JP7187964B2 - LAMINATED FILM AND POLARIZING PLATE USING THE SAME - Google Patents

LAMINATED FILM AND POLARIZING PLATE USING THE SAME Download PDF

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Description

本発明は、積層フィルム及びそれを用いた偏光板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laminated film and a polarizing plate using the same.

ポリエステルフィルムなどの複屈折性を有するフィルムを蛍光灯又は冷陰極管光源の環境下で使用した場合、レタデーションに起因する虹斑が生じることが知られていた。そのため、液晶ディスプレイなどに用いられる偏光子の保護フィルムには光学的に等方性を有するセルロース系のフィルムが用いられてきた。 It has been known that when a birefringent film such as a polyester film is used under the environment of a fluorescent lamp or a cold cathode tube light source, iridescence caused by retardation occurs. Therefore, optically isotropic cellulose-based films have been used as protective films for polarizers used in liquid crystal displays and the like.

最近、高いレタデーションを有するフィルムを連続的な発光スペクトルを有する白色光源と組み合わせることで虹斑を解消する技術が提案されており(例えば、特許文献1、特許文献2等)、偏光サングラスに対応した偏光解消フィルム又は偏光子保護フィルムとして液晶ディスプレイ等で実用化されてきた。しかしながら、この技術は、冷陰極管光源又はKSF蛍光体(KSiF結晶にMnを添加した蛍光体)と呼ばれるような発光スペクトルの赤色域に急峻な発光ピークを持つ光源を用いる場合に改善の余地があった。また、高いレタデーションを確保するためにはフィルムに厚みが必要であり、近年の画像表示装置の薄型化には十分対応しきれない恐れがあった。 Recently, a technique has been proposed to eliminate iridescence by combining a film having a high retardation with a white light source having a continuous emission spectrum (e.g., Patent Document 1, Patent Document 2, etc.), which is compatible with polarized sunglasses. It has been put to practical use as a depolarizing film or a polarizer protective film in liquid crystal displays and the like. However, this technology is improved when using a light source with a sharp emission peak in the red region of the emission spectrum, such as a cold cathode tube light source or a KSF phosphor (a phosphor in which Mn is added to K 2 SiF 6 crystal). There was room for In addition, the film needs to be thick in order to ensure a high retardation, and there is a fear that it will not be able to sufficiently cope with the thinning of image display devices in recent years.

急峻な発光ピークを持つ光源を用いた液晶ディスプレイの偏光解消フィルムとして、複屈折を有するフィルムの表面に凹凸を設けることで肉眼で視認可能なレベルより小さな領域内で局所的にλ/4以上の位相差を発生させたフィルムが提案されている(例えば特許文献3)。しかし、かかる従来技術には、画像のコントラストが低い、強い外光環境下では画面が白くなり画像が見えにくい、という問題点があった。 As a depolarizing film for a liquid crystal display using a light source with a steep emission peak, by providing unevenness on the surface of the film having birefringence, it is possible to locally reduce the wavelength to λ/4 or more within a region smaller than the level visible to the naked eye. A film in which retardation is generated has been proposed (for example, Patent Document 3). However, such prior art has problems that the contrast of the image is low, and that the screen becomes white and the image is difficult to see in an environment of strong external light.

特開2011-215646号公報JP 2011-215646 A 国際公開第2011/162198号WO2011/162198 特開2017-161599号公報JP 2017-161599 A

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、急峻な発光ピークを持つ光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保し、外光による反射を抑制することができる積層フィルム及びそれを用いた偏光板等を提供することにある。 The present invention has been made against the background of such problems of the prior art. That is, the object of the present invention is to suppress iridescence, ensure high transparency and vivid image displayability, and suppress reflection due to external light when used in an environment with a light source having a steep emission peak. The object is to provide a laminated film capable of

本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。
すなわち本発明は、以下の態様を包含する。
項1.
下記の特徴全てを有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルムであって、基材フィルム及び/又は光学等方層の上に低屈折率層を有する積層フィルム。
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.2~10μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(Bfnx-Bfny)が0.04~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとする)
項2.
項1に記載の積層フィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板。
項3.
項2に記載の偏光板を含む画像表示装置。
なお、「基材フィルム及び/又は光学等方層の上に低屈折率層を有する」とは、低屈折率層が基材フィルム及び/又は光学等方層に直接(接触して)積層されている場合のみならず、低屈折率層が基材フィルム及び/又は光学等方層に任意のフィルム又は層を介して積層されている場合も含む。
The present inventor has completed the present invention as a result of intensive studies to achieve this object.
That is, the present invention includes the following aspects.
Section 1.
A laminated film having a substrate film and an optically isotropic layer, the laminated film having a low refractive index layer on the substrate film and/or the optically isotropic layer, and having all of the following characteristics.
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.2 to 10 μm.
(b) The refractive index anisotropy (Bfnx-Bfny) of the base film is from 0.04 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is from Bfny−0.15 to Bfnx+0.15.
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, and the refractive index in the fast axis direction is Bfny.)
Section 2.
A polarizing plate using the laminated film according to item 1 as a polarizer protective film.
Item 3.
Item 3. An image display device comprising the polarizing plate according to item 2.
In addition, "having a low refractive index layer on the base film and/or the optically isotropic layer" means that the low refractive index layer is laminated directly (in contact with) the base film and/or the optically isotropic layer. In addition to the case where the low refractive index layer is laminated on the base film and/or the optically isotropic layer via an arbitrary film or layer.

本発明の積層フィルムにより、急峻な発光ピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保し、外光による反射を抑制することができる。 The laminated film of the present invention suppresses rainbow spots, ensures high transparency and vivid image displayability, and suppresses reflection due to external light when used in an environment with a light source having a steep emission peak. be able to.

本発明の積層フィルムは、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムの凹凸面に光学等方層を有し、基材フィルム及び/又は光学等方層の上に低屈折率層を有することが好ましい。なお、以下単に積層フィルム又は低反射フィルムという場合はこれを意味するものとする。
(基材フィルム)
まず、基材フィルムに関して説明する。
The laminated film of the present invention has an optically isotropic layer on the uneven surface of a substrate film having an uneven surface (roughened surface), and a low refractive index layer on the substrate film and/or the optical isotropic layer. It is preferable to have In addition, the term "laminate film" or "low-reflection film" simply means this.
(Base film)
First, the base film will be explained.

少なくとも基材フィルムとしては、屈折率異方性を持たせられるものであれば特に限定はなく、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられる。中でも屈折率異方性の高いフィルムが容易に得られる点でポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートなどが挙げられ、中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらのポリエステルは、フィルムとしての機械的物性、耐熱性、及び寸法安定性を損なわない程度(例えば10モル%以下)であれば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノールビスフェノールAのエチレンオキシド(EO)1~2モル付加物等を共重合してもよい。なお、例えばポリエチレンテレフタレートの重合体であれば通常重合時に副生成物のジエチレングリコールが1~2モル共重合するが、このような副生成物を含んでいてもよい。 At least the base film is not particularly limited as long as it can have refractive index anisotropy, and examples thereof include polyester, polyamide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, polyamide, and polycarbonate. Among them, polyester is preferable because a film having high refractive index anisotropy can be easily obtained. Examples of polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polytetramethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, etc. Among them, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. These polyesters include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and ethylene glycol, as long as they do not impair the mechanical properties, heat resistance, and dimensional stability of the film (for example, 10 mol % or less). . For example, in the case of a polyethylene terephthalate polymer, 1 to 2 mol of diethylene glycol, which is a by-product, is usually copolymerized during polymerization, and such a by-product may be contained.

基材フィルムは複屈折性を有する。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の下限は、好ましくは1.65であり、より好ましくは1.66であり、さらに好ましくは1.67であり、特に好ましくは1.68である。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の上限は、好ましくは1.73であり、より好ましくは1.72であり、さらに好ましくは1.71であり、特に好ましくは1.7である。 The base film has birefringence. The lower limit of the slow axis refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.65, more preferably 1.66, still more preferably 1.67, and particularly preferably 1.68. The upper limit of the slow axis direction refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.73, more preferably 1.72, still more preferably 1.71, and particularly preferably 1.7.

基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の下限は、好ましくは1.53であり、より好ましくは1.55であり、さらに好ましくは1.56であり、特に好ましくは1.57である。基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の上限は、好ましくは1.62であり、より好ましくは1.61であり、さらに好ましくは1.6である。 The lower limit of the fast axis refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.53, more preferably 1.55, still more preferably 1.56, and particularly preferably 1.57. The upper limit of the fast axis direction refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.62, more preferably 1.61, still more preferably 1.6.

基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy=Bfnx-Bfny)の下限は、好ましくは0.04であり、より好ましくは0.05であり、さらに好ましくは0.06であり、特に好ましくは0.07である。当該下限が0.04以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。基材フィルムの屈折率異方性の上限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.18であり、さらに好ましくは0.17であり、特に好ましくは0.16である。当該上限が0.2以下であると進相軸方向の機械的強度を実用範囲に調節することができ、製造も容易になる。なお、基材フィルムの屈折率は、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy=Bfnx−Bfny) of the substrate film is preferably 0.04, more preferably 0.05, still more preferably 0.06, and particularly preferably 0.07. When the lower limit is 0.04 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the refractive index anisotropy of the substrate film is preferably 0.2, more preferably 0.18, still more preferably 0.17, and particularly preferably 0.16. When the upper limit is 0.2 or less, the mechanical strength in the fast axis direction can be adjusted within a practical range, and production is facilitated. The refractive index of the base film is a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.

凹凸面付与前(粗面化前)の基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは20μmであり、さらに好ましくは25μmである。当該下限が15μm以上であれば、凹凸付与時に厚みが低減しても、優れた機械的強度を有する。凹凸面付与前の基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは200μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が200μm以下であれば、取り扱い性に優れており、薄型にする(例:薄型の画像表示装置に用いる)のに好適である。 The lower limit of the thickness of the base film before providing the uneven surface (before roughening) is preferably 15 μm, more preferably 20 μm, and still more preferably 25 μm. If the lower limit is 15 μm or more, excellent mechanical strength is obtained even if the thickness is reduced when the unevenness is imparted. The upper limit of the thickness of the base film before the uneven surface is provided is preferably 200 μm, more preferably 150 μm, still more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. If the upper limit is 200 μm or less, it is excellent in handleability and suitable for thinning (eg, for use in thin image display devices).

凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, even more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, most preferably 4000 nm. is. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, even more preferably 15000 nm, still more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm, more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.

凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)と厚み方向のレタデーション(Rth)との比(Re/Rth)の下限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.5であり、さらに好ましくは0.6である。当該下限が0.2以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムのRe/Rthの上限は、機械的強度の観点で好ましくは2であり、より好ましくは1.5であり、さらに好ましくは1.2であり、特に好ましくは1である。 The lower limit of the ratio (Re/Rth) between the in-plane retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) of the base film before the uneven surface is imparted is preferably 0.2, more preferably 0.5, and even more preferably. is 0.6. When the lower limit is 0.2 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of Re/Rth of the base film before the rough surface is provided is preferably 2, more preferably 1.5, still more preferably 1.2, and particularly preferably 1 from the viewpoint of mechanical strength.

基材フィルムのNz係数の下限は、好ましくは1.3であり、より好ましくは1.4であり、さらに好ましくは1.45である。当該下限が1.3以上であると進相軸方向の機械的強度も優れる。基材フィルムのNz係数の上限は、好ましくは2.5であり、より好ましくは2.2であり、さらに好ましくは2であり、特に好ましくは1.8であり、最も好ましくは1.7である。当該上限が2.5以下であると虹斑をより効果的に解消することができる。 The lower limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 1.3, more preferably 1.4, still more preferably 1.45. When the lower limit is 1.3 or more, the mechanical strength in the fast axis direction is also excellent. The upper limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 2.5, more preferably 2.2, even more preferably 2, particularly preferably 1.8, most preferably 1.7. When the upper limit is 2.5 or less, iridescence can be more effectively eliminated.

基材フィルムの面配向度ΔPの下限は、好ましくは0.08であり、より好ましくは0.09であり、さらに好ましくは0.1である。当該下限が0.08以上であると虹斑をより効果的に解消することができるだけでなく、フィルムの厚み斑を低減することもできる。基材フィルムの面配向度ΔPの上限は、好ましくは0.15であり、より好ましくは0.14であり、さらに好ましくは0.13である。当該上限が0.15以下であると屈折率異方性をより高く保つことができる。 The lower limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.08, more preferably 0.09, and still more preferably 0.1. When the lower limit is 0.08 or more, not only can iridescence be effectively eliminated, but also thickness unevenness of the film can be reduced. The upper limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.15, more preferably 0.14, and still more preferably 0.13. When the upper limit is 0.15 or less, the refractive index anisotropy can be kept higher.

基材フィルムは屈折率異方性を持たせるため、一軸方向に配向されていることが好ましい。配向方法としては、それぞれの樹脂に合わせた通常の方法で行うことができる。例えば、溶融した樹脂を冷却ロール上にシート状に押し出して製造する場合であれば、冷却ロールを押し出される樹脂の速度以上に設定して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法などが挙げられる。 The substrate film is preferably uniaxially oriented in order to have refractive index anisotropy. Orientation can be carried out by a normal method suitable for each resin. For example, if the melted resin is extruded on a cooling roll to form a sheet, the cooling roll is set to a speed higher than the speed of the extruded resin, and the unstretched film that has been melted and extruded is heated. Examples include a method of stretching and orienting the film in the longitudinal direction with a group of rolled rolls, and a method of stretching and orienting the unstretched film melted and extruded in the transverse direction or oblique direction by heating in a tenter.

これらの中でも、基材フィルムの配向方法としては、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、及び、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法が好ましい。縦方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。横方向、又は斜め方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。 Among these, the method of orienting the base film includes a method of stretching and orienting a melted and extruded unstretched film in the longitudinal direction with a group of heated rolls, and a method of stretching the melted and extruded unstretched film. A method of orientation by heating in a tenter and stretching in a horizontal direction or an oblique direction is preferred. The draw ratio in the longitudinal direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times. The draw ratio in the transverse direction or oblique direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times.

なお、縦方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、縦方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)横方向の延伸を加えたり、縦方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)横方向の延伸を加えてもよい。同様に、横方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、横方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)縦方向の延伸を加えたり、横方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)縦方向の延伸を加えてもよい。また、より配向方向の配向性を上げるため、横方向の延伸時又は延伸後に縦方向に若干収縮させてもよい。収縮後の幅は、延伸時の幅に対して0.7~0.995倍が好ましく、さらには0.8~0.99倍が好ましく、特には0.9~0.98倍が好ましい。なお、縦方向の延伸、及び横方向の延伸は、テンター型の同時二軸延伸機で行ってもよい。 In addition, even in the case of orientation in the machine direction, it is weak (about 2.2 times or less) before stretching in the machine direction in order to increase the mechanical strength in the direction perpendicular to the orientation direction and to adjust the shrinkage characteristics. 2) transverse stretching may be added, or weak transverse stretching (about 1.5 times or less) may be added after longitudinal stretching. Similarly, even in the case of orientation in the transverse direction, a weak (about 2.2 times (less than 1.5 times) or weaker (less than about 1.5 times) stretching in the machine direction may be added after the stretching in the transverse direction. Further, in order to further increase the orientation in the orientation direction, the film may be slightly shrunk in the machine direction during or after stretching in the transverse direction. The width after shrinkage is preferably from 0.7 to 0.995 times, more preferably from 0.8 to 0.99 times, particularly preferably from 0.9 to 0.98 times the width during stretching. The stretching in the longitudinal direction and the stretching in the transverse direction may be performed by a tenter-type simultaneous biaxial stretching machine.

延伸時の温度(及び予備加熱の温度)は、縦方向、及び横方向とも80~150℃が好ましい。また、延伸後は、基材フィルムの耐熱性を確保するため、延伸時の加熱温度より高温で熱固定することが好ましい。熱固定温度としては150~250℃が好ましく、さらに好ましくは170~245℃である。 The stretching temperature (and preheating temperature) is preferably 80 to 150° C. both in the machine direction and in the transverse direction. Moreover, after stretching, in order to ensure the heat resistance of the base film, it is preferable to heat set at a temperature higher than the heating temperature during stretching. The heat setting temperature is preferably 150 to 250°C, more preferably 170 to 245°C.

基材フィルムは、波長380nmの光線透過率が20%以下であることが望ましい。波長380nmの光線透過率は15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましい。なお、波長380nmの光線透過率は、フィルムの平面に対して垂直方向に測定したものであり、分光光度計(例えば、日立U-3500型)を用いて測定することができる。 The base film preferably has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 380 nm. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is more preferably 15% or less, even more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is measured in the direction perpendicular to the plane of the film, and can be measured using a spectrophotometer (for example, Hitachi U-3500).

