JP7171792B2 - 光学的に透明なせん断増粘流体及びそれを含む光学ディスプレイデバイス - Google Patents

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Description

本開示は、光学的に透明なせん断増粘流体及び光学的に透明なせん断増粘流体を含む保護アセンブリに関する。本開示は、電子デバイス、特に光学ディスプレイデバイスにおける光学的に透明なせん断増粘流体の使用に更に関する。
多くの電子デバイスには、画像を表示するための光学ディスプレイパネルが含まれている。そのようなデバイスの例には、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット、ラップトップコンピューター、ナビゲーションシステム及びテレビなどのモバイルデバイスが含まれる。光学ディスプレイパネルは、多くの場合、擦り傷、指紋、外力の衝撃による損傷などから保護するためのカバーウィンドウを有する。例えば、損傷は、光学ディスプレイパネルを含む電子デバイスを落下させることによって引き起こされる可能性がある。そのようなカバーウィンドウは、光学的に透明な膜を含み、光学的に透明な接着剤を使用してディスプレイ基材に取り付けられる。
最近、フレキシブルディスプレイデバイスが開発され、広く使用されている。フレキシブルディスプレイデバイスは、フレキシブルディスプレイパネルを採用する。そのようなパネルは、曲げることができるか、折り畳むことができるか、又は丸めることができる。従来のリジッドディスプレイと比較して、フレキシブルディスプレイは、曲げることができる／可撓性を有する特徴を可能にするために、カバーウィンドウの厚さ及び剛性を大幅に減らす必要がある。ポリマー膜は、フレキシブルディスプレイデバイスのカバーウィンドウでよく使用されている。その結果、カバーウィンドウの下にあるディスプレイパネルの壊れやすい構成要素（例えば、有機発光層、ＴＦＴアレイ及びバリア層）は、外部からの衝撃又は衝突による損傷をより受けやすい。損傷には、カバーウィンドウの凹み又はひび割れ、個々の層間の層間剥離、ディスプレイモジュールのピクセル損傷が含まれ、これらは、全て電子部品に悪影響を及ぼす。ディスプレイの製造業者は、ディスプレイデバイスの下にある壊れやすい電子部品を外力による衝撃下で保護するために使用できる効果的な耐衝撃性材料を常に探し求めている。
せん断増粘流体（ＳＴＦ）は、せん断速度に伴って粘度が増加する流体である。場合により、高せん断速度において、ＳＴＦは、固体のような特性を有する材料に変換される。そのような材料は、せん断がないか又は低せん断速度では流体であり、柔軟性を有するが、高せん断速度では硬くなる。
そのようなせん断増粘流体は、主に、せん断増粘流体を含浸させることにより、布地を主体とする可撓性を有するボディアーマーによって得られる防弾性を強化するために使用される。鈍的外傷による皮膚及び関節の損傷を防止するために、せん断増粘流体は、肘及び膝のパッドにも組み込まれる。更に、これらは、自転車、オートバイのヘルメット、ゴルフのクラブ及びボール並びに運動靴などのスポーツ用品；自動車；並びに飛行機で使用するための粗くてエネルギー吸収性の材料である発泡体、プラスチック及びナノコンポジットの設計にも使用することができる。
近年、そのようなＳＴＦ材料は、ディスプレイなどのフレキシブル電子デバイスの保護層としての有用性が見出されている。ＳＴＦ層は、通常の操作中に可撓性を有するが、デバイスが外力にさらされると硬くなって保護する。しかしながら、ＳＴＦ材料は、不透明又は半透明であり、ディスプレイデバイスの表示領域に適していない。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ，２６，６２－２９（１９６８）
ディスプレイデバイス、特にフレキシブルディスプレイデバイスで使用することができ、外力による衝撃又は衝突下でディスプレイデバイスを保護することができる光学的に透明なＳＴＦ材料が継続的に求められている。
本明細書に示される概念の理解を促進するために添付の図において実施形態が説明される。
本開示の光学的に透明なせん断増粘流体を有するディスプレイデバイスの概略図である。
図中の対象物が簡潔且つ明確にするために例示されたものであり、必ずしも縮図として描かれたものではないことは、当業者に明らかである。例えば、図中の対象物の一部の寸法は、実施形態の理解の向上を促進するために、他の対象物に対して誇張されている場合がある。
