KR20190076900A - 중성색 코팅을 갖는 커버 패널 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유리 또는 유리 세라믹 기재, 및 유리 또는 유리 세라믹 기재의 일면 상의 코팅을 포함하는, 주방 또는 실험실용 장비 물품 또는 핏아웃 물품용 커버 패널에 관한 것이다. 상기 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅은 함께 1% 내지 70%의 광 투과율을 갖는다. CIELAB 색 공간에서의 코팅의 색 궤적은 좌표 20 내지 65의 L*, -6 내지 6의 a* 및 -6 내지 6의 b*의 범위 내에 있다. 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 통과 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적은, 하기 좌표에 의한 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W1 내에 있다:
Description
본 발명은 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 상기 유리 또는 유리 세라믹 기재의 일면 상의 코팅을 포함하는, 주방 또는 실험실용의 장착 물품(fitout article) 또는 장비의 물품(article of equipment)용 중성색 커버 패널에 관한 것이다.
유리 또는 유리 세라믹으로 제조된 커버링 수단은 주방 및 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품에서 다양한 방식으로 사용된다. 예를 들어, 화학적 및 열 안정성 또는 광학 성질에 대한 요건에 따라, 상이한 유리 또는 유리 세라믹이 이 목적을 위해 선택된다.
예를 들어, 유리 또는 유리 세라믹으로 제조된 커버링 수단은 오븐, 냉장고 및 마이크로파 장치의 문에서 뷰잉 창으로서, 조리 기구 및 커피 머신의 작동 엘리먼트를 위한 전면 유리로서, 쿡탑으로서, 하나의 주방 또는 실험실 가구의 작업대, 예를 들어 개인 및 전문 분야 모두에서 캐비닛 및 테이블로서 접한다.
이러한 커버링 수단은 일반적으로, 예를 들어 그의 뒤에 설치된 기계 또는 전자 부품의 커버링 수단을 통한 뷰잉을 방지하기 위해 표면의 적어도 일부 상에 코팅을 갖는다. 그러나 동시에 이들은 이러한 부품, 예를 들어 LED 또는 디스플레이에 의해 방출된 광을 최소한의 방해로 투과시키고자 하는 것이다. 더욱 특히, 투과된 광의 색 궤적은 최소한도로 변경되어야 한다.
DE 10 2016 103 524 A1은 5% 이하의 광 투과율의 불투명한 코팅을 갖는 유리 또는 유리 세라믹 물품을 개시한다. 코팅 뒤에 배치된 조명 엘리먼트로부터의 광을 충분한 정도로 투과시키기 위해, 이 코팅은 광이 방해받지 않고 통과할 수 있는 개구부 패턴을 갖는다. 개구부를 통과하는 광의 색 궤적이 변경되지 않기 때문에 이러한 해결책의 중성 색은 우수하지만, 이 해결책에는 다른 단점이 있다. 개구부는 조명 수단의 스위치 오프 상태에서 커버링 수단이 제공해야 하는 불투명도가 여전히 보장되도록 하기 위해 매우 정확하게 선택되어야 한다. 그러나 이러한 정밀한 개구부는 후속하여 레이저 방법의 수단에 의한 큰 복잡성으로만 생성될 수 있다. 더욱이, 이러한 개구부 사이의 크기 및 거리는 디스플레이 엘리먼트의 픽셀과 동일한 정도의 크기이며, 이는 상응하는 개구부를 갖는 이러한 코팅 하에 디스플레이 엘리먼트를 사용하는 경우, 개구부의 배열에 의해 제공되는 디스플레이의 부가적인 픽셀화로 발생하는 또는 그로 인한 모아레 효과에 기인하는 화질의 손실을 유도한다.
US 2007108184 A1은 쿡탑으로서 사용될 수 있고 그의 밑면에 스퍼터링된 티타늄의 금속 코팅을 갖는 투명한 무색 유리 세라믹 플레이트를 개시한다. 이 층은 불균일한 투과 프로파일을 가지며, 따라서 스펙트럼 투과율은 청색 또는 녹색 광보다 적색 광에 대하여 더 크다. 이와 같이 코팅된 유리 세라믹 플레이트는 따라서 투과된 광에 대하여 중성색이 아니다. 더욱이, 이것은 금속 외관을 가지고 있으며, 스퍼터링된 티타늄의 전도성으로 인해, 코팅 아래에 장착된 용량식 터치 센서와 호환되지 않는다.
EP 3208545 A1은 가시 스펙트럼 영역에서의 최소 스펙트럼 광 투과에 대한 최대 스펙트럼 광 투과의 비가 4.0 이하의 값을 갖는 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 포함하는 조리 기구를 위한 커버링 수단을 개시한다. 사용된 재료로 인해, 커버링 수단은 회색, 청색 또는 적색의 색조 및 적어도 3 kΩ/□의 전기 저항을 갖는다.
본 발명의 목적은 선행 기술에 존재하는 단점을 극복하거나 또는 적어도 개선하는 주방 또는 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품용 커버 패널을 제공하는 것이다.
이러한 주방 또는 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품용 커버 패널은 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 상기 유리 또는 유리 세라믹 기재의 일면 상의 코팅을 포함하며, 상기 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅은 함께 1% 내지 70%, 즉 적어도 1% 및 최대 70%의 광 투과율을 갖는다. 코팅은 좌표 20 내지 65의 L*, -6 내지 6의 a*, 및 -6 내지 6의 b*를 갖는 CIELAB 색 공간에서의 색 궤적을 갖는다. 이 색 궤적은 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 흑색 배경에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정된다. 또한, 커버 패널은 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 통과한 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적이 하기 좌표에 의한, 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W1 내에 있는 것을 특징으로 한다:
도 1a는 2°표준 관찰자(CIExyY-2°)를 사용한 CIExyY 색 공간의 색도도를 나타낸다.
도 1b는 도 1a의 확대된 상세를 나타낸다.
도 2는 380 내지 780 nm의 전체 가시 스펙트럼 범위에서 실시예 1("스피넬", 실선) 및 실시예 5("MoSiOx", 짧은 파선) 및 본 발명의 SiC 코팅("SiC", 긴 파선)의 스펙트럼 반사율을 나타낸다.
도 3은 횡단면에서 본 발명의 커버 패널(3)을 갖는 장착 물품 또는 장비의 물품(1)의 한 실시양태의 개략도를 포함한다.
도 1b는 도 1a의 확대된 상세를 나타낸다.
도 2는 380 내지 780 nm의 전체 가시 스펙트럼 범위에서 실시예 1("스피넬", 실선) 및 실시예 5("MoSiOx", 짧은 파선) 및 본 발명의 SiC 코팅("SiC", 긴 파선)의 스펙트럼 반사율을 나타낸다.
도 3은 횡단면에서 본 발명의 커버 패널(3)을 갖는 장착 물품 또는 장비의 물품(1)의 한 실시양태의 개략도를 포함한다.
본 발명의 문맥에서, 주방 또는 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품은 그의 특정 설계와 상관없이 일반적으로 하나의 주방 또는 실험실 가구 또는 바람직하게는 전기적으로 작동되는 주방 또는 실험실 기구를 의미하는 것으로 이해된다. 주방 또는 실험실 가구는 특히 그의 상부 면에 작업대가 있는 찬장과 테이블을 의미하는 것으로 이해된다. 주방 기구 예컨대 조리 기구, 냉장고, 마이크로파 기구, 그릴, 베이킹 오븐, 스팀 쿠커(steam cooker), 토스터 또는 익스트랙터 후드는 개인 또는 전문 부문으로 설계될 수 있다. 물품은 마찬가지로 별개로 배열된 제어 패널일 수 있으며, 이를 통해 사용자는 그로 인해 가동 가능한 하나 이상의 기구를 작동시킬 수 있다. 본 발명의 기구는 예를 들어 주방 또는 실험실 가구에 내장될 수 있거나 또는 독립형일 수 있다. 실험실 기구는 또한 오븐, 클라이메이트 챔버(climate chamber), 냉장고 또는 핫 플레이트가 포함된다.
원칙적으로, 본 발명은 광학 성질에 대한 전술한 요구가 충족된다면 특정 유형의 유리 또는 유리 세라믹에 제한되지 않는다. 그러나 주방 및 실험실의 모든 형태의 장착 물품 및 장비의 물품에 대하여, 열 순환 안정성은 특히 중요한 매개 변수이다. 특히 쿡탑, 핫플레이트, 오븐, 열분해 기능을 갖춘 베이킹 오븐, 마이크로파 또는 그릴과 같이 사용시에 고온이 생성되는 기구의 부품에 대하여 특히 높은 요구 사항이 적용 가능하다. 그러나 이들은 뜨겁거나 매우 차가운 물품 또는 액체와 접촉하게될 위험이 항상 있으므로 사용된 물질이 열적으로 안정한 경우 주방 또는 실험실의 거의 모든 다른 영역에서도 또한 유리하다. 이러한 접촉의 경우, 국부적으로 제한된 영역에서 온도의 매우 급격한 변화가 있으며, 이것은 특히 취성 파괴가 발생하기 쉬운 물질, 예컨대 유리 및 유리 세라믹의 경우 특히 파괴로 급속하게 이어질 수 있는 물질에서의 응력을 유도한다.
