JP7222696B2 - 無彩色被覆を有する遮蔽板 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板またはガラスセラミック基板と、このガラス基板またはガラスセラミック基板側の被覆とを含むキッチン用または実験室用の設備または備付品のための無彩色被覆に関する。

キッチン用および実験室用の設備および備付品では、ガラス製またはガラスセラミック製の遮蔽材が多種多様に用いられている。これについて、例えば耐薬品性もしくは耐熱性または光学特性に対する要求に応じて、様々なガラスまたはガラスセラミックが選択される。

例えば、オーブン、冷蔵庫およびマイクロ波装置の扉における覗き窓として、調理器具およびコーヒーマシンの操作装置の前面ガラスとして、コンロとして、キッチン用家具または実験室用備品の作業台として、例えば棚および机として、私的領域および専門的領域の双方において、ガラス製またはガラスセラミック製の遮蔽材が見られる。

このような遮蔽材は、この遮蔽材を通して例えばその後方に組み込まれている機械部品または電気部品が見えてしまうのを防ぐために、基本的に少なくとも部分的な面において被覆を有する。しかしながら、同時にこれらの遮蔽材は、このような部品、例えばＬＥＤまたはディスプレイから放出される光をなるべく阻害することなく通過させることが望ましい。殊に透過光の色座標は、なるべく変化しないことが望ましい。

独国特許出願公開第１０２０１６１０３５２４号明細書（ＤＥ１０２０１６１０３５２４Ａ１）から、光透過率が最大でも５％である不透明な被覆を有するガラス製品またはガラスセラミック製品が知られている。被覆の下方に配置された発光素子からの光を十分に通過させるために、この被覆は網目パターンの開口部を有し、これらの開口部を通して光を阻害することなく通過させることができる。無彩色というこのような解決策は、開口部を通る光の色座標が変化しないため、たしかに優れているが、それ故に、この解決策には別の欠点がある。これらの開口部は、照明器具のスイッチが切られた状態において遮蔽材がもたらすべき透け防止性をさらに保証するために、非常に細かく選択する必要がある。このような細かい開口部はレーザー法で事後的に製造可能であるが、非常にコストがかかる。さらに、このような開口部のサイズおよび間隔は表示素子の画素と同じ桁にあり、これにより、相応する開口部を有するこのような被覆のもと表示素子を使用する際に、モアレ効果が生じることで、または開口部の配置により示された表示がさらにピクセル化することで画質が損なわれる。

米国特許出願公開第２００７１０８１８４号明細書（ＵＳ２００７１０８１８４Ａ１）には、コンロとして使用可能であり、かつスパッタリングされたチタンからなる金属被覆をその下側に有する、透明で着色されていないガラスセラミック製プレートが開示されている。この層は不均一な透過率のプロファイルを有するため、青色光または緑色光よりも赤色光の方がスペクトル透過率が高い。すなわち、このように被覆されたガラスセラミック製プレートは、透過光に対して無彩色性を示さない。さらに、このプレートは、メタリックな外観を有し、かつスパッタリングされたチタンの伝導性に基づいて、被覆の下方に取り付けられた静電容量式タッチセンサとは適合しない。

欧州特許出願公開第３２０８５４５号明細書（ＥＰ３２０８５４５Ａ１）から、ガラス基板またはガラスセラミック基板と被覆とを含む調理器具用の遮蔽材が知られており、ここで最小スペクトル透過率に対する最大スペクトル透過率の比率は、可視スペクトル領域において最大でも４．０の値である。遮蔽材は使用材料により、灰色、青色または赤色の色調および少なくとも３ｋΩ／□の電気抵抗を有する。

本発明の課題は、キッチン用または実験室用の設備または備付品のための遮蔽板であって、従来技術に存在する欠点を克服するか、少なくとも改善する遮蔽板を提供することである。

キッチン用または実験室用の設備または備付品のためのこのような遮蔽板は、ガラス基板またはガラスセラミック基板と、このガラス基板またはガラスセラミック基板側の被覆とを含み、ここでガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆は一緒になった状態で、光透過率が１％～７０％、すなわち少なくとも１％かつ最大でも７０％である。被覆は座標Ｌ^＊２０～６５、ａ^＊－６～６およびｂ^＊－６～６のＣＩＥＬＡＢ色空間における色座標を有する。この色座標は、ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して、黒色を背景に標準光源Ｄ６５の光を用いて反射状態で測定される。さらに、遮蔽板は、標準光源Ｄ６５の光の色座標が、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：

により特定される白色領域Ｗ１内にあることを特徴とする。

本発明の意味において、キッチン用または実験室用の設備または備付品とは、具体的な構造形態にかかわりなく、一般的に、キッチン用もしくは実験室用の家具もしくは備品または好適にはキッチン用もしくは実験室用の電動装置と理解される。ここでキッチン用または実験室用の家具もしくは備品には、殊に上側に作業台を有する棚および机がある。ここでキッチン用の装置、例えば、調理器具、冷蔵庫、マイクロ波装置、グリル、オーブン、蒸し器、トースターまたは換気フードは、私的領域および専門的領域の双方のためのものと解釈することができる。同様に物品とは、別個に配置された操作パネルであってもよく、この操作パネルを介して、ユーザーは、これにより制御可能な１つ以上の装置を操作することができる。本発明による装置は、例えば、キッチン用または実験室用の家具もしくは備品に組み込み可能であるか、室内で自由に設置することができる。実験室用の装置には特に、オーブン、デシケーター、冷蔵庫またはホットプレートもある。

本発明は基本的に、光学特性に対する上記の要求が満たされる限り、特定の種類のガラスまたはガラスセラミックに制限されない。

ただしキッチン用および実験室用の設備および備付品の形態すべてについて、耐熱衝撃性は特に重要なパラメーターである。ここで殊に、使用時に高温が生じる装置の部品、例えばコンロ、ホットプレート、オーブン、熱分解機能付オーブン、電子レンジまたはグリルについては特に要求度が高い。しかしながら、使用材料が温度安定性であると、キッチン用または実験室以外の実質的にすべての領域においても有利である。というのも、これらの領域は常に、熱いか、または非常に冷たい物品または液体と接触する恐れが存在するからである。このような接触の際に温度は、局所的に制限された領域において迅速に変化し、それにより材料に応力がもたらされ、この応力によって、殊に脆性破壊性の材料、例えばガラスおよびガラスセラミックでは、直ちに破壊が生じる場合がある。

ガラス基板またはガラスセラミック基板が、ＩＳＯ７９９１に準拠して、２０℃～３００℃、好ましくは２０℃～７００℃の温度範囲で、±２．５×１０^－６／Ｋ、好適には最大でも±１．５×１０^－６／Ｋの線形熱膨張係数ＣＴＥを有することで、非常に良好な熱温度耐性を非常に効果的に達成することができる。ここで±２．５×１０^－６／ＫのＣＴＥは、少なくとも－２．５×１０^－６／Ｋかつ最大でも＋２．５×１０^－６／ＫのＣＴＥと理解される。ＣＴＥは殊にガラスセラミックの場合、この温度範囲においてマイナスの値も想定することができる。このように熱膨張係数が低い場合、温度勾配が大きくても、基板において応力は生じない。この値は例えば、石英ガラスまたはリチウム－アルミニウム－シリケートガラスセラミック（ＬＡＳガラスセラミック）、例えばＳＣＨＯＴＴ ＡＧ社の商標ＣＥＲＡＮ（登録商標）により達成される。

ガラスまたはガラスセラミックのＣＴＥが高く、かつ使用時に生じ得る温度勾配が大きくなり得るほど、応力により誘発される破壊のリスクが高くなる。このリスクは、ガラスまたはガラスセラミックに熱的または化学的に予備応力をかけることで抑制することができる。このような予備応力により、熱応力に対して反対作用を及ぼす圧縮応力がガラス表面に生じる。