本明細書の全体にわたって用いられるとき、以下の略語は、文脈が特に明確に示さない限り、以下の意味を有するものとする：℃＝摂氏度；ｇ＝グラム；ｎｍ＝ナノメートル、μｍ＝ミクロン＝マイクロメートル；ｍｍ＝ミリメートル；ｓｅｃ．＝秒；及びｍｉｎ．＝分。特に明記しない限り、全ての量は、重量パーセント（「重量％」）であり、全ての比は、モル比である。全ての数値範囲は、そのような数値範囲が合計１００％になるように制約されることが明らかである場合を除いて、包含的であり、且つ任意の順で組み合わせ可能である。特に明記しない限り、全てのポリマー及びオリゴマーの分子量は、ｇ／ｍｏｌ又はダルトン単位の重量平均分子量（「Ｍｗ」）であり、ポリスチレン標準と比較してゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定される。
本明細書において使用される「架橋可能基」という用語は、熱処理又は放射への曝露により別の化合物又はポリマー鎖に連結することができる化合物又はポリマー鎖上の基を指す。
「架橋」、「架橋した」、「硬化」及び「硬化した」という用語は、化合物又はポリマー中の結合又は鎖を連結することを指し、本明細書の全体にわたって同じ意味で用いられる。
「液体媒体」という用語は、室温（２０～２５℃）で液体であり、純粋な液体又は液体の組み合わせであり得る材料を指す。液体媒体という用語は、１種以上の液体が存在するか否かに関わらず使用される。
「光学的に透明」という用語は、視覚的に透明であり、曇りがない材料又は層を指す。
「透過率」という用語は、反対側で検出可能であるようにフィルム又は層を通過する、フィルム又は層に衝突する所与の波長の光のパーセントを指す。光透過率の測定は、可視領域（３８０ｎｍ～８００ｎｍ）で行うことができる。
「実質的に可溶性である」という用語は、ポリマーの少なくとも９５％、又は少なくとも９６％、又は少なくとも９７％、又は少なくとも９８％、又は少なくとも９９％が液体媒体に可溶性であるであること、すなわちポリマーの５％以下、又は４％以下、又は３％以下、又は２％以下、又は１％以下が固体状態で存在することを意味する。
用語「フィルム」及び「層」は、本明細書の全体にわたって同じ意味で用いられる。
本明細書では、特に明示的に述べられるか、又は使用に関連して反対のことが示されない限り、本明細書の主題の実施形態が特定の特徴又は要素を含むか、包含するか、含有するか、有するか、それらからなるか、又はそれらによって若しくはそれらから構成されると述べられるか又は記載される場合、明示的に述べられた又は記載されたものに加えて１つ以上の特徴又は要素が実施形態で存在し得る。本明細書の開示された主題の代わりの実施形態は、特定の特徴又は要素から本質的になると記載されるが、その実施形態では、操作の原理又は実施形態の際立った特性を実質的に変更する特徴又は要素は、その中に存在しない。本明細書の記載された主題の更なる代わりの実施形態は、特定の特徴又は要素からなると記載されるが、その実施形態又はその実態のない変形形態では、具体的に述べられた又は記載された特徴又は要素のみが存在する。
また、「１つの（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」の使用は、本明細書に記載される要素及び成分を記載するために使用される。これは、便宜上及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるためになされているに過ぎない。この記述は、１つ又は少なくとも１つを含むと解釈されなければならず、且つそれが別の意味を有することが明らかでない限り、単数は、複数も含む。
他に定義されない限り、本明細書で使用する全ての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般に理解されるものと同一の意味を有する。本明細書に記載されるものと同様の又は均等な方法及び材料を本開示の実施形態の実施又は試験に使用することができるが、好適な方法及び材料が以下に記載される。更に、材料、方法及び実施例は、例示的であるに過ぎず、限定的であることを意図しない。
本明細に記載されていない範囲について、特定の材料、処理動作及び回路に関する多くの詳細は、従来通りであり、有機発光ダイオードディスプレイ、光検出器、太陽電池及び半導体部材技術の教科書及び他の情報源に見出すことができる。
本開示は、１００ｎｍ以下の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子；少なくとも１種のポリマー；及び液体媒体を含む光学的に透明なせん断増粘流体（「ＳＴＦ」）であって、少なくとも１種のポリマーは、液体媒体に実質的に可溶性である、透明なせん断増粘流体を提供する。
