CN114026054B - 带膜的透明基板和烹调器用顶板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供在光源熄灭时也美观性优异的带膜的透明基板。该带膜的透明基板1具有透明基板2和设置于透明基板2的一侧主面2a上的光吸收膜3，光吸收膜3包含由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的材料构成的电介质相、以及金属相。

Description

带膜的透明基板和烹调器用顶板
技术领域
本发明涉及带膜的透明基板和使用该带膜的透明基板的烹调器用顶板。
背景技术
目前，在电磁烹调器、辐射加热(Radiant Heater)烹调器、燃气烹调器等烹调器中，为了遮蔽烹调器内部结构，使用由黑色玻璃或设置有黑色涂膜的透明玻璃构成的顶板。在这样的烹调器中，为了在顶板显示电源和加热状态等各种信息，有时组合使用LED(发光二极管，Light Emitting Diode)、液晶显示器、或具有触摸面板功能的液晶显示器等。
在下述专利文献1中，公开了一种烹调器用顶板，其具有玻璃板、设置于玻璃板上的无机颜料层、和设置于无机颜料层上的显示层。上述无机颜料层包含颜料和玻璃。上述显示层具有透过LED光等的透明树脂部、和遮蔽LED光等的耐热性树脂部。在专利文献1中，通过改变该透过LED光等的透过部的形状、或者在透过部使形成图案的光透过，显示文字、数字、记号等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014－215018号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
在烹调器用顶板组合使用LED、液晶显示器、或具有触摸面板功能的液晶显示器等的情况下，要求在光源点亮时能够明确地看到各种信息，并且在光源熄灭时遮蔽烹调器内部的结构。然而，在使用着色成黑色的玻璃基板作为顶板时，虽然在光源熄灭时能够遮蔽烹调器内部的结构，但存在当光源点亮时难以看见各种信息的问题。
关于这一点，专利文献1中，在显示区域也设置有黑色的无机颜料层，试图由此来遮蔽烹调器内部的结构。但是，在如专利文献1的顶板那样设置黑色的无机颜料层的情况下，在光源熄灭时不能成为无彩色的黑色，有时损害美观性。
本发明的目的在于，提供一种在光源熄灭时也美观性优异的带膜的透明基板和使用该带膜的透明基板的烹调器用顶板。
用于解决技术问题的技术方案
本发明涉及的带膜的透明基板具有透明基板、和设置于上述透明基板的一侧主面上的光吸收膜，上述光吸收膜包含由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的材料构成的电介质相、以及金属相。
在本发明中，优选上述材料为金属氧化物。
在本发明中，优选在埃林汉姆图中，构成上述金属氧化物的金属元素的标准吉布斯自由能小于构成上述金属相的金属元素的标准吉布斯自由能。
在本发明中，优选上述光吸收膜的波长400nm～700nm时的平均吸收系数为0.5μm－1以上、80μm－1以下。
在本发明中，优选在上述光吸收膜中，将波长436nm时的吸收系数设为α1，将波长546nm时的吸收系数设为α2，将波长700nm时的吸收系数设为α3时，α1/α2为0.8以上、2.0以下，α3/α2为0.8以上、2.0以下。
另外，在本发明中，优选在上述光吸收膜中，上述α1/α2为0.8以上、1.25以下，上述α3/α2为0.8以上、1.25以下。
在本发明中，优选在上述光吸收膜中，将波长λ时的吸收系数设为αλ，将波长400nm～700nm时的平均吸收系数设为αAVE时，下述式(1)所示的吸收平均偏差M为0.30以下。
在本发明中，优选在上述光吸收膜上还设置有电介质多层膜。
在本发明中，优选上述电介质多层膜为折射率相对高的高折射率膜与折射率相对低的低折射率膜交替叠层而成的叠层膜，上述高折射率膜为上述光吸收膜。
