JP7238326B2 - Depolarizing film and image display device using the same - Google Patents
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Description
本発明は、偏光解消フィルム及びそれを用いた画像表示装置に関する。 The present invention relates to a depolarizing film and an image display device using the same.
ポリエステルフィルムなどの複屈折性を有するフィルムを蛍光灯又は冷陰極管光源の環境下で使用した場合、レタデーションに起因する虹斑が生じることが知られていた。そのため、液晶ディスプレイなどに用いられる偏光子の保護フィルムには光学的に等方性を有するセルロース系のフィルムが用いられてきた。 It has been known that when a birefringent film such as a polyester film is used under the environment of a fluorescent lamp or a cold cathode tube light source, iridescence caused by retardation occurs. Therefore, optically isotropic cellulose-based films have been used as protective films for polarizers used in liquid crystal displays and the like.
最近、高いレタデーションを有するフィルムを連続的な発光スペクトルを有する白色光源と組み合わせることで虹斑を解消する技術が提案されており(例えば、特許文献1等)、偏光サングラスをかけて画像を見た場合であってもブラックアウトや虹斑が起こらない偏光解消フィルムとして液晶ディスプレイ等で実用化されてきた。しかしながら、この技術は、冷陰極管光源又はKSF蛍光体(K2SiF6結晶にMnを添加した蛍光体)と呼ばれるような発光スペクトルの赤色域に急峻な発光ピークを持つ光源を用いる場合に改善の余地があった。また、高いレタデーションを確保するためにはフィルムに厚みが必要であり、近年の画像表示装置の薄型化には十分対応しきれない恐れがあった。 Recently, a technique has been proposed to eliminate iridescence by combining a film with high retardation with a white light source with a continuous emission spectrum (for example, Patent Document 1, etc.). It has been put to practical use in liquid crystal displays and the like as a depolarizing film that does not cause blackout or iridescence even in the case of polarizing. However, this technology is improved when using a light source with a sharp emission peak in the red region of the emission spectrum, such as a cold cathode tube light source or a KSF phosphor (a phosphor in which Mn is added to K 2 SiF 6 crystal). There was room for In addition, the film needs to be thick in order to ensure a high retardation, and there is a fear that it will not be able to sufficiently cope with the thinning of image display devices in recent years.
急峻な発光ピークを持つ光源を用いた液晶ディスプレイの偏光解消フィルムとして、複屈折を有するフィルムの表面に凹凸を設けることで肉眼で視認可能なレベルより小さな領域内で局所的にλ/4以上の位相差を発生させたフィルムが提案されている(例えば特許文献2)。しかし、かかる従来技術には、画像のコントラストが低い、強い外光環境下では画面が白くなり画像が見えにくい、という問題点があった。 As a depolarizing film for a liquid crystal display using a light source with a steep emission peak, by providing unevenness on the surface of the film having birefringence, it is possible to locally reduce the wavelength to λ/4 or more within a region smaller than the level visible to the naked eye. A film in which retardation is generated has been proposed (for example, Patent Document 2). However, such prior art has problems that the contrast of the image is low, and that the screen becomes white and the image is difficult to see in an environment of strong external light.
本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、急峻な発光ピークを持つ光源の環境下で用いる場合等に、偏光サングラス等の偏光フィルタを介して画像を見る場合等に生じる虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保できる偏光解消フィルム及びそれを用いた画像表示装置等を提供することにある。 The present invention has been made against the background of such problems of the prior art. That is, the object of the present invention is to suppress iridescence that occurs when an image is viewed through a polarizing filter such as polarized sunglasses when used in an environment of a light source having a steep emission peak, and to achieve high transparency, Another object of the present invention is to provide a depolarizing film capable of ensuring vivid image display and an image display device using the same.
本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。
すなわち本発明は、以下の態様を包含する。
項1.
基材フィルムと光学等方層とを有する積層フィルムからなり、前記積層フィルムが下記の特徴全てを有する偏光解消フィルム。
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.2~10μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(Bfnx-Bfny)が0.04~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとする)
項2.
画像表示セル、前記画像表示セルよりも視認側に配置される偏光子、及び前記偏光子よりも視認側に配置される項1に記載の偏光解消フィルムを有する画像表示装置。
項3.
前記偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とがなす角度が20~70度である、項2に記載の画像表示装置。
The present inventor has completed the present invention as a result of intensive studies to achieve this object.
That is, the present invention includes the following aspects.
Section 1.
A depolarizing film comprising a laminated film having a substrate film and an optically isotropic layer, wherein the laminated film has all of the following characteristics.
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.2 to 10 μm.
(b) The refractive index anisotropy (Bfnx-Bfny) of the base film is from 0.04 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is from Bfny−0.15 to Bfnx+0.15.
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, and the refractive index in the fast axis direction is Bfny.)
Section 2.
An image display device comprising an image display cell, a polarizer arranged on the viewer side of the image display cell, and the depolarizing film according to item 1 arranged on the viewer side of the polarizer.
Item 3.
Item 3. The image display device according to Item 2, wherein the angle formed by the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film is 20 to 70 degrees.
本発明の偏光解消フィルムにより、急峻な発光ピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、偏光サングラス等の偏光フィルタを介して画像を見る場合等に生じる虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。 The depolarizing film of the present invention suppresses iridescence that occurs when an image is viewed through a polarizing filter such as polarized sunglasses when used in an environment with a light source having a sharp emission peak, and has high transparency and high transparency. And vivid image displayability can be ensured.
本発明の偏光解消フィルムは、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムの凹凸面に光学等方層を有することが好ましい。なお、以下単に積層フィルム又は偏光解消フィルムという場合はこれを意味するものとする。
(基材フィルム)
まず、基材フィルムに関して説明する。
The depolarizing film of the present invention preferably has an optically isotropic layer on the uneven surface of the substrate film having the uneven surface (roughened surface). In addition, the term "laminate film" or "depolarizing film" simply means this.
(Base film)
First, the base film will be explained.
少なくとも基材フィルムとしては、屈折率異方性を持たせられるものであれば特に限定はなく、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられる。中でも屈折率異方性の高いフィルムが容易に得られる点でポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレートなどが挙げられ、中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらのポリエステルは、フィルムとしての機械的物性、耐熱性、及び寸法安定性を損なわない程度(例えば10モル%以下)であれば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノールビスフェノールAのエチレンオキシド(EO)1~2モル付加物等を共重合してもよい。なお、例えばポリエチレンテレフタレートの重合体であれば通常重合時に副生成物のジエチレングリコールが1~2モル共重合するが、このような副生成物を含んでいてもよい。 At least the base film is not particularly limited as long as it can have refractive index anisotropy, and examples thereof include polyester, polyamide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, polyamide, and polycarbonate. Among them, polyester is preferable because a film having high refractive index anisotropy can be easily obtained. Examples of polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polytetramethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, etc. Among them, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. These polyesters include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and ethylene glycol, as long as they do not impair the mechanical properties, heat resistance, and dimensional stability of the film (for example, 10 mol % or less). . For example, in the case of a polyethylene terephthalate polymer, 1 to 2 mol of diethylene glycol, which is a by-product, is usually copolymerized during polymerization, and such a by-product may be contained.
基材フィルムは複屈折性を有する。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の下限は、好ましくは1.65であり、より好ましくは1.66であり、さらに好ましくは1.67であり、特に好ましくは1.68である。基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)の上限は、好ましくは1.73であり、より好ましくは1.72であり、さらに好ましくは1.71であり、特に好ましくは1.7である。 The base film has birefringence. The lower limit of the slow axis refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.65, more preferably 1.66, still more preferably 1.67, and particularly preferably 1.68. The upper limit of the slow axis direction refractive index (Bfnx) of the base film is preferably 1.73, more preferably 1.72, still more preferably 1.71, and particularly preferably 1.7.
基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の下限は、好ましくは1.53であり、より好ましくは1.55であり、さらに好ましくは1.56であり、特に好ましくは1.57である。基材フィルムの進相軸方向屈折率(Bfny)の上限は、好ましくは1.62であり、より好ましくは1.61であり、さらに好ましくは1.6である。 The lower limit of the fast axis refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.53, more preferably 1.55, still more preferably 1.56, and particularly preferably 1.57. The upper limit of the fast axis direction refractive index (Bfny) of the base film is preferably 1.62, more preferably 1.61, still more preferably 1.6.
基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy=Bfnx-Bfny)の下限は、好ましくは0.04であり、より好ましくは0.05であり、さらに好ましくは0.06であり、特に好ましくは0.07である。当該下限が0.04以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。基材フィルムの屈折率異方性の上限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.18であり、さらに好ましくは0.17であり、特に好ましくは0.16である。当該上限が0.2以下であると進相軸方向の機械的強度を実用範囲に調節することができ、製造も容易になる。なお、基材フィルムの屈折率は、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy=Bfnx−Bfny) of the substrate film is preferably 0.04, more preferably 0.05, still more preferably 0.06, and particularly preferably 0.07. When the lower limit is 0.04 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the refractive index anisotropy of the substrate film is preferably 0.2, more preferably 0.18, still more preferably 0.17, and particularly preferably 0.16. When the upper limit is 0.2 or less, the mechanical strength in the fast axis direction can be adjusted within a practical range, and production is facilitated. The refractive index of the base film is a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.
凹凸面付与前(粗面化前)の基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは20μmであり、さらに好ましくは25μmである。当該下限が15μm以上であれば、凹凸付与時に厚みが低減しても、優れた機械的強度を有する。凹凸面付与前の基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは200μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が200μm以下であれば、取り扱い性に優れており、薄型にする(例:薄型の画像表示装置に用いる)のに好適である。 The lower limit of the thickness of the base film before providing the uneven surface (before roughening) is preferably 15 μm, more preferably 20 μm, and still more preferably 25 μm. If the lower limit is 15 μm or more, excellent mechanical strength is obtained even if the thickness is reduced when the unevenness is imparted. The upper limit of the thickness of the base film before the uneven surface is provided is preferably 200 μm, more preferably 150 μm, still more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. If the upper limit is 200 μm or less, it is excellent in handleability and suitable for thinning (eg, for use in thin image display devices).
凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, even more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, most preferably 4000 nm. is. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the substrate film before imparting the uneven surface is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, even more preferably 15000 nm, still more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm, more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.
凹凸面付与前の基材フィルムの面内レタデーション(Re)と厚み方向のレタデーション(Rth)との比(Re/Rth)の下限は、好ましくは0.2であり、より好ましくは0.5であり、さらに好ましくは0.6である。当該下限が0.2以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。凹凸面付与前の基材フィルムのRe/Rthの上限は、機械的強度の観点で好ましくは2であり、より好ましくは1.5であり、さらに好ましくは1.2であり、特に好ましくは1である。 The lower limit of the ratio (Re/Rth) between the in-plane retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) of the base film before the uneven surface is imparted is preferably 0.2, more preferably 0.5, and even more preferably. is 0.6. When the lower limit is 0.2 or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of Re/Rth of the base film before the rough surface is provided is preferably 2, more preferably 1.5, still more preferably 1.2, and particularly preferably 1 from the viewpoint of mechanical strength.
基材フィルムのNz係数の下限は、好ましくは1.3であり、より好ましくは1.4であり、さらに好ましくは1.45である。当該下限が1.3以上であると進相軸方向の機械的強度も優れる。基材フィルムのNz係数の上限は、好ましくは2.5であり、より好ましくは2.2であり、さらに好ましくは2であり、特に好ましくは1.8であり、最も好ましくは1.7である。当該上限が2.5以下であると虹斑をより効果的に解消することができる。 The lower limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 1.3, more preferably 1.4, still more preferably 1.45. When the lower limit is 1.3 or more, the mechanical strength in the fast axis direction is also excellent. The upper limit of the Nz coefficient of the base film is preferably 2.5, more preferably 2.2, even more preferably 2, particularly preferably 1.8, most preferably 1.7. When the upper limit is 2.5 or less, iridescence can be more effectively eliminated.