その際、経済的な理由から熱により予備応力をかけることが特に好ましい。ただしこれは技術的な理由から、少なくとも２ｍｍの厚さおよび３．５×１０^－６／Ｋ超のＣＴＥを有するガラスの場合に実施することができるにすぎない。さらに、熱により予備応力をかける場合、これらのガラスのガラス転移温度Ｔ_ｇは、とりわけ３．５～６×１０^－６／Ｋの間のＣＴＥを有するガラスでは、市販の予備応力炉により約１０ＭＰａ超の十分に高い予備応力値を達成できるためには、ＩＳＯ７８８４－８またはＤＩＮ５２３２４で測定して、その値が約６５０℃を上回ってはならない。

すなわち、２０～３００℃で６×１０^－６／Ｋ超のＣＴＥを有するガラスは、予備応力をかけることが一般的であり、キッチンおよび実験室における使用には好ましくない。すなわち、本発明による物品について、ガラス基板またはガラスセラミック基板は、ＣＴＥが２０～３００℃で最大でも６×１０^－６／Ｋであることが好ましい。ＣＴＥがより高いガラス、例えば約９×１０^－６／ＫのＣＴＥを有するソーダ石灰ガラスには、一般的には、たしかに良好に熱により予備圧力をかけることができる。しかしながらそれでも、得られる予備応力値は、高い熱的負荷がかかった場合に大きな熱膨張により生じる応力を相殺可能にするのに十分ではない。熱的にも化学的にも予備応力がかけられたガラス基板について、予備応力は長時間をかけて高温の負荷により低減されることに注目したい。この低減は、ガラスのＴ_ｇが低いほどより迅速に進行する。よって、キッチンおよび実験室において使用するためには、予備応力がかけられたガラスは、Ｔ_ｇが少なくとも５００℃、好ましくは少なくとも５５０℃であることが好ましい。すなわち、２０～３００℃で１．５×１０^－６／Ｋ未満のＣＴＥを有するガラスセラミックを使用するか、２０～３００℃で３．５～６×１０^－６／ＫのＣＴＥと、５００～６５０℃、殊に５５０～６５０℃のＴ_ｇとを有するガラスを使用することが特に好ましい。

耐熱性と同様に重要であるのは、酸およびアルカリ液に対するガラス基板またはガラスセラミック基板の耐薬品性である。これは、実験室においては一般的に薬品を取り扱うため有利であり、キッチンにおいては洗剤および食品成分に対する耐性が殊に重要である。よって、酸化物ベースで１０質量パーセント超の高い割合のアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有するガラス、例えばソーダ石灰ガラスは殊に、キッチンおよび実験室における使用に好ましくない。

さらに、ガラス基板またはガラスセラミック基板は、遮蔽材が、光透過率、反射状態での色座標および透過における色彩効果についての要求を少なくとも満たす限り、着色されていてもよい。

ここで、どのような種類であるかにかかわらず、着色された材料とは、その組成を理由に光透過率が最大でも８０％になるように透過光を吸収するあらゆる材料と理解される。すなわち、着色された材料とは、その組成において着色性または吸収性の成分を含有する。これは、例えば染料、顔料またはその他の着色性の化学化合物であってもよい。このような成分とは異なり、それ自体が８０％超の光透過率を有するものの、色を付与する被覆、例えば着色された被覆をその表面に有する材料は着色されているとは理解されない。

光透過率は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲で標準光源Ｄ６５の光を使用しながら、ＤＩＮ ＥＮ４１０に準拠して求められる。

本発明の遮蔽板の被覆は、反射状態で遮蔽板の光透過率および色座標を調整する役割を果たし、透過光についての色彩効果に対して影響を与える。

ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆は一緒になった状態で、光透過率が１％～７０％である。すなわち、光透過率は少なくとも１％かつ最大でも７０％である。光透過率は、使用される発光素子に適合するように選択することが好ましい。例えば表示素子について、光透過率は少なくとも５％～最大でも７０％の範囲にあることが好ましい。表示素子の使用のための遮蔽板は、光透過率が少なくとも９％、特に好ましくは少なくとも１５％、極めて特に好ましくは少なくとも２０％、かつ最大でも５５％、特に好ましくは最大でも４５％、極めて特に好ましくは最大でも４０％であることが好ましい。すなわち、光透過率は、例えば以下の範囲のうちのいずれかにあってもよい：５～７０％、５～５５％、５～４５％、５～４０％、９～７０％、９～５５％、９～４５％、９～４０％、１５～７０％、１５～５５％、１５～４５％、１５～４０％、２０～７０％、２０～５５％、２０～４５％または２０～４０％。

良好な知覚性を保証するためには、組み込まれている表示素子の、物品の外部領域における輝度が、周囲の明度に応じて、約１００～２００ｃｄ／ｍ^２であることが望ましい。遮蔽板の光透過率が５％である場合、外部領域において１００ｃｄ／ｍ^２の輝度を生み出すためには、例えば２０００ｃｄ／ｍ^２の輝度を有する表示素子が必要である。光透過率が７０％である場合、外部領域において約１００ｃｄ／ｍ^２の輝度を生み出すためには、約１４０ｃｄ／ｍ^２の輝度を有する表示装置ですでに十分である。

ここで、表示素子の領域における分離要素の光透過率がより高いと、系のエネルギー効率に対して有利な効果がもたらされる。というのも、表示素子はより低い輝度で、よってより少ないエネルギー消費で動作可能になるからである。それとは別に、より低い最大輝度を有する表示素子は、調達においてもコスト面でより有利である。

より明るい発光素子を使用する場合、基板および被覆の光透過率がより低いことも有利であり得る。明るいＬＥＤ照明器具または同等に明るい照明器具を使用する場合は殊に、光透過率は１～５％、好適には１～３％、殊に１～２％の範囲にあることが有利であり得る。

被覆は、ブラックトラップ（Schwarzfalle、測光に使用する黒色背景）を背景にして標準光源Ｄ６５の光を用い、ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して、反射を測定した場合に、座標Ｌ^＊２０～６５、ａ^＊－６～６およびｂ^＊－６～６のＣＩＥＬＡＢ色空間における色座標を有する。好ましい実施形態では、被覆は座標が２２≦Ｌ^＊≦３５、好ましくは２５≦Ｌ^＊≦３０、特に好ましくは２６≦Ｌ^＊≦２８であり、－４≦ａ^＊≦４、好ましくは－２≦ａ^＊≦２であり、かつ－４≦ｂ^＊≦４、好ましくは－２≦ｂ^＊≦２である色座標を有する。この色座標は、観察者により一般的には黒色または少なくとも暗色として視認され、このことは、美的な理由から設備および備付品にとって好ましい。

別の好ましい実施形態において、被覆は４５≦Ｌ^＊≦６５、好ましくは５０≦Ｌ^＊≦６０、特に好ましくは５４≦Ｌ^＊≦５９であり、－４≦ａ^＊≦４、好ましくは－２≦ａ^＊≦２であり、かつ－４≦ｂ^＊≦４、好ましくは－２≦ｂ^＊≦２である色座標を有する。この色座標は、観察者により一般的には灰色として視認され、このことは殊に、美的な理由から、ステンレス鋼からの要素を有する設備および備付品にとって好ましい。

６超の｜ａ^＊｜および／または６超の｜ｂ^＊｜を有する色座標は、それに属するＬ^＊値にかかわらず、明らかに有彩色であると感じられ、このことは、設備および備付品にとって望ましくない。

Ｌ^＊値が６５未満、殊に３５未満の被覆には、Ｌ^＊値がより高い被覆と比較した場合に全体として光の反射が少ないという点で、さらに利点がある。それにより、外部領域にいる観察者は、遮蔽板の下方または後方に設置された発光素子、例えばＬＥＤまたはディスプレイをより良好に知覚することができる。というのも、コントラスト、すなわち発光素子から透過した光の明度と周囲光が反射した明度との間の比率がより大きいからである。これは殊に、一般的に明るい周囲照明を有する設備および備付品が組み込まれている状態において有利であり、例えば、通常はキッチンおよび実験室における作業照明が該当する。これにより、このような物品の操作快適性および操作安全性も改善することができる。これは殊に、通常Ｌ^＊値が７０超の、スパッタリングされた金属層、例えばチタンまたはケイ素からなる金属層に比べて有利である。