매우 양호한 열 안정성을 달성하는 가장 효과적인 방식은 유리 또는 유리 세라믹 기재가 20℃ 내지 300℃, 바람직하게는 20℃ 내지 700℃의 온도 범위에서 ±2.5×10-6/K 이하, 바람직하게는 ±1.5×10-6/K 이하의 ISO 7991에 따른 선형 열 팽창 계수 CTE를 갖는 것이다. 최대 ±2.5×10-6/K의 CTE는 여기에서 적어도 -2.5×10-6/K 및 최대 +2.5×10-6/K의 CTE를 의미하는 것으로 이해된다. 특히 유리 세라믹의 경우, 이 온도 범위 내의 CTE는 또한 음의 값을 가질 수 있다. 이러한 낮은 열 팽창 계수의 경우, 큰 온도 구배라도 기재에서 응력의 구축을 유도하지 않는다. 이 값은 예를 들어, 석영 유리 또는 리튬 알루미늄 실리케이트 유리 세라믹(LAS 유리 세라믹), 예를 들어 쇼트 아게(SCHOTT AG)의 세란(CERAN)® 상표에 의해 달성된다.
유리 또는 유리 세라믹의 CTE의 크기가 더 높을수록 및 사용 중에 가능하게 발생하는 온도 구배가 더 클수록, 응력 유도 파괴의 위험이 더 높아진다. 이는 유리 또는 유리 세라믹이 열적으로 또는 화학적으로 템퍼링됨으로써 상쇄될 수 있다. 이러한 템퍼링은 열 응력을 상쇄시키는 유리 표면에서의 압축 응력을 발생시킨다.
경제적인 이유로 열 템퍼링이 여기에서 특히 바람직하다. 그러나 기술적인 이유로, 이는 적어도 2 mm의 두께와 3.5 x 10-6/K 초과의 CTE를 갖는 유리의 경우에만 수행될 수 있다. 또한, 열 템퍼링에 대하여, ISO 7884-8 또는 DIN 52324로 측정된 유리의 유리 전이 온도 Tg는, 종래의 템퍼링 오븐으로의 템퍼링이 약 10 MPa 초과의 충분히 높은 템퍼링 값을 달성할 수 있도록 하기 위해, 특히 CTE가 3.5 내지 6×10-6/K인 유리의 경우, 약 650℃의 값을 초과해서는 안 된다.
20 내지 300℃에서 6×10-6/K 초과의 CTE를 갖는 유리는 일반적으로, 즉 심지어 템퍼링된 형태에서도, 주방 및 실험실에서 사용하기에 바람직하지 않다. 유리 또는 유리 세라믹 기재는 그러므로 바람직하게는 본 발명의 물품에 대하여, 20 내지 300℃에서 6×10-6/K 이하의 CTE를 갖는다. 더 높은 CTE를 갖는 유리, 예를 들어 약 9×10-6/K의 CTE를 갖는 소다 석회 유리는 일반적으로 효율적으로 열 템퍼링될 수 있다. 그럼에도 불구하고, 달성 가능한 템퍼링 값은 높은 열 응력 하에 큰 열 팽창의 결과로서 발생하는 응력을 보상할 수 있기에는 불충분하다. 열적 및 화학적으로 모두 템퍼링된 유리 기재에 대해, 오랜 기간에 걸친 고온에서의 응력에 의해 템퍼링이 저하된다는 점에 유의하여야 한다. 유리의 Tg가 낮아질수록, 이러한 저하는 더 신속하게 진행된다. 그러므로 주방 및 실험실에 사용하기 위한 템퍼링된 유리는 바람직하게는 적어도 500℃, 더 바람직하게는 적어도 550℃의 Tg를 갖는다. 따라서 20 내지 300℃에서 1.5×10-6/K의 CTE를 갖는 유리 세라믹 또는 20 내지 300℃에서 3.5 내지 6×10-6/K의 CTE 및 500 내지 650℃, 특히 550 내지 650℃의 Tg를 갖는 유리를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
열 안정성과 마찬가지로 매우 중요한 요소는 산 및 알칼리에 대한 유리 또는 유리 세라믹 기재의 화학적 안정성이다. 실험실에서, 이것은 일반적으로 화학 물질 의 취급; 주방에서, 특히, 세정 제품 및 식품 구성 성분에 대한 내성이 중요하기 때문에 유리하다. 특히 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 산화물을 기준으로 10 중량% 초과의 높은 비율을 갖는 유리, 예를 들어 소다 석회 유리는 그러므로 주방 및 실험실에서 사용하기에 바람직하지 않다.
커버링 수단이 적어도 광 투과율, 반사율에서의 색 궤적 및 투과에서의 색 효과에 대한 요구를 이행한다면, 유리 또는 유리 세라믹 기재는 부가적으로 또한 착색될 수 있다.
착색된 물질은 어떤 종류 이건 상관없이, 그의 조성으로 인해 최대 80%의 광 투과율을 갖도록 투과된 광을 흡수하는 임의의 물질을 의미하는 것으로 이해된다. 따라서, 착색된 물질은 이들의 조성에 착색 또는 흡수하는 구성 성분을 함유한다. 이들은 예를 들어, 염료, 안료 또는 다른 착색 화합물일 수 있다. 대조적으로, 물질은 80% 초과의 고유 광 투과율을 가지면 착색된 것으로 간주되지 않지만, 이들의 표면상에 착색, 예를 들어 착색된 코팅이 있다.
DIN EN 410에 따른 D65 표준 광원 광을 사용하여 380 nm 내지 780 nm의 파장 범위에서 광 투과율이 결정된다.
본 발명의 커버 패널의 코팅은 광 투과율 및 반사율에서 커버 패널의 색 궤적을 조정하는 역할을 하며, 투과된 광에 대한 색 효과에 영향을 미친다.
유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅은 함께 1% 내지 70%의 광 투과율을 갖는다. 광 투과율은 따라서 적어도 1% 및 최대 70%이다. 광 투과율은 바람직하게는 사용되는 조명 엘리먼트에 대해 적절하게 선택된다. 예를 들어, 디스플레이 엘리먼트에 대하여, 적어도 5% 및 최대 70% 범위의 광 투과율이 바람직하다. 바람직하게는, 디스플레이 엘리먼트의 사용용 커버 패널은 적어도 9%, 더 바람직하게는 적어도 15%, 더욱 더 바람직하게는 적어도 20%, 및 최대 55%, 더 바람직하게는 최대 45%, 더욱 더 바람직하게는 최대 40%의 광 투과율을 갖는다. 광 투과율은 따라서 예컨대 하기 범위 중 하나에 속할 수 있다: 5-70%, 5-55%, 5-45%, 5-40%, 9-70%, 9-55%, 9-45%, 9-40%, 15-70%, 15-55%, 15-45%, 15-40%, 20-70%, 20-55%, 20-45% 또는 20-40%.
환경의 명도(brightness)에 따라, 양호한 지각성(perceptibility)을 보장하기 위해, 설치된 물품의 외부에 있는 디스플레이 엘리먼트의 휘도는 대략 100 내지 200 cd/m2 이어야 한다. 커버 패널의 광 투과율이 5%인 경우, 예를 들어 외부에서 100 cd/m2의 휘도를 생성하기 위해 2000 cd/m2의 휘도를 갖는 디스플레이 엘리먼트가 필요하다. 70%의 광 투과율의 경우, 심지어 약 140 cd/m2의 휘도를 갖는 디스플레이 장치는 외부에서 약 100 cd/m2를 달성하기에 위해 충분하다.
디스플레이 엘리먼트의 영역에서 분리 엘리먼트의 더 높은 광 투과율은 디스플레이 엘리먼트가 더 낮은 휘도 및 그에 따른 더 낮은 에너지 소비로 작동될 수 있기 때문에 시스템의 에너지 효율에 포지티브 효과를 갖는다. 그 외에도, 더 낮은 최대 휘도를 갖는 디스플레이 엘리먼트는 또한 입수 비용도 저렴하다.
더 밝은 조명 엘리먼트를 사용하는 경우, 기재 및 코팅의 더 낮은 광 투과율도 또한 유리할 수 있다. 특히, 밝은 LED 조명 수단 또는 비교적 밝은 조명 수단을 사용하는 경우, 1% 내지 5%, 바람직하게는 1% 내지 3%, 특히 1% 내지 2% 범위의 투과율이 유리할 수 있다.
코팅은, 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서, 흑색 트랩에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정시, 좌표 20 내지 65의 L*, -6 내지 6의 a*, 및 -6 내지 6의 b*인 CIELAB 색 공간에서의 색 궤적을 갖는다. 바람직한 실시양태에서, 코팅은 좌표 22 ≤ L* ≤ 35, 바람직하게는 25 ≤ L* ≤ 30, 더 바람직하게는 26 ≤ L* ≤ 28, -4 ≤ a* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ a* ≤ 2, 및 -4 ≤ b* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ b* ≤ 2의 색 궤적을 갖는다. 이러한 색 궤적은 일반적으로 관찰자에 의해 흑색 또는 적어도 암색으로 인지되며, 이는 심미적인 이유로 인해 장착 물품 및 장비의 물품에 바람직하다.
또 다른 바람직한 실시양태에서, 코팅은 좌표 45 ≤ L* ≤ 65, 바람직하게는 50 ≤ L* ≤ 60, 더 바람직하게는 54 ≤ L* ≤ 59, -4 ≤ a* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ a* ≤ 2, 및 -4 ≤ b* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ b* ≤ 2의 색 궤적을 갖는다. 이러한 색 궤적은 일반적으로 관찰자에 의해 회색으로 인지되며, 특히 스테인레스강 엘리먼트를 포함하는 장착 물품 및 장비의 물품에 대해 심미적인 이유로 선호된다.
상응하는 L* 값에 관계없이, 6 초과의 |a*|의 크기 및/또는 6 초과의 |b*|의 크기를 갖는 색 궤적은 명백히 유채색으로 인지되며, 이것은 장착 물품 및 장비의 물품에 대해 바람직하지 않다.