少なくとも１種のポリマーは、光学的に透明且つ無色である。ポリマーは、ホモポリマーであり得るか、又は２種以上のモノマーから誘導されたコポリマーであり得る。いくつかの実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、架橋可能な基を含むことができる。架橋可能な基の例としては、限定するものではないが、ビニル、ヒドロキシル、カルボキシル、パーフルオロビニルエーテル、１－ベンゾ－３，４－シクロブタンなどのベンゾシクロブタン、ｏ－キノジメタン、シロキサン、シアネート基、エポキシなどの環状エーテル、シクロアルケン、アセチレン基及びこれらの組み合わせが挙げられる。
架橋性基を有する少なくとも１種のポリマーは、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート－ｃｏ－メタクリル酸）、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート－ｃｏ－２－カルボキシエチルアクリレート）、アクリレート官能基で部分的にキャップされたポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る。
一実施形態では、２－ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマーは、－２０℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。２－ヒドロキシテチルアクリレートのコポリマーを形成するために使用されるモノマーの例としては、限定するものではないが、２－（２－エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブチルアクリレート、ｉｓｏ－ブチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、ｉｓｏ－デシルアクリレート、ｉｓｏ－デシルメタクリレート、エチルジグリコールアクリレート、ヘプタデシルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルカプロラクトンアクリレート、２－プロピルヘプチルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ｉｓｏ－トリデシルメタクリレート、ｎ－プロピルアクリレート及びこれらの組み合わせを挙げることができる。
いくつかの実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、２種以上のポリマーを含む。一実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、第１の架橋性基を有する第１のポリマーと、第２の架橋性基を有する第２のポリマーとを含む。第１のポリマーは、第２のポリマーと架橋されている。第１の架橋性基は、第２の架橋性基と同じであるか又は異なり得る。
いくつかの実施形態では、光学的に透明なせん断増粘流体は、少なくとも１種のポリマーを架橋することができる架橋剤を更に含むことができる。架橋剤としては、限定するものではないが、テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル；ヘキサメトキシメチルメラミン；ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル；ブタンジグリシジルエーテル；コハク酸；プロパントリカルボン酸；イソホロンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートなどのイソシアネート；Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＰＬ３４０ ＢＡ／ＳＮ及びＤｅｓｍｏｄｕｒ（登録商標）ＢＬ３５０ ＭＰＡ／ＳＮ（Ｃｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｅｌａｎｄ ＡＧから市販）などのブロックイソシアネート；並びにこれらの組み合わせを挙げることができる。