基材フィルムの波長380nmの光線透過率を20%以下にするためには、基材フィルムに配合する紫外線吸収剤の種類、濃度、及び基材フィルムの厚みを適宜調節することが望ましい。本発明で使用される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤が挙げられる。透明性の観点から、有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが、上述した光線透過率の範囲であれば特に限定されない。耐久性の観点からは、ベンゾトリアゾール系、及び環状イミノエステル系が特に好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。 In order to keep the light transmittance of the base film at a wavelength of 380 nm to 20% or less, it is desirable to appropriately adjust the type and concentration of the ultraviolet absorber to be blended in the base film, and the thickness of the base film. The ultraviolet absorbent used in the present invention includes organic ultraviolet absorbents and inorganic ultraviolet absorbents. From the viewpoint of transparency, organic UV absorbers are preferred. Examples of organic UV absorbers include benzotriazole-based, benzophenone-based, cyclic iminoester-based, and combinations thereof, but are not particularly limited as long as the light transmittance is within the range described above. From the viewpoint of durability, benzotriazole-based and cyclic iminoester-based are particularly preferred. When two or more ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet rays of different wavelengths can be absorbed at the same time, so that the ultraviolet absorption effect can be further improved.

基材フィルムには、紫外線吸収剤以外に、本発明の効果を妨げない範囲で、各種の添加剤を含有させることも好ましい。添加剤として、例えば、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することができる。
また、高い透明性を奏するためには、基材フィルムに粒子を実質的に含有させないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、蛍光X線分析で基材フィルム中の無機元素を定量した場合に50ppm以下、好ましくは10ppm以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。
In addition to the ultraviolet absorber, it is also preferable to incorporate various additives into the substrate film within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of additives include inorganic particles, heat-resistant polymer particles, alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, phosphorus compounds, antistatic agents, light stabilizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, and anti-gelling agents. , surfactants, and the like. These additives can be used alone or in combination of two or more.
Moreover, in order to achieve high transparency, it is also preferred that the base film does not substantially contain particles. The term "substantially contains no particles" means, for example, in the case of inorganic particles, when the inorganic elements in the base film are quantified by fluorescent X-ray analysis, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, particularly preferably less than the detection limit. means a content of

(表面凹凸付与)
本発明では、基材フィルムの少なくとも片面に凹凸面を有する。凹凸面は、基材フィルムの片面のみに設けてもよいし、両面に設けてもよい。なお、凹凸面を有する基材フィルムを、粗面化した基材フィルムと称する場合がある。
(Improvement of surface unevenness)
In the present invention, at least one surface of the substrate film has an uneven surface. The uneven surface may be provided only on one side of the base film, or may be provided on both sides. A substrate film having an uneven surface may be referred to as a roughened substrate film.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の算術平均粗さ(Ra)の下限は、好ましくは0.2μmであり、より好ましくは0.4μmであり、さらに好ましくは0.6μmであり、特に好ましくは0.7μmであり、最も好ましくは0.8μmである。当該Raの上限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは7μmであり、さらに好ましくは5μmであり、特に好ましくは4μmであり、最も好ましくは3μmである。 The lower limit of the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.2 μm, more preferably 0.4 μm, even more preferably 0.6 μm, and particularly preferably 0.7 μm. and most preferably 0.8 μm. The upper limit of Ra is preferably 10 μm, more preferably 7 μm, even more preferably 5 μm, particularly preferably 4 μm, most preferably 3 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の二乗平均平方根粗さ(Rq)の下限は、好ましくは0.3μmであり、より好ましくは0.5μmであり、さらに好ましくは0.7μmであり、特に好ましくは0.9μmであり、最も好ましくは1μmである。当該Rqの上限は、好ましくは13μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは7μmであり、特に好ましくは5μmであり、最も好ましくは4μmである。 The lower limit of the root-mean-square roughness (Rq) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.3 μm, more preferably 0.5 μm, still more preferably 0.7 μm, and particularly preferably 0.9. μm, most preferably 1 μm. The upper limit of Rq is preferably 13 μm, more preferably 10 μm, even more preferably 7 μm, particularly preferably 5 μm, most preferably 4 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の十点平均粗さ(Rz)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは2.0μmであり、さらに好ましくは3.0μmであり、特に好ましくは3.5μmであり、最も好ましくは4.0μmである。当該Rzの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the ten-point average roughness (Rz) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 2.0 μm, still more preferably 3.0 μm, and particularly preferably 3.5. μm, most preferably 4.0 μm. The upper limit of Rz is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大高さ(Ry)の下限は、好ましくは2.0μmであり、より好ましくは3.0μmであり、さらに好ましくは4.0μmであり、特に好ましくは4.5μmであり、最も好ましくは5.0μmである。当該Ryの上限は、好ましくは20μmであり、より好ましくは17μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは13μmである。 The lower limit of the maximum height (Ry) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 2.0 μm, more preferably 3.0 μm, still more preferably 4.0 μm, and particularly preferably 4.5 μm. Yes, most preferably 5.0 μm. The upper limit of Ry is preferably 20 μm, more preferably 17 μm, even more preferably 15 μm, and particularly preferably 13 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大山高さ(Rp)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rpの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum peak height (Rp) of the uneven surface of the roughened base film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, still more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. be. The upper limit of Rp is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, particularly preferably 8 μm.

粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大谷深さ(Rv)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rvの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum valley depth (Rv) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, even more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. is. The upper limit of Rv is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.

Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が下限以上であると虹斑をより効果的に解消できる。
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が上限以上であると生産性に優れる。
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvは、JIS B0601-1994又はJIS B0601-2001に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
When the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the lower limits, iris spots can be eliminated more effectively.
Productivity is excellent when the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the upper limits.
Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are calculated from roughness curves measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994 or JIS B0601-2001.

基材フィルムの表面に凹凸を設ける(粗面化する)ことにより、微少領域でリタデーション差を設け、それぞれの領域でのリタデーションによる着色(虹斑)はあるものの、視覚的に着色を見えなくすることができる。このリタデーション差ΔReは、ΔRe=Ra×ΔBfNxyで表すことができる。ΔReの下限は、好ましくは30nmであり、より好ましくは50nmであり、さらに好ましくは70nmであり、特に好ましくは90nmであり、最も好ましくは100nmである。当該下限が30nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。ΔReの上限は、好ましくは1500nmであり、より好ましくは1000nmであり、さらに好ましくは800nmであり、特に好ましくは500nmであり、最も好ましくは300nmである。当該上限が1500nm以下であると生産性にも優れる。 By providing unevenness (roughening) on the surface of the base film, a retardation difference is provided in a minute area, and although there is coloring (rainbow spots) due to retardation in each area, the coloring is visually invisible. be able to. This retardation difference ΔRe can be represented by ΔRe=Ra×ΔBfNxy. The lower limit of ΔRe is preferably 30 nm, more preferably 50 nm, still more preferably 70 nm, particularly preferably 90 nm, most preferably 100 nm. When the lower limit is 30 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of ΔRe is preferably 1500 nm, more preferably 1000 nm, still more preferably 800 nm, particularly preferably 500 nm, most preferably 300 nm. When the upper limit is 1500 nm or less, productivity is also excellent.

粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の下限は、好ましくは5μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは20μmであり、最も好ましくは25μmである。当該下限が5μm以上であると凹凸の斜面が緩やかとなり、画像がより鮮明になる。粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の上限は、好ましくは500μmであり、より好ましくは450μmであり、さらに好ましくは400μmであり、特に好ましくは350μmであり、最も好ましくは300μmである。当該上限が500μm以下であると微少領域のそれぞれのリタデーションによる着色感、又はちらつき感を防止することができる。
Smは、JIS B0601-1994に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
The lower limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 5 µm, more preferably 10 µm, still more preferably 15 µm, particularly preferably 20 µm, and most preferably 25 µm. is. When the lower limit is 5 μm or more, the slope of the unevenness becomes gentle, and the image becomes clearer. The upper limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 500 μm, more preferably 450 μm, still more preferably 400 μm, particularly preferably 350 μm, most preferably 300 μm. is. When the upper limit is 500 μm or less, it is possible to prevent a feeling of coloring or a feeling of flickering due to the retardation of each minute region.
Sm is calculated from a roughness curve measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994.

凹凸を付与し、粗面化することで基材フィルムは元の厚みから薄くなることがある。粗面化した基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは25μmであり、最も好ましくは30μmである。当該下限が10μm以上であると保護フィルムとしての強度を十分に確保することができる。粗面化した基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは150μmであり、より好ましくは120μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が150μm以下であると薄型化に適する。
粗面化した基材フィルムの厚みは、粗面化した基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、凹凸面は視野の凸部と凹部の中央を基準として、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
The base film may become thinner than the original thickness by providing unevenness and roughening the surface. The lower limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 10 μm, more preferably 15 μm, even more preferably 20 μm, particularly preferably 25 μm, and most preferably 30 μm. When the lower limit is 10 μm or more, sufficient strength as a protective film can be ensured. The upper limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 150 μm, more preferably 120 μm, even more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. When the upper limit is 150 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the roughened base film is determined by embedding the roughened base film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. , the thickness is measured at 10 points at equal intervals, and the average value is calculated.

粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)の下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより有効に解消することができる。粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, still more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, most preferably 4000 nm. be. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, still more preferably 15000 nm, even more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm. is more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.

凹凸付与方法は特に限定するものではなく、従来から知られている粗面化処理の方法が挙げられる。例えば、サンドブラスト処理、サンドペーパー又はやすり、砥石等による処理、サンダー(オービタルサンダー、ランダムサンダー、デルタサンダー、ベルトサンダー、ディスクサンダー、ロールサンダーなど)による処理、金属ブラシなどによる処理、ケミカルエッチング、金型でプレスすることによる賦型等が挙げられる。これらのうち、サンドブラスト処理、サンダーによる処理、ケミカルエッチングが好ましい。
サンドブラスト処理は、例えば、遠心式ブラスト機にロール状の基材フィルムを供給して、基材フィルム面に研磨材を投射する方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、処理時間、回転翼の速度等により調節することができる。また、サンドブラスト処理は、ガラス板に基材フィルムを貼り付け、エアーブラストにセットし、基材フィルム面に研磨材を吹きつける方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、吹きつけ圧力、処理時間等により調節することができる。
サンダーによる処理は、例えば、ロール状の基材フィルムを、フィルムの搬送ロールの一部のロール表面にサンディングペーパーを貼り付けたもの(ロールサンダー)を有する搬送装置に導き処理する方法であってもよい。この場合、粗さはサンディングペーパーの種類、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。また、処理方向は、ロールサンダーとフィルムとの抱き付け角度、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。
また、サンダーによる処理は、ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に基材フィルムを貼り付け、基材フィルム面をサンダーで縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理する方法であってもよい。粗さは、サンダーのサンディングディスクの種類、処理時間等により調節することができる。
なお、サンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起を除くため、さらに処理表面をサンドペーパー等で研磨してもよい。
ケミカルエッチングは、酸又はアルカリ溶液に浸漬し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離し、乾燥する方法であってもよい。粗さは、浸漬時間等により調節することができる。基本的にケミカルエッチングは両面処理になるが、片面のみ処理する場合は、例えば、基材フィルムの片面にマスキングフィルムを貼り合せて行う。
The method for providing unevenness is not particularly limited, and conventionally known methods for surface roughening treatment can be used. For example, sandblasting, sandpaper or file, treatment with a whetstone, etc., treatment with a sander (orbital sander, random sander, delta sander, belt sander, disc sander, roll sander, etc.), treatment with a metal brush, etc., chemical etching, mold Examples include shaping by pressing with. Of these, sandblasting, sanding, and chemical etching are preferred.
Sandblasting may be, for example, a method in which a roll-shaped base film is supplied to a centrifugal blast machine and an abrasive is projected onto the base film surface. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the processing time, the speed of the rotor blades, and the like. Further, the sandblasting treatment may be a method in which a substrate film is attached to a glass plate, set in air blasting, and an abrasive is blown onto the surface of the substrate film. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the spraying pressure, the treatment time, and the like.
The treatment with a sander is, for example, a method in which a roll-shaped base film is guided to a conveying device having a roll sander attached to a part of the roll surface of the film conveying roll (roll sander). good. In this case, the roughness can be adjusted by the type of sanding paper, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like. Also, the processing direction can be adjusted by the angle between the roll sander and the film, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like.
In addition, sanding is performed by attaching urethane foam to a glass plate, then attaching a base film on top of it, and sanding the surface of the base film in four directions: vertical, horizontal, and diagonal (45 degrees, 135 degrees). It may be a method of processing from. Roughness can be adjusted by the type of sanding disk of the sander, processing time, and the like.
In addition, after sanding and sandblasting, the treated surface may be further polished with sandpaper or the like in order to remove local projections.
Chemical etching may be a method of immersing in an acid or alkaline solution, washing with water, peeling off the masking film, and drying. Roughness can be adjusted by immersion time or the like. Chemical etching is basically a double-sided treatment, but in the case of single-sided treatment, for example, a masking film is adhered to one side of the substrate film.

(光学等方層)
基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられていることが好ましい。光学等方層は、前記凹凸面上に接触して設けられていることが好ましい。「接触して設けられている」とは、凹凸面に他の層を介することなく直接接触して設けられていることを意味する。但し、凹凸面と光学等方層との接着力を向上させるための易接着層は設けられていてもよい。易接着層の厚みは光学的に感知されない厚みであることが好ましく、100nm以下が好ましく、さらに好ましくは50nm以下であり、特に好ましくは20nm以下である。なお、易接着層が下記の光学等方層の屈折率の範囲を満たすのであれば、易接着層及びその上に設けられている光学等方層を合わせて、1つの光学等方層とみなすことができる。また、易接着層が光学等方層として十分な厚みを有するのであれば、易接着層を光学等方層とみなしてもよい。光学等方層を設けることで、基材フィルムの表面の凹凸による乱反射を低減させ、透明性を確保することができる。なお、易接着層の好ましい屈折率は、下記の光学等方層の好ましい屈折率の範囲と同様であり、その屈折率の調整方法も同様である。
(optical isotropic layer)
An optically isotropic layer is preferably provided on the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer is preferably provided in contact with the uneven surface. "Provided in contact with" means that it is provided in direct contact with the uneven surface without interposing another layer. However, an easy-adhesion layer may be provided to improve the adhesion between the uneven surface and the optically isotropic layer. The thickness of the easy-adhesion layer is preferably a thickness that is not optically detectable, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. If the easy-adhesion layer satisfies the refractive index range of the optical isotropic layer described below, the easy-adhesion layer and the optically isotropic layer provided thereon together are regarded as one optically isotropic layer. be able to. Moreover, if the easy-adhesion layer has a sufficient thickness as an optically isotropic layer, the easy-adhesion layer may be regarded as an optically isotropic layer. By providing the optically isotropic layer, it is possible to reduce diffused reflection due to unevenness on the surface of the base film and ensure transparency. The preferable refractive index of the easy-adhesion layer is the same as the preferable refractive index range of the optically isotropic layer described below, and the method of adjusting the refractive index is also the same.

光学等方層の屈折率の下限は、好ましくはBfny-0.15であり、より好ましくはBfny-0.12であり、さらに好ましくはBfny-0.1であり、よりさらに好ましくはBfny-0.08であり、特に好ましくはBfnyであり、最も好ましくはBfny+0.02である。
光学等方層の屈折率の上限は、好ましくはBfnx+0.15であり、より好ましくはBfnx+0.12であり、さらに好ましくはBfnx+0.1であり、よりさらに好ましくはBfnx+0.08であり、特に好ましくはBfnxであり、最も好ましくはBfnx-0.02である。
上記範囲にすることにより、コントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。
The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfny-0.15, more preferably Bfny-0.12, even more preferably Bfny-0.1, even more preferably Bfny-0.08, and particularly preferably Bfny, most preferably Bfny+0.02.
The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfnx+0.15, more preferably Bfnx+0.12, even more preferably Bfnx+0.1, even more preferably Bfnx+0.08, and particularly preferably Bfnx, most preferably Bfnx-0.02.
Within the above range, the contrast or sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed.

光学等方層の屈折率の下限は、好ましくは1.44であり、より好ましくは1.47であり、さらに好ましくは1.49であり、よりさらに好ましくは1.51であり、特に好ましくは1.53であり、より特に好ましくは1.55であり、最も好ましくは1.57であり、特に最も好ましくは1.59である。光学等方層の屈折率の上限は、好ましくは1.85であり、より好ましくは1.83であり、さらに好ましくは1.80であり、よりさらに好ましくは1.78であり、特に好ましくは1.76であり、より特に好ましくは1.74であり、最も好ましくは1.72であり、より最も好ましくは1.70であり、特に最も好ましくは1.68である。上記範囲にすることによりコントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。なお、光学等方層の屈折率も、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.44, more preferably 1.47, even more preferably 1.49, even more preferably 1.51, and particularly preferably 1.53, more particularly preferably 1.55, most preferably 1.57, most particularly preferably 1.59. The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.85, more preferably 1.83, even more preferably 1.80, still more preferably 1.78, and particularly preferably 1.76, more particularly preferably 1.74, most preferably 1.72, still most preferably 1.70, most particularly preferably 1.68. By setting the ratio within the above range, the contrast or the sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed. The refractive index of the optically isotropic layer is also a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.