代替的には、より明るい色座標を有する被覆とコントラストが同じ場合、より少ない光を放出する発光素子を選択することができ、これは、製造コストの低下および系のエネルギー効率の改善に寄与する。

これらの色度座標は、被覆がブラックトラップ側に配置され、かつ基板が測定装置側に配置されるように遮蔽材をブラックトラップに置くことで測定される。それから、市販の色度計、例えばＫｏｎｉｃａ Ｍｉｎｏｌｔａ社の分光光度計ＣＭ－７００ｄを用いて、標準光源Ｄ６５を使用し、１０°の標準観察者のもとで反射の色座標を測定する。ブラックトラップとしては、例えばＫｏｎｉｃａ Ｍｉｎｏｌｔａの黒色ガラスタイルＣＭ－Ａ５１１を使用することができる。この意味において、ブラックトラップを背景にして測定、という表現は、測定すべき試料が測定装置とブラックトラップとの間に配置されていることを意味する。

さらに、本発明による遮蔽板は、標準光源Ｄ６５の光の色座標が、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：

により特定される白色領域Ｗ１内にあることを特徴とする。

ここで白色領域Ｗ１は、ＣＩＥｘｙＹ色空間における黒体曲線に沿った範囲として生じ、約２，７５０Ｋ～約１，０００，０００Ｋの色温度にわたって、上限においては黒体曲線に対して上方向におよそｙ＝０．０４の値でずれており、下限においては下方向におよそｙ＝０．０７の値でずれている。そこから、以下の効果が生じる：標準光源Ｄ６５の光は定義によると色温度が約６，５００Ｋであり、２°の観察者により直接観察した場合、色座標がｘ＝０．３１およびｙ＝０．３３である。すなわち、本発明によれば光が遮蔽板を通過する際にも、実質的には黒体曲線に沿って光の色座標をより高い色温度およびより低い色温度のどちらにもずらすことができ、不所望な色かぶりが生じることはない。すなわち、白色光は、通過後に依然として白色光として知覚される。

基板および被覆の通過後の光の色座標は、適切な色度計により、例えばＫｏｎｉｃａ Ｍｉｎｏｌｔａの色度計ＣＳ－１５０により測定することができる。

ディスプレイのような表示装置は一般に、例えば５，０００Ｋ、６，５００Ｋまたは９，３００Ｋの色温度を有する白色光を放出するように調整される。すなわち、本発明による物品により、市販のディスプレイをさらに適合させる必要なく使用して、ディスプレイから放出される光において、物品の外部領域においてディスプレイにとって望ましい色座標を生み出すことが可能になる。

このようなずれは、光が通過する領域において被覆が中抜き部分または開口部を有すると達成することができない。よって、被覆は好ましい実施形態では、設備または備付品に組み込まれた状態で光が遮蔽板を通過することが望ましい領域において、開口部を有していない。従って、このことは有利でもある。というのも、このような開口部が、殊に遮蔽板の下方または後方に配置されたディスプレイの画素と類似したサイズ、数および位置を有すると、モアレ効果が生じて、かつ／または表示される画像、記号または文字が多数の開口部を通して観察される際にピクセル化して見えて、表示される画質の低下がもたらされるからである。

また、光が通過する領域において開口部は、そのサイズにかかわらず望ましくない。というのも、被覆において開口部が上記よりも大きいと、遮蔽板の下方または後方に配置された部材が、外部領域にいるユーザーにはっきりと見えてしまい、これが欠点となるからである。

好ましい実施形態において、分離要素は、標準光源Ｄ６５の光の色座標が、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：

により特定される白色領域Ｗ２内にあることを特徴とする。

ここで白色領域Ｗ２は、ＣＩＥｘｙＹ色空間における黒体曲線に沿った範囲として生じ、約３，５００Ｋ～約２０，０００Ｋの色温度にわたって、上限においては黒体曲線に対して上方向におよそｙ＝０．０２５の値でずれており、下限においては下方向におよそｙ＝０．０４の値でずれている。すなわち、この範囲は、Ｗ１との比較において、黒体曲線のより短い部分に沿って広がり、黒体曲線のｘ座標およびｙ座標においてより低い偏差を有する。よって、このような遮蔽板を通過する白色光は、本発明による物品の外部領域において、特に白色、つまり色彩がないものと知覚される。

特に好ましい実施形態において、分離要素は、標準光源Ｄ６５の光の色座標が、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：

により特定される白色領域Ｗ３内にあることを特徴とする。

ここで白色領域Ｗ３は、ＣＩＥｘｙＹ色空間における黒体曲線に沿った範囲として生じる。この範囲は、約３，５００Ｋ～約６，５００Ｋの色温度にわたる。この範囲は、上限および下限において白色領域Ｗ２に相応する。ここで小数点第２位において座標を丸めることによって差が生じるのみである。この範囲は、Ｗ２との比較において、すなわち黒体曲線のより短い部分に沿って広がる。白色領域Ｗ３内の色座標は、特にニュートラルホワイトとして知覚される。

本発明によれば驚くべきことに、これは被覆および基板の透過率のプロファイルを平衡させるための黒体補正フィルタを使用しなくても成功する。本発明の意味において、黒体補正フィルタとは、標準光源Ｄ６５の光が、黒体補正フィルタ、基板および被覆の通過後に、白色領域Ｗ１、Ｗ２または場合によってＷ３内の座標の色座標を有するように、透過スペクトルを基板および被覆の透過スペクトルに合わせる光学フィルタと理解される。

本発明によると、このようなフィルタは必要ない。というのも、標準光源Ｄ６５の光は、分離要素の通過後に、この領域にある色座標をすでに有しているからである。しかしながら、このようなフィルタは、例えば、分離要素の様々な領域が、標準光源Ｄ６５の透過光について、様々な色座標を、例えばＷ１、Ｗ２またはＷ３の領域内に生み出すことが望ましい場合、任意で基板と表示素子との間に配置されていてもよい。

黒体補正フィルタは、例えば、プリントされた、施与された、押圧された、または相応して配置された層、フィルムまたはプレートの形態で存在していてもよい。例えば物品の内部領域において放出された白色光が、外部領域にいる観察者にとって有彩色、例えば青色、赤色、緑色または任意のその他の色を有するように感じられるためには、その他の色補正フィルタも考えられる。

好ましい実施形態において、被覆されたガラス基板またはガラスセラミック基板は、６３０ｎｍの波長で、透過率が少なくとも２％、好ましくは少なくとも４％、特に好ましくは少なくとも１０％である。

さらなる好ましい実施形態において、透過率は、４７０ｎｍの波長で少なくとも１％、好適には少なくとも２％である。

本発明の好ましい実施形態において、ガラス基板またはガラスセラミック基板を含む遮蔽板は、基板の被覆の下方または後方に配置された少なくとも１つの散乱層または拡散層を、好適には基板被覆と散乱層または拡散層との間の少なくとも１つの遮蔽層とともに、かつ遮蔽層における少なくとも１つの中抜きとともに、好適には下側に取り付けられた少なくとも１つの照明器具とともに含む。

散乱層および拡散層は、任意で着色して構成されていてもよい。着色された散乱層および拡散層は、拡散器および光学フィルタとして同時に機能することができる。

このような散乱層または拡散層は、例えば厚さ１～１５μｍであってもよい。これらの層は、着色されていない散乱粒子、例えばＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２またはその他の金属酸化物を含有していてもよい。このような粒子の平均径は、１μｍ未満であってもよい。これらの散乱層または拡散層は、生じた輝度の均質性が高く、粒度が低く、かつ明度が高いことが好ましい。これにより、非常に均質に投光された領域が、ユーザーによって非常に快適に知覚される。

好ましい実施形態において、ガラス基板またはガラスセラミック基板は被覆と一緒になった状態で、高い透過率を赤外スペクトル領域において有する。これにより本発明による物品の内部領域における赤外線検出センサの配置が可能になるか、または放射発熱体、例えば赤外線放射体の使用が可能になる。ここでセンサまたは発熱体に応じて、特別なスペクトル領域における透過が有利となる。