65 미만 및 특히 35 미만의 L* 값을 갖는 코팅은 비교시 전반적으로 광을 덜 반사하는 더 높은 L* 값을 갖는 코팅보다 부가적으로 유리한 점을 갖는다. 결과적으로, LED 또는 디스플레이와 같이 커버 패널 아래 또는 뒤에 장착된 조명 엘리먼트는 명암, 즉 조명 엘리먼트의 투과된 명도와 주변 광의 반사된 명도 사이의 비가 더 크기 때문에 외부에서 관찰자에 의해 더 잘 인지될 수 있다. 이것은 전형적인 경우에서와 같이, 예를 들어 주방 및 실험실에서의 작업장 조명의 경우, 밝은 주변 조명을 갖춘 장착 물품 및 장비의 물품의 전형적인 설치 상황에서 특히 유리하다. 이러한 방식으로, 이러한 물품의 사용자 편의성 및 사용자 안전성을 향상시키는 것도 또한 가능하다. 이는 전형적으로 70 초과의 L* 값을 갖는 예를 들어 티타늄 또는 규소의 스퍼터링된 금속 층과 비교할 때 특히 유리하다.
대안적으로, 더 밝은 색 궤적을 갖는 코팅의 경우에서와 같이 동일한 명암이 주어지면, 더 적은 광을 방출하는 조명 엘리먼트를 선택하는 것이 가능하며, 이는 유리한 생산 비용 및 시스템의 에너지 효율 향상에 기여한다.
이들 색 좌표는 코팅을 흑색 트랩 측에 배치하고 기재를 측정 기기 측에 배치하도록 하여 흑색 트랩 상에 커버 패널을 놓음으로써 측정된다. 그 후 색 궤적은 D65 표준 광원, 10°표준 관찰자를 사용하는 상업용 색채계, 예를 들어 코니카 미놀타 CM-700d 스펙트럼광도계를 사용하여 반사율을 측정한다. 사용된 흑색 트랩은 예를 들어 코니카 미놀타의 CM-A511 흑색 유리 타일일 수 있다. 이러한 맥락에서 표현 "흑색 트랩에 대한 측정"은 측정될 샘플이 측정 기기와 흑색 트랩 사이에 배치된 것을 의미한다.
또한, 본 발명의 커버 패널은 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 통과한 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적은, 하기 좌표에 의한, 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W1 내에 있는 것을 특징으로 한다:
백색 영역 W1은 여기에서 색 온도가 약 2750K 내지 약 1,000,000K 범위인 CIExyY 색 공간에서의 흑체 곡선을 따르는 영역으로 결정되고, 흑체 곡선에 대하여 상한에서 약 y = 0.04의 값으로 상향 이동되고 하한에서 약 y = 0.07로 하향 이동된다. 이 결과는 하기 효과이다: 정의에 의하면 D65 표준 광원으로부터의 광은 약 6500K의 색 온도를 가지며, 2°관찰자가 직접 관측할 때, x = 0.31 및 y = 0.33의 색 궤적을 갖는다. 본 발명에 의하면, 따라서 커버 패널을 통해 광의 통과시, 원하지 않는 색조를 발생시킴이 없이 더 높거나 또는 더 낮은 색 온도로 본질적으로 흑체 곡선을 따라 광의 색 궤적을 이동시키는 것이 가능하다. 따라서 통과한 후 백색광은 여전히 백색광으로 인지된다.
기재 및 코팅을 통과한 후의 광의 색 궤적은 적합한 색채계, 예를 들어 코니카 미놀타 CS-150 색채계의 수단에 의해 측정할 수 있다.
디스플레이와 같은 디스플레이 장치는 전형적으로 예를 들어 5000K, 6500K 또는 9300K의 색온도를 갖는 백색광을 방출하도록 조정된다. 따라서, 본 발명의 물품은 임의의 추가 조정에 대한 필요없이 상업용 디스플레이로, 물품의 외부에서 디스플레이에 의해 방출되는 광의 디스플레이에 대하여 바람직한 색 궤적의 생성을 가능하게 한다.
코팅이 투과된 광 영역에서 절단부(cutout) 또는 개구부를 가질 때 이러한 이동은 달성될 수 없다. 그러므로 바람직한 실시양태에서, 코팅은 광이 장착 물품 또는 장비의 물품에 설치된 상태에서 커버 패널을 통과하는 영역에서 개구부를 갖지 않는다. 이것은 또한 특히 이러한 개구부가 커버 패널의 아래 또는 뒤에 배치된 디스플레이의 픽셀과 유사한 크기, 수 및 위치를 가질 때, 모아레 효과를 발생하고/하거나 다수의 개구부를 통해 볼 때 나타난 화상, 심볼 또는 기호는 픽셀화된 외관을 가지므로 표시할 수 있는 화질의 감소를 유도하기 때문에 유리하다.
심지어 이들의 크기에 관계없이, 개구부는 투과된 광 영역에서 원하지 않는데, 그 이유는 상기 언급된 것보다 코팅에서의 더 큰 개구부는 커버 패널의 아래 또는 뒤에 배치된 부품이, 불리한 점인, 외부의 사용자에게 명확하게 보이게 되는 효과를 갖기 때문이다.
바람직한 실시양태에서, 분리 엘리먼트는 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 통과한 후에 D65 표준 광원 광의 색 궤적이 하기 좌표에 의한, 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W2 내에 있는 것을 특징으로 한다:
백색 영역 W2는 여기에서 색 온도가 약 3500K 내지 약 20 000K 범위인 CIExyY 색 공간에서의 흑체 곡선을 따르는 영역으로 결정되고, 흑체 곡선에 대하여 상한에서 약 y = 0.025의 값으로 상향 이동되고 하한에서 약 y = 0.04로 하향 이동된다. W1과 비교하여, 이 영역은 따라서 흑체 곡선의 더 짧은 섹션을 따라 확장되며 흑체 곡선으로부터 x 및 y 좌표에서 더 작은 편차를 갖는다. 그러므로 이러한 커버 패널을 통과하는 백색광은 본 발명의 물품의 외부에서 특히 백색 및 이에 따라 무채색으로 인지된다.
특히 바람직한 실시양태에서, 분리 엘리먼트는 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅을 통과한 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적이 하기 좌표에 의한, 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W3 내에 있는 것을 특징으로 한다:
백색 영역 W3은 여기에서 CIExyY 색 공간에서의 흑체 곡선을 따르는 영역으로 결정된다. 이 범위는 색 온도 약 3500K에서 약 6500K로 확장된다. 이것은 상한 및 하한에서 백색 영역 W2에 상응한다. 차이는 단지 두 소수점 이하 자릿수로 좌표를 반올림한 결과로 발생한다. 따라서 이 범위는 W2와 비교하여 흑체 곡선의 더 짧은 섹션을 따라 확장된다. 백색 영역 W3의 색 궤적은 특히 중성 백색인 것으로 인지된다.
이것은 놀랍게도 코팅 및 기재의 투과 프로파일을 보상하는 흑체 보상 필터를 사용하지 않고도 본 발명에 의해 가능하다. 본 발명의 문맥에서, 흑체 보상 필터는 D65 표준 광원 광이 흑체 보상 필터, 기재 및 코팅을 통과한 후, 백색 영역 W1, W2 또는 적절하다면 W3 내의 좌표를 갖는 색 궤적을 갖도록 하는 기재 및 코팅의 투과 스펙트럼에 매치된 투과 스펙트럼을 갖는 광학 필터를 의미하는 것으로 이해된다.
본 발명에 따라, D65 표준 광원 광은 분리 엘리먼트를 통과한 후, 이미 이 영역에서 색 궤적을 가지고 있기 때문에 이러한 필터는 불필요하다. 예를 들어, 영역 W1, W2 및 W3 중 하나의 영역 내에서, 투과된 D65 광원 광을 위한 분리 엘리먼트의 상이한 영역이 상이한 색 궤적을 생성하는 경우, 이러한 필터는 그럼에도 불구하고 임의로 기재와 디스플레이 엘리먼트 사이에 배치될 수 있다.
흑체 보상 필터는 인쇄된, 적용된, 프레스된 또는 상응하게 배열된 층, 필름 또는 시트의 형태를 취할 수 있다. 물품의 내부에서 방출된 백색광을 외부의 사용자에게 착색된 외관, 예를 들어, 청색, 적색, 녹색 또는 임의의 다른 색을 갖는 외관으로 제공하기 위해, 예를 들어 다른 색 보정 필터가 또한 고려될 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 코팅된 유리 또는 유리 세라믹 기재는 630 nm의 파장에서 적어도 2%, 바람직하게는 적어도 4%, 더 바람직하게는 적어도 10%의 투과를 갖는다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 470 nm의 파장에서 투과는 적어도 1%, 바람직하게는 적어도 2%이다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 코팅된 유리 또는 유리 세라믹 기재를 포함하는 커버 패널은 바람직하게는 기재 코팅과 산란 또는 확산기 층 사이의 적어도 하나의 커버 층 및 커버 층 내에 적어도 하나의 절단부가 있는, 기재의 코팅 아래 또는 뒤에 배치된 적어도 하나의 산란 또는 확산기 층을 포함하며 바람직하게는 적어도 하나의 조명 수단이 아래에 제공된다.
산란 및 확산기 층은 또한 임의로 착색된 형태로 또한 수행될 수 있다. 착색된 산란 및 확산기 층은 동시에 확산기 및 광학 필터로서 기능할 수 있다.
