubbing treatment)) was provided on the optically isotropic layer surface of the laminated film F5. Subsequently, a λ/4 layer was provided in the same manner as in Example 37.

実施例39
積層フィルムF5の光学等方層面に偏光子D(液晶化合物偏光子(光配向))を設けた。引き続き、実施例37と同様にしてλ/4層を設けた。
Example 39
A polarizer D (liquid crystal compound polarizer (photoalignment)) was provided on the optically isotropic layer surface of the laminated film F5. Subsequently, a λ/4 layer was provided in the same manner as in Example 37.

実施例40~42
実施例37~39と同様に指定積層フィルムF6の基材フィルム面に偏光子-位相差層を設けた。
Examples 40-42
In the same manner as in Examples 37 to 39, a polarizer-retardation layer was provided on the substrate film surface of designated laminated film F6.

実施例43
積層フィルムの基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が45度になるようにした以外は実施例5と同様にした。
Example 43
The procedure was the same as in Example 5, except that the slow axis of the base film of the laminated film and the light transmission axis of the polarizer were at 45 degrees.

実施例44
積層フィルムF6の基材フィルム面に偏光子C(液晶化合物偏光子(ラビング処理))を基材フィルムの遅相軸と偏光子の透光軸が45度になるようにしたて設けた。さらに偏光子の上に実施例37と同様にしてλ/4層を設けた。
Example 44
A polarizer C (liquid crystal compound polarizer (rubbing treatment)) was provided on the base film surface of the laminate film F6 so that the slow axis of the base film and the light transmission axis of the polarizer were at 45 degrees. Further, a λ/4 layer was provided on the polarizer in the same manner as in Example 37.

ハードコート層、低屈折率層、高屈折率層の作成
(低屈折層用組成物)
ペルトロン(TM) A-2508LR(ペルノックス株式会社製 中空シリカ含有タイプ 屈折率1.33(アッベ法))
(高屈折層用組成物)
ペルトロン(TM) A-2300(ペルノックス株式会社製 屈折率1.65(アッベ法))
(ハードコート用組成物)
ペルトロン(TM) A-2005(ペルノックス株式会社製)
Preparation of hard coat layer, low refractive index layer, and high refractive index layer (composition for low refractive index layer)
Peltron (TM) A-2508LR (manufactured by Pernox Co., Ltd., hollow silica-containing type, refractive index 1.33 (Abbe method))
(Composition for high refractive layer)
Peltron (TM) A-2300 (manufactured by Pelnox Co., Ltd., refractive index 1.65 (Abbe method))
(Composition for hard coat)
Peltron (TM) A-2005 (manufactured by Pelnox Co., Ltd.)

対象フィルムに上記組成物をバーコーターで塗工後、80℃で乾燥、溶剤を除去した、さらに高圧水銀灯で紫外線を照射し硬化させた。これら組成物において、光重合開始剤としてイルガキュア184(3質量%、対固形分)を用いた。膜厚を薄くする場合は、メチルイソブチルケトンで希釈して調整した。 After coating the above composition on the target film with a bar coater, it was dried at 80° C. to remove the solvent, and further cured by irradiation with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp. In these compositions, Irgacure 184 (3% by weight, based on solid content) was used as a photopolymerization initiator. When thinning the film thickness, it was adjusted by diluting with methyl isobutyl ketone.

実施例45
積層フィルムF5の基材フィルム面に低屈折率層(厚み3μm)を設けた。これ以外は実施例5と同様にした。
Example 45
A low refractive index layer (thickness: 3 μm) was provided on the base film surface of the laminated film F5. Other than this, the procedure was the same as in Example 5.

実施例46
積層フィルムF5の基材フィルム面にハードコート層(厚さ3μm)を設け、さらにその上に高屈折率層(厚さ130nm)、低屈折率層(厚さ86nm)を設けた。これ以外は実施例5と同様にした。
Example 46
A hard coat layer (thickness: 3 μm) was provided on the base film surface of the laminated film F5, and a high refractive index layer (thickness: 130 nm) and a low refractive index layer (thickness: 86 nm) were further provided thereon. Other than this, the procedure was the same as in Example 5.