架橋剤によって架橋された少なくとも１種のポリマーとしては、限定するものではないが、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－（メタ）アクリル酸アクリレート）、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート）－ｃｏ－２－カルボキシエチルアクリレート）、ポリ（２－ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート）及びこれらの組み合わせを挙げることができる。架橋剤は、ポリマーの重量を基準として５～２５重量％又は１０～２０重量％の範囲で存在することができる。
少なくとも１種のポリマーは、熱的に又は放射下で架橋され得る。いくつかの実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、２５０℃未満、又は２４０℃未満、又は２３０℃未満、又は２２０℃未満、又は２１０℃未満、又は２００℃未満の温度で熱的に架橋され得る。熱的な架橋を促進するために架橋触媒が存在し得る。架橋触媒は、酸又は塩基であり得る。
架橋触媒の例としては、限定するものではないが、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、２－エチルイミダゾール、２－エチルヘキサン酸、テトラメチルグアニジン、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、クロム（ＩＩＩ）２－エチルヘキサノエート、コバルトオクトエート、トリエタノールアミンキレートチタン、ジルコニウムオクトエート及びこれらの組み合わせを挙げることができる。
市販の架橋触媒の例としては、限定するものではないが、Ｋ－ＰＵＲＥ ＴＡＧ－２６７８、Ｋ－ＰＵＲＥ ＴＡＧ－２７１３及びＫ－ＰＵＲＥ ＴＡＧ－２６７８（Ｋｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃから市販）、
Figure 0007171792000001
 （Ｈｅｒａｅｕｓ Ｅｐｕｒｉｏ ＬＬＣから市販）を挙げることができる。
いくつかの実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、ラジカル開始剤の存在下において、１００～６００ｎｍ、又は１５０ｎｍ～６００ｎｍ、又は１９０ｎｍ～６００ｎｍの範囲（紫外～可視光の範囲）にピーク最大値を有する化学線下で架橋され得る。
ラジカル開始剤としては、限定するものではないが、ベンゾフェノン、ベンジル（１，２－ジケトン）、チオキサントン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、２，４，６－トリメチル－ベンゾイル－ジフェニルホスフィンオキシド、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－１－プロパノン、オリゴマー状の２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノン、ジヒドロ－５－（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－オキソプロピル）－１，１，３－トリメチル－３－（４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－オキソプロピル）フェニル）－１Ｈ－インデン及びビス－ベンゾフェノン、α－［（４－ベンゾイルフェノキシ）－アセチル］－ω－［［２－（４－ベンゾイルフェノキシ）－アセチル］オキシ］－ポリ（オキシ－１，４－ブタンジイル））、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（４－メチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ジフェニル－４－メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル－２，４，６－トリメチルフェニルスルホニウムｐ－トルエンスルホネート並びにこれらの組み合わせが挙げられる。
適切な放射は、例えば、太陽光又は人工光源からの光中に存在し得る。光源は、特に限定されず、目的に応じて適切に選択され得る。点光源とアレイ（「ランプカーペット」）とは、共に適している。その例としては、カーボンアークランプ、キセノンアークランプ、金属ハロゲン化物がドープされている場合がある低圧、中圧、高圧及び超高圧の水銀ランプ（金属－ハロゲンランプ）、マイクロ波励起金属蒸気ランプ、エキシマーランプ、超化学線蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、電子閃光、写真用投光ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、電子ビーム及びＸ線が挙げられる。