이러한 산란 또는 확산기 층은 예를 들어 1 내지 15 μm의 두께를 가질 수 있다. 이들은 착색되지 않은 산란 입자, 예를 들어 TiO2 , SiO2, Al2O3, ZrO2 또는 다른 금속 산화물을 함유할 수 있다. 이러한 입자의 평균 크기는 1 μm 미만일 수 있다. 바람직하게는, 산란 또는 확산기 층은 생성된 휘도의 높은 균일성, 낮은 입도 및 높은 명도를 갖는다. 이것은 사용자에게 매우 만족스러운 매우 균일하게 조명된 영역의 지각을 초래한다.
바람직한 실시양태에서, 유리 또는 유리 세라믹 기재는 코팅과 함께 적외선 스펙트럼 영역에서 높은 투과를 갖는다. 이는 본 발명의 물품 내부에 적외선 검출 센서의 위치 설정 또는 적외선 원과 같은 복사 가열 엘리먼트의 사용을 가능하게 한다. 센서 또는 가열 엘리먼트에 따라, 특정 스펙트럼 영역 내의 투과는 여기에서 유리하다.
보고된 투과 값은 울브리히트(Ulbricht) 구를 사용하여 측정된 샘플의 전체 투과에 관한 것이다. 이 측정을 위해, 샘플은 적합한 광원과 울브리히트 구의 입구에서 울브리히트 구 사이에 위치하며, 이와 같이 하여 코팅이 울브리히트 구 측에 배열된다. 빔 경로에 대해 90°의 각도로 측 방향으로 배열된 울브리히트 구의 출구에서, 투과된 광 성분을 검출하기 위한 적합한 센서가 장착된다. 이 측정 배열은 광의 직접적으로 투과된 성분과 산란적으로 투과된 성분 모두를 검출한다.
예를 들어 ST 마이크로일렉트로닉스의 VL6180X와 같이 제스처 제어 또는 접근 인식을 위한 비접촉식 입력 장치를 위한 비행 시간 센서에 사용되는 규소 기재 적외선 센서의 경우, 850 nm 내지 1000 nm 사이의 스펙트럼 범위가 특히 관련이 있다. 이 범위에서, 커버 패널은 바람직하게는 적어도 하나의 파장에서, 이러한 센서를 사용할 수 있도록 하기 위해 적어도 3%, 바람직하게는 적어도 10%, 더 바람직하게는 적어도 30%의 투과를 갖는다. 특히 제스처 제어를 위해, 제스처가 그 후 커버 패널의 외부로부터 더 먼 거리에서 검출될 수 있기 때문에 높은 투과가 유리하다. 규소 기재 적외선 센서에 대한 다른 적용은 예를 들어 원격 제어기로부터의 신호 수신기 또는 광학 데이터 전송을 위한 통신 인터페이스이다.
InGaAs 기반 적외선 검출기는 특히 1 내지 2 μm 범위 내에서 민감하다. 커버 패널은 절단부의 영역내에서, 적어도 하나의 파장, 바람직하게는 1500 nm의 파장에서, 적어도 30%, 바람직하게는 적어도 45%, 더 바람직하게는 적어도 60%의 투과를 가질 때 이러한 검출기의 사용에 적합하다.
복사 가열 엘리먼트의 최대 방출은 빈의 변위 법칙(Wien's displacement law)에서 찾아 볼 수 있으며, 100℃ 내지 1000℃의 온도에서 7.8 μm 내지 2.3 μm이다. 에너지 효율의 이유 및 복사 가열 엘리먼트에 의한 커버 패널의 과도한 가열을 방지하기 위해, 적어도 하나의 파장에서 3.25 μm 내지 4.25 μm 범위의 커버 패널은 적어도 10%, 바람직하게는 적어도 20%, 더 바람직하게는 적어도 30%의 투과를 갖는다. 이러한 스펙트럼 범위에서, 커버 패널의 투과가 구체화된 최소 요구에 부합할 때, 예를 들어 고온 조리 또는 실험실 용기인 외부에서 고온 물체의 온도를 측정하는 물품 내부에 배치된 볼로미터 또는 열 컬럼을 사용하는 것도 또한 가능하다.
바람직한 실시양태에서, 유리 또는 유리 세라믹 기재의 두께는 2 mm 내지 12 mm, 바람직하게는 3 내지 8 mm, 더 바람직하게는 3 내지 6 mm이다. 기재의 두께는 여기에서 본질적으로 기계적 안정성 및 중량에 대한 요구에 의해 필수적으로 제한된다. 2 mm보다 더 얇은 유리는 경제적으로 정당화할 수 있는 비용에서 목적을 위해 요구되는 냉각 속도를 달성할 수 없기 때문에 기술적인 이유로 실제 열적으로 템퍼링될 수 없다. 또한, 기재의 두께가 그것의 광학 성질에 영향을 미칠 수 있다는 것을 주목해야 한다. 각각의 경우, 두께는 언급된 투과 한계를 준수하도록 선택되어야 한다.
임의로, 기재는 또한 하나 또는 그 이상의 절단부를 가질 수 있다. 이러한 절단부는 예를 들어 다운 드래프트 흄 후드(down-draft fume hood) 또는 파이프라인을 위한 부싱을 수용하기 위해 제공될 수 있다.
마찬가지로 임의로, 기재는 엣지 정교화(edge elaboration), 예를 들어 패싯(facet) 또는 펜슬 마무리가 있을 수 있다.
또한, 기재는 일면 또는 양면에 특정 표면 성질을 가질 수 있다. 이것은 예를 들어 연마 또는 조면화된 것일 수 있다. 이러한 방식으로, 예를 들어 광학 성질, 특히 기재의 광학 산란을 구체적으로 조정하는 것이 가능하다. 마찬가지로 기재 표면상의 코팅의 결합을 향상시키기 위해 연마(polishing) 또는 조면화(roughening)가 가능하다. 대안적으로 또는 추가적으로, 기재는 또한 표면 성질의 조정을 위해 코팅을 가질 수 있다. 이러한 코팅은 예를 들어, 반사 방지 코팅, 눈부심 방지 코팅, 및 소수성 또는 친수성 코팅을 포함한다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 코팅은 4점 측정으로 측정된 1000 V의 시험 전압에서 적어도 1 kΩ/□, 바람직하게는 적어도 0.5 MΩ/□, 더 바람직하게는 적어도 2 MΩ/□의 시트 저항을 갖는다. 이러한 높은 시트 저항은 특히 용량식 터치 센서(capacitative touch sensor)가 커버 패널의 아래 또는 뒤에 배치되는 것을 가능하게 하며; 기생 용량(parasitic capacitance)에 기인 한 코팅의 더 높은 전도성의 경우에 이의 사용은 감도가 상당히 감소 된 경우에만 가능할 것이다. 코팅의 적절하게 높은 전기 저항이 주어지면, 이러한 루프에 의해 생성된 교번 자기장이 코팅에 의해 약화되거나 산란되지 않기 때문에, 커버 평면 아래 또는 뒤에서 인덕션 루프의 사용은 또한 이러한 방식으로 가능하다. 자기 교번 장의 산란은 예를 들어 1kΩ/□ 미만의 저항 및 자기장의 침투 깊이보다 더 낮은 층 두께를 갖는 층의 경우 발생하며, 전체 시스템의 불량한 전자기 적합성을 유도한다. 인덕션 루프는 예를 들어 가열 엘리먼트 또는 무선 에너지 전달로서 제공될 수 있다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 코팅은 적어도 50 nm, 바람직하게는 적어도 100 nm, 더 바람직하게는 적어도 200 nm, 및 최대 2 μm, 바람직하게는 최대 1 μm, 더 바람직하게는 최대 500 nm의 층 두께를 갖는다. 기재상의 50 nm 미만의 층 두께는 충분한 두께의 균일성을 갖는 전체 영역에 걸쳐서 매우 높은 복잡도만을 갖는 장착 물품 또는 장비의 물품용 커버 패널에 요구되는 바의 크기로 생성될 수 있음이 밝혀졌다. 그러므로 50 nm 미만의 층 두께는 제조 조건하에서 비경제적으로 높은 제조 폐기물을 유도한다. 2 μm 초과의 층 두께는 또한 더 얇은 층과 비교하여 증가된 재료 소비 및, 상기 방법에 따라, 또한 더 긴 제조 시간과 관련되기 때문에 경제적으로 불리하다. 고정된 물질계의 경우, 층 두께는 코팅의 광학 성질을 조정하기 위해 상응하게 적용될 수 있다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 코팅은 380 내지 780 nm 파장 범위에서 최대 10%, 바람직하게는 최대 8%의 최대 스펙트럼 반사율 R(λ)을 갖는다. 더 바람직하게는, 코팅은 380 내지 780 nm의 파장 범위에서 최대 10%, 바람직하게는 최대 8%의 최대 스펙트럼 반사율을 갖는다. 설치된 상태에서 10% 초과의 가시광에 대하여 평균한 스펙트럼 반사율을 갖는 코팅을 갖는 커버 패널은, 주변 광을 유의하게 반사하여 주변 광의 낮은 명도의 경우에서 조차, 코팅의 흑색 인상(impression)이 파괴된다는 것이 밝혀졌다.
더욱이, 낮은 반사율은 또한 조명 엘리먼트, 특히 디스플레이 엘리먼트, 예컨대 디스플레이가 커버 패널 아래 또는 뒤에 배치되는 경우 유리하다는 것이 밝혀졌다. 10% 초과의 평균 반사율의 경우, 주변 광에 따라, 스위치 온 상태에서 이러한 디스플레이의 가시성이 크게 감소될 수 있다. 이것은 특히 낮은 명도의 조명 엘리먼트 및/또는 낮은 광 투과율의 층이 사용될 때 그러하다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 380 내지 780 nm 파장 범위에서 코팅의 최저 스펙트럼 반사율에 대한 최고 스펙트럼 반사율의 비는 최대 5, 바람직하게는 최대 3, 더 바람직하게는 최대 2의 값을 갖는다. 이상적인 경우, 비는 1 또는 적어도 1과 1.5 사이의 값 또는 심지어 1과 1.2 사이의 값이다. 이러한 코팅의 플랫 프로파일은 흑색 효과의 또 다른 개선을 달성한다는 것을 밝혀냈다. 특히 10%에 가까운 비교적 높은 평균 반사율의 경우에, 5 초과의 비는 설치된 상태에서 주변 광의 거울 반사가, 측정된 코팅의 색 궤적이 상술한 한도 내에 있을 때조차, 색의 관점에서 파괴적인 것으로 인지될 수 있는 효과를 갖는다.