実施例47
積層フィルムF6の光学等方層面に低屈折率層(厚み85nm)を設けた以外は実施例19と同様に行った。
Example 47
The procedure of Example 19 was repeated except that a low refractive index layer (thickness: 85 nm) was provided on the optically isotropic layer surface of the laminated film F6.

実施例48
偏光子として偏光子A(単層偏光子)を用いた以外は実施例45と同様に行った。
Example 48
The same procedure as in Example 45 was repeated except that polarizer A (single-layer polarizer) was used as the polarizer.

市販の有機ELを用いた携帯用端末の円偏光板を剥がし、代わりに上記で得られた円偏光板を置いて評価した。円偏光板の偏光子の透過軸方向は元の円偏光板の透過軸方向と同じになるようにした。評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。 The circularly polarizing plate of a portable terminal using a commercially available organic EL was peeled off, and instead the circularly polarizing plate obtained above was placed for evaluation. The direction of the transmission axis of the polarizer of the circularly polarizing plate was set to be the same as the direction of the transmission axis of the original circularly polarizing plate. For the evaluation, confirmation of the iridescence and contrast of the image were observed.

(円偏光板の評価)
市販の有機ELを用いた携帯用端末の円偏光板を剥がし、代わりに上記で得られた円偏光板を置いて評価した。円偏光板の偏光子の透過軸方向は元の円偏光板の透過軸方向と同じになるようにした。評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。
(Evaluation of circularly polarizing plate)
The circularly polarizing plate of a portable terminal using a commercially available organic EL was peeled off, and instead the circularly polarizing plate obtained above was placed for evaluation. The direction of the transmission axis of the polarizer of the circularly polarizing plate was set to be the same as the direction of the transmission axis of the original circularly polarizing plate. For the evaluation, confirmation of the iridescence and contrast of the image were observed.

(虹斑の観察)
ディスプレイの表示を白一色にし、正面及び斜め方向から見て虹斑の有無を確認した。
○:虹斑は観察されなかった
△:わずかに虹斑が観察された
×:虹斑が観察された
(Observation of rainbow spots)
The display was set to solid white, and the presence or absence of iridescence was confirmed by viewing from the front and oblique directions.
○: No iridescence was observed △: Slight iridescence was observed ×: Iridescence was observed

(コントラストの観察)
ディスプレイの表示を風景の画像とし、上方から卓上の蛍光灯の光を照射して正面からのコントラストを観察した。
◎:鮮やかなコントラストのままであった。
○:散乱光によりわすかにコントラストの低下が認められた。
△:コントラストの低下が認められたが、画像の観察は可能であった。
×:散乱光により、画像が見にくくなった
(observation of contrast)
The image of the scenery was displayed on the display, and the contrast from the front was observed by illuminating the light from the fluorescent lamp on the table from above.
⊚: Vivid contrast remained.
Good: A slight reduction in contrast was observed due to scattered light.
Δ: A decrease in contrast was observed, but the image could be observed.
×: Image became difficult to see due to scattered light

(反射防止効果)
○:駆動用配線の輝きが認められた。
×:金属配線の輝きは目立たなかった。
(Anti-reflection effect)
◯: Brightness of the drive wiring was observed.
x: The brilliance of the metal wiring was not conspicuous.

(偏光解消)
偏光サングラスをかけ、偏光子の透過軸が水平方向になる角度で観察した。
○:ブラックアウトすることはなかった。
×:ブラックアウトし、画面が見えなくなった。
(depolarization)
Polarized sunglasses were worn, and observation was made at an angle in which the transmission axis of the polarizer was horizontal.
A: There was no blackout.
×: Blacked out and the screen became invisible.

各実施例の構成及び及び評価結果を表5に示す。 Table 5 shows the configuration and evaluation results of each example.