本发明涉及的烹调器用顶板的特征在于，具有根据本发明构成的带膜的透明基板，上述透明基板具有载置烹调器具的烹调面以及与该烹调面为相反侧的背面，在上述透明基板的上述背面上设有上述光吸收膜。
发明的效果
根据本发明，能够提供在光源熄灭时也美观性优异的带膜的透明基板以及使用该带膜的透明基板的烹调器用顶板。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。
图2是将构成本发明的第一实施方式涉及的带膜的透明基板的光吸收膜放大表示的示意截面图。
图3是表示金属和金属氧化物的埃林汉姆图的一例的图。
图4是表示本发明的第二实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。
图5是表示本发明的第三实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。
图6是表示本发明的第四实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。
图7是表示本发明的一个实施方式涉及的烹调器用顶板的示意截面图。
图8是表示实施例中制作的光吸收膜的吸收系数的图。
图9是表示比较例中制作的光吸收膜的吸收系数的图。
图10是表示实施例1、3～6和比较例2中制作的光吸收膜的吸收系数的图。
具体实施方式
以下，对优选的实施方式进行说明。但是，以下实施方式仅为例示，本发明不限定于以下实施方式。并且，在各附图中，实质上具有同一功能的部件有时参照同一符号。
[带膜的透明基板]
(第一实施方式)
图1是表示本发明的第一实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。图2是将构成本发明的第一实施方式涉及的带膜的透明基板的光吸收膜放大表示的示意截面图。
如图1所示，带膜的透明基板1具有透明基板2和光吸收膜3。透明基板2具有相反的第一主面2a和第二主面2b。在透明基板2的第一主面2a上设置有光吸收膜3。
在本实施方式中，透明基板2具有大致矩形板状的形状。不过，透明基板2也可以具有大致圆板状的形状，形状没有特别限定。
透明基板2透过波长400nm～700nm的光。透明基板2可以是有色透明的，但从进一步提高美观性的观点出发，优选无色透明。另外，在本说明书中，“透明”是指波长400nm～700nm的可见波长域的透光率为80％以上。并且，“无色”是指照射D65光源时的透射光的彩度为2以下。
在本实施方式中，透明基板2由玻璃构成。不过，透明基板2只要是透明的基板即可，也可以由陶瓷等其它材料构成。
作为构成透明基板2的玻璃，优选为由玻璃化转变温度高、低膨胀的玻璃、低膨胀的结晶化玻璃构成。作为低膨胀的结晶化玻璃的具体例，例如可以列举日本电气硝子株式会社制的“N－0”。另外，作为透明基板2，也可以使用硼硅酸玻璃、无碱玻璃、铝硅酸盐玻璃等。此时，能够进一步提高透明基板2的耐热性，能够进一步降低热膨胀系数。因此，能够合适地用于重复加热和冷却的烹调器用顶板等用途。
透明基板2的厚度没有限定。透明基板2的厚度能够根据透光率等适当设定。透明基板2的厚度例如能够设为0.035mm～5mm左右。
光吸收膜3设置于透明基板2的第一主面2a上。如图2所示，光吸收膜3具有电介质相4和金属相5。在本实施方式中，电介质相4为基质，金属相5分散在电介质相4的基质中。不过，也可以在电介质相4的表面露出金属相5。还可以由电介质相4和金属相5简单混合而成，混合方式没有特别限定。只要不会遍及光吸收膜3整体由金属相5形成导电通路，则金属相5彼此可以部分接触，金属相5的大小可以不均匀。这样的结构例如能够通过构成电介质相4和金属相5的材料的投入比来适当调整。
作为光吸收膜3的形成方法，没有特别限定，例如能够通过作为物理气相蒸镀法(PVD法)的溅射法、脉冲激光沉积法(PLD)、或蒸镀法等形成膜。