基材フィルムの面配向度ΔPの下限は、好ましくは0.08であり、より好ましくは0.09であり、さらに好ましくは0.1である。当該下限が0.08以上であると虹斑をより効果的に解消することができるだけでなく、フィルムの厚み斑を低減することもできる。基材フィルムの面配向度ΔPの上限は、好ましくは0.15であり、より好ましくは0.14であり、さらに好ましくは0.13である。当該上限が0.15以下であると屈折率異方性をより高く保つことができる。 The lower limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.08, more preferably 0.09, and still more preferably 0.1. When the lower limit is 0.08 or more, not only can iridescence be effectively eliminated, but also thickness unevenness of the film can be reduced. The upper limit of the plane orientation degree ΔP of the substrate film is preferably 0.15, more preferably 0.14, and still more preferably 0.13. When the upper limit is 0.15 or less, the refractive index anisotropy can be kept higher.
基材フィルムは屈折率異方性を持たせるため、一軸方向に配向されていることが好ましい。配向方法としては、それぞれの樹脂に合わせた通常の方法で行うことができる。例えば、溶融した樹脂を冷却ロール上にシート状に押し出して製造する場合であれば、冷却ロールを押し出される樹脂の速度以上に設定して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法などが挙げられる。 The substrate film is preferably uniaxially oriented in order to have refractive index anisotropy. Orientation can be carried out by a normal method suitable for each resin. For example, if the melted resin is extruded on a cooling roll to form a sheet, the cooling roll is set to a speed higher than the speed of the extruded resin, and the unstretched film that has been melted and extruded is heated. Examples include a method of stretching and orienting the film in the longitudinal direction with a group of rolled rolls, and a method of stretching and orienting the unstretched film melted and extruded in the transverse direction or oblique direction by heating in a tenter.
これらの中でも、基材フィルムの配向方法としては、溶融して押し出された未延伸フィルムを加熱したロール群で縦方向に延伸して配向させる方法、及び、溶融して押し出された未延伸フィルムをテンター内で加熱して横方向又は斜め方向に延伸して配向させる方法が好ましい。縦方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。横方向、又は斜め方向の延伸倍率としては、2.5~10倍が好ましく、より好ましくは3~8倍であり、特に好ましくは3.3~7倍である。 Among these, the method of orienting the base film includes a method of stretching and orienting a melted and extruded unstretched film in the longitudinal direction with a group of heated rolls, and a method of stretching the melted and extruded unstretched film. A method of orientation by heating in a tenter and stretching in a horizontal direction or an oblique direction is preferred. The draw ratio in the longitudinal direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times. The draw ratio in the transverse direction or oblique direction is preferably 2.5 to 10 times, more preferably 3 to 8 times, and particularly preferably 3.3 to 7 times.
なお、縦方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、縦方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)横方向の延伸を加えたり、縦方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)横方向の延伸を加えてもよい。同様に、横方向に配向させる場合であっても、配向方向に対して垂直方向の機械的強度を高めたり、収縮特性を調整するために、横方向の延伸前に弱い(2.2倍程度以下の)縦方向の延伸を加えたり、横方向の延伸後に弱い(1.5倍程度以下の)縦方向の延伸を加えてもよい。また、より配向方向の配向性を上げるため、横方向の延伸時又は延伸後に縦方向に若干収縮させてもよい。収縮後の幅は、延伸時の幅に対して0.7~0.995倍が好ましく、さらには0.8~0.99倍が好ましく、特には0.9~0.98倍が好ましい。なお、縦方向の延伸、及び横方向の延伸は、テンター型の同時二軸延伸機で行ってもよい。 In addition, even in the case of orientation in the machine direction, it is weak (about 2.2 times or less) before stretching in the machine direction in order to increase the mechanical strength in the direction perpendicular to the orientation direction and to adjust the shrinkage characteristics. 2) transverse stretching may be added, or weak transverse stretching (about 1.5 times or less) may be added after longitudinal stretching. Similarly, even in the case of orientation in the transverse direction, a weak (about 2.2 times (less than 1.5 times) or weaker (less than about 1.5 times) stretching in the machine direction may be added after the stretching in the transverse direction. Further, in order to further increase the orientation in the orientation direction, the film may be slightly shrunk in the machine direction during or after stretching in the transverse direction. The width after shrinkage is preferably from 0.7 to 0.995 times, more preferably from 0.8 to 0.99 times, particularly preferably from 0.9 to 0.98 times the width during stretching. The stretching in the longitudinal direction and the stretching in the transverse direction may be performed by a tenter-type simultaneous biaxial stretching machine.
延伸時の温度(及び予備加熱の温度)は、縦方向、及び横方向とも80~150℃が好ましい。また、延伸後は、基材フィルムの耐熱性を確保するため、延伸時の加熱温度より高温で熱固定することが好ましい。熱固定温度としては150~250℃が好ましく、さらに好ましくは170~245℃である。 The stretching temperature (and preheating temperature) is preferably 80 to 150° C. both in the machine direction and in the transverse direction. Moreover, after stretching, in order to ensure the heat resistance of the base film, it is preferable to heat set at a temperature higher than the heating temperature during stretching. The heat setting temperature is preferably 150 to 250°C, more preferably 170 to 245°C.
基材フィルムは、波長380nmの光線透過率が20%以下であることが望ましい。波長380nmの光線透過率は15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましく、5%以下が特に好ましい。なお、波長380nmの光線透過率は、フィルムの平面に対して垂直方向に測定したものであり、分光光度計(例えば、日立U-3500型)を用いて測定することができる。 The base film preferably has a light transmittance of 20% or less at a wavelength of 380 nm. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is more preferably 15% or less, even more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. The light transmittance at a wavelength of 380 nm is measured in the direction perpendicular to the plane of the film, and can be measured using a spectrophotometer (for example, Hitachi U-3500).
基材フィルムの波長380nmの光線透過率を20%以下にするためには、基材フィルムに配合する紫外線吸収剤の種類、濃度、及び基材フィルムの厚みを適宜調節することが望ましい。本発明で使用される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤及び無機系紫外線吸収剤が挙げられる。透明性の観点から、有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが、上述した光線透過率の範囲であれば特に限定されない。耐久性の観点からは、ベンゾトリアゾール系、及び環状イミノエステル系が特に好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。 In order to keep the light transmittance of the base film at a wavelength of 380 nm to 20% or less, it is desirable to appropriately adjust the type and concentration of the ultraviolet absorber to be blended in the base film, and the thickness of the base film. The ultraviolet absorbent used in the present invention includes organic ultraviolet absorbents and inorganic ultraviolet absorbents. From the viewpoint of transparency, organic UV absorbers are preferred. Examples of organic UV absorbers include benzotriazole-based, benzophenone-based, cyclic iminoester-based, and combinations thereof, but are not particularly limited as long as the light transmittance is within the range described above. From the viewpoint of durability, benzotriazole-based and cyclic iminoester-based are particularly preferable. When two or more ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet rays of different wavelengths can be absorbed at the same time, so that the ultraviolet absorption effect can be further improved.
基材フィルムには、紫外線吸収剤以外に、本発明の効果を妨げない範囲で、各種の添加剤を含有させることも好ましい。添加剤として、例えば、無機粒子、耐熱性高分子粒子、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、リン化合物、帯電防止剤、耐光剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、ゲル化防止剤、界面活性剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用することができる。
また、高い透明性を奏するためには、基材フィルムに粒子を実質的に含有させないことも好ましい。「粒子を実質的に含有させない」とは、例えば無機粒子の場合、蛍光X線分析で基材フィルム中の無機元素を定量した場合に50ppm以下、好ましくは10ppm以下、特に好ましくは検出限界以下となる含有量を意味する。
In addition to the ultraviolet absorber, it is also preferable to incorporate various additives into the substrate film within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of additives include inorganic particles, heat-resistant polymer particles, alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, phosphorus compounds, antistatic agents, light stabilizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, and anti-gelling agents. , surfactants, and the like. These additives can be used alone or in combination of two or more.
Moreover, in order to achieve high transparency, it is also preferred that the base film does not substantially contain particles. The term "substantially contains no particles" means, for example, in the case of inorganic particles, when the inorganic elements in the base film are quantified by fluorescent X-ray analysis, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, particularly preferably less than the detection limit. means a content of
(表面凹凸付与)
本発明では、基材フィルムの少なくとも片面に凹凸面を有する。凹凸面は、基材フィルムの片面のみに設けてもよいし、両面に設けてもよい。なお、凹凸面を有する基材フィルムを、粗面化した基材フィルムと称する場合がある。
(Improvement of surface unevenness)
In the present invention, at least one surface of the substrate film has an uneven surface. The uneven surface may be provided only on one side of the base film, or may be provided on both sides. A substrate film having an uneven surface may be referred to as a roughened substrate film.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の算術平均粗さ(Ra)の下限は、好ましくは0.2μmであり、より好ましくは0.4μmであり、さらに好ましくは0.6μmであり、特に好ましくは0.7μmであり、最も好ましくは0.8μmである。当該Raの上限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは7μmであり、さらに好ましくは5μmであり、特に好ましくは4μmであり、最も好ましくは3μmである。 The lower limit of the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.2 μm, more preferably 0.4 μm, even more preferably 0.6 μm, and particularly preferably 0.7 μm. and most preferably 0.8 μm. The upper limit of Ra is preferably 10 μm, more preferably 7 μm, even more preferably 5 μm, particularly preferably 4 μm, most preferably 3 μm.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の二乗平均平方根粗さ(Rq)の下限は、好ましくは0.3μmであり、より好ましくは0.5μmであり、さらに好ましくは0.7μmであり、特に好ましくは0.9μmであり、最も好ましくは1μmである。当該Rqの上限は、好ましくは13μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは7μmであり、特に好ましくは5μmであり、最も好ましくは4μmである。 The lower limit of the root-mean-square roughness (Rq) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 0.3 μm, more preferably 0.5 μm, still more preferably 0.7 μm, and particularly preferably 0.9. μm, most preferably 1 μm. The upper limit of Rq is preferably 13 μm, more preferably 10 μm, even more preferably 7 μm, particularly preferably 5 μm, most preferably 4 μm.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の十点平均粗さ(Rz)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは2.0μmであり、さらに好ましくは3.0μmであり、特に好ましくは3.5μmであり、最も好ましくは4.0μmである。当該Rzの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the ten-point average roughness (Rz) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 2.0 μm, still more preferably 3.0 μm, and particularly preferably 3.5. μm, most preferably 4.0 μm. The upper limit of Rz is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大高さ(Ry)の下限は、好ましくは2.0μmであり、より好ましくは3.0μmであり、さらに好ましくは4.0μmであり、特に好ましくは4.5μmであり、最も好ましくは5.0μmである。当該Ryの上限は、好ましくは20μmであり、より好ましくは17μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは13μmである。 The lower limit of the maximum height (Ry) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 2.0 μm, more preferably 3.0 μm, still more preferably 4.0 μm, and particularly preferably 4.5 μm. Yes, most preferably 5.0 μm. The upper limit of Ry is preferably 20 μm, more preferably 17 μm, even more preferably 15 μm, and particularly preferably 13 μm.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大山高さ(Rp)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rpの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum peak height (Rp) of the uneven surface of the roughened base film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, still more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. be. The upper limit of Rp is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, particularly preferably 8 μm.
粗面化した基材フィルムの凹凸面の最大谷深さ(Rv)の下限は、好ましくは1.0μmであり、より好ましくは1.5μmであり、さらに好ましくは2.0μmであり、特に好ましくは2.5μmである。当該Rvの上限は、好ましくは15μmであり、より好ましくは12μmであり、さらに好ましくは10μmであり、特に好ましくは8μmである。 The lower limit of the maximum valley depth (Rv) of the uneven surface of the roughened substrate film is preferably 1.0 μm, more preferably 1.5 μm, even more preferably 2.0 μm, and particularly preferably 2.5 μm. is. The upper limit of Rv is preferably 15 μm, more preferably 12 μm, even more preferably 10 μm, and particularly preferably 8 μm.