Figure 0007238325000013
1*:積層フィルム番号
2*:粗面化フィルム番号
3*:凹凸面
4*:光学等方性層コート剤
5*:光学等方層屈折率
6*:偏光子を積層した表面
7*:白化評価
8*: 偏光子
9*:偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸との角度
10*:位相差層
11*:画像コントラスト
12*:虹斑評価
13*:反射防止効果
14*:偏光解消性
Figure 0007238325000013
1*: laminated film number 2*: roughened film number 3*: uneven surface 4*: optically isotropic layer coating agent 5*: optically isotropic layer refractive index 6*: polarizer laminated surface 7*: Whitening evaluation 8*: Polarizer 9*: Angle between the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film 10*: Retardation layer 11*: Image contrast 12*: Rainbow spot evaluation 13*: Antireflection effect 14 *: depolarization

本発明の偏光板により、急峻なピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。 The polarizing plate of the present invention can suppress iridescence and ensure high transparency and vivid image display when used in an environment of a light source having a steep peak.

Claims (7)

下記の特徴(a)~()を有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルム、偏光子、及び液晶化合物からなる位相差層をこの順に有する偏光板。
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.4~4μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy)が0.07~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15であり、かつ、1.57以上である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとし、ΔBfNxy=Bfnx-Bfnyとする)
(d)基材フィルムのリタデーション差(ΔRe)が90~800nmである。
(但し、ΔRe=Ra×ΔBfNxyである)
(e)基材フィルムの面内リタデーションが3000~30000nmである。
(f)基材フィルムのBfnxが1.67~1.73である。
(g)基材フィルムがポリエステルフィルムである。
(h)光学等方層は、前記凹凸面上に他の層を介することなく直接接触して設けられているか、又は、易接着層のみを介して設けられている。
A polarizing plate having, in this order, a laminated film having a substrate film and an optically isotropic layer, a polarizer, and a retardation layer made of a liquid crystal compound, which has the following characteristics (a) to ( h ).
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.4 to 4 μm.
(b) The refractive index anisotropy (ΔBfNxy) of the base film is 0.07 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is from Bfny−0.15 to Bfnx+0.15 and is 1.57 or more. .
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, the refractive index in the fast axis direction is Bfny , and ΔBfNxy=Bfnx−Bfny )
(d) The substrate film has a retardation difference (ΔRe) of 90 to 800 nm.
(However, ΔRe=Ra×ΔBfNxy)
(e) The in-plane retardation of the substrate film is 3000 to 30000 nm.
(f) Bfnx of the base film is 1.67 to 1.73.
(g) The base film is a polyester film.
(h) The optically isotropic layer is provided in direct contact with the irregular surface without any other layer interposed therebetween, or is provided only via the easy-adhesion layer.
前記基材フィルムの面配向度(ΔP)が0.09~0.15である請求項1に記載の偏光板。 2. The polarizing plate according to claim 1, wherein the base film has a plane orientation degree (ΔP) of 0.09 to 0.15. 前記光学等方層の屈折率がBfny~Bfnxである請求項1又は2に記載の偏光板。 3. The polarizing plate according to claim 1, wherein the optically isotropic layer has a refractive index of Bfny to Bfnx. 前記光学等方層の屈折率がBfny+0.02~Bfnxである請求項1~3のいずれかに記載の偏光板。 4. The polarizing plate according to claim 1, wherein the optically isotropic layer has a refractive index of Bfny+0.02 to Bfnx. 請求項1~4のいずれかに記載の偏光板を有する液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to any one of claims 1 to 4. 請求項1~4のいずれかに記載の偏光板を有する有機EL表示装置。 An organic EL display device comprising the polarizing plate according to any one of claims 1 to 4. QD(量子ドット)光源、及び/又は、赤色領域用にKSF蛍光体を用いた光源を有する、請求項5に記載の液晶表示装置。 6. The liquid crystal display device according to claim 5, comprising a QD (quantum dot) light source and/or a light source using a KSF phosphor for the red region.
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