스펙트럼 반사율 R(λ)은, 예를 들어 퍼킨엘머 람다 850 UV/VIS 스펙트럼광도계를 사용하여 측정이 기재를 통해 수행되지 않도록 기기에 샘플을 놓음으로써 측정될 수 있다. 측정을 위해서, 코팅은 따라서 측정 센서와 직면하는 기재의 측면 상에 배치한다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅은 함께 5% 미만, 바람직하게는 2% 미만, 더 바람직하게는 1% 미만의 헤이즈를 갖는다. 표준 ASTM D1003에 따라, 헤이즈는 샘플 상에 입사하는 CIE-C 광원의 광의 광학 축에 대해 2.5°초과의 각도로 산란에 의해 편향된 샘플을 통해 투과된 광의 비율을 의미하는 것으로 이해된다. 헤이즈는 예를 들어, 표준 ASTM D1003에 따라 BYK 헤이즈가드 기기로 측정될 수 있다. 최대 5%의 헤이즈에서, 따라서 투과된 광의 광각 산란이 단지 약간 있다. 이는 5% 초과의 헤이즈가 화질, 특히 화상 선명도에 악영향을 미치기 때문에 디스플레이 또는 프로젝터와 같은 디스플레이 장치가 커버 패널의 아래 또는 뒤에 배치될 때 특히 유리하다.
전체 투과를 감소시키는 수단은 추가적으로 물품의 내부와 직면하는 커버 패널의 측면 상에 배치될 수 있다. 이러한 수단은 외부 영향, 특히 기계적 응력에 의한 손상으로부터 보호하기 위해, 내부와 직면하는 측면 상에 배치된다. 이러한 수단은 유리 또는 유리 세라믹 기재, 필름, 자기 지지용 캐리어 물질, 예를 들어 운모 또는 섬유 물질과 같은 시트 실리케이트를 함유하는 유리, 플라스틱 또는 절연 물질의 시트 또는 필름상의 코팅일 수 있다.
이러한 전체 투과율을 감소시키는 수단은 특히 기재 및 코팅의 광 투과율이 함께 2%를 초과하는 경우에 바람직하게 사용된다. 이러한 방식으로, 커버 패널의 충분한 불투명도를 확보하는 것이 가능하다. 여기에서 이러한 수단의 광 투과율을 커버 패널의 광 투과율과 매치시키는 것이 유리하다. 유리하게는, 커버 패널의 광 투과율이 높을수록 전체 투과를 감소시키는 수단의 광 투과율은 더 낮아질 것이다. 기재, 코팅 및 전체 투과를 감소시키는 수단의 전체 투과율이 6%, 특히 4%, 매우 특히 2%를 초과하지 않을 때 유리하다.
조명 엘리먼트가 커버 패널의 아래 또는 뒤에 배치되는 경우, 전체 투과를 감소시키는 수단은 바람직하게는 방출된 광이 커버 패널을 통과하는 영역에서 적어도 하나의 절단부를 갖는다.
전술한 요구를 충족시키는 코팅은 바람직하게는 스피넬 또는 서멧을 함유한다. 또한, 이들은 탄화물 또는 탄질화물을 함유할 수 있다. 이들은 바람직하게는 이들 물질 중 하나로 구성된다. 이들 코팅은 스퍼터링의 수단에 의해 제조될 수 있다.
스피넬은 광물학에서 세라믹 고형물로 공지되어있다. 본 발명자들은 놀랍게도 첨가된 산소의 양에 따라 산소의 화학양론적 첨가로 금속 타겟으로부터 반응적으로 스퍼터링된 형태의 합금으로서의 산화물 스피넬이 35 미만의 매우 낮은 L* 값 그렇지 않으면 50-65의 높은 L* 값을 갖는다는 것을 밝혀냈다. 이러한 방식으로, 원칙적으로 암색상을 생성하거나 그렇지 않으면 낮은 전기 전도도를 동시에 갖는 밝은 반사 색상의 회색을 생성하는 것이 가능하다. 여기에서 회색 색상은 50 < L* < 65, -5 < a* < 5 및 -5 < b* < 5 범위의 색 좌표를 가질 수 있다. 또한, 이들은 스펙트럼 반사율의 플랫 프로파일을 가질 수 있다. 가시 스펙트럼 영역에서 가장 작은 반사율에 대한 가장 큰 반사율의 비는 1.5 미만일 수 있다. 여기에서 평균 반사는 약 33%일 수 있다. 이러한 층의 투과 프로파일은 또한 플랫할 수 있으므로, D65 표준 광원 광은 이러한 코팅을 통과한 후, 백색 영역 W1 내에 있다.
780 내지 약 4500 nm의 파장 영역에서, 스피넬의 코팅은 30% 초과 또는 심지어 50% 초과, 최대 80% 초과의 높은 스펙트럼 투과율을 가질 수 있다. 본질적으로, 스피넬 코팅이 있는 커버 패널의 경우 적외선 스펙트럼 영역에서 스펙트럼 투과율은 코팅이 아닌 사용된 기재에 의해 제한된다. 예를 들어 쇼트 아게의 세란 클리어트란스(CERAN CLEARTRANS)® 상표의 무색 투명한 LAS 유리 세라믹은 스피넬 코팅으로 약 3750 nm의 파장에서 40% 초과의 스펙트럼 투과율을 가질 수 있다. 따라서, 이러한 코팅은 커버 패널의 뒤 또는 아래에서 복사 가열 엘리먼트 또는 적외선 센서의 사용에 특히 적합하다. 시트 저항은 1000 V의 시험 전압에서 1.8 또는 3160 MΩ/□이다. 적합한 스피넬은 식 AxCuByDvEzFw의 조성을 가지며, 여기에서 A 및 C는 Cr2+; Mn2+, Fe2+, Co2+, Ni2+, Cu2+, Zn2+; Al3+, Sn2+/4+, Ti4+, Zr4+, 또는 란타나이드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된다. B 및 D는 Mn3+, Fe3+, Co3+, Ni3+, Cu3+, Al3+, Ga3+, Sn4+, Sc3+, Ti4+, Zn2+, 또는 란타나이드 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된다. E 및 F는 바람직하게는 S, Se 및 O의 2가 음이온 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택된다. x, u, y, v, z 및 w의 값은 하기 식을 만족한다:
0.125 < (x+u)/(y+v) ≤ 0.55 및
z+w = 4.
바람직하게는, 코팅은 미결정을 포함하며, 여기에서 적어도 95 중량%의 미결정은 스피넬 유형의 대칭 입방 결정 구조를 나타낸다.
중성색을 개선하기 위해, 기재와 스피넬 코팅 사이에 배치된 보상 층의 수단에 의해 층 시스템을 변형시키는 것이 가능하다. L* 값은 이에 의해 실질적으로 영향을 받지 않는다. 보상 층은 가시 스펙트럼에서 기재와 스피넬 코팅 사이에 이들의 굴절률을 갖는 물질, 예컨대, CeO2, HfO2, Y2O3, Si3N4, AlN, SiO2, Al2O3, AlTiOx, TiSiOx, SiOxNy, AlSiOxNy일 수 있다. 보상층으로서 화학양론적 변종을 사용하는 것도 또한 가능하다. 이러한 보상 층의 층 두께는 바람직하게는 25 내지 500 nm, 더 바람직하게는 35 내지 250 nm이다. 놀랍게도, 이러한 보상 층은 투과 특성이 아닌 반사율에서 코팅의 색 궤적만을 변화시킨다. 따라서, 이러한 보상 층은 흑체 보상 필터로서 작용하지 않는다.
바람직한 실시양태에서, 코팅은 알루미늄 스피넬, 크롬 스피넬, 철 스피넬, 티타늄 스피넬, 코발트 스피넬의 물질계 중 하나로 구성된 스피넬로 이루어진다. 더 바람직하게는, 코팅은 CoFeMnCr 스피넬로 이루어지며 임의로 SiOxNy의 보상층을 갖는다.
추가의 바람직한 실시양태에서, 코팅은 SiO2, Al2O3, ZrO2, TiO2 또는 이들의 혼합 산화물로 구성된 산화물 매트릭스와, Ti, Si, Al, Mo, Zr, Cu, Nb, Co, Cr, W, Ta, Ni, B 또는 이들 금속의 2종 이상의 합금으로 구성된 금속 성분과의 서멧으로 이루어진다. 본 발명의 문맥에서, 용어 "서멧"은 그 안에서 분산된 금속 성분과 산화물 매트릭스로 구성된 복합 물질을 의미하는 것으로 이해된다. 이러한 복합 물질을 함유하는 실시양태는 여기에서 특히 바람직한 데 그 이유는 이들이 금속 성분의 광학 성질을 매트릭스 물질의 낮은 전기 전도도와 조합하고 따라서 본 발명의 커버 패널의 코팅에 특히 양호한 적합성을 갖기 때문이다.