記載されている透過率の値は、ウルブリヒト球（Ｕｌｂｒｉｃｈｔｋｕｇｅｌ）を使用して測定した試料の合計透過率に関連する。この測定のために、適切な光源とウルブリヒト球との間でウルブリヒト球の入口に試料を配置することにより、被覆はウルブリヒト球側に配置されている。側面において光路に対して９０°に配置されたウルブリヒト球の出口に、透過した光の割合を検出するための適切なセンサを取り付ける。この測定構成により、直接透過した光の割合および散乱により透過した光の割合の双方が検出される。

ケイ素系の赤外線センサの場合、例えば、ジェスチャー制御または接近認識のための非接触式入力装置用のいわゆるＴＯＦセンサにおいて、例えばＳＴ ＭｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓのＶＬ６１８０Ｘにおいて使用されているように、８５０～１０００ｎｍの間のスペクトル領域が特に重要である。このようなセンサの使用を可能にするために、この領域において遮蔽板は、好ましくは少なくとも１つの波長で、透過率が少なくとも３％、好ましくは少なくとも１０％、特に好ましくは少なくとも３０％である。特にジェスチャー制御の場合、高い透過率が有利である。なぜなら、そのようにすることでジェスチャーを比較的遠く離れて遮蔽板の外側から検出することができるからである。ケイ素系の赤外線センサについてのその他の用途は、例えば、リモートコントローラまたは光データ伝送用通信インターフェース用のシグナル受信機である。

ＩｎＧａＡｓ系赤外線検出器は、殊に１～２μｍの範囲において感度を有する。このような検出器を使用する場合、遮蔽板は、中抜きの領域において少なくとも１つの波長、好ましくは１５００ｎｍの波長で、透過率が少なくとも３０％、好適には少なくとも４５％、特に好ましくは少なくとも６０％であると適している。

放射発熱体の放出最大値は、ウィーンの変位則から求められ、１００℃～１０００℃の温度の場合、７．８μｍ～２．３μｍである。エネルギー効率の理由により、かつ放射発熱体による遮蔽板の過熱を防止するために、遮蔽板は、３．２５μｍ～４．２５μｍの範囲において、少なくとも１つの波長で、透過率が少なくとも１０％、好ましくは少なくとも２０％、特に好ましくは少なくとも３０％である。遮蔽板の透過率が上記の最低限の要求を満たす場合、このスペクトル領域において、物品の内部空間に配置されたボロメータまたはサーモパイルによっても、熱い物体の温度を、外部領域で、例えば熱い調理容器または実験容器内で測定することができる。

好ましい実施形態において、ガラス基板またはガラスセラミック基板の厚さは、２ｍｍ～１２ｍｍ、好ましくは３～８ｍｍ、特に好ましくは３～６ｍｍである。ここで、基板の厚さは実質的に、機械的耐久性および質量に対する要求により制限される。２ｍｍよりも薄いガラスには、技術的な理由から、実際には熱で予備応力をかけることができない。というのも、そのために必要な冷却速度を経済的に実施可能な費用で達成することができないからである。さらに、基板の厚さがその光学特性に影響を与え得ることを考慮する必要がある。いずれの場合にも、上記の透過率の極限値が維持されるように厚さを選択すべきである。

基板は、１つ以上の中抜き部分を任意で有していてもよい。このような中抜き部分は、例えばダウンドラフト式換気フードまたは配管用引込口を収容するために備えられていてもよい。

同様に、基板はエッジ処理部、例えばファセットまたはＣカットを任意で有していてもよい。

さらに、基板は片側または両側に特定の表面特性を有していてもよい。基板は、例えば研磨または粗化されていてもよい。それにより、例えば選択的に、光学特性、殊に基板の光学散乱性を適合させることができる。同様に、研磨または粗面化により、基板の表面における被覆の接着性を改善することができる。代替的またはさらに、基板は、表面特性を適合させるための被覆を有していてもよい。このような被覆には、例えば、反射防止被覆、アンチグレア被覆および疎水性または親水性被覆がある。

さらなる好ましい実施形態において、被覆は、１０００Ｖの試験電圧で４点測定により測定して表面抵抗が少なくとも１ｋΩ／□、好ましくは少なくとも０．５ＭΩ／□、特に好ましくは少なくとも２ＭΩ／□である。表面抵抗がこのように高いことで殊に、より高い被覆の伝導性における使用が寄生容量を理由に不可能であるか、または著しく低減された感度でなければ不可能であろう静電容量式タッチセンサを遮蔽板の下方または後方に配置することが可能になる。それにより、遮蔽板の下方または後方における誘導コイルの使用も可能になる。というのも、このようなコイルにより生み出される交流磁場は、被覆の電気抵抗が相応して高い場合、被覆により減衰することも散乱することもないからである。交流磁場の散乱は例えば、１ｋΩ／□未満の抵抗と、磁場の侵入深さより小さな層厚とを有する層において起こり、系全体の電磁適合性の悪化に繋がる。誘導コイルは例えば、発熱体として、または無線でエネルギーを伝達するために備えられていてもよい。

さらなる好ましい実施形態において、被覆は、層厚が少なくとも５０ｎｍ、好ましくは少なくとも１００ｎｍ、特に好ましくは少なくとも２００ｎｍかつ最大でも２μｍ、好ましくは少なくとも１μｍ、特に好ましくは最大でも５００ｎｍである。設備または備付品用の遮蔽板と同様の大きさの基板上における５０ｎｍ未満の層厚は、非常に高いコストをかけなければ面全体に十分な均質性の厚さで生み出すことができないことが判明した。よって、５０ｎｍ未満の層厚は、製造条件のもと、非経済的なほどに高い製造欠陥品もたらす。２μｍ超の層厚でも経済的な面で不利である。というのも、これには、それよりも薄い層厚と比べて、材料費の増加が伴い、かつ方法に応じてより長い製造期間が伴うからである。固定された材料系の場合、被覆の光学特性を調整するために、層厚を相応して適合させることができる。

さらなる好ましい実施形態において、被覆は、平均スペクトル反射率Ｒ（λ）が３８０～７８０ｎｍの波長範囲で、最大でも１０％、好ましくは最大でも８％である。被覆は、最大スペクトル反射率が３８０～７８０ｎｍの波長範囲で、最大でも１０％、好ましくは最大でも８％であることが特に好ましい。平均スペクトル反射率が可視光にわたり１０％超である被覆を有する遮蔽板は、組み込まれた状態において、周囲光の明度が低い場合でさえも被覆の黒色の印象が阻害されるほどに周囲光を強く反射することが判明した。

さらに、遮蔽板の下方または後方に、発光素子、殊に表示素子、例えばディスプレイが配置されている場合に低い反射率は有利であることも証明された。平均反射率が１０％超である場合、周囲光にかかわらず、スイッチが入った状態におけるこのような表示の可視性が大幅に低減され得る。これは殊に、明度の低い発光素子および／または光透過率の低い層を使用する場合に該当する。

さらなる好ましい実施形態において、被覆の最小スペクトル反射率に対する最大スペクトル反射率の比率は、３８０～７８０ｎｍの波長範囲で最大でも５、好ましくは最大でも３、特に好ましくは最大でも２の値である。この比率は、理想的には１であるか、または少なくとも１～１．５の間の値もしくは１～１．２の間の値でさえある。被覆のこのような平坦なプロファイルにより、さらに改善された黒色効果が達成されることが示された。殊に１０％付近の比較的高い平均反射率の場合、比率が５超であると、スイッチが入った状態において、周囲光の鏡面反射は、たとえ被覆の色座標の測定値が上記の限界値内にあったとしても、妨げとなる有彩色として知覚されることがある。

測定が基板を通さずに行われるように試料を測定装置内に配置することで、スペクトル反射率Ｒ（λ）を、例えばＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社のＬａｍｂｄａ８５０ＵＶ／ＶＩＳ分光光度計により測定することができる。すなわち、被覆は測定センサに面した側の基板に配置されている。