在本实施方式中，电介质相4由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的材料构成。其中，电介质相4优选由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的金属氧化物构成。不过，电介质相4可以由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的金属氧氮化物、金属氮化物构成。带隙例如能够从Tauc plot算出。
作为带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的金属氧化物，例如可以列举Bi2O3(2.5eV)、Fe2O3(2.1eV)、Fe3O4(2.0eV)、V2O5(2.3eV)、WO3(2.5eV)、MoO3(2.7eV)、Cr2O3(2.6eV)等。不过，也可以是含有这些的阳离子的BiVO4(2.3eV)等这样的复合氧化物。另外，作为带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的金属氧氮化物，可以列举SrTaO2N、TiO2－xNx等。
作为构成金属相5的金属，没有特别限定，例如可以列举Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Rh、Zn、Fe、Sn、Ni、Pb等。另外，金属相5可以由这些金属的合金构成。作为合金，可以列举FeNi、CuNi等。
本实施方式涉及的带膜的透明基板1的特征在于，设置于透明基板2的第一主面2a上的光吸收膜3由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的电介质相4、和金属相5构成。由此，能够制成在光源点亮时能够明确地看到各种信息的显示并且在熄灭时美观性优异的基板。关于这一点，能够如下述进行说明。
目前，在烹调器用顶板等的基板使用着色成黑色的玻璃基板时，虽然在LED、液晶显示器等的光源熄灭时能够遮蔽烹调器内部的结构，但存在当光源点亮时难以看见各种信息的问题。另一方面，在玻璃基板等透明基板上设置黑色的无机颜料层的情况下，在光源熄灭时不能成为无彩色的黑色，有时损害美观性。
关于这一点，在现有的顶板中，构成无机颜料层的材料对可见光的短波长侧(紫、蓝色侧；光的能量高)强烈吸收，对长波长侧(红色侧；光的能量低)弱吸收，因此不能形成无彩色的黑色，成为问题。
相对于此，本实施方式的光吸收膜3能够由利用电介质相4的带隙的光吸收来承担可见光的短波长侧的光吸收，并且由利用金属相5的自由电子的光吸收来承担长波长侧的光吸收，因此，在顶板熄灭时也能够成为无彩色的黑色，美观性优异。
更具体而言，依赖于光的波长的吸收系数α(λ)由下式(I)表示。
α(λ)＝α(λ)带隙型+α(λ)自由电子型＝A·λ－n+B·λ2≈C·λ0…
式(I)
(式(I)中，A、B和C为常数，n＞0。)
即，承担可见光的短波长侧的光吸收的基于电介质相4的带隙的吸收系数与波长的倒数的n次方成比例，承担长波长侧的光吸收的基于金属相5的自由电子的吸收系数与波长的2次方成比例，因此，由它们的和表示的光吸收膜3的吸收系数α(λ)大致不依赖于波长，在任意波长下都容易成为一定值。
如上所述，具有光吸收膜3的带膜的透明基板1特别是在可见光的几乎整个区域中能够均匀地吸收光。因此，带膜的透明基板1在光源熄灭时能够成为无彩色的黑色，美观性优异。因此，带膜的透明基板1能够合适地用于烹调器用顶板、显示器的罩玻璃等用途。
在本发明中，优选电介质相4的带隙为2.5eV以下，更优选为2.3eV以下。此时，能够更不依赖于波长地均匀地吸收光，能够进一步提高带膜的透明基板1的美观性。
电介质相4的带隙优选为间接迁移型。此时，能够更不依赖于波长地均匀地吸收光，能够进一步提高带膜的透明基板1的美观性。
另外，光吸收膜3优选具有电介质相4和金属相5能够共存的化学稳定性。关于这一点，在电介质相4由金属氧化物构成时，根据图3所示的埃林汉姆图，能够确定电介质相4与金属相5的优选组合。