1-70%의 조정 가능한 광 투과율과 함께 > 20MΩ/□의 매우 높은 시트 저항을 가질 수 있다는 것은 이들 서멧 층 시스템의 특징일 수 있다. 이들 투과 영역에서, 낮은 L* 값을 갖는 매우 중성색 층을 생성하는 것이 가능하였다. 이에 대한 전형적인 값은 예를 들어 35% 광 투과율에서 L = 27이었다. 특히 > 20%의 높은 투과율에서 서멧 층 시스템은 +/- 2 범위 내에서 a* 및 b* 값을 갖는 색 궤적을 나타내며, 특정 경우에는 그보다 훨씬 아래이다. 35%의 광 투과율을 갖는 서멧 코팅의 평균 스펙트럼 반사율은 약 1.5의 가시 스펙트럼 영역에서 가장 작은 값에 대한 가장 큰 값의 비로 5%이었다. 이러한 층의 투과 프로파일은 매우 플랫인 것으로 밝혀졌으며, 이에 의해 D65 표준 광원 광은 코팅을 통과한 후, 백색 영역 W1 내에 있거나 또는 심지어 백색 영역 W2 내에 있었다. 780 내지 약 4500 nm 범위의 적외선 스펙트럼 영역에서, 이들 서멧 층 시스템은 단지 약한 흡수를 갖고, 이에 따라 여기에서도 또한 스펙트럼 투과율은 코팅에 의해서가 아니라 기재에 의해 제한된다. 시험된 서멧 층은 약 3750 nm의 파장에서 40% 초과의 투과율을 가졌다.
바람직한 실시양태에서, 산화물 매트릭스 및 금속 성분은 증가된 열 안정성을 갖도록 서로 매칭된다. 예를 들어, 샘플에 80시간 동안 380℃에서 응력을 가한 후 CIELAB 색 궤적을 측정하고 응력이 가해지지 않은 샘플과 측정값을 비교하여 열 안정성을 결정할 수 있다. 여기에서 특히 유리한 선택은 금속 산화물 매트릭스의 형성에 대해 높은 산소 친화성을 갖는 금속 및 서멧에서 금속 성분의 형성에 대해 더 낮은 산소 친화성을 갖는 금속의 물질 쌍이다. 금속 성분으로서의 Mo와 조합한 금속 산화물 매트릭스로서 SiO2 또는 Al2O3가 특히 바람직하다. Si 및 Al은 Mo보다 더 높은 산소 친화성을 가지며, 이는 SiO2 또는 Al2O3의 형성이 Mo 산화물보다 더 바람직하다는 것을 의미한다. 동시에, 매우 조밀한 층의 경우에, 산화물 매트릭스는 산화 장벽으로서 작용하며 산화로부터 Mo를 보호한다. 혼합 산화물, 특히 SiO2 및 Al2O3로 구성된 혼합 산화물도 또한 금속 산화물 매트릭스로서 사용하기에 적합하다.
바람직한 실시양태에서, SiO2가 산화물 매트릭스용으로 사용된다. 이 경우, 코팅에서 Mo:Si의 비는 중량%로 적어도 5:95, 바람직하게는 적어도 10:90, 더 바람직하게는 15:85 및 특히 20:80일 수 있다. 동시에, 이것은 중량%로 바람직하게는 최대 50:50, 더 바람직하게는 최대 45:55, 특히 바람직하게는 최대 40:60 및 특히 최대 35:65일 수 있다. 코팅에서 Mo:Si의 비는 따라서, 예를 들어, 5:95 내지 50:50 중량%, 10:90 내지 45:55 중량%, 15:85 내지 40:60 중량% 또는 심지어 20:80 내지 35:65 중량% 범위 내일 수 있다. 이들 비는 코팅에서 Mo와 Si의 중량 비율을 사용하여 결정된다. 이는 산소 또는 코팅의 다른 구성 성분의 중량비를 고려하지 않는다. 당업자는 코팅이 각각의 요구에 부합하도록 산소의 비율을 조정할 것이다.
특히 바람직한 실시양태에서, 코팅은 Mo, Si, 산소 및 불가피한 불순물을 제외하고 임의의 추가 구성 성분을 함유하지 않는다.
이러한 MoSiOx 서멧의 사용은 이들이 특히 플랫 투과 프로파일 및 특히 스펙트럼 반사율의 플랫 프로파일을 가지며, 동시에 높은 전기 저항 및 높은 열 안정성을 갖기 때문에 특히 유리한 것으로 밝혀졌다.
열 안정화를 위해, 서멧 및 또한 스피넬은 부가적으로 산화 장벽이 제공될 수 있다. 이들은 예를 들면 적어도 하나의 하기 물질의 산화물 또는 질화물 또는 옥시 질화물일 수 있다: Si, Al, Ti, Zr, Sn, Cr, Zn, Nb, Y, Ta, Mo, B. 규소 질화물은 특히 서멧을 위한 바람직한 산화 장벽이며, 규소 산화물은 특히 스피넬을 위한 바람직한 산화 장벽인 것으로 밝혀졌다. 산화 장벽 층은 또한 적외선에서의 투과에 포지티브 효과를 가질 수 있다.
본 발명자들은 놀랍게도, 유리 또는 유리 세라믹 상에 탄화물 및 탄질화물로 구성된 코팅이 반사율로 -3 < a* < 3, -3 < b* < 3의 색 궤적에서 30 영역의 낮은 L* 값을 설정하는 것이 가능하다는 것을 밝혀냈다. 더욱이, 층은 약 4% 내지 8%의 평균 반사율 및 가시 스펙트럼 영역에서 약 1.5의 최소 반사율에 대한 최대 반사율의 비를 갖는다. 적외선 스펙트럼 영역에서, 이들 층은 심지어 950 nm에서 50% 초과로 투과하고 약 1250 내지 적어도 4000 nm의 범위에서 임의의 유의한 흡수를 갖지 않기 때문에, 이 범위의 커버 패널의 스펙트럼 투과는 기재에 의해 제한된다.
이들 층 시스템은 개별 층으로서 또는 기재와 코팅 사이 및/또는 추가적인 산화 장벽을 갖는 스피넬에 대해 이미 기술된 보상 층을 갖는 층 시스템으로서 생성될 수 있다. 당업자는 상기 기술된 물질로부터 기재의 굴절률과 코팅의 굴절률 사이의 적절한 굴절률 및 적절한 층 두께의 조합을 여기에서 선택할 것이다. 탄화물 또는 탄질화물 기재 층의 사용의 경우, 바람직하게는 적어도 하나의 하기 물질이 코팅 내에 존재한다: Si, Zr, W, Ti, Mo, Cr, B, DLC.
언급된 모든 층 시스템은 바람직하게는 마그네트론 스퍼터링의 수단에 의해, 특히 반응성 중간 주파수 스퍼터링 또는 고주파수 스퍼터링의 수단에 의해 제조된다. 반응성 중간 주파수 스퍼터링에서, 예를 들어 순수한 금속으로 구성되거나 또한 합금으로 구성된 금속 타겟을 사용하고, 예를 들어 반응성 공정 가스로서 산소 또는 질소를 공급하는 것이 가능하다. 아르곤은 비 반응성 공정 가스로서 사용된다.
스피넬 코팅은 예를 들어, 금속 양이온의 합금으로 구성된 타겟, 특히 CoFeMnCr 합금으로 구성된 타겟을 사용하고 반응성 가스로서 산소를 사용하여 반응성 중간 주파수 스퍼터링의 수단에 의해 생성될 수 있다. 첨가된 산소의 양은 여기에서 코팅의 화학양론을 변화시키고, 특히 화학양론 이하의 값, 즉 산소 결핍으로 설정하기 위해 사용될 수 있다. 타겟 합금에 대해, 중량%로 하기 범위의 조성을 사용하는 것이 특히 바람직하다:
Co
15-25, 특히 19-21,
Fe
30-40, 특히 34-36,
Mn
14-24, 특히 18-20, 및
Cr
21-31, 특히 25-27.
타겟의 조성의 몰비는 또한 코팅 내의 Co, Fe, Mn 및 Cr의 몰 비율에 상응한다.
서멧은 마찬가지로 예를 들어 반응성 중간 주파수 스퍼터링의 수단에 의해 제조될 수 있다. 산화물 매트릭스를 형성하는 금속이 금속 성분을 형성하는 금속에 비해 충분히 더 높은 산소 친화성을 갖는 경우, 스퍼터링 조작에서 합금 타겟을 사용하는 것이 가능하다. 이러한 합금 타겟은 바람직하게는 불가피한 불순물을 제외하고 이들 금속으로 구성된다. 불가피한 불순물은 기술적 또는 경제적인 이유로 피할수 없는 이들 불순물을 의미하는 것으로 이해된다.
더욱 특히, Mo 및 Si로 구성된 합금 타겟이 사용될 수 있다. 이러한 합금 타겟은 Mo의 중량으로 바람직하게는 적어도 5%, 더 바람직하게는 적어도 10%, 특히 바람직하게는 적어도 15%, 특히 적어도 20% 또는 심지어 적어도 25%를 함유한다. 이러한 합금 타겟은 Mo의 중량으로 바람직하게는 최대 50%, 더 바람직하게는 최대 45%, 특히 바람직하게는 최대 40%, 특히 최대 35%를 함유한다. 따라서 조성은 예를 들어, 5 중량% 내지 50 중량%의 Mo 및 95 중량% 내지 50 중량%의 Si, 10 중량% 내지 50 중량%의 Mo 및 50 중량% 내지 90 중량%의 Si, 20 중량% 내지 40 중량%의 Mo 및 60 중량% 내지 80 중량%의 Si, 또는 25 중량% 내지 35 중량%의 Mo 및 65 중량% 내지 75 중량%의 Si 범위 중의 하나의 범위 내에 있다. 타겟의 조성의 몰비는 또한 코팅 내의 Mo 및 Si의 몰 비율에 상응한다. 바람직하게는, 타겟은 Mo, Si 및 불가피한 불순물을 제외한 임의의 추가의 성분을 함유하지 않는다.