さらなる好ましい実施形態において、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆は一緒になった状態にて、ヘイズが５％未満、好ましくは２％未満、特に好ましくは１％未満である。ここで規格ＡＳＴＭ Ｄ１００３によると、ヘイズとは試料に入射した光源ＣＩＥ－Ｃの光の光軸に対して２．５°超の角度で散乱により逸れる、試料を透過した光の割合と理解される。

ヘイズは、例えばＢＹＫ社の測定装置ｈａｚｅ－ｇａｒｄを用いて、規格ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠して測定することが可能である。すなわち、ヘイズが最大でも５％である場合、透過光の広角散乱はわずかしか生じない。これは、遮蔽板の下方または後方において表示装置、例えばディスプレイまたはプロジェクタが配置されている場合に特に有利である。というのも、５％超のヘイズは、画質、殊に鮮鋭度に対して不利な影響を与えるからである。

物品の内部空間に面した側の遮蔽板には、合計透過率を低減させるための手段がさらに配置されていてもよい。このような手段は、外部の影響、殊に機械的負荷による損傷から保護されるように内部空間に面した側に配置されている。このような手段は、ガラス基板もしくはガラスセラミック基板上の被覆であっても、フィルムであっても、自立型支持材料であってもよく、例えばガラス、プラスチック、もしくは例えばマイカもしくは繊維物質のような層状ケイ酸塩（雲母）を含有する絶縁材料からなるガラスパネルまたはフィルムである。

合計透過率を低減させるためのこのような手段は特に、基板および被覆の光透過率が合計で２％を上回る場合に使用されることが好ましい。それにより、遮蔽板の十分な不透明性を保証することができる。ここで、このような手段の光透過率を遮蔽板の光透過率に適合させることが有利である。遮蔽板の光透過率が高いほど、合計透過率を低減させるための手段の光透過率をより低く選択する。基板と、被覆と、合計透過率を低減させるための手段との合計透過率が、６％、殊に４％、極めて特に２％を上回らなければ、有利である。

遮蔽板の下方または後方に発光素子を備えることが意図されている場合、合計透過率を低減させるための手段は、放出された光が遮蔽板を通過することが望ましい領域において、好適には少なくとも１つの中抜き部分を有する。

上記の要求を満たす被覆は、好ましくはスピネルまたはサーメットを含有する。さらに、被覆はカーバイドまたはカーボナイトライドを含有していてもよい。被覆はこれらの材料のうちの１種からなることが好ましい。これらの被覆はスパッタリングにより生成することができる。

スピネルは、鉱物学からのもの、およびセラミックのものが知られている。発明者等は驚くべきことに、酸化物系スピネルは、添加した酸素の量に依存して化学量論未満で酸素を添加しながら反応性スパッタリングされる金属ターゲットの合金として、３５未満の非常に低いＬ^＊値または５０～６５の非常に高いＬ^＊値も有し得ることを発見した。それにより、低い電気伝導性と同時に基本的に暗い色調または灰色の明るい反射性の色調も得られる。ここで灰色の色調とは、色度座標が、５０＜Ｌ^＊＜６５、－５＜ａ^＊＜５および－５＜ｂ^＊＜５の範囲にあり得る。さらに、これらの色調は、スペクトル反射率のプロファイルが平坦であり得る。可視スペクトル領域における最小スペクトル反射率に対する最大スペクトル反射率の比率は１．５未満であり得る。ここで平均反射率は約３３％であり得る。このような層の透過率のプロファイルも平坦に進行し得るため、標準光源Ｄ６５の光は、このような被覆の通過後に白色領域Ｗ１内にある。

スピネルからなる被覆は、７８０～約４，５００ｎｍの波長範囲で、スペクトル透過率が３０％超、または５０％超から８０％超までと高くてもよい。スピネル被覆を有する遮蔽板において赤外スペクトル領域にあるスペクトル透過率は実質的に、被覆により制限されているのではなく、使用される基板により制限されている。着色されていない透明なＬＡＳガラスセラミック、例えばスピネル被覆を有するＳＣＨＯＴＴ ＡＧの商標ＣＥＲＡＮ ＣＬＥＡＲＴＲＡＮＳ（登録商標）は、約３，７５０ｎｍの波長で、スペクトル透過率が４０％超であってもよい。すなわち、このような被覆は殊に、遮蔽板の後方または下方で放射発熱体または赤外線センサを使用するのに適している。表面抵抗は、１０００Ｖの試験電圧で、１．８または３，１６０ＭΩ／□である。

適切なスピネルは式Ａ_ｘＣ_ｕＢ_ｙＤ_ｖＥ_ｚＦ_ｗによる組成を有し、ここでＡおよびＣは、Ｃｒ２＋、Ｍｎ２＋、Ｆｅ２＋、Ｃｏ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、Ｓｎ２＋／４＋、Ｔｉ４＋、Ｚｒ４＋、またはランタニド、およびこれらの混合物からなる群から選択される。ＢおよびＤは、Ｍｎ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ３＋、Ｎｉ３＋、Ｃｕ３＋、Ａｌ３＋、Ｇａ３＋、Ｓｎ４＋、Ｓｃ３＋、Ｔｉ４＋、Ｚｎ２＋、またはランタニド、およびこれらの混合物からなる群から選択される。ＥおよびＦは、Ｓ、ＳｅおよびＯの二価アニオン、ならびにこれらの混合物からなる群から選択されることが好ましい。ｘ、ｕ、ｙ、ｖ、ｚおよびｗの値は、以下の式を満たす：

被覆は、結晶子を有していることが好ましく、少なくとも９５質量％の結晶子はスピネル型で、対称であり、立方晶の結晶構造を示す。

無彩色性を改善するために、基板とスピネル被覆との間に配置された相殺層により層系を変化させることができる。それによりＬ^＊値が影響を受けることはほぼない。相殺層は基板とスピネル被覆との間においてその屈折率を可視スペクトル内に示す材料であってもよく、例えばＣｅＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＡｌＴｉＯｘ、ＴｉＳｉＯｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＡｌＳｉＯｘＮｙがある。化学量論未満の変形形態も相殺層として使用することができる。このような相殺層の層厚は、好ましくは２５～５００ｎｍ、特に好ましくは３５～２５０ｎｍの範囲にある。驚くべきことに、このような相殺層は、反射状態にある被覆の色座標を変化させるのみであり、透過特性を変化させることはない。すなわち、このような相殺層は、黒体補正フィルタとして作用することはない。

好ましい実施形態において、被覆は以下の材料系、アルミニウムスピネル、クロムスピネル、鉄スピネル、チタンスピネル、コバルトスピネルのうちの１種からのスピネルよりなる。被覆は、ＣｏＦｅＭｎＣｒスピネルからなり、任意でＳｉＯｘＮｙからの相殺層を有することが特に好ましい。

さらなる好ましい実施形態において、被覆は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２またはこれらの混合酸化物からなる酸化物系マトリックスと、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｂからの金属成分またはこれらの金属のうち少なくとも２種からなる合金とを有するサーメットからなる。本発明の意味において、サーメットという名称は、金属成分がその内部に分散した酸化物系マトリックスからなる複合材料と理解される。このような複合材料を含有する実施形態が特に好ましい。というのも、これらの実施形態は、金属成分の光学特性をマトリックス材料の低い電気伝導性と結びつけ、それにより本発明による遮蔽板の被覆に特に良好に適しているからである。

これらのサーメット層系は、１～７０％の調整可能な光透過率で２０ＭΩ／□超の非常に高い表面抵抗を有する点で優れ得る。これらの透過率範囲において、Ｌ^＊値が低い非常に無彩色な層を形成することができた。その一般的な値は、光透過率が３５％である場合に、例えばＬ＝２７であった。サーメット層系は、殊に２０％超の高い透過率において、ａ^＊値およびｂ^＊値を＋／－２の範囲で、個別の場合にはそれをも著しく下回る色座標を示した。３５％の光透過率を有するサーメット被覆の平均スペクトル反射率は、可視スペクトル領域における最小値に対する最大値の比率が約１．５である場合、５％であった。このような層の透過率のプロファイルは、非常に平坦であることが証明されたため、標準光源Ｄ６５の光は、被覆の通過後に、白色領域Ｗ１または白色領域Ｗ２内にさえあった。７８０～４２５０ｎｍの間の赤外スペクトル領域において、これらのサーメット層系は吸収が非常に弱いため、ここでもスペクトル透過率は、基板により制限されるのであって、被覆により制限されるわけではない。調査したサーメット層は、約３７５０ｎｍの波長で、透過率が４０％超であった。