光学等方層の組成としては、特に限定するものではないが、アクリル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、チオエポキシ樹脂等が好ましい。適宜組成を調整することで、屈折率を上記範囲に設定することが可能である。例えば、PMMA(ポリメチルメタクリレート)の場合、一般的に屈折率は1.49程度である。アクリル系の粘着剤では長鎖又は分岐アルキル基を導入する場合が多く、さらに屈折率が低下する。屈折率を上げるためには、芳香族基を有するアクリルモノマーを共重合するか、又はスチレンを共重合することが有効である。
ポリマー又は樹脂中にイオウ、臭素、フルオレン基などを導入することも屈折率を上げる上で好ましい方法であり、これらを含有するモノマーを共重合させたアクリル、フルオレン基含有ポリエステル、フルオレン基含有ポリカーボネート、チオエポキシ樹脂などが高屈折率樹脂として好ましい。
Although the composition of the optically isotropic layer is not particularly limited, acrylic, polystyrene, polyester, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, thioepoxy resin and the like are preferable. By appropriately adjusting the composition, it is possible to set the refractive index within the above range. For example, PMMA (polymethyl methacrylate) generally has a refractive index of about 1.49. In acrylic pressure-sensitive adhesives, a long-chain or branched alkyl group is often introduced, further lowering the refractive index. In order to increase the refractive index, it is effective to copolymerize an acrylic monomer having an aromatic group or copolymerize styrene.
Introducing a sulfur, bromine, fluorene group or the like into a polymer or resin is also a preferred method for increasing the refractive index. A thioepoxy resin or the like is preferable as the high refractive index resin.

また、ポリマー又は樹脂中に高屈折微粒子を添加することも屈折率を調整する好適な方法である。
高屈折微粒子の屈折率は1.60~2.74であることが好ましい。高屈折微粒子としては、TiO2、ZrO2、CeO2、Al23、BaTiO3、Nb25、及びSnO2等の微粒子が挙げられる。高屈折微粒子は、TEM(透過電子顕微鏡)観察による平均一次粒子径が3nm~100nmであることが好ましい。これらの高屈折微粒子を1種又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
なお、明細書において、「平均一次粒径」又は「一次粒子の平均粒子径」とは、体積累積の50%粒径を指す。より詳細には、粒子の一次粒子200個を顕微鏡観察により適切な倍率で観察し、それぞれの直径を測長してその体積を算出し、その体積累積の50%粒径を平均一次粒径とする。
Adding highly refractive fine particles to a polymer or resin is also a suitable method for adjusting the refractive index.
The refractive index of the high refractive fine particles is preferably 1.60 to 2.74. Fine particles of TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , BaTiO 3 , Nb 2 O 5 , SnO 2 and the like can be used as high refractive particles. The high-refractive fine particles preferably have an average primary particle size of 3 nm to 100 nm as observed by TEM (transmission electron microscope). These high refractive fine particles may be used singly or in combination of two or more.
In the specification, "average primary particle size" or "average particle size of primary particles" refers to a 50% volume cumulative particle size. More specifically, 200 primary particles of the particles are observed under a microscope at an appropriate magnification, the diameter of each is measured, the volume is calculated, and the 50% particle size of the cumulative volume is taken as the average primary particle size. do.

光学等方層は架橋硬化されていることが好ましい。硬化方法としては特に限定されず、熱硬化、紫外線、電子線などの放射線硬化が好ましい。硬化のための架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド、オキサゾリン化合物、メラミンなどのアミノ樹脂、多官能アクリレート等が挙げられる。 The optically isotropic layer is preferably crosslinked and cured. The curing method is not particularly limited, and radiation curing such as heat curing, ultraviolet rays, and electron beams is preferred. Cross-linking agents for curing include isocyanate compounds, epoxy compounds, carbodiimides, oxazoline compounds, amino resins such as melamine, polyfunctional acrylates, and the like.

光学等方層は、上記の成分からなるコート剤を基材フィルムの凹凸面に塗布する、離型フィルムに塗布して作製した光学等方層を基材フィルムの凹凸面に転写する、又は他のフィルム上に設けた光学等方層を基材フィルムの凹凸面に貼り合わせる等の方法で積層することができる。この場合、コート剤は、溶媒で溶解又は希釈して、塗工し易い粘度にすることが好ましい。また、コート剤は、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤であれば無溶剤であってもよい。 The optical isotropic layer is produced by applying a coating agent comprising the above components to the uneven surface of the base film, applying the release film to the uneven surface of the base film, and transferring the optical isotropic layer to the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer provided on the film can be laminated by a method such as bonding to the uneven surface of the substrate film. In this case, the coating agent is preferably dissolved or diluted with a solvent so as to have a viscosity that facilitates coating. Moreover, the coating agent may be solventless as long as it is a radiation curing type coating agent such as acrylic.

例えば、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤は、通常、光重合性化合物を含有する。 For example, a radiation-curing type coating agent such as acrylic usually contains a photopolymerizable compound.

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。 Photopolymerizable compounds include photopolymerizable monomers, photopolymerizable oligomers, and photopolymerizable polymers, and these can be appropriately adjusted and used. The photopolymerizable compound is preferably a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer.

光重合性モノマー
光重合性モノマーは、重量平均分子量が1000未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、THF等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。
Photopolymerizable Monomer Photopolymerizable monomers are those having a weight average molecular weight of less than 1000. As the photopolymerizable monomer, a polyfunctional monomer having two (that is, bifunctional) or more photopolymerizable functional groups is preferable. As used herein, "weight average molecular weight" is a value obtained by dissolving in a solvent such as THF and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

多官能モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、これらをPO、EO等で変性したものが挙げられる。 Examples of polyfunctional monomers include tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, di Pentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol Penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanurate tri(meth)acrylate, isocyanurate di(meth)acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di( meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra(meth)acrylate, adamantyl di(meth)acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentane di(meth)acrylate, tricyclodecane di(meth)acrylate, Those modified with PO, EO or the like can be mentioned.

これらの中でも硬度が高い機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。 Among these, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and the like are preferable from the viewpoint of obtaining a functional layer with high hardness.

光重合性オリゴマー
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が1000以上10000未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Oligomer The photopolymerizable oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. As the photopolymerizable oligomer, a bifunctional or higher polyfunctional oligomer is preferable. Polyfunctional oligomers include polyester (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, polyol (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, and isocyanurate (meth)acrylate. Acrylate, epoxy (meth)acrylate, and the like.

光重合性ポリマー
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が10000以上のものであり、重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、2官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Polymer The photopolymerizable polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more, preferably 10,000 or more and 80,000 or less, more preferably 10,000 or more and 40,000 or less. If the weight-average molecular weight exceeds 80,000, the resulting laminated film may have poor appearance due to poor coating suitability due to its high viscosity. As the photopolymerizable polymer, a polyfunctional polymer having two or more functionalities is preferable. Polyfunctional polymers include urethane (meth)acrylate, isocyanurate (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate and the like.

コート剤には、上記成分の他に重合開始剤、架橋剤の触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤などが含まれていてもよい。 The coating agent may contain a polymerization initiator, a cross-linking agent catalyst, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a surfactant, and the like, in addition to the above components.

また、基材フィルムの凹凸面上に溶融させた光学等方層組成物を押し出して積層する、基材フィルムの凹凸面と別のフィルムとの間に溶融させた光学等方層組成物を押し出してラミネートするなどの方法も好ましい。 Alternatively, the melted optically isotropic layer composition is extruded and laminated on the uneven surface of the base film, or the melted optically isotropic layer composition is extruded between the uneven surface of the base film and another film. A method such as lamination is also preferred.

光学等方層は凹凸面に設けられることで凹凸面の乱反射を低減する機能を有するが、併せて他の機能を持つものであってもよい。光学等方層は、例えば、ハードコート層、反射防止層、防眩層、帯電防止層などの機能を有していてもよい。また、光学等方層は、他のフィルム又はシート、装置の構成部材と貼り合わせるための粘着剤層、又は接着剤層であってもよい。 The optically isotropic layer has a function of reducing irregular reflection on the uneven surface by being provided on the uneven surface, but may also have other functions. The optically isotropic layer may have functions such as a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and an antistatic layer. Also, the optically isotropic layer may be another film or sheet, a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer for bonding to a constituent member of a device.

光学等方層の厚みの下限は、好ましくは0.5μmであり、より好ましくは1.0μmであり、さらに好ましくは2μmであり、特に好ましくは3μmであり、最も好ましくは4μmである。当該厚みが0.5μm以上であると、基材フィルムの凹凸を平坦化しヘイズを低減することができ、鮮明性を向上することができる。
光学等方層の厚みの上限は、好ましくは30μmであり、より好ましくは25μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは15μmであり、最も好ましくは10μmである。当該厚みが30μm以下であると薄型化に適する。
光学等方層の厚みは、後述の積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引いた値である。
The lower limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 0.5 μm, more preferably 1.0 μm, still more preferably 2 μm, particularly preferably 3 μm, most preferably 4 μm. When the thickness is 0.5 μm or more, the unevenness of the substrate film can be flattened, the haze can be reduced, and the sharpness can be improved.
The upper limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 30 μm, more preferably 25 μm, still more preferably 20 μm, particularly preferably 15 μm, most preferably 10 μm. When the thickness is 30 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the optically isotropic layer is the value obtained by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film described later.

光学等方層の面内レタデーションの上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは50nmであり、より好ましくは30nmであり、さらに好ましくは10nmであり、特に好ましくは5nmである。 The upper limit of the in-plane retardation of the optically isotropic layer is preferably 50 nm, more preferably 30 nm, even more preferably 10 nm, and particularly preferably 5 nm, from the viewpoint of suppressing the occurrence of iridescence.

光学等方層の最も屈折率の高い方向の屈折率と最も屈折率の低い方向の屈折率との屈折率差の上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは0.01であり、より好ましくは0.007であり、さらに好ましくは0.005であり、特に好ましくは0.003であり、最も好ましくは0.002である。 The upper limit of the refractive index difference between the refractive index in the direction of the highest refractive index and the refractive index in the direction of the lowest refractive index of the optically isotropic layer is preferably 0.01, and more It is preferably 0.007, more preferably 0.005, particularly preferably 0.003, most preferably 0.002.

(積層フィルム)
積層フィルムの厚みの下限は、好ましくは12μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは18μmであり、特に好ましくは20μmである。当該下限が12μm以上であると積層フィルムの強度に優れ、製造又はその後の加工の取り扱いが容易になる。
積層フィルムの厚みの上限は、好ましくは180μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは120μmであり、特に好ましくは100μmであり、最も好ましくは90μmである。当該上限が180μm以下であると、各種用途での薄型化に適する。
積層フィルムの厚みは、積層フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
(Laminated film)
The lower limit of the thickness of the laminated film is preferably 12 µm, more preferably 15 µm, even more preferably 18 µm, and particularly preferably 20 µm. When the lower limit is 12 μm or more, the strength of the laminated film is excellent, and handling in production or subsequent processing is facilitated.
The upper limit of the thickness of the laminated film is preferably 180 µm, more preferably 150 µm, still more preferably 120 µm, particularly preferably 100 µm, and most preferably 90 µm. When the upper limit is 180 µm or less, it is suitable for thinning in various applications.
The thickness of the laminated film is calculated by embedding the laminated film in an epoxy resin, cutting out a section of the cross section, observing the section with a microscope, measuring the thickness at 10 points at equal intervals, and calculating the average value.

積層フィルムにおいて、基材フィルムの片面のみが凹凸面であってもよいが、基材フィルムのΔReが比較的低い場合や凹凸面の粗さが比較的小さい場合等には、より効果的に虹斑を抑制するため、基材フィルムの両面を凹凸面にして、その両面に光学等方層を設けることが好ましい。 In the laminated film, only one side of the base film may be an uneven surface. In order to suppress spots, it is preferable that both surfaces of the base film are made uneven and optically isotropic layers are provided on both surfaces.

積層フィルムのヘイズの上限は、好ましくは10%であり、より好ましくは7%であり、さらに好ましくは5%であり、特に好ましくは4%であり、最も好ましくは3%であり、より最も好ましくは2.5%であり、特に最も好ましくは2%である。当該上限が10%以下であると、コントラストの低下、及び、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなることをより有効に抑制することができる。 The upper limit of the haze of the laminated film is preferably 10%, more preferably 7%, still more preferably 5%, particularly preferably 4%, most preferably 3%, and most preferably is 2.5%, most preferably 2%. When the upper limit is 10% or less, it is possible to more effectively suppress a decrease in contrast and a screen from becoming whitish when exposed to strong external light.

本発明の積層フィルムは、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムを2枚以上有していてもよく、光学等方層を2層以上有していてもよく、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムと光学等方層以外のフィルム又は層を有していてもよい。
積層例としては、下記のタイプ1~4などが挙げられる。
(タイプ1)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
(タイプ2)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ3)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ4)他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
屈折率異方性の基材フィルムのΔBfNxyが比較的小さかったり、凹凸の粗さが比較的小さい場合は、タイプ2~タイプ4の構成を採ることが好ましい。なお、以下の本発明の積層フィルムの用途等の説明で、積層フィルムという場合には上記タイプ1~4の構成も含むものとする。タイプ2~タイプ3の場合、2枚の基材フィルムの遅相軸は、互いに平行又は垂直であることが好ましく、製造の容易さからは平行であることが好ましい。ここで、「平行又は垂直」とは0度又は90度から好ましくは±10度、さらには±7度、特には±5度まで許容される。
The laminated film of the present invention may have two or more substrate films having an uneven surface (roughened surface), may have two or more optically isotropic layers, and may have an uneven surface (roughened surface). It may have a film or layer other than the substrate film having a flattened surface and the optically isotropic layer.
Examples of lamination include types 1 to 4 below.
(Type 1) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other film (Type 2) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven surface) Base film (type 3) Base film (uneven surface) / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / Other film / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven Surface) Base film (Type 4) Other film/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/(Uneven surface) Base film (uneven surface)/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other Film When the ΔBfNxy of the base film with refractive index anisotropy is relatively small or the roughness of the unevenness is relatively small, it is preferable to adopt the configuration of type 2 to type 4. In the following description of the application of the laminated film of the present invention, etc., the term "laminated film" includes the configurations of types 1 to 4 described above. In the case of Types 2 and 3, the slow axes of the two substrate films are preferably parallel or perpendicular to each other, preferably parallel from the viewpoint of ease of production. Here, "parallel or perpendicular" is allowed from 0 degree or 90 degrees, preferably ±10 degrees, further ±7 degrees, particularly ±5 degrees.

なお、明細書中で粘着剤、又は粘着層という場合は、対象物に粘着剤用のコート剤を塗工して架橋又は乾燥させたもの、又は基材レスの光学用粘着剤を転写したものを意味する。 In addition, when referring to an adhesive or an adhesive layer in the specification, a coating agent for an adhesive is applied to an object and crosslinked or dried, or a substrate-less optical adhesive is transferred. means

(低屈折率層)
低屈折率層は、基材フィルム及び/又は光学等方層に直接、或いは、他のフィルム又は層(例えば、易接着層、ハードコート層)を介して設けられていることが好ましい。低屈折率層を有しない積層フィルムを表示装置、ショーウインドウなどの表面に用いると、照明、景色などの外光が映り込み、表示内容、中の展示品などが見えにくくなる場合があるが、低屈折率層を有する積層フィルムでは、フィルム表面の反射率を低減させることができ、これらの映り込みを抑制し、眩しさを低減し、表示内容、中の展示品などを見やすくすることができる。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is preferably provided directly on the substrate film and/or the optically isotropic layer, or provided via another film or layer (eg, easy-adhesion layer, hard coat layer). When a laminated film without a low refractive index layer is used on the surface of display devices, show windows, etc., external light such as lighting and scenery may be reflected, making it difficult to see display contents and exhibits inside. In a laminated film having a low refractive index layer, the reflectance of the film surface can be reduced, the reflection of these can be suppressed, the glare can be reduced, and the display contents, exhibits inside, etc. can be easily seen. .

基材フィルム及び/又は光学等方層の上に低屈折率層を設ける方法としては、例えば、低屈折率層用組成物を塗工する方法、別途離型フィルム等に低屈折率層を設け、転写する方法が挙げられる。 Methods for providing a low refractive index layer on the base film and/or the optically isotropic layer include, for example, a method of coating a composition for a low refractive index layer, and a method of separately providing a low refractive index layer on a release film or the like. , a method of transferring.