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が下限以上であると虹斑をより効果的に解消できる。
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvの値が上限以上であると生産性に優れる。
Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、及びRvは、JIS B0601-1994又はJIS B0601-2001に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
When the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the lower limits, iris spots can be eliminated more effectively.
Productivity is excellent when the values of Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are at least the upper limits.
Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, and Rv are calculated from roughness curves measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994 or JIS B0601-2001.
基材フィルムの表面に凹凸を設ける(粗面化する)ことにより、微少領域でリタデーション差を設け、それぞれの領域でのリタデーションによる着色(虹斑)はあるものの、視覚的に着色を見えなくすることができる。このリタデーション差ΔReは、ΔRe=Ra×ΔBfNxyで表すことができる。ΔReの下限は、好ましくは30nmであり、より好ましくは50nmであり、さらに好ましくは70nmであり、特に好ましくは90nmであり、最も好ましくは100nmである。当該下限が30nm以上であると虹斑をより効果的に解消することができる。ΔReの上限は、好ましくは1500nmであり、より好ましくは1000nmであり、さらに好ましくは800nmであり、特に好ましくは500nmであり、最も好ましくは300nmである。当該上限が1500nm以下であると生産性にも優れる。 By providing unevenness (roughening) on the surface of the base film, a retardation difference is provided in a minute area, and although there is coloring (rainbow spots) due to retardation in each area, the coloring is visually invisible. be able to. This retardation difference ΔRe can be represented by ΔRe=Ra×ΔBfNxy. The lower limit of ΔRe is preferably 30 nm, more preferably 50 nm, still more preferably 70 nm, particularly preferably 90 nm, most preferably 100 nm. When the lower limit is 30 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of ΔRe is preferably 1500 nm, more preferably 1000 nm, still more preferably 800 nm, particularly preferably 500 nm, most preferably 300 nm. When the upper limit is 1500 nm or less, productivity is also excellent.
粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の下限は、好ましくは5μmであり、より好ましくは10μmであり、さらに好ましくは15μmであり、特に好ましくは20μmであり、最も好ましくは25μmである。当該下限が5μm以上であると凹凸の斜面が緩やかとなり、画像がより鮮明になる。粗面化した基材フィルムの凹凸の平均間隔(Sm)の上限は、好ましくは500μmであり、より好ましくは450μmであり、さらに好ましくは400μmであり、特に好ましくは350μmであり、最も好ましくは300μmである。当該上限が500μm以下であると微少領域のそれぞれのリタデーションによる着色感、又はちらつき感を防止することができる。
Smは、JIS B0601-1994に準拠して、接触型粗さ計を用いて測定される粗さ曲線から算出される。
The lower limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 5 µm, more preferably 10 µm, still more preferably 15 µm, particularly preferably 20 µm, and most preferably 25 µm. is. When the lower limit is 5 μm or more, the slope of the unevenness becomes gentle, and the image becomes clearer. The upper limit of the average spacing (Sm) of the unevenness of the roughened substrate film is preferably 500 μm, more preferably 450 μm, still more preferably 400 μm, particularly preferably 350 μm, most preferably 300 μm. is. When the upper limit is 500 μm or less, it is possible to prevent a feeling of coloring or a feeling of flickering due to the retardation of each minute region.
Sm is calculated from a roughness curve measured using a contact roughness meter in accordance with JIS B0601-1994.
凹凸を付与し、粗面化することで基材フィルムは元の厚みから薄くなることがある。粗面化した基材フィルムの厚みの下限は、好ましくは10μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは25μmであり、最も好ましくは30μmである。当該下限が10μm以上であると保護フィルムとしての強度を十分に確保することができる。粗面化した基材フィルムの厚みの上限は、好ましくは150μmであり、より好ましくは120μmであり、さらに好ましくは100μmであり、特に好ましくは90μmであり、最も好ましくは80μmである。当該上限が150μm以下であると薄型化に適する。
粗面化した基材フィルムの厚みは、粗面化した基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、凹凸面は視野の凸部と凹部の中央を基準として、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
The base film may become thinner than the original thickness by providing unevenness and roughening the surface. The lower limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 10 μm, more preferably 15 μm, even more preferably 20 μm, particularly preferably 25 μm, and most preferably 30 μm. When the lower limit is 10 μm or more, sufficient strength as a protective film can be ensured. The upper limit of the thickness of the roughened substrate film is preferably 150 μm, more preferably 120 μm, even more preferably 100 μm, particularly preferably 90 μm, and most preferably 80 μm. When the upper limit is 150 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the roughened base film is determined by embedding the roughened base film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. , the thickness is measured at 10 points at equal intervals, and the average value is calculated.
粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)の下限は、好ましくは2000nmであり、より好ましくは2500nmであり、さらに好ましくは3000nmであり、特に好ましくは3500nmであり、最も好ましくは4000nmである。当該下限が2000nm以上であると虹斑をより有効に解消することができる。粗面化した基材フィルムの面内レタデーション(Re)の上限は、好ましくは30000nmであり、より好ましくは20000nmであり、さらに好ましくは15000nmであり、よりさらに好ましくは12000nmであり、特に好ましくは10000nmであり、より特に好ましくは9000nmであり、最も好ましくは8000nmであり、特に最も好ましくは7500nmである。当該上限が30000nm以下であると薄型化に適する。 The lower limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 2000 nm, more preferably 2500 nm, still more preferably 3000 nm, particularly preferably 3500 nm, most preferably 4000 nm. be. When the lower limit is 2000 nm or more, iridescence can be eliminated more effectively. The upper limit of the in-plane retardation (Re) of the roughened substrate film is preferably 30000 nm, more preferably 20000 nm, still more preferably 15000 nm, even more preferably 12000 nm, and particularly preferably 10000 nm. is more preferably 9000 nm, most preferably 8000 nm, most preferably 7500 nm. When the upper limit is 30000 nm or less, it is suitable for thinning.
凹凸付与方法は特に限定するものではなく、従来から知られている粗面化処理の方法が挙げられる。例えば、サンドブラスト処理、サンドペーパー又はやすり、砥石等による処理、サンダー(オービタルサンダー、ランダムサンダー、デルタサンダー、ベルトサンダー、ディスクサンダー、ロールサンダーなど)による処理、金属ブラシなどによる処理、ケミカルエッチング、金型でプレスすることによる賦型等が挙げられる。これらのうち、サンドブラスト処理、サンダーによる処理、ケミカルエッチングが好ましい。
サンドブラスト処理は、例えば、遠心式ブラスト機にロール状の基材フィルムを供給して、基材フィルム面に研磨材を投射する方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、処理時間、回転翼の速度等により調節することができる。また、サンドブラスト処理は、ガラス板に基材フィルムを貼り付け、エアーブラストにセットし、基材フィルム面に研磨材を吹きつける方法であってもよい。この場合、粗さは、研磨材の種類、研磨材の大きさ、吹きつけ圧力、処理時間等により調節することができる。
サンダーによる処理は、例えば、ロール状の基材フィルムを、フィルムの搬送ロールの一部のロール表面にサンディングペーパーを貼り付けたもの(ロールサンダー)を有する搬送装置に導き処理する方法であってもよい。この場合、粗さはサンディングペーパーの種類、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。また、処理方向は、ロールサンダーとフィルムとの抱き付け角度、ロールサンダーの回転数、フィルムの搬送速度等で調節することができる。
また、サンダーによる処理は、ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に基材フィルムを貼り付け、基材フィルム面をサンダーで縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理する方法であってもよい。粗さは、サンダーのサンディングディスクの種類、処理時間等により調節することができる。
なお、サンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起を除くため、さらに処理表面をサンドペーパー等で研磨してもよい。
ケミカルエッチングは、酸又はアルカリ溶液に浸漬し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離し、乾燥する方法であってもよい。粗さは、浸漬時間等により調節することができる。基本的にケミカルエッチングは両面処理になるが、片面のみ処理する場合は、例えば、基材フィルムの片面にマスキングフィルムを貼り合せて行う。
The method for providing unevenness is not particularly limited, and conventionally known methods for surface roughening treatment can be used. For example, sandblasting, sandpaper or file, treatment with a whetstone, etc., treatment with a sander (orbital sander, random sander, delta sander, belt sander, disc sander, roll sander, etc.), treatment with a metal brush, etc., chemical etching, mold Examples include shaping by pressing with. Of these, sandblasting, sanding, and chemical etching are preferred.
Sandblasting may be, for example, a method in which a roll-shaped base film is supplied to a centrifugal blast machine and an abrasive is projected onto the base film surface. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the processing time, the speed of the rotor blades, and the like. Further, the sandblasting treatment may be a method in which a substrate film is attached to a glass plate, set in air blasting, and an abrasive is blown onto the surface of the substrate film. In this case, the roughness can be adjusted by the type of abrasive, the size of the abrasive, the spraying pressure, the treatment time, and the like.
The treatment with a sander is, for example, a method in which a roll-shaped base film is guided to a conveying device having a roll sander attached to a part of the roll surface of the film conveying roll (roll sander). good. In this case, the roughness can be adjusted by the type of sanding paper, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like. Also, the processing direction can be adjusted by the angle between the roll sander and the film, the rotation speed of the roll sander, the transport speed of the film, and the like.
In addition, sanding is performed by attaching urethane foam to a glass plate, then attaching a base film on top of it, and sanding the surface of the base film in four directions: vertical, horizontal, and diagonal (45 degrees, 135 degrees). It may be a method of processing from. Roughness can be adjusted by the type of sanding disk of the sander, processing time, and the like.
In addition, after sanding and sandblasting, the treated surface may be further polished with sandpaper or the like in order to remove local projections.
Chemical etching may be a method of immersing in an acid or alkaline solution, washing with water, peeling off the masking film, and drying. Roughness can be adjusted by immersion time or the like. Chemical etching is basically a double-sided treatment, but in the case of single-sided treatment, for example, a masking film is adhered to one side of the substrate film.
(光学等方層)
基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられていることが好ましい。光学等方層は、前記凹凸面上に接触して設けられていることが好ましい。「接触して設けられている」とは、凹凸面に他の層を介することなく直接接触して設けられていることを意味する。但し、凹凸面と光学等方層との接着力を向上させるための易接着層は設けられていてもよい。易接着層の厚みは光学的に感知されない厚みであることが好ましく、100nm以下が好ましく、さらに好ましくは50nm以下であり、特に好ましくは20nm以下である。なお、易接着層が下記の光学等方層の屈折率の範囲を満たすのであれば、易接着層及びその上に設けられている光学等方層を合わせて、1つの光学等方層とみなすことができる。また、易接着層が光学等方層として十分な厚みを有するのであれば、易接着層を光学等方層とみなしてもよい。光学等方層を設けることで、基材フィルムの表面の凹凸による乱反射を低減させ、透明性を確保することができる。なお、易接着層の好ましい屈折率は、下記の光学等方層の好ましい屈折率の範囲と同様であり、その屈折率の調整方法も同様である。
(optical isotropic layer)
An optically isotropic layer is preferably provided on the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer is preferably provided in contact with the uneven surface. "Provided in contact with" means that it is provided in direct contact with the uneven surface without interposing another layer. However, an easy-adhesion layer may be provided to improve the adhesion between the uneven surface and the optically isotropic layer. The thickness of the easy-adhesion layer is preferably a thickness that is not optically detectable, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. If the easy-adhesion layer satisfies the refractive index range of the optical isotropic layer described below, the easy-adhesion layer and the optically isotropic layer provided thereon together are regarded as one optically isotropic layer. be able to. Moreover, if the easy-adhesion layer has a sufficient thickness as an optically isotropic layer, the easy-adhesion layer may be regarded as an optically isotropic layer. By providing the optically isotropic layer, it is possible to reduce diffused reflection due to unevenness on the surface of the base film and ensure transparency. The preferable refractive index of the easy-adhesion layer is the same as the preferable refractive index range of the optically isotropic layer described below, and the method of adjusting the refractive index is also the same.