好ましい実施形態において、酸化物系マトリックスおよび金属成分は、向上した熱安定性を有するように互いに調整される。熱安定性は例えば、試料に３８０℃で８０時間にわたり負荷をかけ、その測定値と負荷をかけていない試料とを比較した後に、ＣＩＥＬＡＢ色座標を測定することで求めることができる。その際、金属酸化物マトリックスを形成するための酸素親和性金属と、サーメットにおける金属成分を形成するための酸素親和性の低い金属との材料の配合が特に有利である。

金属成分としてのＭｏと組み合わせた、金属酸化物マトリックスとしてのＳｉＯ_２またはＡｌ_２Ｏ_３が特に好ましい。ＳｉまたはＡｌは、Ｍｏよりも酸素親和性が高く、それにより、Ｍｏ酸化物よりもＳｉＯ_２またはＡｌ_２Ｏ_３の形成が好ましい。同時に、層が非常に稠密である場合、酸化物系マトリックスは酸化バリアとして作用し、Ｍｏを酸化から保護する。混合酸化物、殊にＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３からの混合酸化物も、金属酸化物マトリックスとしての使用に適している。

好ましい実施形態では、ＳｉＯ_２を酸化物系マトリックスのために使用する。この場合、被覆におけるＭｏ：Ｓｉの比は、質量％で、少なくとも５：９５、好ましくは少なくとも１０：９０、特に好ましくは１５：８５、殊に２０：８０であってもよい。ここで比は、質量％で、好適には最大でも５０：５０、好ましくは最大でも４５：５５、特に好ましくは最大でも４０：６０、殊に最大でも３５：６５であってもよい。すなわち、被覆におけるＭｏ：Ｓｉの比は、例えば５：９５～５０：５０質量％、１０：９０～４５：５５質量％、１５：８５～４０：６０質量％または２０：８０～３５：６５質量％の範囲にあってもよい。これらの比を求めるために、被覆におけるＭｏおよびＳｉの質量割合を使用する。ここで被覆の酸素またはその他の成分の質量割合は考慮されない。当業者であれば、被覆が各要求を満たすように酸素の割合を調整するであろう。

特に好ましい実施形態では、被覆はＭｏ、Ｓｉ、酸素および不可避の不純物以外の成分を含有しない。

このようなＭｏＳｉＯ_ｘサーメットの使用が特に有利であることが判明した。というのも、このＭｏＳｉＯ_ｘサーメットは、特に平坦な透過率のプロファイルおよび特に平坦なスペクトル反射率のプロファイルを有し、かつ同時に、高い電気抵抗および高い耐熱性を有するからである。

熱的に安定させるために、サーメット、例えばスピネルに、さらに酸化バリアを設けてもよい。これは例えば以下の材料、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｙ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｂのうちの少なくとも１種からの酸化物または窒化物または酸窒化物であり得る。サーメットについては殊に窒化ケイ素が、スピネルについては殊に酸化ケイ素が好ましい酸化バリアであることが判明した。また、酸化バリア層は、赤外における透過に対して有利に作用することができる。

発明者等は驚くべきことに、カーバイドおよびカーボナイトライドからの被覆がガラスまたはガラスセラミック上にあることで、反射状態において－３＜ａ^＊＜３、－３＜ｂ^＊＜３の色座標で３０の範囲にある低いＬ^＊値を出すことが可能であることを発見した。さらにこれらの層は、平均反射率が約４％～８％であり、可視スペクトル領域における最小反射率に対する最大反射率の比率が約１．５である。これらの層は、赤外スペクトル領域において、すでに９５０ｎｍで５０％超を透過させ、約１，２５０～少なくとも４，０００ｎｍの範囲で特筆すべき吸収を示さないため、この範囲において、遮蔽板のスペクトル透過は基板により制限される。

これらの層系は、個別層として生成しても、またはすでにスピネルに関して記載した基板と被覆との間の相殺層および／またはさらなる酸化バリアを有する層系として生成してもよい。その際、当業者であれば、上記の材料から基板の屈折率と被覆の屈折率との間の適切な屈折率と適切な層厚とを有する組み合わせを選択するであろう。カーバイドまたはカーボナイトライドに基づく層を使用する場合、被覆には、以下の材料のうち好適には少なくとも１種が含有されている：Ｓｉ、Ｚｒ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｂ、ＤＬＣ。

記載した層系はすべて、好適にはマグネトロンスパッタリング、殊に反応性中周波スパッタリングまたは高周波スパッタリングにより生成される。反応性中周波スパッタリングの場合、金属ターゲット、例えば純金属または合金からの金属ターゲットを使用してもよく、反応性プロセスガスとしては、例えば酸素または窒素を供給してもよい。非反応性プロセスガスとしては、アルゴンを使用する。

スピネル被覆は、金属カチオンの合金からのターゲット、殊にＣｏＦｅＭｎＣｒ合金からのターゲットを使用し、かつ酸素を反応性ガスとして使用して、例えば反応性中周波スパッタリングにより生成可能である。ここで、被覆の化学量論を、添加される酸素の量により変化させることができ、殊に化学量論未満、すなわち酸素を不足させることでも調整することができる。ターゲット合金については、
Ｃｏ １５～２５、殊に１９～２１、
Ｆｅ ３０～４０、殊に３４～３６、
Ｍｎ １４～２４、殊に１８～２０および
Ｃｒ ２１～３１、殊に２５～２７
の組成範囲を質量％で使用することが特に好ましい。

ターゲットの組成のモル比は、被覆におけるＣｏ、Ｆｅ、ＭｎおよびＣｒのモル割合にも相応する。

サーメットも同様に、例えば反応性中周波スパッタリングにより生成可能である。酸化物マトリックスを形成する金属が、金属成分を形成する金属よりも十分に高い酸素親和性を有する場合、スパッタリングにおいて合金ターゲットを使用することができる。このような合金ターゲットは、不可避の不純物を除いて、これらの金属からなることが好ましい。不可避の不純物とは、工業的または経済的な理由から回避不可能である不純物と理解される。

殊に、ＭｏおよびＳｉからの合金ターゲットを使用することができる。このような合金ターゲットは、Ｍｏを、好適には少なくとも５質量％、好ましくは少なくとも１０質量％、特に好ましくは少なくとも１５質量％、殊に少なくとも２０質量％または少なくとも２５質量％含有する。このような合金ターゲットは、Ｍｏを、好適には最大でも５０質量％、好ましくは最大でも４５質量％、特に好ましくは最大でも４０質量％、殊に最大でも３５質量％含有する。すなわち、組成は、例えば、５～５０質量％のＭｏかつ９５～５０質量％のＳｉ、１０～５０質量％のＭｏかつ５０～９０質量％のＳｉ、２０～４０質量％のＭｏかつ６０～８０質量％のＳｉ、または２５～３５質量％のＭｏかつ６５～７５質量％のＳｉの範囲のうちの１つにある。ターゲットの組成のモル比は、被覆におけるＭｏおよびＳｉのモル割合にも相応する。ターゲットは、Ｍｏ、Ｓｉおよび不可避の不純物を除いて、さらなる成分を含有しないことが好ましい。

スパッタリングにおいて、酸素を反応ガスとして供給する。酸素は、親和性が異なることを理由に、好ましくはＳｉと反応するため、Ｍｏを金属成分として有するＳｉＯ_２マトリックスからのサーメット構造が形成される。

代替的には、２つの別々の金属ターゲット、例えばアルミニウムからなるターゲットとＣｕからなるターゲット、またはＳｉからのターゲットとＭｏとからなるターゲットを使用して、基板上でＣｏスパッタリングが可能であるように、すなわち双方の材料を同時に析出させることが可能であるように、これらを配置することができる。それから、ターゲットの領域においてのみ、すなわち例えばアルミニウムターゲットに反応ガスを供給して、金属酸化物マトリックスを形成することが好ましい。これには、合金ターゲットを使用することに比べて、被覆の組成をより単純に変化させることができるという利点がある。