低屈折率層の屈折率は、1.45以下が好ましく、1.42以下がより好ましい。また、低屈折率層の屈折率は、1.20以上が好ましく、1.25以上がより好ましい。
なお、低屈折率層の屈折率は、波長589nmの条件で測定される値である。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less, more preferably 1.42 or less. Moreover, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 or more, more preferably 1.25 or more.
The refractive index of the low refractive index layer is a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.

低屈折率層の厚みは限定されないが、通常、30nm~1μm程度の範囲内から適宜設定すればよい。また、低屈折率層表面の反射と、低屈折率層とその内側の層(基材フィルム、ハードコート層、光学等方層等)との界面反射とを相殺させて、より反射率を低くする目的であれば、低屈折率層の厚みは70~120nmが好ましく、75~110nmがより好ましい。 The thickness of the low-refractive-index layer is not limited, but it may be appropriately set within the range of about 30 nm to 1 μm. In addition, the reflection on the surface of the low refractive index layer and the interface reflection between the low refractive index layer and its inner layer (base film, hard coat layer, optical isotropic layer, etc.) are offset to further lower the reflectance. For that purpose, the thickness of the low refractive index layer is preferably 70 to 120 nm, more preferably 75 to 110 nm.

低屈折率層は単層でもよく、2層以上設けてもよい。2層以上の低屈折率層を設ける場合、各々の低屈折率層の屈折率及び厚みは、互いに同一であっても異なっていてもよいが、互いに異なっていることが好ましい。 The low refractive index layer may be a single layer, or two or more layers may be provided. When two or more low refractive index layers are provided, the refractive index and thickness of each low refractive index layer may be the same or different, but preferably different.

低屈折率層としては、好ましくは(1)バインダ樹脂及び低屈折率粒子を含有する樹脂組成物からなる層、(2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂からなる層、(3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂組成物からなる層、(4)シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率物質の薄膜等が挙げられる。 The low refractive index layer preferably includes (1) a layer made of a resin composition containing a binder resin and low refractive index particles, (2) a layer made of a fluororesin that is a low refractive index resin, (3) silica or (4) a thin film of a low refractive index substance such as silica and magnesium fluoride;

(1)の樹脂組成物に含有されるバインダ樹脂としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリカーボネート、アクリルなど特に制限なく用いることができる。中でもアクリルが好ましく、光照射により光重合性化合物を重合(架橋)させて得られたものであることが好ましい。 As the binder resin contained in the resin composition (1), polyester, polyurethane, polyamide, polycarbonate, acryl, etc. can be used without particular limitation. Among them, acrylic is preferred, and one obtained by polymerizing (crosslinking) a photopolymerizable compound by light irradiation is preferred.

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマー又は光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。光重合性化合物は、光学等方層で挙げたものが例示される。 Photopolymerizable compounds include photopolymerizable monomers, photopolymerizable oligomers, and photopolymerizable polymers, and these can be appropriately adjusted and used. The photopolymerizable compound is preferably a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer. The photopolymerizable compound is exemplified by those exemplified for the optically isotropic layer.

(1)の樹脂組成物に含まれる低屈折率粒子としては、シリカ粒子(例えば、中空シリカ粒子)、フッ化マグネシウム粒子等が挙げられ、中でも、中空シリカ粒子が好ましい。このような中空シリカ粒子は、例えば、特開2005-099778号公報の実施例に記載の製造方法により作製できる。 Examples of the low refractive index particles contained in the resin composition (1) include silica particles (for example, hollow silica particles), magnesium fluoride particles, etc. Among them, hollow silica particles are preferred. Such hollow silica particles can be produced, for example, by the production method described in Examples of JP-A-2005-099778.

低屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径は、5~200nmが好ましく、5~100nmがより好ましく、10~80nmがさらに好ましい。 The average particle size of the primary particles of the low refractive index particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, even more preferably 10 to 80 nm.

低屈折率粒子は、シランカップリング剤で表面処理されたものがより好ましく、中でも(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理されたものが好ましい。 The low refractive index particles are more preferably surface-treated with a silane coupling agent, and more preferably surface-treated with a silane coupling agent having a (meth)acryloyl group.

低屈折率層における低屈折率粒子の含有量は、バインダ樹脂100質量部に対して10~250質量部が好ましく、50~200質量部がより好ましく、100~180質量部がさらに好ましい。 The content of the low refractive index particles in the low refractive index layer is preferably 10 to 250 parts by mass, more preferably 50 to 200 parts by mass, and even more preferably 100 to 180 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

(2)のフッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、光重合性官能基、熱硬化極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これら複数の硬化反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体は、上記の硬化反応性基等を有しないものである。 As the fluororesin (2), a polymerizable compound containing at least a fluorine atom in the molecule or a polymer thereof can be used. The polymerizable compound is not particularly limited, but preferably has a curing reactive group such as a photopolymerizable functional group or a thermosetting polar group. A compound having these multiple curing reactive groups at the same time may also be used. In contrast to this polymerizable compound, the polymer does not have the above curing reactive groups.

光重合性官能基を有する化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール等)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとしては、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α-トリフルオロメタクリル酸メチル、α-トリフルオロメタクリル酸エチル等の分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1~14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物等が挙げられる。 As a compound having a photopolymerizable functional group, for example, a fluorine-containing monomer having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) are exemplified. can be done. Those having a (meth)acryloyloxy group include 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth)acrylate, 2-(perfluorobutyl ) ethyl (meth) acrylate, 2-(perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2-(perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2-(perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoro (meth)acrylate compounds having fluorine atoms in the molecule such as methyl methacrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; fluoroalkyl groups having at least 3 fluorine atoms in the molecule and having 1 to 14 carbon atoms, fluorocycloalkyl fluorinated polyfunctional (meth)acrylic acid ester compounds having a group or a fluoroalkylene group and at least two (meth)acryloyloxy groups.

上記熱硬化極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。
熱硬化極性基を有する重合性化合物としては、例えば、4-フルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン-炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
Preferred as the thermosetting polar group are, for example, hydrogen bond forming groups such as hydroxyl, carboxyl, amino and epoxy groups. These are excellent not only in adhesion to coating films but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica.
Polymerizable compounds having a thermosetting polar group include, for example, 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, polyimide, and the like. Fluorine-modified resins and the like can be mentioned.

上記光重合性官能基と熱硬化極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。 Examples of the polymerizable compound having both a photopolymerizable functional group and a thermosetting polar group include partially and fully fluorinated alkyl, alkenyl, and aryl esters of acrylic or methacrylic acid, fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorinated Examples include vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
・上記硬化反応性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;
・上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;
・フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3-トリフルオロプロピレン、1,1,2-トリクロロ-3,3,3-トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン等の含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体。
これらの重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。これらの中でも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
Examples of fluorine-based resins include the following.
- A polymer of a monomer or a monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth)acrylate compound of the polymerizable compound having a curing reactive group;
- At least one of the above fluorine-containing (meth)acrylate compounds and in the molecule of methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, etc. A copolymer with a (meth) acrylate compound that does not contain fluorine atoms in;
・Fluoroethylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene, etc. A homopolymer or copolymer of a fluorine-containing monomer.
A silicone-containing vinylidene fluoride copolymer obtained by adding a silicone component to these polymers can also be used. In this case, the silicone component includes (poly)dimethylsiloxane, (poly)diethylsiloxane, (poly)diphenylsiloxane, (poly)methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly)dimethylsiloxane, azo group-containing (poly)dimethylsiloxane, Dimethylsilicone, phenylmethylsilicone, alkyl/aralkyl-modified silicone, fluorosilicone, polyether-modified silicone, fatty acid ester-modified silicone, methyl hydrogen silicone, silanol group-containing silicone, alkoxy group-containing silicone, phenol group-containing silicone, methacrylic-modified silicone, acrylic Modified silicone, amino-modified silicone, carboxylic acid-modified silicone, carbinol-modified silicone, epoxy-modified silicone, mercapto-modified silicone, fluorine-modified silicone, polyether-modified silicone and the like are exemplified. Among these, those having a dimethylsiloxane structure are preferred.

更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも1個のイソシアネート基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアネート基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε-カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。 Furthermore, non-polymers or polymers composed of the following compounds can also be used as the fluororesin. That is, a fluorine-containing compound having at least one isocyanate group in the molecule is reacted with a compound having at least one functional group that reacts with the isocyanate group such as an amino group, hydroxyl group, or carboxyl group in the molecule. Compounds obtained; Compounds obtained by reacting fluorine-containing polyols such as fluorine-containing polyether polyols, fluorine-containing alkyl polyols, fluorine-containing polyester polyols, and fluorine-containing ε-caprolactone-modified polyols with compounds having isocyanate groups, etc. can be used.

また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、上記バインダ樹脂を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。 In addition, the binder resin can be mixed with the polymerizable compound or polymer having a fluorine atom and used. Furthermore, a curing agent for curing reactive groups and the like, and various additives and solvents for improving coatability and imparting antifouling properties can be used as appropriate.

低屈折率層は、例えば、光重合性化合物を含む低屈折率層用組成物を、基材フィルム及び/又は光学等方層に塗布し、乾燥させた後、塗膜状の樹脂組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより形成することができる。 The low refractive index layer is, for example, a composition for a low refractive index layer containing a photopolymerizable compound, applied to a base film and / or an optically isotropic layer, dried, and then applied to a resin composition in the form of a coating film. It can be formed by irradiating light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) a photopolymerizable compound.

低屈折率層には、必要に応じて、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、機能層用組成物には、機能層の硬度を高くする、硬化収縮を抑制する、又は屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。 A thermoplastic resin, a thermosetting resin, a solvent, and a polymerization initiator may be added to the low refractive index layer, if necessary. Further, the functional layer composition may contain conventionally known dispersants, surfactants, antistatic agents, etc., depending on the purpose of increasing the hardness of the functional layer, suppressing curing shrinkage, or controlling the refractive index. , silane coupling agents, thickeners, anti-coloring agents, coloring agents (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers A stabilizing agent, lubricating agent, or the like may be added.

低屈折率層には耐指紋性を向上させる目的で、公知のポリシロキサン系又はフッ素系の防汚剤を適宜添加することも好ましい。ポリシロキサン系防汚剤の好ましい例としては、例えばアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサンなどが挙げられる。フッ素系防汚剤は、低屈折率層の形成又は低屈折率層との相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は、1個又は複数個あってもよく、複数個の置換基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。 For the purpose of improving anti-fingerprint properties, it is also preferable to appropriately add a known polysiloxane-based or fluorine-based antifouling agent to the low refractive index layer. Preferable examples of polysiloxane-based antifouling agents include acrylic group-containing polyether-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified dimethylsiloxane, acrylic group-containing polyester-modified dimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, and polyester-modified polydimethylsiloxane. Examples include siloxane and aralkyl-modified polymethylalkylsiloxane. The fluorine-based antifouling agent preferably has a substituent that contributes to formation of the low refractive index layer or compatibility with the low refractive index layer. There may be one or more substituents, and the plurality of substituents may be the same or different. Examples of preferred substituents include acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, aryl groups, cinnamoyl groups, epoxy groups, oxetanyl groups, hydroxyl groups, polyoxyalkylene groups, carboxyl groups, amino groups and the like.

低屈折率層の表面は、凹凸面(例えば、防眩表面)であってもよいが、平滑面であることも好ましい。
低屈折率層の表面が平滑面である場合、低屈折率層の表面の算術平均粗さRa(JIS B0601:1994)は、好ましくは20nm以下であり、より好ましくは15nm以下であり、さらに好ましくは10nm以下であり、特に好ましくは1~8nmである。また、低屈折率層の表面の十点平均粗さRz(JIS B0601:1994)は、好ましくは160nm以下であり、より好ましくは50~155nmである。
低屈折率層のRaを上記範囲にするためには、例えば、以下の方法を採用することができる。
・低屈折率層中に低屈折率層の厚みの1/2を超える粒径の粒子を用いないか、その添加量を少なくする。
・低屈折率層よりも内側の層(基材フィルム層、光学等方層、ハードコート層等)の表面粗さを小さくする。
・基材フィルム、光学等方層の粗さが大きい場合はハードコート層等で平滑化させる。
The surface of the low refractive index layer may be an uneven surface (for example, an anti-glare surface), but a smooth surface is also preferable.
When the surface of the low refractive index layer is a smooth surface, the arithmetic mean roughness Ra (JIS B0601:1994) of the surface of the low refractive index layer is preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, and still more preferably. is 10 nm or less, particularly preferably 1 to 8 nm. The ten-point average roughness Rz (JIS B0601:1994) of the surface of the low refractive index layer is preferably 160 nm or less, more preferably 50 to 155 nm.
In order to make the Ra of the low refractive index layer within the above range, for example, the following method can be employed.
- Do not use particles with a particle size exceeding 1/2 of the thickness of the low refractive index layer, or reduce the amount of particles added.
- Reducing the surface roughness of layers (base film layer, optically isotropic layer, hard coat layer, etc.) inside the low refractive index layer.
・If the substrate film and the optically isotropic layer are very rough, they are smoothed with a hard coat layer or the like.

(ハードコート層)
ハードコート層は、基材フィルム及び/又は光学等方層に直接、或いは、他のフィルム又は層(例えば、易接着層)を介して設けられてもよい。
ハードコート層は、さらに他の機能を有していてもよく、光学等方層であってもよい。
ハードコート層は鉛筆硬度でH以上が好ましく、2H以上がより好ましい。ハードコート層は、例えば、熱硬化性樹脂又は放射線硬化性樹脂の組成物溶液を塗布、硬化させて設けることができる。
(Hard coat layer)
The hard coat layer may be provided directly on the substrate film and/or the optical isotropic layer, or via another film or layer (for example, an easy-adhesion layer).
The hard coat layer may have other functions and may be an optically isotropic layer.
The hard coat layer preferably has a pencil hardness of H or more, more preferably 2H or more. The hard coat layer can be provided, for example, by applying and curing a composition solution of thermosetting resin or radiation-curable resin.

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、これらの組合せ等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。 Thermosetting resins include acrylic resins, urethane resins, phenolic resins, urea melamine resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, silicone resins, combinations thereof, and the like. If necessary, a curing agent is added to these curable resins in the thermosetting resin composition.

放射線硬化性樹脂は、放射線硬化性官能基を有する化合物であることが好ましく、放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。このうち、電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能性(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマーであってもオリゴマーであってもポリマーであってもよい。 The radiation-curable resin is preferably a compound having a radiation-curable functional group. Examples of the radiation-curable functional group include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups, and epoxy groups. , oxetanyl group, and the like. Among these, as the ionizing radiation-curable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable, and a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferable. Polyfunctional (meth)acrylate compounds having the above are more preferable. A polyfunctional (meth)acrylate compound may be a monomer, an oligomer, or a polymer.

これらの具体例としては、低屈折率層のバインダ樹脂として挙げたものが用いられる。
ハードコートとしての硬度を達成するためには、放射線硬化性官能基を有する化合物中、2官能以上のモノマーが50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。さらには、放射線硬化性官能基を有する化合物中、3官能以上のモノマーが50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。
上記放射線硬化性官能基を有する化合物は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
As specific examples thereof, those mentioned as the binder resin for the low refractive index layer are used.
In order to achieve hardness as a hard coat, the difunctional or higher monomer content in the compound having a radiation-curable functional group is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Furthermore, in the compound having a radiation-curable functional group, the trifunctional or higher monomer preferably accounts for 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more.
The compounds having radiation-curable functional groups can be used singly or in combination of two or more.

ハードコート層の厚みは、0.1~100μmの範囲が好ましく、0.8~20μmの範囲がより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.1-100 μm, more preferably in the range of 0.8-20 μm.

ハードコート層の屈折率は、1.45~1.70であることがより好ましく、1.50~1.60であることがさらに好ましい。
なお、ハードコート層の屈折率は、波長589nmの条件で測定される値である。
The hard coat layer preferably has a refractive index of 1.45 to 1.70, more preferably 1.50 to 1.60.
The refractive index of the hard coat layer is a value measured at a wavelength of 589 nm.

ハードコート層の屈折率を調整するためには、樹脂の屈折率を調整する方法、粒子を添加する場合は粒子の屈折率を調整する方法が挙げられる。
粒子としては、光学等方層又は低屈折率層の粒子として例示したものが挙げられる。
Examples of adjusting the refractive index of the hard coat layer include a method of adjusting the refractive index of the resin, and a method of adjusting the refractive index of the particles when particles are added.
Examples of the particles include those exemplified as particles for the optically isotropic layer or the low refractive index layer.