图3所示的埃林汉姆图中，各金属元素的标准吉布斯自由能越低，表示氧化物的状态越稳定；各金属元素的标准吉布斯自由能越高，表示金属的状态越稳定。例如，表示金属Ag能够在Fe的氧化物中稳定存在，但金属Fe不能在Bi、Cu、Ag的氧化物中稳定存在(容易形成氧化物)。因此，优选构成电介质相4的金属元素的标准吉布斯自由能小于构成金属相5的金属元素的标准吉布斯自由能。此时，能够进一步提高电介质相4与金属相5能够共存的化学稳定性，能够进一步提高带膜的透明基板1的美观性。另外，图3的埃林汉姆图是一个举例，也能够应用于其它金属。
根据这样的观点，作为电介质相4和金属相5的优选组合，例如，在电介质相4中使用如PbO、Bi2O3这样的贱金属的氧化物时，优选在金属相5中使用Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Rh等。在电介质相4中使用如V2O5、Cr2O3这样的贵金属的氧化物时，优选进一步在金属相5中使用Zn、Fe、Sn、Ni、Pb等。
另外，作为电介质相4和金属相5的优选组合的具体例，可以列举Fe2O3和Ag、Bi2O3和Cu、PbO和Pt、Cr2O3和Pb、BiVO4和Ag、V2O5和FeNi、SrTaO2N、CuNi等。
另外，如本实施方式所示，优选在作为基质的电介质相4中分散有金属相5。此时，能够进一步提高光吸收膜3的绝缘性。因此，此时，能够合适地用于具有触摸面板功能的显示器、内设有具有触摸面板功能的显示器的烹调器用顶板。
光吸收膜3中，金属相5在整体中所占的体积比(金属相5/(电介质相4+金属相5))优选为0.3以上、更优选为0.5以上，优选为0.8以下、更优选为0.7以下。上述体积比(金属相5/(电介质相4+金属相5))在上述下限值以上时，能够进一步提高光吸收膜3的绝缘性。另外，上述体积比(金属相5/(电介质相4+金属相5))在上述上限值以下时，在容易引起光学干涉的波长下能够得到更充分的吸收。
光吸收膜3的波长400nm～700nm时的平均吸收系数优选为0.5μm－1以上、更优选为10μm－1以上，优选为80μm－1以下、更优选为70μm－1以下。平均吸收系数在上述下限值以上时，例如在用于烹调器用顶板时，能够更进一步可靠地遮蔽烹调器内部的结构。另一方面，平均吸收系数在上述上限值以下时，在光源点亮时能够更进一步可靠地明确看到各种信息的显示。其中，光吸收膜3的吸收系数从利用光谱椭偏仪、或分光光度计得到的透射率和反射率等的测定导出，此时，以叠层于透明基板2上的状态从光吸收膜3侧进行测定。
另外，在光吸收膜3中，将波长436nm时的吸收系数设为α1，将波长546nm时的吸收系数设为α2，将波长700nm时的吸收系数设为α3时，优选α1/α2为0.8以上、2.0以下，α3/α2为0.8以上、2.0以下。另外，更优选α1/α2为0.8以上、1.25以下，α3/α2为0.8以上、1.25以下。此时，能够在光源熄灭时进一步成为无彩色的黑色，能够更进一步使美观性优异。
另外，在光吸收膜中，将波长λ时的吸收系数设为α，将波长400nm～700nm时的平均吸收系数设为αAVE时，优选下述式(1)所示的吸收平均偏差M为0.30以下。此时，能够在光源熄灭时形成进一步无彩色的黑色，能够更进一步使美观性优异。
在本发明中，光吸收膜3中的构成金属相5的金属含量以摩尔％计优选为5％以上、更优选为10％以上、进一步优选为12％以上，优选为80％以下、更优选为70％以下、进一步优选为60％以下、特别优选为55％以下。光吸收膜3中的构成金属相5的金属含量小于上述下限值时，上述α1/α2有时变得过大，上述α3/α2有时变得过小，上述吸收平均偏差M有时变得过大。另一方面，光吸收膜3中的构成金属相5的金属含量大于上述上限值时，有时薄层电阻(sheet resistance)容易降低。另外，上述α1/α2有时变得过小，上述α3/α2有时变得过大，上述吸收平均偏差M有时变得过大。