산소는 스퍼터링 조작에서 반응성 가스로서 첨가된다. 산소는 상이한 친화 성으로 인해 Si와 우선적으로 반응하기 때문에, SiO2 매트릭스로 구성된 서멧 구조는 금속 성분으로서 Mo와 함께 형성된다.
대안적으로, 두 개의 별개의 금속 타겟, 예를 들어 하나는 알루미늄으로 구성되고 하나는 Cu로 구성된 타겟 또는 하나는 Si로 구성되고 하나는 Mo로 구성된 타겟을 사용하고, 동시 스퍼터링이 가능하도록, 즉, 하나의 기재 상에 두 물질이 동시에 증착되도록 이들을 배치하는 것이 가능하다. 그 후, 반응성 가스는 바람직하게는 금속 산화물 매트릭스의 형성을 위해 타겟의 영역에서만, 즉 예를 들어 알루미늄 타겟에 공급된다. 이것은 코팅의 조성을 보다 용이하게 변화시킬 수 있는 합금 타겟의 사용보다 이점이 있다.
탄화물 및 탄질화물은 예를 들어 세라믹 타겟을 사용하는 고주파수 스퍼터링의 수단에 의해 제조될 수 있다. 이 경우, 타겟은 이미 층의 원하는 조성, 즉, 예를 들어 SiC 또는 TiCN을 가질 수 있다.
세라믹 타겟은 바람직하게는 5 중량% 내지 60 중량%의 C 및 40 중량% 내지 95 중량%의 Si, 바람직하게는 20 중량% 내지 55 중량%의 C 및 45 중량% 내지 80 중량%의 Si, 특히 40 중량% 내지 50 중량%의 C 및 50 중량% 내지 60 중량%의 Si로 구성된다. 타겟의 조성의 몰비는 또한 코팅에서 C 및 Si의 몰 비율에 상응한다.
대안적으로, 공동 스퍼터링의 수단에 의해 탄소 타겟, 예를 들어 흑연 타겟과 조합하여 금속 타겟, 예를 들어 Si 또는 Ti를 사용하는 것이 가능하다. 이러한 방식으로, 스퍼터링 출력을 통해 상응하는 각각의 타겟의 스퍼터링 속도를 선택함으로써 코팅의 화학양론을 변화시키는 것이 가능하다. 또한, 이러한 스퍼터링 공정에서, 탄질화물의 제조를 위해 반응성 가스로서 질소를 공급하는 것이 가능하다.
표 1은 예로서 스피넬 및 서멧 물질 유형의 본 발명의 코팅 및 스피넬의 비교예를 나타낸다. 모든 층은 반응성 중간 주파수 스퍼터링의 수단에 의해 제조하였다. 스피넬 및 서멧 층에 대하여, 금속 합금 타겟을 사용하였고 반응성 가스로 산소 또는 질소를 공급하였다.
여기에서 사용된 물질은 스피넬 층에 대하여 CoFeMnCr과 서멧 층에 대하여 MoSiOx였다. 표 1의 실시예 3 내지 10에 대하여, 코팅 내의 몰리브덴(Mo) 및 규소(Si)의 비율의 상대 비는 중량%로 기록한다. 코팅의 산소 함량은 이 값에서 고려하지 않는다.
모든 층에서 사용된 기재는 쇼트 아게로부터의 세란 클리어트란스® 유형의 4 mm 두께의 무색 투명한 LAS 유리 세라믹이었다. 모든 실시예에 대하여, 반사율에서 CIELAB 색 궤적, 광 투과율 LT, 헤이즈 및 시트 저항이 보고된다. 모든 측정은 상기 기술된 바와 같이 수행하였다. 모든 실시예에 대하여, 또한, CIExyY 색체계에서 색 좌표 x 및 y는 상기 기술된 바와 같은 투과된 D65 표준 광원 광에 대하여 결정하였다. 또한, 이들 샘플에 대하여, 470 nm, 630 nm, 950 nm, 1600 nm 및 3750 nm에서의 스펙트럼 광 투과율을 보고한다.
비교예 V1은 반사율에서 색 궤적에 대한 요구에 부합하지 않는 보상 층 없는 어두운 스피넬 코팅이다. 높은 네거티브 b* 값은 이 코팅이 청색으로 보임을 의미한다.
실시예 3을 제외한 모든 실시예는 26 < L* < 37, -3 < a* < 3, -3 < b* < 3 영역의 색 궤적을 갖는 중성 흑색 코팅이다.
샘플 3은 55 < L* < 58, -2 < a* < 2 및 -5 < b* < 5 영역의 색 궤적을 갖는 중성 회색 코팅이다.
모든 예에서, 코팅 및 기재를 통과한 후 D65 표준 광원 광은 백색 영역 W1에서 색 궤적을 갖는다. 실시예 4 및 5를 제외하고, 모든 실시예도 또한 백색 영역 W2 및 W3 내에 있다.
모든 샘플은 최대 1%의 헤이즈를 가지며, 따라서 TFT 디스플레이 또는 프로젝터와 같은 디스플레이 엘리먼트와 조합하여 사용하기에 적합하다.
모든 실시예는 명백하게 1 kΩ/□ 초과의 시트 저항을 가지며 따라서 인덕션 루프 및 용량식 터치 센서와 함께 양자가 사용하기에 적합하다.
도 1a는 2°표준 관찰자(CIExyY-2°)를 사용한 CIExyY 색 공간의 색도도를 나타낸다.
도 1a는 하기 엘리먼트를 나타낸다:
· 점선으로서 흑체 곡선,
· 파선으로서 2개의 백색 영역 W1 및 W2,
· 점이 있는 파선으로서 백색 영역 W3,
· 점으로서 D65 표준 광원 광의 색 좌표,
· 사각형으로서 작업 실시예 1 내지 10을 통과한 후 D65 표준 광원 광의 색 좌표 및
· x로서 비교예 V1을 통과한 후 D65 표준 광원 광의 색 좌표.
도 1b는 도 1a의 확대된 상세를 나타낸다.
흑체 곡선의 모든 점은 색 온도로 지칭되는 정의된 온도에서 흑체 라디에이터에 의해 방출되는 광의 색 궤적에 상응한다. 이 곡선은 인간의 지각과 특히 관련이 있는데, 그 이유는 태양이 마찬가지로 흑체 라디에이터에 상응하고 따라서 태양광의 색이 흑체 곡선에 있기 때문이다. 태양의 위치에 따라, 색 궤적은 더 차갑고 더 따뜻한 색 궤적 사이를 이동하며; 20000K의 색 온도는 맑은 하늘에 상응하고 3500K의 온도는 황혼이 시작되기 직전 저녁 태양광에 상응한다. 그러므로 흑체 곡선에서 또는 이에 근접한 색 궤적은 백색 및 특히 자연색으로서 인지된다.
모든 실시예는 흑체 곡선을 따라 분포된 백색 영역 W1 내에 있다. 실시예 5는 3000K 다소 아래에서 특히 따뜻한 색 온도를 생성한다. 이는 대략 200 W 전력의 백열등에 상응한다.
도 2는 380 내지 780 nm의 전체 가시 스펙트럼 범위에서 실시예 1("스피넬", 실선) 및 실시예 5("MoSiOx", 짧은 파선) 및 본 발명의 SiC 코팅("SiC", 긴 파선)의 스펙트럼 반사율을 나타낸다.
나타낸 세 가지 실시예 모두는 전체 가시 스펙트럼 영역에서 10% 미만의 매우 낮은 스펙트럼 반사율와 약 5%의 평균을 갖는다. 또한, 곡선은 매우 플랫인 프로파일을 가지며 최대 및 최소 반사율 간의 최소 차이만 있다.
이러한 낮은 반사율을 감안할 때, 이러한 커버 패널을 통과하는 광은 매우 밝은 주변 광의 경우에도 다른 측면 상에서 매우 잘 인지될 수 있다.
곡선이 매우 플랫인 프로파일을 가지므로, 반사된 광의 색 궤적은 이동하지 않으며 커버 패널은 특히 중성색으로 보인다.
도 3은 횡단면에서 본 발명의 커버 패널(3)을 갖는 장착 물품 또는 장비의 물품(1)의 한 실시양태의 개략도를 포함한다. 여기에서 커버 패널(3)은 물품(1)의 내부(4)의 섹션을 외부(5)로부터 분리한다. 커버 패널은 도면에서 기재 상부에 코팅(2)이 있는 유리 또는 유리 세라믹 기재로 구성된다. 총체적으로, 기재 및 코팅(2)은 1% 내지 70%의 광 투과율을 갖는다. CIELAB 색 공간에서 코팅(2)의 색 궤적은, 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서, 흑색 트랩에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정시, 좌표 20 내지 65의 L*, 및 -6 내지 6의 a*, 및 -6 내지 6의 b*인 영역이다. 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅(2)를 통과한 후 D65 표준 광원 광의 색 궤적은 백색 영역 W1 내에 있다.
본 발명의 커버 패널을 갖는 주방 또는 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품은 이의 내부에 다수의 부품을 함유할 수 있다.
물품은 예를 들어 물품의 외부 또는 심지어 내부에서 물품, 예를 들어 팬을 가열하기위한 하나 이상의 가열 엘리먼트를 가질 수 있다. 이들은 특히 복사 가열 엘리먼트, 인덕션 가열 엘리먼트 또는 마이크로파 생성기일 수 있다.