(帯電防止層)
帯電防止層を別途設けることも好ましい形態である。帯電防止層は、基材フィルムと低屈折率層との間、光学等方層と低屈折率層との間、基材フィルムとハードコート層との間、光学等方層とハードコート層との間、基材フィルム又は光学等方層の低屈折率層が積層されていない面などに設けることが好ましい。帯電防止層は帯電防止剤及びバインダ樹脂からなるものが好ましい。
帯電防止剤としては、4級アンモニウム塩、ポリアニリンやポリチオフェンなどの導電性高分子、針状金属フィラー、スズドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化スズ微粒子などの導電性高屈折率微粒子、これらの組合せが挙げられる。
バインダ樹脂としては、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、アクリルなどが用いられる。
なお、ハードコート層に帯電防止剤を添加し、ハードコート層が帯電防止層として機能してもよい。ハードコート層に添加する帯電防止剤としては、従来公知のものを用いることができ、例えば、第4級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の微粒子、導電性ポリマー等を用いることができる。上記帯電防止剤の含有量は、ハードコート層の全固形分の合計質量に対して、1~30質量%であることが好ましい。
(Antistatic layer)
It is also a preferable form to separately provide an antistatic layer. The antistatic layer is between the base film and the low refractive index layer, between the optically isotropic layer and the low refractive index layer, between the base film and the hard coat layer, and between the optically isotropic layer and the hard coat layer. It is preferably provided on the surface of the substrate film or optically isotropic layer on which the low refractive index layer is not laminated. The antistatic layer preferably comprises an antistatic agent and a binder resin.
Antistatic agents include quaternary ammonium salts, conductive polymers such as polyaniline and polythiophene, acicular metal fillers, conductive high refractive index fine particles such as tin-doped indium oxide fine particles and antimony-doped tin oxide fine particles, and combinations thereof. be done.
As the binder resin, polyester, polyurethane, polyamide, acryl, or the like is used.
An antistatic agent may be added to the hard coat layer so that the hard coat layer functions as an antistatic layer. Conventionally known antistatic agents can be used as the antistatic agent added to the hard coat layer. Examples include cationic antistatic agents such as quaternary ammonium salts, fine particles such as tin-doped indium oxide (ITO), conductive polymers etc. can be used. The content of the antistatic agent is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the hard coat layer.

本発明の積層フィルムは、さらに各用途に合わせて、各種の機能層を有していてもよい。各種の機能層としては、防眩層、反射防止層、導電層、着色層、紫外線吸収層、防汚層、粘着層等が挙げられる。 The laminated film of the present invention may further have various functional layers according to each application. Various functional layers include an antiglare layer, an antireflection layer, a conductive layer, a colored layer, an ultraviolet absorbing layer, an antifouling layer, an adhesive layer, and the like.

(積層フィルムの用途)
本発明の積層フィルムは、偏光子保護フィルム又は偏光解消フィルム、タッチパネルなどの透明導電性基材フィルム、飛散防止フィルム、表面の意匠付与フィルム等の光学用フィルムだけでなく、窓ガラス等の飛散防止フィルム、デコレーション用フィルムなど様々な分野で用いることができる。
(Application of laminated film)
The laminated film of the present invention is not only an optical film such as a polarizer protective film or a depolarizing film, a transparent conductive substrate film such as a touch panel, a scattering prevention film, a surface design imparting film, but also a scattering prevention such as a window glass. It can be used in various fields such as films and decorative films.

まず、代表的な用途例である、上記積層フィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板に関して説明する。
(偏光子と積層フィルムとの積層)
偏光板に用いる偏光子としては、例えば、一軸延伸したポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させたもの、液晶化合物と有機系の二色性色素を配向させたもの又は液晶性の二色性色素とからなる液晶性の偏光子、ワイヤーグリッド方式のものなどを特に制限なく用いることができる。
First, a polarizing plate using the laminated film as a polarizer protective film, which is a typical application example, will be described.
(Lamination of polarizer and laminated film)
As a polarizer used in the polarizing plate, for example, uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA) to which iodine or an organic dichroic dye is adsorbed, or a liquid crystal compound and an organic dichroic dye to be oriented. Alternatively, a liquid crystalline polarizer containing a liquid crystalline dichroic dye, a wire grid type polarizer, or the like can be used without particular limitation.

一軸延伸したポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させたフィルム状の偏光子の場合は、偏光子の少なくとも片側に本発明の積層フィルムを積層させ、偏光板とすることができる。積層の際は、PVA系、紫外線硬化型などの接着剤、又は粘着剤を用いることができる。また、基材フィルムの凹凸面と偏光子とを、本発明でいう光学等方層に該当する特性の接着剤又は粘着剤で貼り合わせてもよい。この場合、基材フィルムと接着剤又は粘着剤とが、本発明でいう基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルムとなる。このタイプの偏光子の厚みとしては、5~50μmが好ましく、さらには10~30μmが好ましく、特には12~25μmが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、1~10μmが好ましく、さらに好ましくは2~5μmである。 In the case of a film-shaped polarizer in which iodine or an organic dichroic dye is adsorbed on uniaxially stretched polyvinyl alcohol (PVA), the laminated film of the present invention is laminated on at least one side of the polarizer to form a polarizing plate. be able to. At the time of lamination, a PVA-based adhesive, an ultraviolet curable adhesive, or a pressure-sensitive adhesive can be used. Alternatively, the uneven surface of the base film and the polarizer may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive having properties corresponding to the optically isotropic layer of the present invention. In this case, the base film and the adhesive or pressure-sensitive adhesive form the laminate film having the base film and the optically isotropic layer referred to in the present invention. The thickness of this type of polarizer is preferably 5 to 50 μm, more preferably 10 to 30 μm, particularly preferably 12 to 25 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is preferably 1-10 μm, more preferably 2-5 μm.

また、PET又はポリプロピレンなどの未延伸の基材にPVAを塗工し、基材と共に一軸延伸してヨウ素又は有機系の二色性色素を吸着させた偏光子も好ましく用いられる。この偏光子の場合は、基材に積層された偏光子の偏光子面(基材が積層されていない面)と本発明の積層フィルムとを接着剤又は粘着剤で貼り合わせ、その後偏光子を作製する時に用いた基材を剥離することで、偏光板とすることができる。この場合も、基材フィルムの凹凸面と偏光子とを、本発明でいう光学等方層に該当する特性の接着剤又は粘着剤で貼り合わせてもよい。このタイプの偏光子の厚みとしては、1~10μmが好ましく、さらには2~8μmが好ましく、特には3~6μmが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、1~10μmが好ましく、さらに好ましくは2~5μmである。 A polarizer obtained by coating an unstretched base material such as PET or polypropylene with PVA and uniaxially stretching it together with the base material to adsorb iodine or an organic dichroic dye is also preferably used. In the case of this polarizer, the polarizer surface of the polarizer laminated on the substrate (the surface on which the substrate is not laminated) and the laminated film of the present invention are attached with an adhesive or pressure-sensitive adhesive, and then the polarizer is attached. A polarizing plate can be obtained by peeling off the base material used for the production. Also in this case, the uneven surface of the base film and the polarizer may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive having properties corresponding to the optical isotropic layer of the present invention. The thickness of this type of polarizer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm, particularly preferably 3 to 6 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is preferably 1-10 μm, more preferably 2-5 μm.

液晶性の偏光子の場合は、本発明の積層フィルムに液晶化合物と有機系の二色性色素とからなる偏光子を配向させたものを積層するか、又は本発明の積層フィルムに液晶性の二色性色素を含有するコート液を塗工した後、乾燥させ、光又は熱硬化させて偏光子を積層することにより、偏光板とすることができる。液晶性の偏光子を配向させる方法としては、塗工対象物の表面をラビング処理する方法、偏光の紫外線を照射して液晶性の偏光子を配向させながら硬化させる方法等が挙げられる。本発明の積層フィルムの表面を直接ラビング処理して、コート液を塗工してもよく、積層フィルムに直接コート液を塗工してこれに偏光紫外線を照射してもよい。また、液晶性の偏光子を設ける前に、本発明の積層フィルムに配向層を設ける(すなわち、本発明の積層フィルムに配向層を介して液晶性の偏光子を積層する)ことも好ましい方法である。配向層を設ける方法としては、
・ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリイミド及びその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などを塗工し、その表面をラビング処理して配向層(ラビング配向層)とする方法、
・シンナモイル基及びカルコン基等の光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液を塗布し、偏光紫外線を照射することによって配向硬化させ配向層(光配向層)とする方法
等が挙げられる。
なお、基材フィルムの凹凸面に本発明でいう光学等方層に該当する特性のラビング配向層を設けて、基材フィルムとラビング配向層とで本発明の積層フィルムとしてもよい。
In the case of a liquid crystalline polarizer, the laminated film of the present invention is laminated with an oriented polarizer composed of a liquid crystal compound and an organic dichroic dye, or the laminated film of the present invention is laminated with liquid crystalline. A polarizing plate can be obtained by applying a coating liquid containing a dichroic dye, drying it, photocuring or thermal curing, and laminating a polarizer. Examples of the method for orienting the liquid crystalline polarizer include a method of rubbing the surface of the object to be coated and a method of irradiating polarized ultraviolet rays to cure the liquid crystalline polarizer while aligning it. The surface of the laminated film of the present invention may be directly rubbed and coated with the coating solution, or the laminated film may be directly coated with the coating solution and irradiated with polarized ultraviolet rays. In addition, it is also a preferable method to provide an orientation layer on the laminated film of the present invention before providing the liquid crystalline polarizer (that is, to laminate the liquid crystalline polarizer on the laminated film of the present invention via the orientation layer). be. As a method for providing the orientation layer,
- A method of coating polyvinyl alcohol and its derivatives, polyimide and its derivatives, acrylic resin, polysiloxane derivative, etc., and rubbing the surface thereof to form an alignment layer (rubbing alignment layer);
- A method of applying a coating solution containing a polymer or monomer having a photoreactive group such as a cinnamoyl group or a chalcone group and a solvent, and irradiating polarized ultraviolet rays to harden the alignment layer (photoalignment layer), etc. is mentioned.
A rubbing orientation layer having characteristics corresponding to the optical isotropic layer of the present invention may be provided on the uneven surface of the base film, and the base film and the rubbing orientation layer may be used as the laminated film of the present invention.

離型性を有するフィルムに上記の方法に準じて液晶性の偏光子を設け、液晶性の偏光子面と本発明の積層フィルムとを接着剤又は粘着剤で貼り合わせ、その後離型性を有するフィルムを剥離することで、偏光板とすることができる。なお、この場合も、基材フィルムの凹凸面と偏光子とを、本発明でいう光学等方層に該当する特性の接着剤又は粘着剤で貼り合わせてもよい。
液晶性の偏光子の厚みとしては、0.1~7μmが好ましく、さらには0.3~5μmが好ましく、特には0.5~3μmが好ましい。接着剤又は粘着剤の厚みは、1~10μmが好ましく、さらに好ましくは2~5μmである。
A film having releasability is provided with a liquid crystalline polarizer according to the above method, the liquid crystalline polarizer surface and the laminated film of the present invention are bonded together with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, and then the film has releasability. A polarizing plate can be obtained by peeling the film. Also in this case, the uneven surface of the base film and the polarizer may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive having properties corresponding to the optical isotropic layer of the present invention.
The thickness of the liquid crystalline polarizer is preferably 0.1 to 7 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, particularly preferably 0.5 to 3 μm. The thickness of the adhesive or adhesive is preferably 1-10 μm, more preferably 2-5 μm.

ワイヤーグリッド方式であれば、本発明の積層フィルム上に微細導電ワイヤーを設ければよい。微細導電ワイヤーを設けるために微細な溝が必要な場合は、別途溝を設けるための層を設けてもよいし、溝を設けるための層を本発明でいう光学等方層としてもよい。 In the case of a wire grid system, fine conductive wires may be provided on the laminated film of the present invention. When fine grooves are required to provide fine conductive wires, a separate layer for providing the grooves may be provided, or the layer for providing the grooves may be the optically isotropic layer of the present invention.

偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は特に限定するものではないが、積層フィルムを、通常の透過光を直線偏光とするための偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、平行又は垂直であることが好ましい。「平行又は垂直」とは0度又は90度から好ましくは±10度、さらには±7度、特には±5度まで許容される。 The angle formed by the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the laminated film is not particularly limited, but when the laminated film is used as a polarizer protective film for a polarizing plate for linearly polarizing normal transmitted light. are preferably parallel or perpendicular. "Parallel or perpendicular" is allowed from 0 or 90 degrees, preferably ±10 degrees, further ±7 degrees, especially ±5 degrees.

また、積層フィルムを、画像表示装置の視認側に用いる場合などで偏光を解消した光を出射する偏光板の偏光子保護フィルムとして用いる場合は、偏光子の透過軸と積層フィルムの遅相軸とがなす角度は、好ましくは20~70度であり、より好ましくは25~65度であり、さらに好ましくは30~60度であり、特に好ましくは35~55度である。 Further, when the laminated film is used as a polarizer protective film for a polarizing plate that emits depolarized light, such as when used on the viewing side of an image display device, the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the laminated film The angle formed by the two is preferably 20 to 70 degrees, more preferably 25 to 65 degrees, still more preferably 30 to 60 degrees, and particularly preferably 35 to 55 degrees.

上記で、本発明の積層フィルムの偏光子を積層する面は、基材フィルム面であっても光学等方層面のいずれであってもよい。なお、基材フィルム又は光学等方層の低屈折率層が積層されていない面に偏光子を設けることが好ましい。 The surface of the laminated film of the present invention on which the polarizer is laminated may be either the substrate film surface or the optically isotropic layer surface. A polarizer is preferably provided on the surface of the base film or the optically isotropic layer on which the low refractive index layer is not laminated.

このようにして得られた偏光板の偏光子の他方の面は、その目的によって様々な形態をとることができる。偏光子の他方の面に積層される層としては、例えば、ガラス、複屈折性の無い偏光子保護フィルム、光学補償フィルム、λ/4位相差フィルム、λ/2位相差フィルム、位相差(光学補償)塗工層、保護コート層、これら保護層が無いもの、粘着剤層などが挙げられる。なお、偏光子の他方の面に積層される層は、本発明の積層フィルムであってもよい。 The other surface of the polarizer of the polarizing plate thus obtained can take various forms depending on its purpose. Examples of the layer laminated on the other side of the polarizer include glass, a polarizer protective film having no birefringence, an optical compensation film, a λ/4 retardation film, a λ/2 retardation film, retardation (optical Compensation) Examples include a coating layer, a protective coat layer, those without these protective layers, and an adhesive layer. The layer laminated on the other surface of the polarizer may be the laminated film of the present invention.

複屈折性の無い偏光子保護フィルムとしては、TACフィルム、アクリル系フィルム、環状オレフィン系フィルム、ポリプロピレン系フィルムなどが挙げられる。
光学補償フィルムとしては、例えば正又は負のAプレート、Cプレート特性を有するもの等があり、上記フィルム又はポリカーボネートフィルムを延伸したもの、TACフィルムなどの表面に棒状液晶化合物又はディスコティック液晶化合物をコートしたものなどが挙げられる。これらは液晶表示装置の偏光板としてその液晶セルの特性に合わせて適宜選択される。
λ/4位相差フィルム、及びλ/2位相差フィルムは、光学補償フィルムと同様な方法によって得ることができる。これらは例えば円偏光板に用いられ、有機EL表示装置等の反射防止フィルムに好適である。これらの厚みは10~80μmが好ましく、さらには20~60μmが好ましい。
Examples of non-birefringent polarizer protective films include TAC films, acrylic films, cyclic olefin films, and polypropylene films.
Examples of the optical compensation film include those having positive or negative A plate and C plate characteristics, and the surface of the above film or polycarbonate film stretched, TAC film, etc. coated with a rod-like liquid crystal compound or discotic liquid crystal compound. and so on. These are appropriately selected as the polarizing plate of the liquid crystal display according to the characteristics of the liquid crystal cell.
A λ/4 retardation film and a λ/2 retardation film can be obtained by the same method as the optical compensation film. These are used for circularly polarizing plates, for example, and are suitable for antireflection films such as organic EL display devices. The thickness of these layers is preferably 10-80 μm, more preferably 20-60 μm.

画像表示装置の薄型化の用途として、位相差(光学補償)塗工層、保護コート層、これら保護層が無いもの、粘着剤層などが挙げられる。
位相差(光学補償)塗工層は、液晶化合物を偏光子上に塗工する方法、別途離型性フィルムに位相差層を設け、これを転写する方法等により形成することができる。特に偏光板の薄型化を行う場合、基材液晶性の偏光子又は基材に積層された偏光子を転写する偏光子と好適に組み合わされる。
Uses for thinning image display devices include retardation (optical compensation) coating layers, protective coating layers, those without these protective layers, pressure-sensitive adhesive layers, and the like.
The retardation (optical compensation) coating layer can be formed by a method of coating a liquid crystal compound on a polarizer, or a method of separately providing a retardation layer on a release film and transferring it. In particular, when thinning the polarizing plate, it is preferably combined with a liquid crystalline polarizer as a base material or a polarizer that transfers a polarizer laminated on a base material.