カーバイドおよびカーボナイトライドは、例えばセラミックターゲットを使用しながら高周波スパッタリングにより生成することができる。ここでターゲットは、所望の層組成、すなわち、例えばＳｉＣまたはＴｉＣＮをすでに有していてもよい。

セラミックターゲットは、５～６０質量％のＣおよび４０～９５質量％のＳｉから、好ましくは２０～５５質量％のＣおよび４５～８０質量％のＳｉから、殊に４０～５０質量％のＣおよび５０～６０質量％のＳｉからなることが好ましい。ターゲットの組成のモル比は、被覆におけるＣおよびＳｉのモル割合にも相応する。

代替的には、金属ターゲット、例えばＳｉまたはＴｉを、炭素ターゲット、例えばグラファイトターゲットと組み合わせて、Ｃｏスパッタリングにより使用することが可能である。このようにして、各ターゲットのスパッタリング速度をスパッタリング出力により相応して選択することで、被覆の化学量論を変化させることができる。さらに、このようなスパッタリングプロセスにおいて、カーボナイトライドを生成するために、窒素を反応ガスとして供給してもよい。

表１では、スピネルおよびサーメットの材料タイプの本発明による被覆、ならびにスピネルの比較例が例示的に示されている。層はすべて、反応性中周波スパッタリングにより生成された。スピネル層およびサーメット層については、金属合金ターゲットを使用し、酸素または窒素を反応ガスとして供給した。

ここで材料として、スピネル層にはＣｏＦｅＭｎＣｒを使用し、サーメット層にはＭｏＳｉＯｘを使用した。表１には、例３～１０について、被覆におけるモリブデン（Ｍｏ）およびケイ素（Ｓｉ）の割合の相対比が質量％で記載されている。この値において、被覆の酸素割合は考慮されていない。

すべての層について、ＳＣＨＯＴＴ ＡＧ社のＣＥＲＡＮ ＣＬＥＡＲＴＲＡＮＳ（登録商標）タイプの、厚さ４ｍｍの着色されていない透明なＬＡＳガラスセラミックを基板として使用した。

すべての例について、反射状態でのＣＩＥＬＡＢ色座標、光透過率ＬＴ、ヘイズおよび表面抵抗が記載されている。すべての測定を上記のように実施した。さらに、すべての例について、光源Ｄ６５の透過した標準光に関して、ＣＩＥｘｙＹ表色系における色度座標ｘおよびｙを上記のように求めた。さらに、これらの試料について、４７０ｎｍ、６３０ｎｍ、９５０ｎｍ、１，６００ｎｍおよび３，７５０ｎｍでスペクトル光透過率が記載されている。

比較例Ｖ１は、反射状態における色座標についての要求に相応しない、相殺層を有していない暗色のスピネル被覆である。マイナスのｂ^＊値が高いことで、この被覆は青色になる。

例３を除くすべての例は、２６＜Ｌ^＊＜３７、－３＜ａ^＊＜３、－３＜ｂ^＊＜３の範囲にある色座標を有する無彩色な黒色の被覆である。

試料３は、５５＜Ｌ^＊＜５８、－２＜ａ^＊＜２および－５＜ｂ^＊＜５の範囲にある色座標を有する無彩色な灰色の被覆である。

標準光源Ｄ６５の光は、すべての例において被覆および基板の通過後に、その色座標が白色領域Ｗ１内にある。また、例４および５を除いて、すべての例が白色領域Ｗ２およびＷ３内にある。

すべての試料は、ヘイズが最大でも１％であるため、表示素子、例えばＴＦＴディスプレイまたはプロジェクタと組み合わせて使用するのに適している。すべての例は、表面抵抗が明らかに１ｋΩ／□超であるため、誘導コイルとの使用および静電容量式タッチセンサとの使用のどちらにも適している。

２°の標準観察者による色空間ＣＩＥｘｙＹの色度図を示す（ＣＩＥｘｙＹ－２°）。図１ａには、以下の要素： － 点線としての黒体曲線（「ｂｌａｃｋ ｂｏｄｙ ｃｕｒｖｅ」）、 － 破線としての２つの白色領域Ｗ１およびＷ２、 － 点付き破線としての白色領域Ｗ３、 － 点としての標準光源Ｄ６５の光の色度座標、 － 正方形としての実施例１～１０の通過後の標準光源Ｄ６５の光の色度座標、ならびに、 － ｘとしての比較例Ｖ１の通過後の標準光源Ｄ６５の光の色度座標が示されている。 図１ａの拡大図の一部を示す。 例１、例５および本発明によるＳｉＣ被覆のスペクトル反射率を示す。 本発明による遮蔽板（３）を有する物品（１）の断面概略図を示す。

黒体曲線上の各点は、規定温度、いわゆる色温度における黒体放射体から放出された光の色座標に相応する。この曲線は、人間の知覚にとって特別な役割を果たす。というのも、太陽も同様に黒体放射体に相応し、したがって太陽光の色が黒体曲線上にあるからである。太陽の位置に応じて、色座標は、より冷たい色座標とより暖かい色座標の間でシフトし、ここで２０，０００Ｋの色温度は、晴天に相応し、３，５００Ｋの温度は夕暮れ直前の夕日に相応する。よって、黒体曲線上または黒体曲線近傍の色座標は、白色として、特に自然のものとして知覚される。

すべての例が、白色領域Ｗ１内で、黒体曲線に沿って分布している。ここで例５は、３，０００Ｋより幾らか下の特に暖かい色温度を生み出す。これはほぼ２００Ｗの出力を有する電球に相当する。

図２には、例１（「スピネル」、実線）、例５（「ＭｏＳｉＯｘ」、細かい破線）および本発明によるＳｉＣ被覆（「ＳｉＣ」、粗い破線）のスペクトル反射率が、３８０～７８０ｎｍの可視スペクトル全体において示されている。

示された３つの例はすべて、可視スペクトル全体においてスペクトル反射率が１０％未満、平均で約５％と非常に低い。さらに、曲線は非常に平坦であり、最大反射率と最小反射率との間では最小限の差を有するのみである。

反射率がこのように低い場合には、そのような遮蔽板を通過する光は、周囲光が非常に明るい場合でも、反対側で非常に良好に知覚可能である。

曲線は非常に平坦であるため、反射光の色座標がシフトすることはなく、遮蔽板は特に無彩色に作用する。

図３は、本発明による遮蔽板（３）を有する設備または備付品（１）の実施形態の概略図を断面図で含む。ここで遮蔽板（３）は、物品（１）の内部領域（４）を外部領域（５）から部分的に分離する。図面において遮蔽板は、被覆（２）を基板上に有するガラス基板またはガラスセラミック基板からなる。基板および被覆（２）は一緒になった状態で、光透過率が１％～７０％である。ＣＩＥＬＡＢ色空間における被覆（２）の色座標は、ブラックトラップを背景にし、標準光源Ｄ６５の光を用いて、ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して反射を測定した場合に、座標L*20～65、a*-6～6およびb*-6～6の範囲にある。標準光源Ｄ６５の光の色座標は、ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆（２）の通過後に白色領域Ｗ１内にある。

本発明による遮蔽板を有するキッチン用または実験室用の設備または備付品は、その内部領域において、多数の部材および要素を含んでいてもよい。

これらの物品は、例えば１つ以上の発熱体を、物品、例えば鍋を加熱するために、物品の外部領域または内部領域に有していてもよい。これらは殊に、放射発熱体、誘導発熱体またはマイクロ波発生器であってよい。

これらの物品は、表示素子および発光素子、例えば、点光源、線光源または面光源を有していてもよい。これには、例えば、ＬＥＤ、光ファイバーおよびＯＬＥＤがある。これらの光源は、特定の色、殊に、白色、赤色、緑色および／または青色の光で発光しても、また可変色で発光してもよい。使用可能な表示素子には、例えばグラフィックディスプレイまたはセグメントディスプレイがある。グラフィックディスプレイには、例えば、ＴＦＴディスプレイ、殊にＬＣＤディスプレイまたはＯＬＥＤディスプレイがある。セグメントディスプレイには、殊に７セグメントディスプレイがある。また殊に、赤く発光するＴＦＴディスプレイが備えられていてもよい。