물품은 점, 선 또는 면 광원과 같은 디스플레이 엘리먼트 및 조명 엘리먼트를 가질 수 있다. 이들은 예를 들어 LED, 광섬유 및 OLED를 포함한다. 이들 광원은 특정 색, 특히 백색, 적색, 녹색 및/또는 청색, 그렇지 않으면 다양한 색으로 방출할 수 있다. 사용 가능한 디스플레이 엘리먼트는 예를 들어, 그래픽 디스플레이 또는 세그먼트 디스플레이를 포함한다. 그래픽 디스플레이는 예를 들어, TFT 디스플레이, 특히 LCD 또는 OLED 디스플레이를 포함한다. 세그먼트 디스플레이는 특히 7-세그먼트 디스플레이를 포함한다. 더욱 특히, 적색 조명 TFT 디스플레이를 제공하는 것도 또한 가능하다.
이들 조명 엘리먼트와 커버 패널 사이에, 예를 들어 정의된 색 궤적 및 높은 색 포화를 갖는 착색 조명 효과의 생성을 위해 백색 LED를 이용할 수 있도록 하기 위한 부가적인 색 필터를 제공하는 것이 가능하다.
조명 엘리먼트는 특히 가열 엘리먼트 주변의 고온 영역에 또한 배치될 수도 있다. 이 경우, 특히 물품의 외부에서 백색 조명 효과를 생성하기 위해, 온도 민감성 흑체 보상 필터가 필요하지 않은 것이 유리하다.
물품은 커버 패널의 외부 직면 측 상에, 예를 들어 식품 또는 화학 물질의 냉각을 위한 냉각 표면을 생성하기 위해 커버 패널과 열 접촉하는 냉각 응집체, 예를 들어 펠티에(Peltier) 엘리먼트를 가질 수 있다.
물품은 다양한 센서, 예를 들어 제어를 위한 용량식 터치 센서 또는 제스처 제어를 위한 또는 외부에서 고온 물품, 예를 들어 고온 팬의 온도 측정을 위한 적외선 센서를 가질 수 있다. 이러한 센서는 기재의 아래쪽 또는 뒤쪽에 인쇄, 압착, 결합 또는 접착 결합되거나 또는 다른 방식으로 배열될 수 있다. 이것은 특히 터치 센서에 해당된다.
또한, 물품은 예를 들어, 음성 제어 또는 사용자 인식 및 인증을 위한 마이크로폰 및 카메라를 가질 수 있다. 물품이 상응하는 숙련된 사람에 의해서만 사용될 수 있다면, 이것은 실험실에서 특히 유리할 수 있다.
이 물품은 통신을 위한 다양한 인터페이스, 예를 들어 WLAN, 블루투스 또는 NFC 모듈 또는 적외선 인터페이스를 가질 수 있다. 이러한 인터페이스에 의해, 물품은 예를 들어 인터넷 또는 그의 주변의 기타 물품, 예를 들어 상응하는 인터페이스 또는 기타 전자 장치를 갖는 팬에 연결될 수 있다. 더욱 특히, 제어 및 통신을 위해, 이것을 이동 전화 또는 태블릿과 같은 이동 전자 장치에 연결할 수 있다.
이 물품은 특히 인덕션 코일에 의해 및 Qi 표준에 따라 외부의 물품으로부터 무선 에너지 투과를 위한 장치를 함유할 수 있다.
커버 패널은 외부 직면 측 상에 코팅, 예를 들어 항 스크래치 층, 반사 방지층, 눈부심 방지층, 장식 층, 용이하게 세척할 수 있는 층 또는 적외선 반사층을 가질 수 있으며, 단 이들은 커버 패널의 필수 광학 성질을 변경하지 않는다.
커버 패널은 절단부, 예를 들어 싱크대 또는 다운 드래프트 흄 후드를 위한 오목부 또는 파이프라인을 위한 부싱을 가질 수 있다.
이들 모든 구성요소는 개별적으로 또는 조합으로 존재할 수 있다.
놀랍게도, 본 발명의 커버 패널을 사용하여 다수의 사용 특이적 요구를 특히 효율적으로 이행할 수 있음이 밝혀졌다. 광학 성질은 커버 패널의 아래 또는 뒤에 장착된 조명 수단이 맑고, 밝게 및 원하는 색 인상(colour impression)으로 볼 수 있도록 조정될 수 있다. 그러나 동시에 커버 패널을 통한 뷰잉은 충분히 방지될 수 있다. 이러한 방식으로, 데드 프론트 효과(dead front effect)를 특히 효율적인 방식으로 달성하는 것이 가능하다. 이것은 심지어 스위치 오프 상태에서도 전자 부품이 커버 패널을 통해 볼 수 없다는 것을 의미한다. 특히 스위치 오프 상태에서, 이것은 커버링 수단의 특히 균일하고 만족스러운 외관을 야기하게 한다. 그럼에도 불구하고, 커버링 수단은 다수의 상이한 센서와 조합 가능하다. 이들은 예를 들어 용량식 또는 인덕티브 센서 및 다양한 파장에서의 적외선 센서를 포함한다.
Claims (15)
- 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 상기 유리 또는 유리 세라믹 기재의 일면 상의 코팅(2)을 포함하는, 주방 또는 실험실용의 장착 물품 또는 장비의 물품(1)용 커버 패널(3)로서,
유리 또는 유리 세라믹 기재와 코팅(2)이 함께 1% 내지 70%의 광 투과율을 가지며,
코팅(2)은, 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서, 흑색 트랩에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정시, 좌표 20 내지 65의 L*, 및 -6 내지 6의 a*, 및 -6 내지 6의 b*인 CIELAB 색 공간에서의 색 궤적(colour locus)을 갖고,
유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅(2)을 통과한 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적은, 하기 좌표에 의한, 색도도(chromaticity diagram) CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W1 내에 있는 커버 패널(3).
- 제1항에 있어서, 흑체 보상 필터를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 코팅(2)이, 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서, 흑색 트랩에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정시, 좌표 22 ≤ L* ≤ 35, 바람직하게는 25 ≤ L* ≤ 30, 더 바람직하게는 26 ≤ L* ≤ 28, -4 ≤ a* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ a* ≤ 2, 및 -4 ≤ b* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ b* ≤ 2인 CIELAB 색 공간에서의 색 궤적을 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅(2)이, 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서, 흑색 트랩에 대한 D65 표준 광원 광을 사용한 반사율로 측정시, 좌표 45 ≤ L* ≤ 65, 바람직하게는 50 ≤ L* ≤ 60, 더 바람직하게는 54 ≤ L* ≤ 59, -4 ≤ a* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ a* ≤ 2, 및 -4 ≤ b* ≤ 4, 바람직하게는 -2 ≤ b* ≤ 2인 CIELAB 색 공간에서의 색 궤적을 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅(2)을 통과한 후, D65 표준 광원 광의 색 궤적이 하기 좌표에 의한, 색도도 CIExyY-2°에서 결정된 백색 영역 W2 내에 있는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 유리 또는 유리 세라믹 기재가 코팅(2)과 함께, 1500 nm의 파장에서 적어도 30%, 바람직하게는 적어도 45%, 더 바람직하게는 적어도 70%의 투과, 및/또는 850 nm 내지 1000 nm 범위의 적어도 하나의 파장에서 적어도 3%, 바람직하게는 적어도 10%, 더 바람직하게는 적어도 30%의 투과, 및/또는 3.25 ㎛ 내지 4.25 ㎛ 범위의 적어도 하나의 파장에서 적어도 10%, 바람직하게는 적어도 20%, 더 바람직하게는 적어도 30%의 투과를 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 유리 또는 유리 세라믹 기재가, 20∼300℃에서 ±2.5×10-6/K 미만의 열 팽창 계수 CTE를 갖는 유리 세라믹 기재, 또는 20∼300℃에서 3.5×10-6/K 내지 6×10-6/K의 열 팽창 계수 CTE 및 500∼650℃, 특히 550∼650℃의 유리 전이 온도 Tg를 갖는 유리 기재인 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅(2)이 1000 V의 시험 전압에서, 적어도 1 kΩ/□, 바람직하게는 적어도 0.5 MΩ/□, 더 바람직하게는 적어도 2 MΩ/□의 시트 저항을 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅(2)이 유리 또는 유리 세라믹 기재를 통한 투과에서 측정시, 최대 10%, 바람직하게는 최대 8%의 380∼780 nm의 파장 범위에서의 평균 스펙트럼 반사율을 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제9항에 있어서, 380∼780 nm의 파장 범위에서 최저 스펙트럼 반사율에 대한 최고 스펙트럼 반사율의 비가 1∼5, 바람직하게는 1∼3, 더 바람직하게는 1∼2의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 유리 또는 유리 세라믹 기재 및 코팅(2)이 함께, ASTM-D1003에 따라 측정시, 5% 미만, 바람직하게는 2% 미만, 더 바람직하게는 1% 미만의 헤이즈를 갖는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅(2)이 스피넬, 서멧, 탄화물 또는 탄질화물의 물질계 중 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제12항에 있어서, 코팅(2)이 알루미늄 스피넬, 크롬 스피넬, 철 스피넬, 티타늄 스피넬, 코발트 스피넬 또는 CoFeMnCr 스피넬의 물질계 중 하나로부터의 스피넬로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제12항에 있어서, 코팅(2)이 SiO2, Al2O3, ZrO2, TiO2 또는 이들의 혼합 산화물로 구성된 산화물 매트릭스와, Ti, Si, Al, Mo, Zr, Cu, Nb, Co, Cr, W, Ta, Ni, B 또는 이들 금속의 2종 이상의 합금으로 구성된 금속 성분과의 서멧으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
- 제12항에 있어서, 코팅(2)이 MoSiOx 서멧으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커버 패널(3).
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