光学等方層の屈折率の下限は、好ましくはBfny-0.15であり、より好ましくはBfny-0.12であり、さらに好ましくはBfny-0.1であり、よりさらに好ましくはBfny-0.08であり、特に好ましくはBfnyであり、最も好ましくはBfny+0.02である。
光学等方層の屈折率の上限は、好ましくはBfnx+0.15であり、より好ましくはBfnx+0.12であり、さらに好ましくはBfnx+0.1であり、よりさらに好ましくはBfnx+0.08であり、特に好ましくはBfnxであり、最も好ましくはBfnx-0.02である。
上記範囲にすることにより、コントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。
The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfny-0.15, more preferably Bfny-0.12, even more preferably Bfny-0.1, even more preferably Bfny-0.08, and particularly preferably Bfny, most preferably Bfny+0.02.
The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably Bfnx+0.15, more preferably Bfnx+0.12, even more preferably Bfnx+0.1, even more preferably Bfnx+0.08, and particularly preferably Bfnx, most preferably Bfnx-0.02.
Within the above range, the contrast or sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed.
光学等方層の屈折率の下限は、好ましくは1.44であり、より好ましくは1.47であり、さらに好ましくは1.49であり、よりさらに好ましくは1.51であり、特に好ましくは1.53であり、より特に好ましくは1.55であり、最も好ましくは1.57であり、特に最も好ましくは1.59である。光学等方層の屈折率の上限は、好ましくは1.85であり、より好ましくは1.83であり、さらに好ましくは1.80であり、よりさらに好ましくは1.78であり、特に好ましくは1.76であり、より特に好ましくは1.74であり、最も好ましくは1.72であり、より最も好ましくは1.70であり、特に最も好ましくは1.68である。上記範囲にすることによりコントラスト又は画像の鮮鋭性を維持し、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなる現象を抑制することができる。なお、光学等方層の屈折率も、波長589nmの条件で測定される値である。 The lower limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.44, more preferably 1.47, even more preferably 1.49, even more preferably 1.51, and particularly preferably 1.53, more particularly preferably 1.55, most preferably 1.57, most particularly preferably 1.59. The upper limit of the refractive index of the optically isotropic layer is preferably 1.85, more preferably 1.83, even more preferably 1.80, still more preferably 1.78, and particularly preferably 1.76, more particularly preferably 1.74, most preferably 1.72, still most preferably 1.70, most particularly preferably 1.68. By setting the ratio within the above range, the contrast or the sharpness of the image can be maintained, and the phenomenon that the screen becomes whitish when exposed to strong external light can be suppressed. The refractive index of the optically isotropic layer is also a value measured under the condition of a wavelength of 589 nm.
光学等方層の組成としては、特に限定するものではないが、アクリル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、チオエポキシ樹脂等が好ましい。適宜組成を調整することで、屈折率を上記範囲に設定することが可能である。例えば、PMMA(ポリメチルメタクリレート)の場合、一般的に屈折率は1.49程度である。アクリル系の粘着剤では長鎖又は分岐アルキル基を導入する場合が多く、さらに屈折率が低下する。屈折率を上げるためには、芳香族基を有するアクリルモノマーを共重合するか、又はスチレンを共重合することが有効である。
ポリマー又は樹脂中にイオウ、臭素、フルオレン基などを導入することも屈折率を上げる上で好ましい方法であり、これらを含有するモノマーを共重合させたアクリル、フルオレン基含有ポリエステル、フルオレン基含有ポリカーボネート、チオエポキシ樹脂などが高屈折率樹脂として好ましい。
Although the composition of the optically isotropic layer is not particularly limited, acrylic, polystyrene, polyester, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, thioepoxy resin and the like are preferable. By appropriately adjusting the composition, it is possible to set the refractive index within the above range. For example, PMMA (polymethyl methacrylate) generally has a refractive index of about 1.49. In acrylic pressure-sensitive adhesives, a long-chain or branched alkyl group is often introduced, further lowering the refractive index. In order to increase the refractive index, it is effective to copolymerize an acrylic monomer having an aromatic group or copolymerize styrene.
Introducing a sulfur, bromine, fluorene group or the like into a polymer or resin is also a preferred method for increasing the refractive index. A thioepoxy resin or the like is preferable as the high refractive index resin.
また、ポリマー又は樹脂中に高屈折微粒子を添加することも屈折率を調整する好適な方法である。
高屈折微粒子の屈折率は1.60~2.74であることが好ましい。高屈折微粒子としては、TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5、及びSnO2等の微粒子が挙げられる。高屈折微粒子は、TEM(透過電子顕微鏡)観察による平均一次粒子径が3nm~100nmであることが好ましい。これらの高屈折微粒子を1種又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
なお、明細書において、「平均一次粒径」又は「一次粒子の平均粒子径」とは、体積累積の50%粒径を指す。より詳細には、粒子の一次粒子200個を顕微鏡観察により適切な倍率で観察し、それぞれの直径を測長してその体積を算出し、その体積累積の50%粒径を平均一次粒径とする。
Adding highly refractive fine particles to a polymer or resin is also a suitable method for adjusting the refractive index.
The refractive index of the high refractive fine particles is preferably 1.60 to 2.74. Fine particles of TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , BaTiO 3 , Nb 2 O 5 , SnO 2 and the like can be used as high refractive particles. The high-refractive fine particles preferably have an average primary particle size of 3 nm to 100 nm as observed by TEM (transmission electron microscope). These high refractive fine particles may be used singly or in combination of two or more.
In the specification, "average primary particle size" or "average particle size of primary particles" refers to a 50% volume cumulative particle size. More specifically, 200 primary particles of the particles are observed under a microscope at an appropriate magnification, the diameter of each is measured, the volume is calculated, and the 50% particle size of the cumulative volume is taken as the average primary particle size. do.
光学等方層は架橋硬化されていることが好ましい。硬化方法としては特に限定されず、熱硬化、紫外線、電子線などの放射線硬化が好ましい。硬化のための架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、カルボジイミド、オキサゾリン化合物、メラミンなどのアミノ樹脂、多官能アクリレート等が挙げられる。 The optically isotropic layer is preferably crosslinked and cured. The curing method is not particularly limited, and radiation curing such as heat curing, ultraviolet rays, and electron beams is preferred. Cross-linking agents for curing include isocyanate compounds, epoxy compounds, carbodiimides, oxazoline compounds, amino resins such as melamine, polyfunctional acrylates, and the like.
光学等方層は、上記の成分からなるコート剤を基材フィルムの凹凸面に塗布する、離型フィルムに塗布して作製した光学等方層を基材フィルムの凹凸面に転写する、又は他のフィルム上に設けた光学等方層を基材フィルムの凹凸面に貼り合わせる等の方法で積層することができる。この場合、コート剤は、溶媒で溶解又は希釈して、塗工し易い粘度にすることが好ましい。また、コート剤は、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤であれば無溶剤であってもよい。 The optical isotropic layer is produced by applying a coating agent comprising the above components to the uneven surface of the base film, applying the release film to the uneven surface of the base film, and transferring the optical isotropic layer to the uneven surface of the base film. The optically isotropic layer provided on the film can be laminated by a method such as bonding to the uneven surface of the substrate film. In this case, the coating agent is preferably dissolved or diluted with a solvent so as to have a viscosity that facilitates coating. Moreover, the coating agent may be solventless as long as it is a radiation curing type coating agent such as acrylic.
例えば、アクリル系など放射線硬化タイプのコート剤は、通常、光重合性化合物を含有する。 For example, a radiation-curing type coating agent such as acrylic usually contains a photopolymerizable compound.
光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。 Photopolymerizable compounds include photopolymerizable monomers, photopolymerizable oligomers, and photopolymerizable polymers, and these can be appropriately adjusted and used. The photopolymerizable compound is preferably a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer.
光重合性モノマー
光重合性モノマーは、重量平均分子量が1000未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、THF等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。
Photopolymerizable Monomer Photopolymerizable monomers are those having a weight average molecular weight of less than 1000. As the photopolymerizable monomer, a polyfunctional monomer having two (that is, bifunctional) or more photopolymerizable functional groups is preferable. As used herein, "weight average molecular weight" is a value obtained by dissolving in a solvent such as THF and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.
多官能モノマーとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、これらをPO、EO等で変性したものが挙げられる。 Examples of polyfunctional monomers include tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, di Pentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol Penta(meth)acrylate, tripentaerythritol octa(meth)acrylate, tetrapentaerythritol deca(meth)acrylate, isocyanurate tri(meth)acrylate, isocyanurate di(meth)acrylate, polyester tri(meth)acrylate, polyester di( meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, diglycerin tetra(meth)acrylate, adamantyl di(meth)acrylate, isobornyl di(meth)acrylate, dicyclopentane di(meth)acrylate, tricyclodecane di(meth)acrylate, Those modified with PO, EO or the like can be mentioned.
これらの中でも硬度が高い機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。 Among these, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and the like are preferable from the viewpoint of obtaining a functional layer with high hardness.
光重合性オリゴマー
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が1000以上10000未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Oligomer The photopolymerizable oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. As the photopolymerizable oligomer, a bifunctional or higher polyfunctional oligomer is preferable. Polyfunctional oligomers include polyester (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, polyol (meth)acrylate, melamine (meth)acrylate, and isocyanurate (meth)acrylate. Acrylate, epoxy (meth)acrylate, and the like.
光重合性ポリマー
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が10000以上のものであり、重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる積層フィルムの外観が悪化するおそれがある。光重合性ポリマーとしては、2官能以上の多官能ポリマーが好ましい。多官能ポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル-ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable Polymer The photopolymerizable polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more, preferably 10,000 or more and 80,000 or less, more preferably 10,000 or more and 40,000 or less. If the weight-average molecular weight exceeds 80,000, the resulting laminated film may have poor appearance due to poor coating suitability due to its high viscosity. As the photopolymerizable polymer, a polyfunctional polymer having two or more functionalities is preferable. Polyfunctional polymers include urethane (meth)acrylate, isocyanurate (meth)acrylate, polyester-urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate and the like.
コート剤には、上記成分の他に重合開始剤、架橋剤の触媒、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤などが含まれていてもよい。 The coating agent may contain a polymerization initiator, a cross-linking agent catalyst, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a surfactant, and the like, in addition to the above components.
また、基材フィルムの凹凸面上に溶融させた光学等方層組成物を押し出して積層する、基材フィルムの凹凸面と別のフィルムとの間に溶融させた光学等方層組成物を押し出してラミネートするなどの方法も好ましい。 Alternatively, the melted optically isotropic layer composition is extruded and laminated on the uneven surface of the base film, or the melted optically isotropic layer composition is extruded between the uneven surface of the base film and another film. A method such as lamination is also preferred.
光学等方層は凹凸面に設けられることで凹凸面の乱反射を低減する機能を有するが、併せて他の機能を持つものであってもよい。光学等方層は、例えば、ハードコート層、反射防止層、防眩層、帯電防止層などの機能を有していてもよい。また、光学等方層は、他のフィルム又はシート、装置の構成部材と貼り合わせるための粘着剤層、又は接着剤層であってもよい。 The optically isotropic layer has a function of reducing irregular reflection on the uneven surface by being provided on the uneven surface, but may also have other functions. The optically isotropic layer may have functions such as a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and an antistatic layer. Also, the optically isotropic layer may be another film or sheet, a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer for bonding to a constituent member of a device.
光学等方層の厚みの下限は、好ましくは0.5μmであり、より好ましくは1.0μmであり、さらに好ましくは2μmであり、特に好ましくは3μmであり、最も好ましくは4μmである。当該厚みが0.5μm以上であると、基材フィルムの凹凸を平坦化しヘイズを低減することができ、鮮明性を向上することができる。
光学等方層の厚みの上限は、好ましくは30μmであり、より好ましくは25μmであり、さらに好ましくは20μmであり、特に好ましくは15μmであり、最も好ましくは10μmである。当該厚みが30μm以下であると薄型化に適する。
光学等方層の厚みは、後述の積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引いた値である。
The lower limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 0.5 μm, more preferably 1.0 μm, still more preferably 2 μm, particularly preferably 3 μm, most preferably 4 μm. When the thickness is 0.5 μm or more, the unevenness of the substrate film can be flattened, the haze can be reduced, and the sharpness can be improved.