(表示装置) (Display device)

上述の偏光板は、表示装置の光源側偏光板、又は視認側偏光板のいずれの側であっても好適に用いられ、両方に用いることも好ましい形態である。なお、本発明の積層フィルムは、表示セルとは反対面の偏光子保護フィルムとして用いることが好ましい。 The polarizing plate described above is preferably used on either the light source side polarizing plate or the viewing side polarizing plate of the display device, and it is also a preferred form to use it on both sides. The laminated film of the present invention is preferably used as a polarizer protective film on the opposite side of the display cell.

液晶表示装置のバックライトとしては、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、青緑赤の各色発光ダイオード光源、青色発光ダイオードと緑色蛍光体と赤色蛍光体の光源、量子ドットによる波長変換光源、半導体レーザー光源、冷陰極管など特に制限無く用いることができる。 Backlights for liquid crystal displays include blue light emitting diodes and yellow phosphor light sources, blue, green and red light emitting diode light sources, blue light emitting diodes, green phosphors, and red phosphor light sources, wavelength conversion light sources using quantum dots, and semiconductors. A laser light source, a cold cathode tube, or the like can be used without particular limitation.

本発明の積層フィルムを偏光子保護フィルムに用いた偏光板は、急峻な発光ピークを持つ光源を持つ液晶表示装置であっても虹斑が認識できないレベルに低減されており、各色の発光ピークの半値幅が狭い光源との組合せがより好ましい形態である。光源の半値幅としては、最も半値幅の狭い発光ピークの半値幅が、好ましくは25nm以下、より好ましくは20nm以下、さらに好ましくは15nm以下、特に好ましくは10nm以下である。半値幅の下限は、現実的な値又は測定器の分解能の面で0.5nmである。具体的に好適な光源として、QD(量子ドット)光源及び赤色領域用にKSF蛍光体を用いた光源が挙げられ、最も好適な光源はKSF蛍光体を用いたものである。 In a polarizing plate using the laminated film of the present invention as a polarizer protective film, even in a liquid crystal display device having a light source with a steep emission peak, rainbow spots are reduced to a level that cannot be recognized, and the emission peak of each color is reduced to a level that is not visible. A more preferable form is a combination with a light source having a narrow half width. As for the half-value width of the light source, the half-value width of the emission peak with the narrowest half-value width is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, still more preferably 15 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The lower limit of the half-value width is 0.5 nm in terms of a realistic value or the resolution of the measuring instrument. Specific preferred light sources include a QD (quantum dot) light source and a light source using a KSF phosphor for the red region, and the most preferred light source uses a KSF phosphor.

なお、近年の薄型化に合わせて本発明の積層フィルムを偏光子保護フィルムとして用いる場合には、本発明の積層フィルムの厚みも12~60μmが好ましく、より好ましくは15~50μmとなる。このような薄型の画像表示装置の場合、光源は、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、KSF蛍光体を用いた光源、QD光源などが好ましい。 In addition, when the laminated film of the present invention is used as a polarizer protective film in line with recent thinning, the thickness of the laminated film of the present invention is preferably 12 to 60 μm, more preferably 15 to 50 μm. In the case of such a thin image display device, the light source is preferably a blue light emitting diode and a yellow phosphor light source, a light source using a KSF phosphor, a QD light source, or the like.

また、本発明の積層フィルムは、有機EL表示装置の反射防止用の円偏光板の偏光子保護フィルムとしても好適に用いることができる。 The laminated film of the present invention can also be suitably used as a polarizer protective film for an antireflection circularly polarizing plate of an organic EL display device.

以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。なお、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples, and it is possible to carry out the present invention with appropriate modifications within the scope of the gist of the present invention. All of them are included in the technical scope of the present invention.
Methods for evaluating physical properties in Examples are as follows.

(1)基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)、進相軸方向屈折率(Bfny)、及び屈折率異方性(△BfNxy)
分子配向計(王子計測器株式会社製、MOA-6004型分子配向計)を用いて、粗面化する前の基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように4cm×2cmの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率(Bfnx,Bfny)、及び厚さ方向の屈折率(Bfnz)をアッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR-4T、測定波長589nm)を用いて測定し、前記二軸の屈折率の差の絶対値(|Bfny-Bfnx|)を屈折率異方性(△BfNxy)とした。なお、粗面化した基材フィルムの屈折率は、耐水性の紙やすり等で研磨して粗面化面を平坦化して測定することができる。
(1) Slow axis refractive index (Bfnx), fast axis refractive index (Bfny), and refractive index anisotropy (ΔBfNxy) of the base film
Using a molecular orientation meter (MOA-6004 type molecular orientation meter manufactured by Oji Keisoku Co., Ltd.), the orientation axis direction of the base film before roughening is determined, and the orientation axis direction is 4 cm so that the long side becomes. A 2 cm x 2 cm rectangle was cut out and used as a measurement sample. The biaxial refractive index (Bfnx, Bfny) and the refractive index (Bfnz) in the thickness direction of this sample were measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., NAR-4T, measurement wavelength 589 nm). , and the absolute value of the biaxial refractive index difference (|Bfny−Bfnx|) was defined as the refractive index anisotropy (ΔBfNxy). The refractive index of the roughened substrate film can be measured by polishing the roughened surface with water-resistant emery paper or the like to flatten the roughened surface.

(2)原反フィルムの厚みd
電気マイクロメータ(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて、5点の厚みを測定し、その平均値を求めた。
(2) Thickness d of raw film
Using an electric micrometer (Millitron 1245D manufactured by Fineruff Co.), the thickness was measured at five points, and the average value was obtained.

(3)面内リタデーション(Re)
屈折率の異方性(△BfNxy)とフィルムの厚みd(nm)との積(△BfNxy×d)より、面内リタデーション(Re)を求めた。
(3) In-plane retardation (Re)
The in-plane retardation (Re) was obtained from the product (ΔBfNxy×d) of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy) and the film thickness d (nm).

(4)Nz係数
|Bfnx-Bfnz|/|Bfnx-Bfny|で得られる値をNz係数とした。
(4) Nz Coefficient A value obtained by |Bfnx−Bfnz|/|Bfnx−Bfny| was used as the Nz coefficient.

(5)面配向度(ΔP)
(Bfnx+Bfny)/2-Bfnzで得られる値を面配向度(ΔP)とした。
(5) Degree of plane orientation (ΔP)
A value obtained by (Bfnx+Bfny)/2-Bfnz was defined as the degree of planar orientation (ΔP).

(6)厚さ方向リタデーション(Rth)
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの2つの複屈折△BfNxz(=|Bfnx-Bfnz|)、△BfNyz(=|Bfny-Bfnz|)にそれぞれフィルム厚さdを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でBfnx、Bfny、Bfnzとフィルム厚みd(nm)を求め、(△BfNxz×d)と(△BfNyz×d)との平均値を算出して厚さ方向リタデーション(Rth)を求めた:Rth=(△BfNxz×d+△BfNyz×d)/2。
(6) Retardation in thickness direction (Rth)
The retardation in the thickness direction is obtained by multiplying the two birefringences ΔBfNxz (=|Bfnx−Bfnz|) and ΔBfNyz (=|Bfny−Bfnz|) when viewed from the cross section in the thickness direction of the film by the film thickness d. is a parameter that indicates the average retardation obtained by Bfnx, Bfny, Bfnz and the film thickness d (nm) are obtained in the same manner as described above, and the average value of (ΔBfNxz×d) and (ΔBfNyz×d) is calculated to calculate the thickness direction retardation (Rth). Calculated: Rth=(ΔBfNxz×d+ΔBfNyz×d)/2.

(7)表面粗さ(Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、Rv、Sm)
表面粗さの各パラメータは、接触型粗さ計(ミツトヨ社製,SJ-410,検出器:178-396-2,スタイラス:標準スタイラス122AC731(2μm))を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線:R
フィルタ:GAUSS
λc:0.8mm
λs:2.5μm
測定長さ:5mm
測定速度:0.5mm/s
なお、RqはJIS B0601-2001に準拠し、その他はJIS B0601-1994に準拠して、求めた。
(7) Surface roughness (Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, Rv, Sm)
Each parameter of the surface roughness is obtained from a roughness curve measured using a contact roughness meter (Mitutoyo, SJ-410, detector: 178-396-2, stylus: standard stylus 122AC731 (2 μm)). asked. The settings are as follows.
Curve: R
Filter: GAUSS
λc: 0.8mm
λs: 2.5 μm
Measuring length: 5mm
Measurement speed: 0.5mm/s
Rq was determined according to JIS B0601-2001, and others were determined according to JIS B0601-1994.

(8)光学等方層の厚み
粗面化した基材フィルム及び積層フィルムの厚みは、各フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出し、顕微鏡で観察して等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値とした。なお、界面が見にくい場合は偏光顕微鏡を用いた。また、粗面化した基材フィルムの凹凸面は、視野の凸部と凹部の中央を基準とした。光学等方層の厚みは、積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引くことにより求めた。
(8) Thickness of optically isotropic layer The thickness of the roughened base film and laminated film was determined by embedding each film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. The thickness was measured and taken as the average value. A polarizing microscope was used when the interface was difficult to see. In addition, the uneven surface of the roughened base film was based on the center of the convex portion and the concave portion in the field of view. The thickness of the optically isotropic layer was determined by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film.

(9)光学等方層の屈折率
離型フィルムに光学異方層を凹凸面に設ける場合と同じ条件で、厚みが約20μmとなるように設け、離型フィルムから剥離したサンプルの屈折率を基材フィルムと同様にして測定した。nx、ny、nzが同じ値であることを確認した。
(9) Refractive index of optically isotropic layer Under the same conditions as in the case of providing an optically anisotropic layer on a release film on an uneven surface, the refractive index of a sample peeled off from the release film was measured so as to have a thickness of about 20 μm. It was measured in the same manner as the base film. It was confirmed that nx, ny, and nz are the same value.

(易接着層成分の製造)
(ポリエステル樹脂の重合)
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート194.2質量部、ジメチルイソフタレート184.5質量部、ジメチル-5-ナトリウムスルホイソフタレート14.8質量部、ジエチレングリコール233.5質量部、エチレングリコール136.6質量部、及びテトラ-n-ブチルチタネート0.2質量部を仕込み、160℃から220℃の温度で4時間かけてエステル交換反応を行った。次いで255℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、30Paの減圧下で1時間30分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ0.70dl/gであった。DSCによるガラス転移温度は40℃であった。
(Production of easy-adhesion layer component)
(Polymerization of polyester resin)
194.2 parts by weight of dimethyl terephthalate, 184.5 parts by weight of dimethyl isophthalate, and 14.8 parts by weight of dimethyl-5-sodium sulfoisophthalate were added to a stainless steel autoclave equipped with an agitator, thermometer, and partial reflux condenser. , 233.5 parts by mass of diethylene glycol, 136.6 parts by mass of ethylene glycol, and 0.2 parts by mass of tetra-n-butyl titanate were charged, and transesterification was carried out at a temperature of 160° C. to 220° C. over 4 hours. Then, the temperature was raised to 255° C., and the pressure in the reaction system was gradually reduced, followed by reaction under a reduced pressure of 30 Pa for 1 hour and 30 minutes to obtain a copolymerized polyester resin. The resulting copolymerized polyester resin was pale yellow and transparent. When the reduced viscosity of the copolymerized polyester resin was measured, it was 0.70 dl/g. The glass transition temperature by DSC was 40°C.

(ポリエステル水分散体の調製)
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂30質量部、及びエチレングリコールn-ブチルエーテル15質量部を入れ、110℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水55質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分30質量%の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。
(Preparation of polyester aqueous dispersion)
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux device was charged with 30 parts by mass of a copolymer polyester resin and 15 parts by mass of ethylene glycol n-butyl ether, heated at 110° C. and stirred to dissolve the resin. After the resin was completely dissolved, 55 parts by mass of water was gradually added to the polyester solution with stirring. After the addition, the liquid was cooled to room temperature while stirring to prepare a milky white polyester water dispersion having a solid content of 30% by mass.

(易接着層で用いるブロックポリイソシアネート系架橋剤の重合)
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物(旭化成ケミカルズ製、デュラネートTPA)100質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル(平均分子量750)30質量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃で4時間保持した。その後、反応液温度を50℃に下げ、メチルエチルケトオキシム47質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分75質量%のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。
(Polymerization of block polyisocyanate-based cross-linking agent used in easy-adhesion layer)
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser was charged with 100 parts by mass of a polyisocyanate compound having an isocyanurate structure made from hexamethylene diisocyanate (Duranate TPA, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) and 55 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. , and 30 parts by mass of polyethylene glycol monomethyl ether (average molecular weight: 750) were charged and held at 70° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to 50° C., and 47 parts by mass of methyl ethyl ketoxime was added dropwise. By measuring the infrared spectrum of the reaction solution, it was confirmed that the absorption of isocyanate groups had disappeared, and an aqueous blocked polyisocyanate dispersion having a solid content of 75% by mass was obtained.

(易接着層用塗工液の調整)
下記の塗剤を混合しP1塗布液を作成した。
水 50.00質量%
イソプロパノール 33.00質量%
ポリエステル水分散体 12.00質量%
ブロックイソシアネート系架橋剤 0.80質量%
粒子 1.40質量%
(平均粒径100nmのシリカゾル、固形分濃度40質量%)
触媒
(有機スズ系化合物 固形分濃度14質量%) 0.30質量%
界面活性剤 0.50質量%
(シリコン系、固形分濃度10質量%)
(Adjustment of coating liquid for easy adhesion layer)
A P1 coating solution was prepared by mixing the following coating agents.
Water 50.00% by mass
Isopropanol 33.00% by mass
Polyester water dispersion 12.00% by mass
Block isocyanate-based cross-linking agent 0.80% by mass
Particles 1.40% by mass
(Silica sol with an average particle size of 100 nm, solid content concentration of 40% by mass)
Catalyst (organotin compound solid content concentration 14% by mass) 0.30% by mass
Surfactant 0.50% by mass
(Silicone type, solid content concentration 10% by mass)

(フィルム用ポリエステル樹脂の製造)
(製造例1-ポリエステルX)
エステル化反応缶を昇温し、200℃に到達した時点で、テレフタル酸を86.4質量部及びエチレングリコール64.6質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを0.017質量部、酢酸マグネシウム4水和物を0.064質量部、及びトリエチルアミン0.16質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧0.34MPa、240℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸0.014質量部を添加した。さらに、15分かけて260℃に昇温し、リン酸トリメチル0.012質量部を添加した。次いで15分後に、高圧分散機で分散処理を行い、15分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、280℃で減圧下重縮合反応を行った。
(Manufacture of polyester resin for film)
(Production Example 1-Polyester X)
When the temperature of the esterification reactor reaches 200° C., 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol are charged, and 0.017 parts by mass of antimony trioxide as a catalyst is added while stirring. , 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate, and 0.16 parts by mass of triethylamine were charged. Then, the pressure was increased and the temperature was increased, and the pressure esterification reaction was performed under the conditions of gauge pressure 0.34 MPa and 240° C., then the pressure in the esterification reactor was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added. . Furthermore, the temperature was raised to 260° C. over 15 minutes, and 0.012 parts by mass of trimethyl phosphate was added. After 15 minutes, dispersion treatment was performed with a high-pressure disperser. After 15 minutes, the obtained esterification reaction product was transferred to a polycondensation reactor, and polycondensation reaction was performed at 280°C under reduced pressure.

重縮合反応が終了した後、95%カット径が5μmのナスロン(登録商標)製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理(孔径:1μm以下)を行った冷却水を用いて冷却し、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂(X)の固有粘度は0.62dl/gであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。(以後、PET(X)と略す。) After the polycondensation reaction is completed, filtration is performed with a NASLON (registered trademark) filter having a 95% cut diameter of 5 μm, extruded from the nozzle in strand form, and cooling water that has been pre-filtered (pore size: 1 μm or less) is filtered. It was cooled, solidified and cut into pellets. The resulting polyethylene terephthalate resin (X) had an intrinsic viscosity of 0.62 dl/g and contained substantially no inert particles or internal precipitated particles. (Hereinafter abbreviated as PET (X).)

(原反フィルムA、Bの製造)
フィルム用原料として粒子を含有しないPET(X)樹脂ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。次いで、リバースロール法によりこの未延伸PETフィルムの両面にP1塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が0.12g/mになるように塗布した後、乾燥機に導き80℃で20秒間乾燥した。
(Production of raw films A and B)
PET (X) resin pellets containing no particles as a raw material for film are supplied to an extruder, extruded in a sheet form from a nozzle, and then wound around a casting drum with a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic casting method. It was cooled and solidified to produce an unstretched film. Next, the P1 coating liquid was applied to both sides of this unstretched PET film by a reverse roll method so that the coating amount after drying was 0.12 g / m 2 , and then led to a dryer and dried at 80 ° C. for 20 seconds. did.