光吸收膜3的厚度没有特别限定，优选为5nm以上、更优选为10nm以上，优选为2μm以下、更优选为1μm以下。在光吸收膜3的厚度处于上述范围内的情况下，在光源点亮时能够更进一步明确地看到各种信息的显示，并且在熄灭时能够得到更进一步优异的美观性。
带膜的透明基板1的透过光的彩度C* T优选为2以下、更优选为1以下、进一步优选为0.5以下。另外，带膜的透明基板1的反射光的彩度C* R优选为2以下、更优选为1以下、进一步优选为0.5以下。其中，彩度C*是JIS Z 8781－4：2013中所采用的L*a*b*色度体系中、照射D65光源时的彩度C*。另外，彩度C*根据色度a*和b*求出，以C*＝((a*)2+(b*)2)1/2表示。此时，能够在光源熄灭时形成进一步无彩色的黑色，能够更进一步使美观性优异。
另外，从使后述的显示区域A与非显示区域B的边界进一步难以看到的观点考虑，显示区域A与非显示区域B的亮度(L*)之差的绝对值优选为3以下、更优选为1以下。另外，显示区域A与非显示区域B的彩度(C*)之差的绝对值优选为0.7以下、更优选为0.4以下。
光吸收膜3的薄层电阻优选为106Ω/□以上、更优选为108Ω/□以上。此时，由于光吸收膜3为绝缘性，在作为图像显示装置的罩玻璃或烹调器的顶板使用时，即使赋予触摸面板，也可以维持静电容量式触摸传感器所需的手指接触所引起的静电容量的变化，使触摸面板发挥功能。其中，薄层电阻能够通过ASTM D257或JIS K 6271－6(2008年)中规定的方法测定。
(第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式)
图4是表示本发明的第二实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。如图4所示，带膜的透明基板21中，在光吸收膜3上进一步设置有电介质多层膜6。其它方面与第一实施方式同样。
电介质多层膜6是折射率相对低的低折射率膜7和折射率相对高的高折射率膜8依次交替叠层而成的叠层膜。在本实施方式中，电介质多层膜6的叠层数为6层。
作为低折射率膜7的材料，例如可以列举如本实施方式这样的氧化硅、或氧化铝。
作为高折射率膜8的材料，例如可以列举如本实施方式这样的氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化铪、氧化钽、氮化硅、氧化铝、氮化铝等。
图5是表示本发明的第三实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。如图5所示，在带膜的透明基板31中，在透明基板2的第一主面2a上设置有包含光吸收膜3的电介质多层膜16。其它方面与第一实施方式同样。
在电介质多层膜16中，折射率相对低的低折射率膜7、和作为折射率相对高的高折射率膜的光吸收膜3依次交替叠层。在本实施方式中，电介质多层膜16的叠层数为6层。另外，光吸收膜3是在第一实施方式中说明的光吸收膜3，低折射率膜7是在第二实施方式中说明的低折射率膜7。另外，可以使存在3层的光吸收膜3的至少1层为第二实施方式中所说明的高折射率膜8。
图6是表示本发明的第四实施方式涉及的带膜的透明基板的示意截面图。如图6所示，在带膜的透明基板41中，在透明基板2上设置有两层光吸收膜3，在透明基板2与光吸收膜3之间以及两个光吸收膜之间还设置有电介质多层膜6。其它方面与第二实施方式同样。
在第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式中，设置于透明基板2的第一主面2a上的光吸收膜3均由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的电介质相4、和金属相5构成。因此，在光源点亮时，能够明确地看到各种信息的显示，并且在熄灭时能够使美观性优异。
另外，可以如第二实施方式那样在光吸收膜3上设置电介质多层膜6，也可以如第三实施方式那样在透明基板2上设置包含光吸收膜3的电介质多层膜16，也可以如第四实施方式那样在透明基板2上设置两层光吸收膜3，并在透明基板2与光吸收膜3之间以及两个光吸收膜之间进一步设置电介质多层膜。这样，在设置有电介质多层膜6、16时，还能够赋予例如防反射功能。此时，还能够改善显示器的对比度。