これらの発光素子と遮蔽板との間に、例えば規定された色座標および高い色飽和で有彩色の照明効果を生み出すための白色ＬＥＤを利用可能にするために、さらなるカラーフィルタが備えられていてもよい。

また発光素子は殊に、発熱体近くの高温領域に配置されていてもよい。ここで殊に、感温性黒体補正フィルタが必要とされないことが、物品の外部領域において白色の照明効果を生み出すのに有利である。

これらの物品は、例えば外部領域に面した側の遮蔽板に食品または薬品を冷却するための冷却面を設けるために、冷却ユニット、例えばペルティエ素子を、遮蔽板と熱的に接触した状態で有していてもよい。

本物品は、様々なセンサ、例えば、制御用の静電容量式タッチセンサ、またはジェスチャー制御用もしくは高温物品の温度測定用の赤外線センサを、外部領域、例えば高温の鍋内に有していてもよい。このようなセンサは、基板の下側または裏側に、プリントするか、圧接するか、結合するか、貼設するか、またはそれ以外のやり方で配置されていてもよい。これは、殊にタッチセンサに該当する。

さらに、本物品は、例えば音声制御またはユーザー認識および認証のために、マイクロフォンおよびカメラを有していてもよい。これは、相応して教育を受けた者のみが物品を使用することが許されている場合、例えば実験室において特に有利であり得る。

本物品は、通信のための様々なインターフェース、例えば、ＷＬＡＮ、ＢｌｕｅｔｏｏｔｈもしくはＮＦＣモジュール、または赤外線インターフェースを有していてもよい。このようなインターフェースを介して、物品は、例えばインターネットと、または相応するインターフェースもしくはその他の電子デバイスを有する近くにあるその他の物品、例えば鍋と接続可能である。これは、殊に制御および通信のために、携帯式の電子デバイス、例えば携帯電話またはタブレットと接続可能である。

本物品は、外部領域において、殊に誘導コイルにより、かつＱｉ標準に従って、無線で物品のエネルギーを伝達するための装置を含んでいてもよい。

遮蔽板は、外部領域に面した側に、遮蔽板の実質的な光学特性を変化させない限りにおいて被覆、例えばキズ防止層、反射防止層、アンチグレア層、装飾層、洗浄が容易な層または赤外線反射層を有していてもよい。

遮蔽板は、切欠部分、例えば、流し台またはダウンドラフト式換気フードまたは配管用引込口のための切り取り部分を有していてもよい。

これらの構成要素はすべて、個別に、または組み合わせとして存在していてもよい。

驚くべきことに、本発明による遮蔽板によって、多数の用途に応じた要求を特に良好に満たすことが可能であることが判明した。光学特性は、遮蔽板の下方または後方に取り付けられた照明器具がはっきりと、明るく、かつ所望の色の印象で見えるように調整することができる。しかしながら同時に、遮蔽板を透かして見えることも十分に防止できる。それにより、いわゆるデッドフロント効果を特に良好に達成することができる。これは、スイッチが切られた状態でも遮蔽板を通して電子部材が視認されないことを意味する。それにより、殊にスイッチが切られた状態において、遮蔽材の特に均質かつ魅力的な外観が生じる。それにもかかわらず、これらの遮蔽材は、多数の異なるセンサと組み合わせることが可能である。これらのセンサには、例えば、静電容量センサまたは誘導センサ、ならびに様々な波長での赤外線センサがある。

Claims (15)

1. ガラス基板またはガラスセラミック基板と、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板側の被覆（２）とを含む、キッチン用または実験室用の設備または備付品（１）のための遮蔽板（３）であって、
   前記ガラス基板またはガラスセラミック基板および被覆（２）は一緒になった状態で、光透過率が１％～７０％であり、
   前記被覆（２）は、ブラックトラップを背景にし、標準光源Ｄ６５の光を用いて、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して、反射を測定した場合に、座標Ｌ^＊２０～６５、ａ^＊－６～６およびｂ^＊－６～６のＣＩＥＬＡＢ色空間における色座標を有し、
   ここで前記標準光源Ｄ６５の光の色座標が、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板および前記被覆（２）の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：
   

   

   により特定される白色領域Ｗ１内にある、遮蔽板（３）。
2. 黒体補正フィルタを含まないことを特徴とする、請求項１記載の遮蔽板（３）。
3. 前記被覆（２）は、ブラックトラップを背景にし、標準光源Ｄ６５の光を用いて、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して、反射を測定した場合に、座標が２２≦Ｌ^＊≦３５であり、－４≦ａ^＊≦４であり、かつ－４≦ｂ^＊≦４であるＣＩＥＬＡＢ色空間における色座標を有することを特徴とする、請求項１または２記載の遮蔽板（３）。
4. 前記被覆（２）は、ブラックトラップを背景にし、標準光源Ｄ６５の光を用いて、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して、反射を測定した場合に、座標が４５≦Ｌ^＊≦６５であり、－４≦ａ^＊≦４であり、かつ－４≦ｂ^＊≦４であるＣＩＥＬＡＢ色空間における色座標を有することを特徴とする、請求項１または２記載の遮蔽板（３）。
5. 標準光源Ｄ６５の光の色座標が、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板および前記被覆（２）の通過後に、色度図ＣＩＥｘｙＹ－２°で以下の座標：
   

   

   により特定される白色領域Ｗ２内にあることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
6. 前記ガラス基板またはガラスセラミック基板は、前記被覆（２）と一緒になった状態で、１５００ｎｍの波長で、透過率が少なくとも３０％であり、かつ／または８５０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にある少なくとも１つの波長で、透過率が少なくとも３％であり、かつ／または３．２５μｍ～４．２５μｍの範囲にある少なくとも１つの波長で、透過率が少なくとも１０％であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
7. 前記ガラス基板またはガラスセラミック基板が、２０～３００℃の間で±２．５×１０^－６／Ｋ未満の熱膨張係数ＣＴＥを有するガラスセラミック基板であるか、２０～３００℃の間で３．５～６×１０^－６／Ｋの熱膨張係数ＣＴＥと、５００～６５０℃のガラス転移温度Ｔ_ｇを有するガラス基板であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
8. 前記被覆（２）は、試験圧力が１０００Ｖの場合に、表面抵抗が少なくとも１ｋΩ／□であることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
9. 前記被覆（２）は、前記ガラス基板またはガラスセラミック基板を通して測定して、３８０～７８０ｎｍの波長範囲で、平均スペクトル反射率が最大でも１０％であることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
10. ３８０～７８０ｎｍの波長範囲で、最小スペクトル反射率に対する最大スペクトル反射率の比率が１～５の値であることを特徴とする、請求項９項記載の遮蔽板（３）。
11. 前記ガラス基板またはガラスセラミック基板および前記被覆（２）は、一緒になった状態で、ＡＳＴＭ－Ｄ１００３に準拠して測定したヘイズが５％未満であることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
12. 前記被覆（２）が、以下の材料系、スピネル、サーメット、カーバイドまたはカーボナイトライドのうちの１種からなることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項記載の遮蔽板（３）。
13. 前記被覆（２）が、以下の材料系、アルミニウムスピネル、クロムスピネル、鉄スピネル、チタンスピネル、コバルトスピネルまたはＣｏＦｅＭｎＣｒスピネルのうちの１種からのスピネルよりなることを特徴とする、請求項１２記載の遮蔽板（３）。
14. 前記被覆（２）が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２またはこれらの混合酸化物からなる酸化物系マトリックスと、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｗ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｂからの金属成分またはこれらの金属のうち少なくとも２種からの合金とを有するサーメットからなることを特徴とする、請求項１２記載の遮蔽板（３）。
15. 前記被覆（２）がＭｏＳｉＯ_ｘサーメットからなることを特徴とする、請求項１２記載の遮蔽板（３）。

Images