この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度135℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に3.8倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度225℃で30秒間処理し、その後、130℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断し、0.5kg/mmの張力で耳部を切り取った後に巻き取り、フィルム厚み80μmの原反フィルムAを得た。 The unstretched film with the coating layer formed thereon was guided to a tenter stretching machine, and while holding the ends of the film with clips, was guided to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.8 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, it was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds, and then cut at both ends of the film cooled to 130 ° C. with a shear blade, and a tension of 0.5 kg / mm 2 After cutting off the selvages, the film was wound up to obtain a raw film A having a film thickness of 80 μm.

キャスティング以降のラインスピードを速くして未延伸フィルムの厚みを変えた以外は原反フィルムAと同様にして製膜し、フィルム厚みの異なる原反フィルムBを得た。 A raw film B having a different film thickness was obtained in the same manner as the raw film A except that the thickness of the unstretched film was changed by increasing the line speed after casting.

(原反フィルムCの製造)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に2.0倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に4.0倍延伸し、原反フィルムCを得た。
(Manufacturing raw film C)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After being stretched 2.0 times in the running direction in the same manner as the raw film A, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 4.0 times in the width direction to obtain a raw film C.

(原反フィルムD)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に3.5倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に3.5倍延伸し、原反フィルムDを得た。
(Original film D)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After the film was stretched 3.5 times in the running direction, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.5 times in the width direction by the same method as for raw film A, to obtain raw film D.

Figure 0007187964000001
Figure 0007187964000001

(表面粗面化フィルムの製造)
ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、この原反フィルム面を手持ちタイプのベルトサンダー(サンディングベルト#320)で縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理を行い、表面粗面化フィルムA1を得た。
ガラス板に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、乾式のサンドブラスターにセットし、研磨材を吹き付けで処理(サンドブラスト処理)し、表面粗面化フィルムA2を得た。
原反フィルムAの片面にポリプロピレンフィルム製マスキングフィルムを貼り合わせ、これを38%の水酸化カリウム水溶液(95℃)に浸漬(ケミカルエッチング)し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離して乾燥し、表面粗面化フィルムA4を得た。
ベルトサンダーの条件(サンディングベルトの種類等)、サンドブラストの条件(研磨材の粒径等)を変え、原反フィルムA、B、C、及びDから表2に示す各表面粗面化フィルムを得た。
なお、B1及びC1の製造には#320のサンディングベルトを用い、A3及びD1の製造には#180のサンディングベルトを用いた。また、サンドブラスターの研磨材はA5、A6、B2、A2の順に大きなものを用いた。
なお、ベルトサンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起の影響を除くため、処理表面を#400のサンドペーパーで軽く研磨した。
(Production of surface-roughened film)
Attach urethane foam to a glass plate, and then attach the periphery of the original film A with double-sided tape. 45 degrees and 135 degrees) to obtain a surface-roughened film A1.
The periphery of raw film A was attached to a glass plate with double-sided tape, set in a dry sandblaster, and treated by spraying an abrasive (sandblasting) to obtain surface-roughened film A2.
A masking film made of polypropylene film is attached to one side of the original film A, which is immersed in a 38% potassium hydroxide aqueous solution (95 ° C.) (chemical etching), washed with water, and then the masking film is peeled off and dried. A surface-roughened film A4 was obtained.
Various surface-roughened films shown in Table 2 were obtained from raw films A, B, C, and D by changing the belt sander conditions (sanding belt type, etc.) and sandblasting conditions (abrasive particle size, etc.). rice field.
A #320 sanding belt was used to manufacture B1 and C1, and a #180 sanding belt was used to manufacture A3 and D1. Abrasives of the sand blaster were used in the order of A5, A6, B2 and A2.
In addition, in order to eliminate the influence of local projections, the belt-sanded and sandblasted surfaces were lightly polished with #400 sandpaper.

Figure 0007187964000002
Figure 0007187964000002

(光学等方層積層フィルムの製造)
(光学等方層用のコート剤の準備)
光学等方層用のコート剤として表3に示すものを準備した。
(Manufacture of optical isotropic layer laminated film)
(Preparation of coating agent for optically isotropic layer)
As a coating agent for the optically isotropic layer, those shown in Table 3 were prepared.

Figure 0007187964000003
Figure 0007187964000003

20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、上述の易接着層を水/イソプロパノール=2/1の溶液で4倍に希釈したものを塗工して乾燥させ、約30nmの易接着層を設けた。さらにその上に光学等方層用のコート剤aをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて光学等方層積層フィルムF1を得た。 On the uneven surface of the surface roughened film A1 of 20 cm × 30 cm, the above-mentioned easy adhesion layer diluted 4 times with a solution of water / isopropanol = 2/1 was applied and dried to obtain an easy adhesion of about 30 nm. layer was established. Further, the optically isotropic layer coating agent a was applied thereon with an applicator, and then cured from the coated surface with a high-pressure mercury lamp to obtain an optically isotropic layer laminated film F1.

表面粗面化フィルム及び/又はコート剤の種類を変更した以外は、上記と同様にして、光学等方層積層フィルムF2~F16を得た。なお、積層フィルムF14は両面に光学等方層を設けた。 Optically isotropic layer laminate films F2 to F16 were obtained in the same manner as described above, except that the type of surface-roughened film and/or coating agent was changed. Note that the laminated film F14 was provided with an optical isotropic layer on both sides.

20cm×30cmの粗面化フィルムB2の凹凸面に、バイロン(登録商標)200(RV200)(東洋紡社製)の20%トルエン/メチルエチルケトン混合溶媒の溶液を塗工した後に乾燥させ、光学等方層を設けた。得られた2枚の光学等方層積層フィルムの光学等方層面を重ね、100℃に加熱したロール間を通過させ、2枚の光学等方層積層フィルムを貼り合せ、光学等方層積層フィルムF17を得た。なお、貼り合せの際、粗面化フィルムB2の遅相軸同士が平行となるように貼り合わせた。バイロン200の屈折率は1.55である。
それぞれの光学等方層積層フィルムの構成を表4に示す。

Figure 0007187964000004
A solution of Vylon (registered trademark) 200 (RV200) (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) in a 20% toluene/methyl ethyl ketone mixed solvent is applied to the uneven surface of the 20 cm × 30 cm roughened film B2, and then dried to form an optically isotropic layer. was established. The optically isotropic layer surfaces of the obtained two optically isotropic layered laminated films are superimposed and passed between rolls heated to 100° C. to bond the two optically isotropic layered laminated films to obtain an optically isotropic layered laminated film. F17 was obtained. In addition, the slow axes of the surface-roughened film B2 were bonded together so that they were parallel to each other. Byron 200 has a refractive index of 1.55.
Table 4 shows the structure of each optically isotropic layer laminated film.
Figure 0007187964000004

(積層フィルム(低反射フィルム)の製造)
低屈折率層用組成物及びハードコート層用組成物として、以下を準備した。
(低屈折率層用組成物A)
ペルトロン(商標) A-2508LR(ペルノックス株式会社製 中空シリカ含有タイプ 屈折率1.33(アッベ))
(低屈折率層用組成物B)
サイトップ Aタイプ(AGC旭硝子社製 フッ素系樹脂 屈折率1.34)
(ハードコート層用組成物)
ペルトロン(TM) A-2005(ペルノックス株式会社製)
(トルエン/メチルエチルケトン(1/1質量比)で固形分50%となるよう希釈した)
なお、低屈折率用組成物A及びハードコート層用組成物に対して、光重合開始剤としてイルガキュア184を3質量%(対固形分)添加した。
(Manufacturing of laminated film (low reflection film))
As the composition for the low refractive index layer and the composition for the hard coat layer, the following were prepared.
(Composition A for low refractive index layer)
Peltron (trademark) A-2508LR (manufactured by Pernox Co., Ltd., hollow silica-containing type, refractive index 1.33 (Abbe))
(Composition B for low refractive index layer)
CYTOP A type (Fluorine resin, refractive index 1.34, manufactured by AGC Asahi Glass Co., Ltd.)
(Composition for hard coat layer)
Peltron (TM) A-2005 (manufactured by Pelnox Co., Ltd.)
(Diluted with toluene/methyl ethyl ketone (1/1 mass ratio) so that the solid content is 50%)
3% by mass (based on the solid content) of Irgacure 184 was added as a photopolymerization initiator to the low refractive index composition A and the hard coat layer composition.

(光学等方層面に低屈折率層を有する積層フィルムの作製)
実施例1~13及び比較例1~3
光学等方層面に低屈折率層用組成物Aを塗布した。その後、オーブン中で80℃で乾燥させて溶剤を蒸発させ、紫外線を照射して低屈折率層A(厚み0.5μm)を形成し、積層フィルムLRF1c-A~LRF16c-Aを得た。
(Preparation of laminated film having low refractive index layer on optically isotropic layer surface)
Examples 1-13 and Comparative Examples 1-3
The composition A for low refractive index layer was applied to the optically isotropic layer surface. After that, it was dried in an oven at 80° C. to evaporate the solvent, and irradiated with ultraviolet rays to form a low refractive index layer A (thickness: 0.5 μm) to obtain laminated films LRF1c-A to LRF16c-A.

(基材フィルム上に低屈折率層を有する積層フィルムの作製)
実施例14~26及び比較例4~6
基材フィルム面にハードコート層用組成物を塗布し、その後、オーブン中で100℃で乾燥させて溶剤を蒸発させ、紫外線を照射してハードコート層を形成した。ハードコート層の厚みは5μmであった。
さらにハードコート層の上に、実施例1と同様にして低屈折率層Aを形成し、積層フィルムLRF1b-A~LRF17b-Aを得た。
(Preparation of laminated film having low refractive index layer on base film)
Examples 14-26 and Comparative Examples 4-6
The hard coat layer composition was applied to the surface of the substrate film, dried in an oven at 100° C. to evaporate the solvent, and irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer. The thickness of the hard coat layer was 5 μm.
Further, a low refractive index layer A was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 1 to obtain laminated films LRF1b-A to LRF17b-A.

実施例27
積層フィルムF5の光学等方層面に、実施例14と同様にして厚み5μmのハードコート層を形成した。
さらにハードコート層の上に低屈折率層用組成物Bを塗布した。その後、オーブン中で80℃で乾燥させて溶剤を蒸発させ、さらに120℃で10分間加熱して低屈折率層B(厚み86nm)を形成し、積層フィルムLRF5c-Bを得た。
Example 27
A hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed in the same manner as in Example 14 on the optically isotropic layer surface of the laminated film F5.
Furthermore, the composition B for low refractive index layer was applied on the hard coat layer. Then, the film was dried in an oven at 80°C to evaporate the solvent, and further heated at 120°C for 10 minutes to form a low refractive index layer B (thickness: 86 nm) to obtain a laminated film LRF5c-B.

実施例28
積層フィルムF5の基材フィルム面に実施例14と同様にして厚み5μmのハードコート層を形成した。
さらにハードコート層の上に実施例27と同様にして低屈折率層用組成物Bからなる低屈折率層Bを形成し、積層フィルムLRF5b-Bを得た。
Example 28
A hard coat layer having a thickness of 5 μm was formed in the same manner as in Example 14 on the base film surface of the laminated film F5.
Further, a low refractive index layer B composed of the low refractive index layer composition B was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 27 to obtain a laminated film LRF5b-B.

実施例29
光学積層フィルムF5の基材フィルム面に実施例27と同様にして低屈折率層用組成物Bからなる低屈折率層B(厚み230nm)を形成し、積層フィルムLRF5b-B2を得た。
Example 29
A low refractive index layer B (thickness: 230 nm) composed of composition B for low refractive index layer was formed on the substrate film surface of optical laminated film F5 in the same manner as in Example 27 to obtain laminated film LRF5b-B2.

(積層フィルムの評価)
(虹斑の観察)
積層フィルムを、クロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に遅相軸が光源側の偏光板の透過軸と45度になるように置き、視認側の偏光板から約60cm離れた正面から透過光の状態を観察し、虹斑の有無を下記の基準に従って評価した。なお、光源は冷陰極管を用いた。
○:虹斑は観察されなかった
△:わずかに虹斑が観察された
×:虹斑が観察された
(Evaluation of laminated film)
(Observation of rainbow spots)
The laminated film is placed between two polarizing plates arranged in crossed Nicols so that the slow axis is at 45 degrees with the transmission axis of the polarizing plate on the light source side, and the transmitted light is viewed from the front about 60 cm away from the polarizing plate on the viewing side. was observed, and the presence or absence of iridescence was evaluated according to the following criteria. A cold cathode tube was used as the light source.
○: No iridescence was observed △: Slight iridescence was observed ×: Iridescence was observed

(白化)
積層フィルムに対し下方からハロゲンランプを照射し、斜め上方45度の方向から積層フィルムの白化度合いを観察した。なお、低屈折率層面を上にし、低屈折率層表面の乱反射による影響を避けるため、低屈折率層表面にサラダ油を塗布した。
◎:白化はほとんど認められなかった。
○:少し白化が認められたが、透明性は高かった。
△:白化が認められ、透明性がやや劣っていた。
×:白化があり、透明性も低かった。
なお、実施例30~35は偏光板で評価を行った。
(whitening)
The laminated film was irradiated with a halogen lamp from below, and the degree of whitening of the laminated film was observed from an obliquely upward direction of 45 degrees. The surface of the low refractive index layer was turned up, and salad oil was applied to the surface of the low refractive index layer in order to avoid the influence of irregular reflection on the surface of the low refractive index layer.
A: Almost no whitening was observed.
◯: Slight whitening was observed, but the transparency was high.
Δ: Whitening was observed, and the transparency was slightly inferior.
x: Whitening was observed, and the transparency was also low.
Incidentally, Examples 30 to 35 were evaluated using a polarizing plate.

(反射性評価)
積層フィルムを風景の印刷物の上に置き、斜め上方45度から蛍光灯を照射し、蛍光灯の反対側上方45度から観察した。評価は、低屈折率層を設けていない積層フィルム(光学等方層側に低屈折率層が設けられる場合は光学等方層面、基材フィルム側に低屈折率層が設けられる場合は基材フィルム面)に対して反射が低減されているかで評価した。
◎:効果的に反射が抑えられ、印刷物がはっきりと見えた。
○:反射が抑えられ、印刷物が見えた。
×:反射を抑える効果はほとんどなかった。
なお、実施例30~35は偏光板で評価を行った。
(Reflectivity evaluation)
The laminated film was placed on a landscape print, irradiated with a fluorescent lamp from 45 degrees diagonally above, and observed from 45 degrees above on the opposite side of the fluorescent lamp. The evaluation is based on a laminated film without a low refractive index layer (when a low refractive index layer is provided on the optically isotropic layer side, the optical isotropic layer surface, and when a low refractive index layer is provided on the base film side, the substrate It was evaluated by whether the reflection is reduced with respect to the film surface).
⊚: Reflection was effectively suppressed, and the printed matter was clearly visible.
◯: Reflection was suppressed, and printed matter was visible.
x: There was almost no effect of suppressing reflection.
Incidentally, Examples 30 to 35 were evaluated using a polarizing plate.

(偏光板の製造)
(偏光子の製造)
ケン化度99.9%のポリビニルアルコール樹脂フィルムを、周速差のあるロールに導き、100℃で3倍に一軸延伸を行った。得られた延伸ポリビニルアルコール延伸フィルムを、ヨウ化カリウム(0.3%)及びヨウ素(0.05%)の混合水溶液中で染色した後、72℃のホウ酸10%水溶液中で、1.8倍に一軸延伸した。その後、イオン交換水で水洗処理を行い、さらに6%ヨウ化カリウム水溶液に浸漬し、エアナイフで水溶液を除去した後、45℃で乾燥して偏光子を得た。偏光子の厚みは18μmであった。
(Manufacture of polarizing plate)
(Manufacture of polarizer)
A polyvinyl alcohol resin film having a degree of saponification of 99.9% was led to rolls with a difference in peripheral speed, and uniaxially stretched at 100° C. to 3 times. The resulting stretched polyvinyl alcohol stretched film was dyed in a mixed aqueous solution of potassium iodide (0.3%) and iodine (0.05%), and then dyed in a 10% aqueous solution of boric acid at 72°C to 1.8%. It was uniaxially stretched twice. Thereafter, the film was washed with ion-exchanged water, immersed in a 6% potassium iodide aqueous solution, and dried at 45° C. to obtain a polarizer after removing the aqueous solution with an air knife. The thickness of the polarizer was 18 μm.