[烹调器用顶板]
图7是表示本发明的一个实施方式涉及的烹调器用顶板的示意截面图。如图7所示，烹调器用顶板51具有带膜的透明基板1。
在烹调器用顶板51中，构成带膜的透明基板1的透明基板2的第二主面2b为烹调面。另一方面，构成带膜的透明基板1的透明基板2的第一主面2a为背面。烹调面是载置锅、平底锅等烹调器具的一侧的面。背面是在烹调器的内部侧与LED、显示器等的光源52以及加热装置相对的面。因此，烹调面和背面形成表里关系。并且，在本实施方式中，透明基板2为玻璃基板。
在透明基板2的背面(第一主面2a)上设置有光吸收膜3。在光吸收膜3上设置有耐热树脂层53。另外，耐热树脂层53可以设置于透明基板2与光吸收膜3之间。在本实施方式中，俯视时不设置耐热树脂层53的区域形成显示区域A。并且，俯视时设置有耐热树脂层53的区域形成非显示区域B。
耐热树脂层53为遮光层。因此，通过设置耐热树脂层53，能够进一步可靠地提高烹调器的内部结构的遮蔽性。耐热树脂层53能够由有机硅树脂这样的耐热树脂和着色颜料等构成。另外，也可以不设置耐热树脂层53。
在带膜的透明基板1的下方，设置有显示器、LED等的光源52。光源52是为了在显示区域A显示信息而设置的部件。作为在显示区域A显示的信息，没有特别限定，例如可以列举表示电源处于开启状态、处于加热中等这样的烹调器的状态的信息、以及时间等的信息。
来自光源52的光在显示区域A透过光吸收膜3和透明基板2向外部射出。并且，来自光源52的光在非显示区域B被耐热树脂层53遮挡。因此，通过在显示区域A使来自光源52的光透过，能够显示文字或数字、记号等。
烹调器用顶板51具有带膜的透明基板1。因此，在光源52点亮时，能够明确地看到各种信息的显示，并且在熄灭时，能够使美观性优异。另外，能够遮蔽烹调器内部的结构，并且使显示区域与非显示区域的边界难以看到。此外，在烹调器内部，可以内设有具有触摸面板功能的显示器。
以下，基于实施例对本发明详细地进行说明。但是，以下实施例仅为例示。本发明不受以下实施例的任何限定。
(实施例1～2)
在实施例1中，使用Ag和FeO的混合靶，通过脉冲激光沉积法(PLD)在作为透明基板2的玻璃基板上形成光吸收膜3。其中，混合靶中的Ag含量为60摩尔％。此时的基板温度为300℃，氧分压为0.5Pa。并且，光吸收膜3中的Ag含量为45摩尔％。
另外，在实施例2中，使用Cu和Bi2O3的混合靶，通过脉冲激光沉积法(PLD)在作为透明基板2的玻璃基板上形成光吸收膜3。其中，混合靶中的Cu含量为30摩尔％。此时的基板温度为350℃，氧分压低于0.1Pa。并且，光吸收膜3中的Cu含量为30摩尔％。
另外，Fe2O3的带隙为2.1eV，Bi2O3的带隙为2.5eV。
图8是表示Ag和Fe2O3的光吸收膜3、Cu和Bi2O3的光吸收膜3的波长400nm～700nm时的吸收系数的图。根据图8可知，Ag和Fe2O3的光吸收膜3以及Cu和Bi2O3的光吸收膜3在波长400nm～700nm下吸收系数大致一定。并且，在Ag和Fe2O3的光吸收膜3中，α1/α2为1.05，α3/α2为1.00，吸收平均偏差M为0.02；在Cu和Bi2O3的光吸收膜3中，α1/α2为1.22，α3/α2为0.84，吸收平均偏差M为0.26。
并且，通过使用铂电极的直流2端子法测定Ag和Fe2O3的光吸收膜3的电阻时，薄层电阻值为1.2×108Ω/□。并且，Cu和Bi2O3的薄层电阻值为3.4×1013Ω/□。
另外，将Cu和Bi2O3的光吸收膜3在大气中加热至150℃以上时，吸收系数略微下降。另一方面，Ag和Fe2O3的光吸收膜3直至400℃左右是稳定的。并且，为了进一步提高耐热性，可以在光吸收膜3中进一步添加Al2O3等的高熔点材料。
(比较例1)