The upper limit of the thickness of the optically isotropic layer is preferably 30 μm, more preferably 25 μm, still more preferably 20 μm, particularly preferably 15 μm, most preferably 10 μm. When the thickness is 30 μm or less, it is suitable for thinning.
The thickness of the optically isotropic layer is the value obtained by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film described later.
光学等方層の面内レタデーションの上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは50nmであり、より好ましくは30nmであり、さらに好ましくは10nmであり、特に好ましくは5nmである。 The upper limit of the in-plane retardation of the optically isotropic layer is preferably 50 nm, more preferably 30 nm, even more preferably 10 nm, and particularly preferably 5 nm, from the viewpoint of suppressing the occurrence of iridescence.
光学等方層の最も屈折率の高い方向の屈折率と最も屈折率の低い方向の屈折率との屈折率差の上限は、虹斑の発生を抑制する観点で、好ましくは0.01であり、より好ましくは0.007であり、さらに好ましくは0.005であり、特に好ましくは0.003であり、最も好ましくは0.002である。 The upper limit of the refractive index difference between the refractive index in the direction of the highest refractive index and the refractive index in the direction of the lowest refractive index of the optically isotropic layer is preferably 0.01, and more It is preferably 0.007, more preferably 0.005, particularly preferably 0.003, most preferably 0.002.
(積層フィルム)
積層フィルムの厚みの下限は、好ましくは12μmであり、より好ましくは15μmであり、さらに好ましくは18μmであり、特に好ましくは20μmである。当該下限が12μm以上であると積層フィルムの強度に優れ、製造又はその後の加工の取り扱いが容易になる。
積層フィルムの厚みの上限は、好ましくは180μmであり、より好ましくは150μmであり、さらに好ましくは120μmであり、特に好ましくは100μmであり、最も好ましくは90μmである。当該上限が180μm以下であると、各種用途での薄型化に適する。
積層フィルムの厚みは、積層フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出して顕微鏡観察し、等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値として算出される。
(Laminated film)
The lower limit of the thickness of the laminated film is preferably 12 µm, more preferably 15 µm, even more preferably 18 µm, and particularly preferably 20 µm. When the lower limit is 12 μm or more, the strength of the laminated film is excellent, and handling in production or subsequent processing is facilitated.
The upper limit of the thickness of the laminated film is preferably 180 µm, more preferably 150 µm, still more preferably 120 µm, particularly preferably 100 µm, and most preferably 90 µm. When the upper limit is 180 µm or less, it is suitable for thinning in various applications.
The thickness of the laminated film is calculated by embedding the laminated film in an epoxy resin, cutting out a section of the cross section, observing the section with a microscope, measuring the thickness at 10 points at equal intervals, and calculating the average value.
積層フィルムにおいて、基材フィルムの片面のみが凹凸面であってもよいが、基材フィルムのΔReが比較的低い場合、凹凸面の粗さが比較的小さい場合等により効果的に虹斑を抑制するため、基材フィルムの両面を凹凸面にして、その両面に光学等方層を設けることが好ましい。 In the laminated film, only one side of the base film may be an uneven surface, but if the ΔRe of the base film is relatively low, or if the roughness of the uneven surface is relatively small, iridescence can be effectively suppressed. Therefore, it is preferable to make both surfaces of the base film uneven and to provide the optically isotropic layers on both surfaces.
積層フィルムのヘイズの上限は、好ましくは10%であり、より好ましくは7%であり、さらに好ましくは5%であり、特に好ましくは4%であり、最も好ましくは3%であり、より最も好ましくは2.5%であり、特に最も好ましくは2%である。当該上限が5%以下であると、コントラストの低下、及び、強い外光があたった場合に画面が白っぽくなることをより有効に抑制することができる。 The upper limit of the haze of the laminated film is preferably 10%, more preferably 7%, still more preferably 5%, particularly preferably 4%, most preferably 3%, and most preferably is 2.5%, most preferably 2%. When the upper limit is 5% or less, it is possible to more effectively suppress a decrease in contrast and a screen from becoming whitish when exposed to strong external light.
積層フィルムは、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムを2枚以上有していてもよく、光学等方層を2層以上有していてもよく、凹凸面(粗面化面)を有する基材フィルムと光学等方層以外のフィルム又は層を有していてもよい。
積層例としては、下記のタイプ1~4などが挙げられる。
(タイプ1)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
(タイプ2)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ3)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム
(タイプ4)他のフィルム/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/(凹凸面)基材フィルム(凹凸面)/光学等方層(接着剤又は粘着剤)/他のフィルム
屈折率異方性の基材フィルムのΔBfNxyが比較的小さかったり、凹凸の粗さが比較的小さい場合は、タイプ2~タイプ4の構成を採ることが好ましい。なお、以下の説明で、積層フィルムという場合には上記タイプ1~4の構成も含むものとする。タイプ2~タイプ3の場合、2枚の基材フィルムの遅相軸は、互いに平行又は垂直であることが好ましく、製造の容易さからは平行であることが好ましい。ここで、「平行又は垂直」とは0度又は90度から好ましくは±10度、さらには±7度、特には±5度まで許容される。
The laminated film may have two or more substrate films having an uneven surface (roughened surface), may have two or more optically isotropic layers, and may have an uneven surface (roughened surface). ) and a film or layer other than the optically isotropic layer.
Examples of lamination include types 1 to 4 below.
(Type 1) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other film (Type 2) Base film (uneven surface)/optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven surface) Base film (type 3) Base film (uneven surface) / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / Other film / Optical isotropic layer (adhesive or adhesive) / (Uneven Surface) Base film (Type 4) Other film/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/(Uneven surface) Base film (uneven surface)/Optical isotropic layer (adhesive or adhesive)/Other Film When the ΔBfNxy of the base film with refractive index anisotropy is relatively small or the roughness of the unevenness is relatively small, it is preferable to adopt the configuration of type 2 to type 4. In the following description, the term "laminated film" includes the configurations of types 1 to 4 described above. In the case of Types 2 and 3, the slow axes of the two substrate films are preferably parallel or perpendicular to each other, preferably parallel from the viewpoint of ease of production. Here, "parallel or perpendicular" is allowed from 0 degree or 90 degrees, preferably ±10 degrees, further ±7 degrees, particularly ±5 degrees.
なお、明細書中で粘着剤、又は粘着層という場合は、対象物に粘着剤用のコート剤を塗工して架橋又は乾燥させたもの、又は基材レスの光学用粘着剤を転写したものを意味する。 In addition, when referring to an adhesive or an adhesive layer in the specification, a coating agent for an adhesive is applied to an object and crosslinked or dried, or a substrate-less optical adhesive is transferred. means
積層フィルムは、さらに各用途に合わせて、各種の機能層を有していてもよい。各種の機能層としては、ハードコート層、防眩層、反射防止層、低反射層、導電層、帯電防止層、着色層、紫外線吸収層、防汚層、粘着層等が挙げられる。 The laminated film may further have various functional layers according to each application. Examples of various functional layers include a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, a low reflection layer, a conductive layer, an antistatic layer, a colored layer, an ultraviolet absorption layer, an antifouling layer, and an adhesive layer.
(偏光解消フィルム)
本発明の偏光解消フィルムは、上述の積層フィルムからなることが好ましい。偏光解消フィルムは、画像表示装置[例えば、液晶表示装置、EL表示装置(例えば、反射防止用の円偏光板を設けたEL表示装置など)]における偏光解消フィルムとして好適に用いることができる。
偏光解消するためには、偏光解消フィルムを画像表示装置の画像表示セルより視認側に設けることが好ましい。また、偏光解消フィルムは、画像表示装置の画像表示セルより視認側に配置される偏光板又は円偏光板より視認側に設けることが好ましい。
偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とがなす角度は好ましくは20~70度であり、より好ましくは25~65度であり、さらに好ましくは30~60度であり、特に好ましくは35~55度である。この範囲にあれば、首を傾けて見るなどの場合その角度による明るさの変化を小さくすることができる。
(depolarizing film)
The depolarizing film of the present invention is preferably made of the laminated film described above. The depolarizing film can be suitably used as a depolarizing film in an image display device [eg, a liquid crystal display device, an EL display device (eg, an EL display device provided with an antireflection circularly polarizing plate, etc.)].
In order to depolarize, it is preferable to provide a depolarizing film on the viewing side of the image display cell of the image display device. Further, the depolarizing film is preferably provided on the visual recognition side of the polarizing plate or the circularly polarizing plate which is disposed on the visual recognition side of the image display cell of the image display device.
The angle formed by the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the substrate film is preferably 20 to 70 degrees, more preferably 25 to 65 degrees, still more preferably 30 to 60 degrees, and particularly preferably 35 to 55 degrees. Within this range, it is possible to reduce the change in brightness due to tilting the head.
偏光解消フィルムを設ける方法としては、画像表示装置の画像表示セルより視認側に単に置く方法、画像表示装置の視認側偏光板の視認側に貼り合わせる方法、画像表示装置の画像表示セルより視認側にあるタッチパネルなどの基材と貼り合わせる方法、画像表示装置の画像表示セルより視認側に保護カバーがある場合にはその保護カバーと貼り合わせる方法などが挙げられる。
偏光解消フィルムをタッチパネルなどの基材と貼り合わせる場合、偏光解消フィルムの位置は、タッチパネルなどの基材の視認側であってもよく、画像表示セル側であってもよい。
また、偏光解消フィルムを保護カバーと貼り合わせる場合、偏光解消フィルムの位置は、保護カバーの視認側であってもよく、画像表示セル側であってもよい。
As a method for providing the depolarizing film, there are a method of simply placing it on the viewer side of the image display cell of the image display device, a method of laminating it to the viewer side of the viewer side polarizing plate of the image display device, and a method of attaching it to the viewer side of the image display cell of the image display device. and a method of bonding with a protective cover when there is a protective cover on the viewing side of the image display cell of the image display device.
When the depolarizing film is attached to a base material such as a touch panel, the position of the depolarizing film may be on the viewing side of the base material such as the touch panel or on the image display cell side.
When the depolarizing film is attached to the protective cover, the position of the depolarizing film may be on the viewing side of the protective cover or on the image display cell side.
偏光解消フィルムの対象物への貼り合わせにおいて、基材フィルム側を貼り合わせても光学等方層側を貼り合わせてもよく、基材フィルム又は光学等方層が対象物より視認側でも画像表示セル側であってもよい。 In laminating the depolarizing film to the object, the base film side may be laminated or the optical isotropic layer side may be laminated. It may be on the cell side.
偏光解消フィルムの対象物への貼り合わせは接着剤又は粘着剤を用いることが好ましい。また、基材フィルムの凹凸面と貼り合わせの対象物とを本発明でいう光学等方層に該当する接着剤又は粘着剤で貼り合わせてもよい。この場合、基材フィルムと接着剤又は粘着剤が、本発明で言う積層フィルムとなる。 An adhesive or pressure-sensitive adhesive is preferably used to attach the depolarizing film to the object. Further, the uneven surface of the base film and the object to be bonded may be bonded together with an adhesive or pressure-sensitive adhesive that corresponds to the optically isotropic layer of the present invention. In this case, the base film and the adhesive or pressure-sensitive adhesive constitute the laminate film referred to in the present invention.
また、タッチパネル等の透明導電層を設けるための基材や、タッチパネルや表面保護カバーのガラス基材の飛散防止フィルムとして本発明の偏光解消フィルムを用いてもよい。さらには、偏光解消フィルムに図柄等印刷し意匠性を付与してもよいし、窓ガラス等の飛散防止フィルムやデコレーション用フィルムなどとしてもよい。 The depolarizing film of the present invention may also be used as a substrate for providing a transparent conductive layer of a touch panel or the like, or as a shatterproof film for a glass substrate of a touch panel or a surface protection cover. Furthermore, the depolarizing film may be printed with a design to give it design, or it may be used as a shatterproof film for window glass or the like, or as a decorative film.