使用される具体的な波長は、ＳＴＦで使用される具体的なラジカル開始剤に応じて変動する。そのような波長選択及び光量は、十分に当業者の能力内にある。本ＳＴＦで使用される光量は、３０～８，０００ｍＪ／ｃｍ２、２００～８，０００ｍＪ／ｃｍ２、又は４００～６，０００ｍＪ／ｃｍ２、又は５００～５，０００ｍＪ／ｃｍ２、又は５５０～３，０００ｍＪ／ｃｍ２で変動することができる。一実施形態では、０．２４ｍ／ｓの速度のＤランプを備えたＦｕｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ紫外線（ＵＶ）ベルト式装置（Ｈｅｒａｅｕｓ Ｎｏｂｌｅｌｉｇｈｔ Ａｍｅｒｉｃａｎ，ＬＬＣ，Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，ＭＤ）が使用される。
少なくとも１種のポリマーは、ＳＴＦの総重量を基準として１０～２５重量％又は１５～２０重量％の量で存在することができる。
本明細書に記載の固体ナノ粒子は、１００ｎｍ以下の平均粒子サイズを有する。固体ナノ粒子が１００ｎｍより大きい場合、ＳＴＦは、ヘイズを生じ、光学的に透明でない。いくつかの実施形態では、固体ナノ粒子は、５～１００ｎｍ、又は１０～１００ｎｍ、又は２０～１００ｎｍ、又は３０～１００ｎｍ、又は４０～１００ｎｍ、５０～１００ｎｍ、又は６０～１００ｎｍ、又は７０～１００ｎｍ、又は１０～７５ｎｍ、又は３０～７５ｎｍ、又は５０～７０ｎｍの範囲の平均粒子サイズを有する。
いくつかの実施形態では、固体ナノ粒子は、１．３～２．０、又は１．３～１．８、又は１．３～１．７の屈折率（５５０ｎｍで測定）を有する。一実施形態では、少なくとも１種のポリマーは、固体ナノ粒子と同じ屈折率を有する。
固体ナノ粒子は、無機ナノ粒子又は有機ナノ粒子であり得る。いくつかの実施形態では、有機ナノ粒子は、ヒドロキシル化ビニル又はアクリレートポリマー、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンオキシド及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
いくつかの実施形態では、無機ナノ粒子は、シリカ、炭酸カルシウム、酸化鉄、カオリン粘土、酸化アルミニウム及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
一実施形態では、無機ナノ粒子は、シリカナノ粒子であり得る。シリカナノ粒子は、単分散で均一なサイズのシリカナノ粒子であり得、アルコールなどの溶媒中でテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）を加水分解することによって合成され得る。アルコールは、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はこれらの混合アルコールであり得る。酸触媒及び塩基触媒が合成のために存在し得る。塩基触媒は、アンモニアであり得る。単分散で均一なサイズのシリカナノ粒子の合成は、（非特許文献１）に開示されており、これは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。溶媒中のシリカナノ粒子は、光学的に透明なＳＴＦ流体中で直接使用することができる。
いくつかの実施形態では、シリカナノ粒子は、有機ケイ素化合物によって変性され得る。有機ケイ素化合物は、オルガノアルコキシシラン又はメタリルシランであり得る。オルガノアルコキシシランは、以下に示されているようにケイ素に連結されている１つ、２つ又は３つのアルコキシ基を含むことができる。
Figure 0007171792000002
 式中、Ｒは、アルキル又はアリールであり；Ｘ１～Ｘ３は、同じであるか又は異なり、それぞれ独立してＲ又はアルコキシである。オルガノアルコキシシランの例としては、限定するものではないが、３－アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）、３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）、３－アミノプロピルトリメトキシ－エトキシエトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシ－メトキシエトキシシラン、３－アミノプロピル－メチル－ジエトキシシラン、Ｎ－メチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ブチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピル－メチルジメトキシシラン、アミノエチル－アミノプロピル－トリメトキシシラン、（３－グリシジルオキシプロピル）トリメトキシシラン）、（Ｎ－シクロヘキシルアミノメチル）メチルジ－エトキシシラン、（Ｎ－シクロヘキシルアミノメチル）トリエトキシシラン、（Ｎ－フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、（Ｎ－フェニルアミノメチル）トリメトキシシラン、Ｎ－エチル－アミノイソブチルトリメトキシシラン、４－アミノ－３，３－ジメチルブチルトリメトキシシラン、（３－クロロプロピル）トリメトキシシラン、（３－グリシジルオキシプロピル）トリメトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、トリエトキシ（イソブチル）シラン、トリエトキシ（オクチル）シラン、トリス（２－メトキシエトキシ）（ビニル）シラン、フェニルトリメトキシシラン、クロロトリエトキシシラン、エチレン－トリメトキシシラン、３－アクリルオキシトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、８－メタクリルオキシルトリメトキシシラン又は上記の任意の組み合わせを挙げることができる。
外力又は衝撃を受けた際にＳＴＦがデバイスを十分に保護するために、固体ナノ粒子は、ＳＴＦの総重量を基準として５０～７５重量％の量で存在することができる。いくつかの実施形態では、固体ナノ粒子は、ＳＴＦの総重量を基準として５０～７０重量％、又は５４～７０重量％、又は５０～６０重量％、又は６０～７０重量％の量で存在することができる。
液体媒体は、光学的に透明である。液体媒体は、固体ナノ粒子と同じであるか又はそれに近い屈折率を有し、その中に固体ナノ粒子を分散させることができる。一実施形態では、液体媒体は、１．４７±０．０５の屈折率（５５０ｎｍで測定）を有する。
一実施形態では、液体媒体は、アルキレングリコール、ポリアルキレングリコール、グリセロール、ポリオール及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る。液体媒体の例としては、限定するものではないが、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールを挙げることができる。
存在する液体媒体の量は、固体ナノ粒子を分散させ、１種以上のポリマーを溶解させるのに十分な量である。いくつかの実施形態では、液体媒体は、ＳＴＦの総重量を基準として２５～５０重量％又は１５～２５重量％の量で存在することができる。
一実施形態では、ＳＴＦは、固体ナノ粒子及び架橋性基を有する少なくとも１種のポリマー又は少なくとも１種のポリマー及び架橋剤を液体媒体に添加し、これらを一緒に混合することによって調製することができる。
別の実施形態では、ＳＴＦは、架橋性基を有する少なくとも１種のポリマー又は少なくとも１種のポリマー及び架橋剤を液体媒体に溶解させて、ポリマー溶液を形成することにより調製することができる。その後、固体ナノ粒子が添加され、ポリマー溶液中に分散される。
本開示のＳＴＦは、せん断応力の衝撃を受ける前に粘性を有する液体である。いくつかの実施形態では、ＳＴＦは、せん断応力がない状態で２，０００～２００，０００ｍＰａ．ｓ、又は５，０００～２００，０００ｍＰａ．ｓ、又は１０，０００～２００，０００ｍＰａ．ｓ、又は１５，０００～２００，０００ｍＰａ．ｓ、又は２０，０００～１５０，０００ｍＰａ．ｓ、又は５０，０００～１００，０００ｍＰａ．ｓの粘度を有することができる。
ＳＴＦの上記の実施形態のいずれも、相互に排他的ではない限り、１つ以上の他の実施形態と組み合わせることができる。当業者は、いずれの実施形態が相互に排他的であるかを理解し、その結果、本出願によって考えられる実施形態の組み合わせを容易に決定できるであろう。
本開示は、保護アセンブリにも関する。保護アセンブリは、第１の光学的に透明な層と、第１の光学的に透明な層上に配置されたＳＴＦとを含む。ＳＴＦは、前述したものと同じである。いくつかの実施形態では、ＳＴＦは、第１の光学的に透明な層上にコーティングされ、乾燥されて、溶媒が存在する場合にはそれが除去されることでＳＴＦ層を形成する。一実施形態では、ＳＴＦ層は、その後、架橋されて、架橋されたＳＴＦ層を形成する。