在比较例1中，使用Ag和TiO2的混合靶，通过脉冲激光沉积法(PLD)在玻璃基板上形成光吸收膜。此时的基板温度为600℃，氧分压为0.5Pa。并且，TiO2的带隙为2.8eV。
图9是表示Ag和TiO2的光吸收膜的波长400nm～700nm下的吸收系数的曲线的图。根据图9可知，在Ag和TiO2的光吸收膜中，波长越大，则吸收系数越大，在波长400nm～700nm中，吸收系数不是一定的。而且，α1/α2为0.79，α3/α2为2.51，吸收平均偏差M为0.36。由此可知，电介质相的带隙大于2.7eV时，在可见光全区域中，难以使吸收系数成为一定。
还确认了，实施例1～2的带膜的透明基板在光源点亮时能够明确地看到各种信息的显示，并且在熄灭时能够使美观性优异。而在比较例1中，光源熄灭时美观性差。
(实施例3～6和比较例2)
在实施例3～6中，将Ag和FeO的混合靶中的Ag含量和光吸收膜3中的Ag含量如下表1所示进行变更，除此以外，与实施例1同样操作，形成光吸收膜3。并且，在比较例2中，使用不含Ag的FeO的靶，除此以外，与实施例1同样操作，形成光吸收膜。另外，在下述表1中，一并表示各实施例和比较例的α1/α2、α3/α2、吸收平均偏差M、以及薄层电阻值。
[表1]
图10是表示实施例1、3～6和比较例2的光吸收膜的波长400nm～700nm下的吸收系数的图。根据图10可知，在实施例3～6的光吸收膜中，也在波长400nm～700nm中吸收系数大致一定。并且，根据图10可知，在比较例2的光吸收膜中，波长越大，则吸收系数越小，在波长400nm～700nm中，吸收系数不是一定的。
还确认了，在实施例3～6的带膜的透明基板中，也在光源点亮时能够明确地看到各种信息的显示，并且在熄灭时能够使美观性优异。而在比较例2中，光源熄灭时美观性差。
符号的说明
1、21、31、41：带膜的透明基板；2：透明基板；2a：第一主面；2b：第二主面；3：光吸收膜；4：电介质相；5：金属相；6、16：电介质多层膜；7：低折射率膜；8：高折射率膜；51：烹调器用顶板；52：光源；53：耐热树脂层。

Claims (8)

1.一种带膜的透明基板，其特征在于，具有：
透明基板；和
设置于所述透明基板的一侧主面上的光吸收膜，
所述光吸收膜包含由带隙为2.0eV以上、2.7eV以下的材料构成的电介质相、以及金属相，
所述材料为金属氧化物，
在埃林汉姆图中，构成所述金属氧化物的金属元素的标准吉布斯自由能小于构成所述金属相的金属元素的标准吉布斯自由能。
2.如权利要求1所述的带膜的透明基板，其特征在于：
所述光吸收膜的波长400nm～700nm时的平均吸收系数为0.5μm－1以上、80μm－1以下。
3.如权利要求1或2所述的带膜的透明基板，其特征在于：
在所述光吸收膜中，将波长436nm时的吸收系数设为α1，将波长546nm时的吸收系数设为α2，将波长700nm时的吸收系数设为α3时，α1/α2为0.8以上、2.0以下，α3/α2为0.8以上、2.0以下。
4.如权利要求3所述的带膜的透明基板，其特征在于：
在所述光吸收膜中，所述α1/α2为0.8以上、1.25以下，所述α3/α2为0.8以上、1.25以下。
5.如权利要求1或2所述的带膜的透明基板，其特征在于：
在所述光吸收膜中，将波长λ时的吸收系数设为αλ，将波长400nm～700nm时的平均吸收系数设为αAVE时，下述式(1)所示的吸收平均偏差M为0.30以下，
6.如权利要求1或2所述的带膜的透明基板，其特征在于：
在所述光吸收膜上还设有电介质多层膜。
7.如权利要求6所述的带膜的透明基板，其特征在于：
所述电介质多层膜为折射率相对高的高折射率膜与折射率相对低的低折射率膜交替叠层而成的叠层膜，
所述高折射率膜为所述光吸收膜。
8.一种烹调器用顶板，其特征在于：
具有权利要求1～7中任一项所述的带膜的透明基板，
所述透明基板具有载置烹调器具的烹调面和与该烹调面为相反侧的背面，
在所述透明基板的所述背面上设有所述光吸收膜。
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