(画像表示装置)
本発明の画像表示装置は、画像表示セル、前記画像表示セルよりも視認側に配置される偏光子、及び前記偏光子よりも視認側に配置される偏光解消フィルムを有することが好ましい。偏光解消フィルムの基材フィルム側が偏光子側であってもよく、光学等方層側が偏光子側であってもよいが、基材フィルム側が偏光子側であることが好ましい。偏光子の透過軸と基材フィルムの遅相軸とがなす角度は、例えば、偏光解消フィルムで記載の範囲から選択することができる。
(Image display device)
The image display device of the present invention preferably has an image display cell, a polarizer arranged on the viewer side of the image display cell, and a depolarizing film arranged on the viewer side of the polarizer. The base film side of the depolarizing film may be the polarizer side, or the optically isotropic layer side may be the polarizer side, but the base film side is preferably the polarizer side. The angle formed by the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film can be selected from the range described for the depolarizing film, for example.
画像表示装置は、例えば、液晶表示装置である。
液晶表示装置の光源(バックライト)としては、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、青緑赤の各色発光ダイオード光源、青色発光ダイオードと緑色蛍光体と赤色蛍光体の光源、量子ドットによる波長変換光源、半導体レーザー光源、冷陰極管など特に制限無く用いることができる。
The image display device is, for example, a liquid crystal display device.
The light sources (backlights) for liquid crystal display devices include blue light emitting diodes and yellow phosphor light sources, blue, green and red light emitting diode light sources, blue light emitting diodes, green phosphors, and red phosphor light sources, and wavelength conversion using quantum dots. A light source, a semiconductor laser light source, a cold cathode tube, or the like can be used without particular limitation.
光源としては、各色の発光ピークの半値幅が狭い光源がより好ましい。光源の半値幅としては、最も半値幅の狭い発光ピークの半値幅が、好ましくは25nm以下、より好ましくは20nm以下、さらに好ましくは15nm以下、特に好ましくは10nm以下である。半値幅の下限は、現実的な値又は測定器の分解能の面で0.5nmである。具体的に好適な光源として、QD(量子ドット)光源及び赤色領域用にKSF蛍光体を用いた光源が挙げられ、最も好適な光源はKSF蛍光体を用いたものである。 As the light source, a light source having a narrow half width of the emission peak of each color is more preferable. As for the half-value width of the light source, the half-value width of the emission peak with the narrowest half-value width is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, still more preferably 15 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The lower limit of the half-value width is 0.5 nm in terms of a realistic value or the resolution of the measuring instrument. Specific preferred light sources include a QD (quantum dot) light source and a light source using a KSF phosphor for the red region, and the most preferred light source uses a KSF phosphor.
なお、近年の薄型化に合わせて、本発明の偏光解消フィルムの厚みも12~60μmが好ましく、より好ましくは15~50μmとなる。このような薄型の画像表示装置の場合、光源は、青色発光ダイオードと黄色蛍光体の光源、KSF蛍光体を用いた光源、QD光源などが好ましい。 The thickness of the depolarizing film of the present invention is preferably 12 to 60 μm, more preferably 15 to 50 μm, in line with recent thinning. In the case of such a thin image display device, the light source is preferably a blue light emitting diode and a yellow phosphor light source, a light source using a KSF phosphor, a QD light source, or the like.
また、画像表示装置は、有機EL表示装置であってもよい。有機EL表示装置は、画像表示セルよりも視認側に円偏光板を有することが好ましい。本発明の偏光解消フィルムは、前記円偏光板より視認側に配置されることが好ましい。 Also, the image display device may be an organic EL display device. The organic EL display device preferably has a circularly polarizing plate on the viewing side of the image display cell. The depolarizing film of the present invention is preferably arranged on the viewing side of the circularly polarizing plate.
以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明する。本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能である。なお、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples, and it is possible to carry out the present invention with appropriate modifications within the scope of the gist of the present invention. All of them are included in the technical scope of the present invention.
Methods for evaluating physical properties in Examples are as follows.
(1)基材フィルムの遅相軸方向屈折率(Bfnx)、進相軸方向屈折率(Bfny)、及び屈折率異方性(△BfNxy)
分子配向計(王子計測器株式会社製、MOA-6004型分子配向計)を用いて、粗面化する前の基材フィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように4cm×2cmの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率(Bfnx,Bfny)、及び厚さ方向の屈折率(Bfnz)をアッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR-4T、測定波長589nm)を用いて測定し、前記二軸の屈折率の差の絶対値(|Bfny-Bfnx|)を屈折率異方性(△BfNxy)とした。なお、粗面化した基材フィルムの屈折率は、耐水性の紙やすり等で研磨して粗面化面を平坦化して測定することができる。
(1) Slow axis refractive index (Bfnx), fast axis refractive index (Bfny), and refractive index anisotropy (ΔBfNxy) of the base film
Using a molecular orientation meter (MOA-6004 type molecular orientation meter manufactured by Oji Keisoku Co., Ltd.), the orientation axis direction of the base film before roughening is determined, and the orientation axis direction is 4 cm so that the long side becomes. A 2 cm x 2 cm rectangle was cut out and used as a measurement sample. The biaxial refractive index (Bfnx, Bfny) and the refractive index (Bfnz) in the thickness direction of this sample were measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., NAR-4T, measurement wavelength 589 nm). , and the absolute value of the biaxial refractive index difference (|Bfny−Bfnx|) was defined as the refractive index anisotropy (ΔBfNxy). The refractive index of the roughened substrate film can be measured by polishing the roughened surface with water-resistant emery paper or the like to flatten the roughened surface.
(2)原反フィルムの厚みd
電気マイクロメータ(ファインリューフ社製、ミリトロン1245D)を用いて、5点の厚みを測定し、その平均値を求めた。
(2) Thickness d of raw film
Using an electric micrometer (Millitron 1245D manufactured by Fineruff Co.), the thickness was measured at five points, and the average value was obtained.
(3)面内リタデーション(Re)
屈折率の異方性(△BfNxy)とフィルムの厚みd(nm)との積(△BfNxy×d)より、面内リタデーション(Re)を求めた。
(3) In-plane retardation (Re)
The in-plane retardation (Re) was obtained from the product (ΔBfNxy×d) of the refractive index anisotropy (ΔBfNxy) and the film thickness d (nm).
(4)Nz係数
|Bfnx-Bfnz|/|Bfnx-Bfny|で得られる値をNz係数とした。
(4) Nz Coefficient A value obtained by |Bfnx−Bfnz|/|Bfnx−Bfny| was used as the Nz coefficient.
(5)面配向度(ΔP)
(Bfnx+Bfny)/2-Bfnzで得られる値を面配向度(ΔP)とした。
(5) Degree of plane orientation (ΔP)
A value obtained by (Bfnx+Bfny)/2-Bfnz was defined as the degree of planar orientation (ΔP).
(6)厚さ方向リタデーション(Rth)
厚さ方向リタデーションとは、フィルム厚さ方向断面から見たときの2つの複屈折△BfNxz(=|Bfnx-Bfnz|)、△BfNyz(=|Bfny-Bfnz|)にそれぞれフィルム厚さdを掛けて得られるリタデーションの平均を示すパラメーターである。前記と同様の方法でBfnx、Bfny、Bfnzとフィルム厚みd(nm)を求め、(△BfNxz×d)と(△BfNyz×d)との平均値を算出して厚さ方向リタデーション(Rth)を求めた:Rth=(△BfNxz×d+△BfNyz×d)/2。
(6) Retardation in thickness direction (Rth)
The retardation in the thickness direction is obtained by multiplying the two birefringences ΔBfNxz (=|Bfnx−Bfnz|) and ΔBfNyz (=|Bfny−Bfnz|) when viewed from the cross section in the thickness direction of the film by the film thickness d. is a parameter that indicates the average retardation obtained by Bfnx, Bfny, Bfnz and the film thickness d (nm) are obtained in the same manner as described above, and the average value of (ΔBfNxz×d) and (ΔBfNyz×d) is calculated to calculate the thickness direction retardation (Rth). Calculated: Rth=(ΔBfNxz×d+ΔBfNyz×d)/2.
(7)表面粗さ(Ra、Rq、Rz、Ry、Rp、Rv、Sm)
表面粗さの各パラメータは、接触型粗さ計(ミツトヨ社製,SJ-410,検出器:178-396-2,スタイラス:標準スタイラス122AC731(2μm))を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線:R
フィルタ:GAUSS
λc:0.8mm
λs:2.5μm
測定長さ:5mm
測定速度:0.5mm/s
なお、RqはJIS B0601-2001に準拠し、その他はJIS B0601-1994に準拠して、求めた。
(7) Surface roughness (Ra, Rq, Rz, Ry, Rp, Rv, Sm)
Each parameter of the surface roughness is obtained from a roughness curve measured using a contact roughness meter (Mitutoyo, SJ-410, detector: 178-396-2, stylus: standard stylus 122AC731 (2 μm)). asked. The settings are as follows.
Curve: R
Filter: GAUSS
λc: 0.8mm
λs: 2.5 μm
Measuring length: 5mm
Measurement speed: 0.5mm/s
Rq was determined according to JIS B0601-2001, and others were determined according to JIS B0601-1994.
(8)光学等方層の厚み
粗面化した基材フィルム及び積層フィルムの厚みは、各フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、断面の切片を切り出し、顕微鏡で観察して等間隔で10点の厚みを測定し、その平均値とした。なお、界面が見にくい場合は偏光顕微鏡を用いた。また、粗面化した基材フィルムの凹凸面は、視野の凸部と凹部の中央を基準とした。光学等方層の厚みは、積層フィルムの厚みから、粗面化した基材フィルムの厚みを引くことにより求めた。
(8) Thickness of optically isotropic layer The thickness of the roughened base film and laminated film was determined by embedding each film in epoxy resin, cutting out a section of the cross section, and observing it under a microscope. The thickness was measured and taken as the average value. A polarizing microscope was used when the interface was difficult to see. In addition, the uneven surface of the roughened base film was based on the center of the convex portion and the concave portion in the field of view. The thickness of the optically isotropic layer was determined by subtracting the thickness of the roughened base film from the thickness of the laminated film.
(9)光学等方層の屈折率
離型フィルムに光学異方層を凹凸面に設ける場合と同じ条件で、厚みが約20μmとなるように設け、離型フィルムから剥離したサンプルの屈折率を基材フィルムと同様にして測定した。nx、ny、nzが同じ値であることを確認した。
(9) Refractive index of optically isotropic layer Under the same conditions as in the case of providing an optically anisotropic layer on a release film on an uneven surface, the refractive index of a sample peeled off from the release film was measured so as to have a thickness of about 20 μm. It was measured in the same manner as the base film. It was confirmed that nx, ny, and nz are the same value.