(TACフィルム積層偏光子の準備)
まず、偏光子及び厚み60μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムに紫外線硬化型のアクリル系接着剤を塗工したものを準備し、これに偏光子を積層してTAC面から高圧水銀灯を照射して硬化させ、TACフィルム積層偏光子を得た。
(Preparation of TAC film laminated polarizer)
First, a polarizer and a 60 μm-thick triacetyl cellulose (TAC) film coated with an ultraviolet curable acrylic adhesive were prepared, and the polarizer was laminated on this and a high-pressure mercury lamp was irradiated from the TAC surface. It was cured to obtain a TAC film laminated polarizer.

(実施例1~26及び比較例1~6の積層フィルムを用いた偏光板の製造)
積層フィルムの低屈折率層面とは反対の面に紫外線硬化型のアクリル系接着剤をアプリケーターで塗工した。この塗工面に20cm×30cmに切り取ったTACフィルム積層偏光子の偏光子面を重ね合わせ、積層フィルム面から高圧水銀灯を照射して硬化させ、偏光板を得た。なお、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸は平行になるようにした。
(Production of polarizing plates using laminated films of Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 6)
An ultraviolet curable acrylic adhesive was applied to the surface of the laminate film opposite to the low refractive index layer surface using an applicator. A polarizer surface of a TAC film laminated polarizer cut into a size of 20 cm×30 cm was superposed on the coated surface, and the laminated film surface was irradiated with a high-pressure mercury lamp for curing to obtain a polarizing plate. The transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film were made parallel.

実施例4、5、17、及び18の積層フィルムを用いた偏光板については、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸を垂直にになるようにした以外は同様である偏光板も作製した。 Regarding the polarizing plates using the laminated films of Examples 4, 5, 17, and 18, the same polarizing plates were also prepared, except that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film were perpendicular to each other. made.

(偏光子との接着剤を光学等方層とする例)
(光学等方層として用いる粘着剤用のコート剤、及び光学粘着シートの準備)
粘着剤、及び光学粘着シートとして表5に示すものを用いた。
(Example of using an optically isotropic layer as an adhesive for a polarizer)
(Preparation of coating agent for adhesive used as optical isotropic layer and optical adhesive sheet)
The adhesives and optical adhesive sheets shown in Table 5 were used.

Figure 0007187964000005
Figure 0007187964000005

高屈折率粘着剤kの作製
2-エチルヘキシルアクリレート30質量部、エトキシ化o-フェニルフェノールアクリレート(新中村化学工業社製,製品名:A-LEN-10)70質量部、及び重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.25質量部を酢酸エチル中で反応させて共重合体(Mw=40万)の酢酸エチル溶液(固形分濃度30質量%)を得た。
実施例30
20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の平滑面に実施例14と同様にしてハードコート層及び低屈折率層用組成物Aからなる低屈折率層Aを設けた。このフィルムの凹凸面に、光学等方層として粘着剤用コート剤iをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの粘着層面と20cm×30cmに切り取ったTACフィルム積層偏光子の偏光子面を貼り合わせて偏光板を作成した。なお、偏光子の透過軸と表面粗面化フィルム(基材フィルム)の遅相軸とは平行になるようにした。
Preparation of high refractive index adhesive k 30 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 70 parts by mass of ethoxylated o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-LEN-10), and azo as a polymerization initiator 0.25 parts by mass of bisisobutyronitrile was reacted in ethyl acetate to obtain an ethyl acetate solution (solid concentration: 30% by mass) of a copolymer (Mw=400,000).
Example 30
A hard coat layer and a low refractive index layer A composed of the composition A for a low refractive index layer were formed in the same manner as in Example 14 on the smooth surface of the surface-roughened film A1 of 20 cm×30 cm. After coating the uneven surface of this film with the adhesive coating agent i as an optically isotropic layer using an applicator, the coated surface was cured with a high-pressure mercury lamp to obtain a laminated film. The adhesive layer surface of the obtained laminated film and the polarizer surface of the TAC film laminated polarizer cut to 20 cm×30 cm were pasted together to prepare a polarizing plate. The transmission axis of the polarizer and the slow axis of the surface-roughened film (base film) were made parallel.

実施例31
実施例30の偏光板の製造に用いた、低屈折率層及びハードコート層が積層された表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、光学等方層として粘着剤用コート剤kをアプリケーターで塗工した後、100℃で乾燥させて積層フィルムとした以外、実施例30と同様にして偏光板を得た。
Example 31
A pressure-sensitive adhesive coating agent k was applied as an optically isotropic layer to the uneven surface of the surface-roughened film A1 in which the low refractive index layer and the hard coat layer were laminated, using an applicator. After processing, a polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 30, except that the film was dried at 100° C. to obtain a laminated film.

実施例32~34
実施例30の偏光板の製造に用いた、低屈折率層及びハードコート層が積層された表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、光学等方層用のコート剤bをアプリケーターで塗工した。この塗工面に20cm×30cmに切り取ったTACフィルム積層偏光子の偏光子面を重ね合わせ、表面粗面化フィルムA1面から高圧水銀灯を照射して硬化させ、偏光板を得た。
また、光学等方層用のコート剤をe、又はfにした以外は、上記と同様にして、偏光板を得た。
Examples 32-34
The coating agent b for the optically isotropic layer was applied with an applicator to the uneven surface of the surface-roughened film A1 in which the low refractive index layer and the hard coat layer were laminated, which was used in the production of the polarizing plate of Example 30. . A polarizer surface of a TAC film laminated polarizer cut into a size of 20 cm×30 cm was placed on the coated surface, and the surface-roughened film A1 was irradiated with a high-pressure mercury lamp for curing to obtain a polarizing plate.
A polarizing plate was obtained in the same manner as described above, except that e or f was used as the coating agent for the optically isotropic layer.

(片面のみ保護フィルムを有する偏光板の製造)
(基材積層偏光子の製造)
熱可塑性樹脂基材としてPET(X)を用いて厚み100μmの未延伸フィルムを作製し、この未延伸フィルムの片面に、重合度2400、ケン化度99.9モル%のポリビニルアルコールの水溶液を塗布及び乾燥してPVA層を形成し、積層体を得た。
得られた積層体を、120℃で周速の異なるロール間で長手方向に2倍に延伸して巻き取った。
次に、得られた積層体を4%のホウ酸水溶液で30秒間の処理を行った後、ヨウ素(0.2%)及びヨウ化カリウム(1%)の混合水溶液で60秒間浸漬して染色し、引き続き、ヨウ化カリウム(3%)及びホウ酸(3%)の混合水溶液で30秒間処理した。
さらに、得られた積層体を72℃のホウ酸(4%)及びヨウ化カリウム(5%)の混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、4%ヨウ化カリウム水溶液で洗浄し、エアナイフで水溶液を除去した後に80℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅30cm、長さ1000mの基材積層偏光子1を得た。
合計の延伸倍率は6.5倍で、偏光子の厚みは5μmであった。なお、厚みは基材積層偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。
(Production of polarizing plate having protective film on only one side)
(Manufacturing of substrate-laminated polarizer)
An unstretched film having a thickness of 100 μm was prepared using PET (X) as a thermoplastic resin substrate, and an aqueous solution of polyvinyl alcohol having a degree of polymerization of 2400 and a degree of saponification of 99.9 mol% was applied to one side of the unstretched film. And dried to form a PVA layer to obtain a laminate.
The resulting laminate was stretched twice in the longitudinal direction between rolls having different peripheral speeds at 120° C. and wound up.
Next, the obtained laminate was treated with a 4% boric acid aqueous solution for 30 seconds, and then immersed in a mixed aqueous solution of iodine (0.2%) and potassium iodide (1%) for 60 seconds for dyeing. and then treated with a mixed aqueous solution of potassium iodide (3%) and boric acid (3%) for 30 seconds.
Furthermore, the obtained laminate was uniaxially stretched in the longitudinal direction in a mixed aqueous solution of boric acid (4%) and potassium iodide (5%) at 72 ° C., followed by washing with a 4% potassium iodide aqueous solution, After removing the aqueous solution with an air knife, the film was dried in an oven at 80° C., slit at both ends, and wound up to obtain a substrate laminated polarizer 1 having a width of 30 cm and a length of 1000 m.
The total draw ratio was 6.5 times, and the thickness of the polarizer was 5 μm. The thickness was read by embedding the base-material-laminated polarizer in an epoxy resin, cutting out a slice, and observing it with an optical microscope.

実施例35
実施例31の偏光板の製造に用いた積層フィルムの粘着層面と基材積層偏光子の偏光子面とを貼り合わせた後、基材積層偏光子の基材を剥離し、片面保護フィルム偏光板を得た。この偏光板の偏光子面に市販の光学粘着剤シートを積層した。なお、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とは平行になるようにした。
Example 35
After bonding the adhesive layer surface of the laminated film used in the production of the polarizing plate of Example 31 and the polarizer surface of the substrate-laminated polarizer, the substrate of the substrate-laminated polarizer was peeled off to obtain a single-sided protective film polarizer. got A commercially available optical adhesive sheet was laminated on the polarizer surface of this polarizing plate. The transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film were made parallel.

実施例36
積層フィルムLR5c-A(実施例5)の光学等方層の面に市販の光学用粘着剤シートを貼り、この上に基材積層偏光子の偏光子面を貼り合わせた後、基材積層偏光子の基材を剥離して片面保護フィルム偏光板を得た。この偏光板の偏光子面に市販の光学粘着剤シートを積層した。なお、偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とは平行になるようにした。
実施例37
積層フィルムLR5b-A(実施例18)を用いた以外は、実施例36と同様にして片面保護フィルム偏光板を得た。
Example 36
A commercially available optical pressure-sensitive adhesive sheet is attached to the surface of the optically isotropic layer of the laminated film LR5c-A (Example 5), and the polarizer surface of the substrate-laminated polarizer is attached thereon. A single-sided protective film polarizing plate was obtained by peeling off the base material. A commercially available optical adhesive sheet was laminated on the polarizer surface of this polarizing plate. The transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film were made parallel.
Example 37
A single-sided protective film polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 36, except that the laminated film LR5b-A (Example 18) was used.

各積層フィルムから得られたこれらの偏光板の物性及び評価を表6にまとめた。液晶表示装置における虹斑及びコントラストの評価基準は後述するとおりである。 Table 6 summarizes the physical properties and evaluation of these polarizing plates obtained from each laminated film. Evaluation criteria for iridescence and contrast in liquid crystal display devices are as described later.

Figure 0007187964000006
Figure 0007187964000006

(液晶表示装置の評価)
KSF光源を有する液晶表示装置(東芝社製レグザZ20X)に搭載された視認側、及び光源側の偏光板を剥がし、代わりに得られた偏光板を貼り合わせた貼り合わせは、TACフィルム積層偏光子を用いた偏光板の場合はTAC面に市販の光学粘着剤シートを積層して行い、片面のみ保護フィルムを有する偏光板の場合は偏光子面に積層した光学用粘着剤シート面を貼り合わせた。偏光子の透過軸は元の液晶表示装置の方向と同じになるようにした。なお、偏光板がカバーしきれない液晶セルの部分は黒色画用紙で覆った。
評価は、虹斑の確認と画像のコントラストを観察した。
(Evaluation of liquid crystal display device)
A TAC film laminated polarizer is obtained by peeling off the polarizing plates on the viewing side and the light source side mounted on a liquid crystal display device with a KSF light source (Toshiba REGZA Z20X) and bonding the obtained polarizing plates instead. In the case of a polarizing plate using TAC, a commercially available optical adhesive sheet was laminated on the TAC surface, and in the case of a polarizing plate having a protective film on only one side, the optical adhesive sheet surface laminated to the polarizer surface was laminated. . The transmission axis of the polarizer was made to be the same as the direction of the original liquid crystal display device. The portion of the liquid crystal cell that could not be covered by the polarizing plate was covered with black construction paper.
For the evaluation, confirmation of the iridescence and contrast of the image were observed.

(液晶表示装置の虹斑の観察)
液晶表示装置の表示を白一色にし、正面及び斜め方向から見て虹斑の有無を確認した。
○:虹斑は観察されなかった。
△:わずかに虹斑が観察された。
×:虹斑が観察された。
(Observation of rainbow spots on liquid crystal display device)
The display of the liquid crystal display device was set to a single white color, and the presence or absence of rainbow spots was confirmed when viewed from the front and oblique directions.
◯: No iridescence was observed.
Δ: Slight iridescence was observed.
x: Iridescent spots were observed.

(コントラストの観察)
液晶表示装置の表示を風景の画像とし、上方から卓上の蛍光灯の光を照射して正面からのコントラストを観察した。
◎:鮮やかなコントラストのままであった。
○:散乱光によりわすかにコントラストの低下が認められた。
△:コントラストの低下が認められたが、画像の観察は可能であった。
×:散乱光により、画像が見にくくなった。
(observation of contrast)
A landscape image was displayed on the liquid crystal display device, and the contrast from the front was observed by irradiating light from a tabletop fluorescent lamp from above.
⊚: Vivid contrast remained.
Good: A slight reduction in contrast was observed due to scattered light.
Δ: A decrease in contrast was observed, but the image could be observed.
x: The image became difficult to see due to scattered light.

(円偏光板の製造)
実施例35~37の粘着剤を積層した片面保護フィルム偏光板の粘着層面にλ/4波長板を貼り合わせ、円偏光板を作成した。市販の有機ELを用いたスマートホンの円偏光板を剥がし、代わりに作成した円偏光板を有機ELセルに貼り合わせ、画像を観察した。これらの円偏光板は、問題なく使用できるものであった。
(Manufacture of circularly polarizing plate)
A λ/4 wavelength plate was attached to the adhesive layer surface of the single-sided protective film polarizing plate laminated with the adhesive of Examples 35 to 37 to prepare a circularly polarizing plate. The circularly polarizing plate of a smartphone using a commercially available organic EL was peeled off, and a circularly polarizing plate prepared instead was attached to the organic EL cell, and an image was observed. These circularly polarizing plates could be used without problems.

本発明の積層フィルムにより、急峻なピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保し、外光による反射を抑制することができる。 The laminated film of the present invention suppresses rainbow spots, ensures high transparency and vivid image displayability, and suppresses reflection due to external light when used in an environment with a light source having a steep peak. can be done.

Claims (7)

下記の特徴全てを有する、基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルムであって、基材フィルム及び/又は光学等方層の上に低屈折率層を有する積層フィルム。
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.4μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy)が0.07~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15であり、かつ、1.57以上である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとし、ΔBfNxy=Bfnx-Bfnyとする)
(d)基材フィルムのリタデーション差(ΔRe)が90~800nmである。
(但し、ΔRe=Ra×ΔBfNxyである)
(e)基材フィルムの面内リタデーションが3000~30000nmである
(f)基材フィルムのBfnxが1.67~1.73である。
(g)基材フィルムがポリエステルフィルムである。
(h)光学等方層は、前記凹凸面上に他の層を介することなく直接接触して設けられているか、又は、易接着層のみを介して設けられている。
A laminated film having a substrate film and an optically isotropic layer, the laminated film having a low refractive index layer on the substrate film and/or the optically isotropic layer, and having all of the following characteristics.
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.4 to 4 μm.
(b) The refractive index anisotropy ( ΔBfNxy ) of the base film is 0.07 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is from Bfny−0.15 to Bfnx+0.15 and is 1.57 or more . .
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, the refractive index in the fast axis direction is Bfny, and ΔBfNxy=Bfnx−Bfny )
(d) The substrate film has a retardation difference (ΔRe) of 90 to 800 nm.
(However, ΔRe=Ra×ΔBfNxy)
(e) The in-plane retardation of the base film is 3000 to 30000 nm
(f) Bfnx of the base film is 1.67 to 1.73.
(g) The base film is a polyester film.
(h) The optically isotropic layer is provided in direct contact with the irregular surface without any other layer interposed therebetween, or is provided only via the easy-adhesion layer.
前記基材フィルムの面配向度(ΔP)が0.09~0.15である請求項1に記載の積層フィルム。2. The laminated film according to claim 1, wherein the base film has a plane orientation degree (ΔP) of 0.09 to 0.15. 前記光学等方層の屈折率がBfny~Bfnxである請求項1又は2に記載の積層フィルム。3. The laminated film according to claim 1, wherein the optically isotropic layer has a refractive index of Bfny to Bfnx. 前記光学等方層の屈折率がBfny+0.02~Bfnxである請求項1~3のいずれかに記載の積層フィルム。4. The laminated film according to claim 1, wherein the optically isotropic layer has a refractive index of Bfny+0.02 to Bfnx. 請求項1~4のいずれかに記載の積層フィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板。 A polarizing plate using the laminated film according to any one of claims 1 to 4 as a polarizer protective film. 請求項に記載の偏光板を含む画像表示装置。 An image display device comprising the polarizing plate according to claim 5 . QD(量子ドット)光源、及び/又は、赤色領域用にKSF蛍光体を用いた光源を有する、請求項6に記載の画像表示装置。7. The image display device according to claim 6, comprising a QD (quantum dot) light source and/or a light source using a KSF phosphor for the red region.
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