(易接着層成分の製造)
(ポリエステル樹脂の重合)
攪拌機、温度計、及び部分還流式冷却器を具備するステンレススチール製オートクレーブに、ジメチルテレフタレート194.2質量部、ジメチルイソフタレート184.5質量部、ジメチル-5-ナトリウムスルホイソフタレート14.8質量部、ジエチレングリコール233.5質量部、エチレングリコール136.6質量部、及びテトラ-n-ブチルチタネート0.2質量部を仕込み、160℃から220℃の温度で4時間かけてエステル交換反応を行った。次いで255℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、30Paの減圧下で1時間30分反応させ、共重合ポリエステル樹脂を得た。得られた共重合ポリエステル樹脂は、淡黄色透明であった。共重合ポリエステル樹脂の還元粘度を測定したところ0.70dl/gであった。DSCによるガラス転移温度は40℃であった。
(Production of easy-adhesion layer component)
(Polymerization of polyester resin)
194.2 parts by weight of dimethyl terephthalate, 184.5 parts by weight of dimethyl isophthalate, and 14.8 parts by weight of dimethyl-5-sodium sulfoisophthalate were added to a stainless steel autoclave equipped with an agitator, thermometer, and partial reflux condenser. , 233.5 parts by mass of diethylene glycol, 136.6 parts by mass of ethylene glycol, and 0.2 parts by mass of tetra-n-butyl titanate were charged, and transesterification was carried out at a temperature of 160° C. to 220° C. over 4 hours. Then, the temperature was raised to 255° C., and the pressure in the reaction system was gradually reduced, followed by reaction under a reduced pressure of 30 Pa for 1 hour and 30 minutes to obtain a copolymerized polyester resin. The resulting copolymerized polyester resin was pale yellow and transparent. When the reduced viscosity of the copolymerized polyester resin was measured, it was 0.70 dl/g. The glass transition temperature by DSC was 40°C.
(ポリエステル水分散体の調製)
攪拌機、温度計及び還流装置を備えた反応器に、共重合ポリエステル樹脂30質量部、及びエチレングリコールn-ブチルエーテル15質量部を入れ、110℃で加熱、攪拌し、樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水55質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分30質量%の乳白色のポリエステル水分散体を作製した。
(Preparation of polyester aqueous dispersion)
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux device was charged with 30 parts by mass of a copolymer polyester resin and 15 parts by mass of ethylene glycol n-butyl ether, heated at 110° C. and stirred to dissolve the resin. After the resin was completely dissolved, 55 parts by mass of water was gradually added to the polyester solution with stirring. After the addition, the liquid was cooled to room temperature while stirring to prepare a milky white polyester water dispersion having a solid content of 30% by mass.
(易接着層で用いるブロックポリイソシアネート系架橋剤の重合)
攪拌機、温度計、及び還流冷却管を備えたフラスコに、ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物(旭化成ケミカルズ製、デュラネートTPA)100質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート55質量部、及びポリエチレングリコールモノメチルエーテル(平均分子量750)30質量部を仕込み、窒素雰囲気下、70℃で4時間保持した。その後、反応液温度を50℃に下げ、メチルエチルケトオキシム47質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分75質量%のブロックポリイソシアネート水分散液を得た。
(Polymerization of block polyisocyanate-based cross-linking agent used in easy-adhesion layer)
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux condenser was charged with 100 parts by mass of a polyisocyanate compound having an isocyanurate structure made from hexamethylene diisocyanate (Duranate TPA, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) and 55 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. , and 30 parts by mass of polyethylene glycol monomethyl ether (average molecular weight: 750) were charged and held at 70° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to 50° C., and 47 parts by mass of methyl ethyl ketoxime was added dropwise. By measuring the infrared spectrum of the reaction solution, it was confirmed that the absorption of isocyanate groups had disappeared, and an aqueous blocked polyisocyanate dispersion having a solid content of 75% by mass was obtained.
(易接着層用塗工液の調整)
下記の塗剤を混合しP1塗布液を作成した。
水 50.00質量%
イソプロパノール 33.00質量%
ポリエステル水分散体 12.00質量%
ブロックイソシアネート系架橋剤 0.80質量%
粒子 1.40質量%
(平均粒径100nmのシリカゾル、固形分濃度40質量%)
触媒
(有機スズ系化合物 固形分濃度14質量%) 0.30質量%
界面活性剤 0.50質量%
(シリコン系、固形分濃度10質量%)
(Adjustment of coating liquid for easy adhesion layer)
A P1 coating solution was prepared by mixing the following coating agents.
Water 50.00% by mass
Isopropanol 33.00% by mass
Polyester water dispersion 12.00% by mass
Block isocyanate-based cross-linking agent 0.80% by mass
Particles 1.40% by mass
(Silica sol with an average particle size of 100 nm, solid content concentration of 40% by mass)
Catalyst (organotin compound solid content concentration 14% by mass) 0.30% by mass
Surfactant 0.50% by mass
(Silicone type, solid content concentration 10% by mass)
(フィルム用ポリエステル樹脂の製造)
(製造例1-ポリエステルX)
エステル化反応缶を昇温し、200℃に到達した時点で、テレフタル酸を86.4質量部及びエチレングリコール64.6質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを0.017質量部、酢酸マグネシウム4水和物を0.064質量部、及びトリエチルアミン0.16質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行い、ゲージ圧0.34MPa、240℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸0.014質量部を添加した。さらに、15分かけて260℃に昇温し、リン酸トリメチル0.012質量部を添加した。次いで15分後に、高圧分散機で分散処理を行い、15分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、280℃で減圧下重縮合反応を行った。
(Manufacture of polyester resin for film)
(Production Example 1-Polyester X)
When the temperature of the esterification reactor reaches 200° C., 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol are charged, and 0.017 parts by mass of antimony trioxide as a catalyst is added while stirring. , 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate, and 0.16 parts by mass of triethylamine were charged. Then, the pressure was increased and the temperature was increased, and the pressure esterification reaction was performed under the conditions of gauge pressure 0.34 MPa and 240° C., then the pressure in the esterification reactor was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added. . Furthermore, the temperature was raised to 260° C. over 15 minutes, and 0.012 parts by mass of trimethyl phosphate was added. After 15 minutes, dispersion treatment was performed with a high-pressure disperser. After 15 minutes, the obtained esterification reaction product was transferred to a polycondensation reactor, and polycondensation reaction was performed at 280°C under reduced pressure.
重縮合反応が終了した後、95%カット径が5μmのナスロン(登録商標)製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理(孔径:1μm以下)を行った冷却水を用いて冷却し、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂(X)の固有粘度は0.62dl/gであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。(以後、PET(X)と略す。) After the polycondensation reaction is completed, filtration is performed with a NASLON (registered trademark) filter having a 95% cut diameter of 5 μm, extruded from the nozzle in strand form, and cooling water that has been pre-filtered (pore size: 1 μm or less) is filtered. It was cooled, solidified and cut into pellets. The resulting polyethylene terephthalate resin (X) had an intrinsic viscosity of 0.62 dl/g and contained substantially no inert particles or internal precipitated particles. (Hereinafter abbreviated as PET (X).)
(原反フィルムA、Bの製造)
フィルム用原料として粒子を含有しないPET(X)樹脂ペレットを押出機に供給し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。次いで、リバースロール法によりこの未延伸PETフィルムの両面にP1塗布液をいずれも乾燥後の塗布量が0.12g/m2になるように塗布した後、乾燥機に導き80℃で20秒間乾燥した。
(Production of raw films A and B)
PET (X) resin pellets containing no particles as a raw material for film are supplied to an extruder, extruded in a sheet form from a nozzle, and then wound around a casting drum with a surface temperature of 30 ° C. using an electrostatic casting method. It was cooled and solidified to produce an unstretched film. Next, the P1 coating liquid was applied to both sides of this unstretched PET film by a reverse roll method so that the coating amount after drying was 0.12 g / m 2 , and then led to a dryer and dried at 80 ° C. for 20 seconds. bottom.
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度135℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に3.8倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度225℃で30秒間処理し、その後、130℃まで冷却したフィルムの両端部をシェア刃で切断し、0.5kg/mm2の張力で耳部を切り取った後に巻き取り、フィルム厚み80μmの原反フィルムAを得た。 The unstretched film with the coating layer formed thereon was guided to a tenter stretching machine, and while holding the ends of the film with clips, was guided to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.8 times in the width direction. Next, while maintaining the width stretched in the width direction, it was treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds, and then cut at both ends of the film cooled to 130 ° C. with a shear blade, and a tension of 0.5 kg / mm 2 After cutting off the selvages, the film was wound up to obtain a raw film A having a film thickness of 80 μm.
キャスティング以降のラインスピードを速くして未延伸フィルムの厚みを変えた以外は原反フィルムAと同様にして製膜し、フィルム厚みの異なる原反フィルムBを得た。 A raw film B having a different film thickness was obtained in the same manner as the raw film A except that the thickness of the unstretched film was changed by increasing the line speed after casting.
(原反フィルムCの製造)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に2.0倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に4.0倍延伸し、原反フィルムCを得た。
(Manufacturing raw film C)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After being stretched 2.0 times in the running direction in the same manner as the raw film A, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 4.0 times in the width direction to obtain a raw film C.
(原反フィルムD)
原反フィルムAと同様の方法により作製された未延伸フィルム(易接着層塗工済み)を、加熱されたロール群及び赤外線ヒーターを用いて105℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で走行方向に3.5倍延伸した後、原反フィルムAと同様の方法により温度135℃の熱風ゾーンに導き幅方向に3.5倍延伸し、原反フィルムDを得た。
(Original film D)
An unstretched film (coated with an easy-adhesion layer) produced by the same method as the raw film A is heated to 105 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then a roll group with a peripheral speed difference. After the film was stretched 3.5 times in the running direction, it was led to a hot air zone at a temperature of 135° C. and stretched 3.5 times in the width direction by the same method as for raw film A, to obtain raw film D.
(表面粗面化フィルムの製造)
ガラス板にウレタンフォームを貼り付け、さらにその上に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、この原反フィルム面を手持ちタイプのベルトサンダー(サンディングベルト#320)で縦、横、斜め(45度、135度)の合計4方向から処理を行い、表面粗面化フィルムA1を得た。
ガラス板に原反フィルムAの周辺を両面テープで貼り付け、乾式のサンドブラスターにセットし、研磨材を吹き付けで処理(サンドブラスト処理)し、表面粗面化フィルムA2を得た。
原反フィルムAの片面にポリプロピレンフィルム製マスキングフィルムを貼り合わせ、これを38%の水酸化カリウム水溶液(95℃)に浸漬(ケミカルエッチング)し、水洗した後、マスキングフィルムを剥離して乾燥し、表面粗面化フィルムA4を得た。
ベルトサンダーの条件(サンディングベルトの種類等)、サンドブラストの条件(研磨材の粒径等)を変え、原反フィルムA、B、C、及びDから表2に示す各表面粗面化フィルムを得た。
なお、B1及びC1の製造には#320のサンディングベルトを用い、A3及びD1の製造には#180のサンディングベルトを用いた。また、サンドブラスターの研磨材はA5、A6、B2、A2の順に大きなものを用いた。
なお、ベルトサンダー処理、及びサンドブラスト処理したものは、局所突起の影響を除くため、処理表面を#400のサンドペーパーで軽く研磨した。
(Production of surface-roughened film)
Attach urethane foam to a glass plate, and then attach the periphery of the original film A with double-sided tape. 45 degrees and 135 degrees) to obtain a surface-roughened film A1.
The periphery of raw film A was attached to a glass plate with double-sided tape, set in a dry sandblaster, and treated by spraying an abrasive (sandblasting) to obtain surface-roughened film A2.
A masking film made of polypropylene film is attached to one side of the original film A, which is immersed in a 38% potassium hydroxide aqueous solution (95 ° C.) (chemical etching), washed with water, and then the masking film is peeled off and dried. A surface-roughened film A4 was obtained.
Various surface-roughened films shown in Table 2 were obtained from raw films A, B, C, and D by changing the belt sander conditions (sanding belt type, etc.) and sandblasting conditions (abrasive particle size, etc.). rice field.
A #320 sanding belt was used to manufacture B1 and C1, and a #180 sanding belt was used to manufacture A3 and D1. Abrasives of the sand blaster were used in the order of A5, A6, B2 and A2.
In addition, in order to eliminate the influence of local projections, the belt-sanded and sandblasted surfaces were lightly polished with #400 sandpaper.
(積層フィルム(又は偏光解消フィルム)の製造)
(光学等方層用のコート剤の準備)
光学等方層用のコート剤として表3に示すものを準備した。
(Production of laminated film (or depolarizing film))
(Preparation of coating agent for optically isotropic layer)
As a coating agent for the optically isotropic layer, those shown in Table 3 were prepared.
実施例1
20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、上述の易接着層を水/イソプロパノール=2/1の溶液で4倍に希釈したものを塗工して乾燥させ、約30nmの易接着層を設けた。さらにその上に光学等方層用のコート剤aをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて積層フィルムF1を得た。
Example 1
On the uneven surface of the surface roughened film A1 of 20 cm × 30 cm, the above-mentioned easy adhesion layer diluted 4 times with a solution of water / isopropanol = 2/1 is applied and dried to obtain an easy adhesion of about 30 nm. layer was established. Further, the coating agent a for the optically isotropic layer was applied thereon with an applicator, and then cured from the coated surface with a high-pressure mercury lamp to obtain a laminated film F1.
実施例2~7、9~14、及び比較例1~3
表面粗面化フィルム及び/又はコート剤の種類を変更した以外は、実施例1と同様にして、積層フィルムF2~F8、及びF10~F17を得た。なお、積層フィルムF15は両面に光学等方層を設けた。
Examples 2-7, 9-14, and Comparative Examples 1-3
Laminated films F2 to F8 and F10 to F17 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the type of surface-roughened film and/or coating agent was changed. Note that the laminated film F15 was provided with an optical isotropic layer on both sides.
実施例8
20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、上述の易接着層を水/イソプロパノール=2/1の溶液で4倍に希釈したものを塗工して乾燥させ、約30nmの易接着層を設けた。さらにその上に光学等方層用のコート剤aをアプリケーターで塗工した後、塗工面に防眩性を持たせるために凹凸構造を設けた表面ニッケルメッキの金属板金型を重ね、基材フィルム面から高圧水銀灯で硬化させて光学等方層に防眩性を持たせた積層フィルムF9を得た。
Example 8
On the uneven surface of the surface roughened film A1 of 20 cm × 30 cm, the above-mentioned easy adhesion layer diluted 4 times with a solution of water / isopropanol = 2/1 is applied and dried to obtain an easy adhesion of about 30 nm. layer was established. Furthermore, after applying the coating agent a for the optically isotropic layer on it with an applicator, a surface nickel-plated metal plate mold having a concave-convex structure provided on the coated surface to provide anti-glare properties is superimposed, and the substrate film is coated. A laminated film F9 having an antiglare property in the optically isotropic layer was obtained by curing from the surface with a high-pressure mercury lamp.
実施例15
20cm×30cmの粗面化フィルムB2の凹凸面に、バイロン(登録商標)200(RV200)(東洋紡社製)の20%トルエン/メチルエチルケトン混合溶媒の溶液を塗工した後に乾燥させ、光学等方層を設けた。得られた2枚の積層フィルムの光学等方層面を重ね、100℃に加熱したロール間を通過させ、2枚の積層フィルムを遅相軸同士が平行となるように貼り合わせた。バイロン200の屈折率は1.55である。
Example 15
A solution of Vylon (registered trademark) 200 (RV200) (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) in a 20% toluene/methyl ethyl ketone mixed solvent is applied to the uneven surface of the 20 cm × 30 cm roughened film B2, and then dried to form an optically isotropic layer. was established. The optically isotropic layers of the obtained two laminate films were superimposed and passed between rolls heated to 100° C., and the two laminate films were bonded together so that the slow axes were parallel to each other. Byron 200 has a refractive index of 1.55.
(積層フィルムの評価)
(偏光解消状態の観察)
得られた積層フィルムをKSF光源を用いた液晶ディスプレイ(東芝社製レグザZ20X)の視認側に、視認側偏光板の透過軸と基材フィルムの遅相軸が45度で、視認側が光学等方層になるようにセロハンテープで留めた。偏光サングラスをかけた状態で、顔を傾ける、ディスプレイを斜めから見るなど行い、虹斑の有無を観察した。なお、ディスプレイは白一色を表示させた。
○:いずれにおいても虹斑は観察されなかった
△:わずかに虹斑が観察された
×:虹斑が観察された
(Evaluation of laminated film)
(Observation of depolarized state)
The resulting laminated film is placed on the viewing side of a liquid crystal display (REGZA Z20X manufactured by Toshiba Corporation) using a KSF light source, and the transmission axis of the viewing side polarizing plate and the slow axis of the base film are at 45 degrees, and the viewing side is optically isotropic. The layers were fixed with cellophane tape. The presence or absence of rainbow spots was observed by tilting the face or looking at the display from an angle while wearing polarized sunglasses. In addition, the display displayed only white.
○: No iridescence was observed in any case △: Slight iridescence was observed ×: Iridescence was observed
(コントラストの観察)
ディスプレイの表示を風景の画像とし、上方から卓上の蛍光灯の光を照射して正面からのコントラストを観察した。
◎:鮮やかなコントラストのままであった。
○:散乱光によりわすかにコントラストの低下が認めたれた。
△:コントラストの低下が認められたが、画像の観察は可能であった。
×:散乱光により、画像が見にくくなった。
(observation of contrast)
The image of the scenery was displayed on the display, and the contrast from the front was observed by illuminating the light from the fluorescent lamp on the table from above.
⊚: Vivid contrast remained.
◯: Slight decrease in contrast was observed due to scattered light.
Δ: A decrease in contrast was observed, but the image could be observed.
x: The image became difficult to see due to scattered light.
実施例1~15及び比較例1~3の積層フィルムの物性及び評価結果を表4に示す。 Table 4 shows the physical properties and evaluation results of the laminated films of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3.
(積層フィルムが粘着剤で貼り付けられたディスプレイの製造)
(光学等方層として用いる粘着剤用のコート剤、及び光学粘着シートの準備)
粘着剤、及び光学粘着シートとして表5に示すものを用いた。
(Manufacturing of a display in which a laminated film is attached with an adhesive)
(Preparation of coating agent for adhesive used as optical isotropic layer and optical adhesive sheet)
The adhesives and optical adhesive sheets shown in Table 5 were used.
高屈折率粘着剤kの作製
2-エチルヘキシルアクリレート30質量部、エトキシ化o-フェニルフェノールアクリレート(新中村化学工業社製,製品名:A-LEN-10)70質量部、及び重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.25質量部を酢酸エチル中で反応させて共重合体(Mw=40万)の酢酸エチル溶液(固形分濃度30質量%)を得た。
Preparation of high refractive index adhesive k 30 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 70 parts by mass of ethoxylated o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product name: A-LEN-10), and azo as a polymerization initiator 0.25 parts by mass of bisisobutyronitrile was reacted in ethyl acetate to obtain an ethyl acetate solution (solid concentration: 30% by mass) of a copolymer (Mw=400,000).
実施例16
20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、光学等方層として粘着剤用コート剤iをアプリケーターで塗工した後、塗工面から高圧水銀灯で硬化させて積層フィルムP1を得た。得られた積層フィルムP1の粘着層面を、KSF光源を用いた液晶ディスプレイ(東芝社製レグザZ20X)の視認側に視認側偏光板の透過軸と基材フィルムの遅相軸が45度になるように貼り付けた。
Example 16
After coating the uneven surface of the 20 cm × 30 cm surface-roughened film A1 with a coating agent i for adhesive as an optically isotropic layer with an applicator, the coated surface was cured with a high-pressure mercury lamp to obtain a laminated film P1. The adhesive layer surface of the obtained laminate film P1 is placed on the viewing side of a liquid crystal display (Regza Z20X manufactured by Toshiba Corporation) using a KSF light source so that the transmission axis of the viewing side polarizing plate and the slow axis of the base film are at 45 degrees. pasted on.
比較例4
光学粘着シートjを表面粗面化フィルムA1の凹凸面に光学等方層として貼り合わせて用いた以外は、実施例16と同様にして積層フィルムP3を得て液晶ディスプレイに貼り付けた。
Comparative example 4
A laminate film P3 was obtained and attached to a liquid crystal display in the same manner as in Example 16, except that the optical adhesive sheet j was attached as an optically isotropic layer to the uneven surface of the surface-roughened film A1.
実施例17
20cm×30cmの表面粗面化フィルムA1の凹凸面に、光学等方層として粘着剤用コート剤kをアプリケーターで塗工した後、100℃で乾燥させて積層フィルムP2を得、KSF光源を用いた液晶ディスプレイ(東芝社製レグザZ20X)に貼り付けた。
Example 17
After coating the uneven surface of the surface-roughened film A1 of 20 cm × 30 cm with a coating agent k for adhesive as an optical isotropic layer with an applicator, it is dried at 100 ° C. to obtain a laminated film P2, and a KSF light source is used. It was attached to a liquid crystal display (Regza Z20X manufactured by Toshiba Corporation).
実施例18
積層フィルムP1を20cm×30cm×2mmのポリカーボネート板に貼り付け、前面保護カバーシートとした。このカバーシートのポリカーボネート板が視認側となるよう、KSF光源を用いた液晶ディスプレイ(東芝社製レグザZ20X)にセロハンテープで留めた。
Example 18
The laminated film P1 was attached to a polycarbonate plate of 20 cm×30 cm×2 mm to form a front protective cover sheet. This cover sheet was attached to a liquid crystal display (Regza Z20X manufactured by Toshiba Corporation) using a KSF light source with cellophane tape so that the polycarbonate plate of the cover sheet was on the viewing side.
実施例16~18及び比較例4の結果を表6に示す。 The results of Examples 16-18 and Comparative Example 4 are shown in Table 6.
本発明の偏光解消フィルムにより、急峻なピークを有する光源の環境下で用いる場合等に、偏光サングラス等の偏光フィルタを介して画像を見る場合等に生じる虹斑を抑制し、高い透明性、及び鮮やかな画像表示性を確保することができる。 The depolarizing film of the present invention suppresses iridescence that occurs when an image is viewed through a polarizing filter such as polarized sunglasses when used in an environment with a light source having a sharp peak, and has high transparency and high transparency. Vivid image displayability can be ensured.
Claims (6)
(a)基材フィルムの少なくとも片面は凹凸面であり、凹凸面の算術平均粗さ(Ra)が0.4~4μmである。
(b)基材フィルムの屈折率異方性(ΔBfNxy)が0.07~0.2である。
(c)基材フィルムの凹凸面上には光学等方層が設けられており、光学等方層の屈折率がBfny-0.15~Bfnx+0.15であり、かつ、1.57以上である。
(但し、基材フィルムの遅相軸方向の屈折率をBfnx、進相軸方向の屈折率をBfnyとし、ΔBfNxy=Bfnx-Bfnyとする)
(d)基材フィルムのリタデーション差(ΔRe)が90~800nmである。
(但し、ΔRe=Ra×ΔBfNxyである)
(e)基材フィルムの面内リタデーションが3000~30000nmである。
(f)基材フィルムのBfnxが1.67~1.73である。
(g)基材フィルムがポリエステルフィルムである。
(h)光学等方層は、前記凹凸面上に他の層を介することなく直接接触して設けられているか、又は、易接着層のみを介して設けられている。 A depolarizing film comprising a laminated film having a substrate film and an optically isotropic layer, wherein the laminated film has all of the following characteristics.
(a) At least one surface of the substrate film is uneven, and the arithmetic mean roughness (Ra) of the uneven surface is 0.4 to 4 μm.
(b) The refractive index anisotropy (ΔBfNxy) of the base film is 0.07 to 0.2.
(c) An optically isotropic layer is provided on the uneven surface of the base film, and the refractive index of the optically isotropic layer is Bfny−0.15 to Bfnx+0.15 and is 1.57 or more. .
(However, the refractive index in the slow axis direction of the base film is Bfnx, the refractive index in the fast axis direction is Bfny , and ΔBfNxy=Bfnx−Bfny )
(d) The substrate film has a retardation difference (ΔRe) of 90 to 800 nm.
(However, ΔRe=Ra×ΔBfNxy)
(e) The in-plane retardation of the substrate film is 3000 to 30000 nm.
(f) Bfnx of the base film is 1.67 to 1.73.
(g) The base film is a polyester film.
(h) The optically isotropic layer is provided in direct contact with the uneven surface without any other layer interposed therebetween, or is provided only via the easy-adhesion layer.
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