保護アセンブリは、ＳＴＦ層上に配置された第２の光学的に透明な層を更に含むことができる。一実施形態では、第２の光学的に透明な層は、ＳＴＦ層の上に積層することができる。架橋されたＳＴＦ層を形成するために、第２の光学的に透明な層の積層前又は後に架橋を行うことができる。別の実施形態では、ＳＴＦは、第１の光学的に透明な層と第２の光学的に透明な層との間に封入され、その後、架橋される。溶媒は、封入前に除去される。
第１及び第２の光学的に透明な層は、同じ又は異なる材料から作られ得る。適切な材料としては、限定するものではないが、ポリイミド、ポリイミド－アミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、エチレン－テトラフルオロエチレンコポリマー及びこれらの組み合わせを挙げることができる。いくつかの実施形態では、光学的に透明な層は、１０～４００μｍ、２５～４００μｍ、又は２５～３５０μｍ、又は２５～３００μｍ、又は２５～２５０μｍ、又は３０～１００μｍ、又は４０～７５μｍ、又は５０～７０μｍの厚さを有することができる。
いくつかの実施形態では、ＳＴＦ層は、１～４００μｍ、又は３～４００μｍ、又は３～３５０μｍ、又は５～４００μｍ、又は５～３００μｍ、又は１０～４００μｍ、又は１０～２５０μｍ、又は２０～４００μｍ、又は２０～２００μｍ、又は２５～４００μｍ、又は２５～３５０μｍ、２５～３００μｍ、又は２５～２５０μｍ、又は２５～２００μｍ、又は２５～１５０μｍ、又は５～１００μｍ、又は５～５０μｍ、又は５～３０μｍ、又は５～２０μｍ、又は７～２５μｍ、又は７～２０μｍ、又は７～１５μｍの範囲の厚さを有することができる。
本開示の保護アセンブリは、無色透明である。保護アセンブリの光学特性（透過率、ヘイズ、黄色度指数及びｂ＊）は、ＵＶ－ＶＩＳ分光計を用いて測定することができる。黄色度指数は、３９５～７００ｎｍの吸収スペクトルに基づいて計算することができる。ｂ＊（認識される黄変の程度に相関する）は、３８０～７８０ｎｍの％透過率に基づいて計算することができる。
本開示において、ＳＴＦ層を含む保護アセンブリの光学特性は、２つの透明なポリマーフィルム間にＳＴＦ層を配置することによって決定することができる。保護アセンブリは、５％以下、又は３％以下、又は２％以下、又は１％以下のヘイズ値を有し得る。保護アセンブリは、少なくとも８０％、又は少なくとも８５％、又は少なくとも９０％、又は少なくとも９３％、又は少なくとも９４％、又は少なくとも９５％、又は少なくとも９７％、又は少なくとも９８％、又は少なくとも９９％の透過率を有し得る。
せん断応力下での硬化におけるＳＴＦの有効性は、せん断速度の関数としてＳＴＦの粘度を測定するためのひずみ制御レオメーターを使用して決定することができる。ＳＴＦの有効性は、突き刺し試験でも確認することができる。突き刺し試験では、流体にプラスチック製のピペットが約１０ｓｅｃ－１の速度で突き刺される。衝撃により即時に流体が固体に変わる場合、ＳＴＦは、この試験に合格する。一般的に、ＳＴＦが１ｓｅｃ－１未満の時間スケールで固体になることは、望ましくない。
本開示は、保護アセンブリを作製する方法に更に関する。いくつかの実施形態では、本方法は、（ａ）架橋性基を有する少なくとも１種のポリマーを提供する工程；（ｂ）少なくとも１種のポリマーを液体媒体に溶解させて、ポリマー溶液を形成する工程；（ｃ）１００ｎｍ以下の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子をポリマー溶液に分散させて、光学的に透明なせん断増粘流体（ＳＴＦ）を形成する工程；（ｄ）せん断増粘流体を第１の光学的に透明な層上にコーティングして、ＳＴＦ層を形成する工程；及び（ｅ）ＳＴＦ層をある量の硬化エネルギーに曝露して、硬化されたＳＴＦ層を形成する工程を含む。
いくつかの実施形態では、本方法は、（ａ）少なくとも１種のポリマーと架橋剤とを提供する工程；（ｂ）少なくとも１種のポリマーと架橋剤とを液体媒体に溶解させて、ポリマー溶液を形成する工程；（ｃ）１００ｎｍ以下の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子をポリマー溶液に分散させて、光学的に透明なせん断増粘流体（ＳＴＦ）を形成する工程；（ｄ）せん断増粘流体を第１の光学的に透明な層上にコーティングして、ＳＴＦ層を形成する工程；及び（ｅ）ＳＴＦ層をある量の硬化エネルギーに曝露して、硬化されたＳＴＦ層を形成する工程を含む。架橋剤は、前述したものと同じである。
硬化エネルギーとしては、前述したような熱及び／又は化学線を挙げることができる。一実施形態では、上述した方法において、工程（ｅ）前に工程（ｄ’）を追加することができる。工程（ｄ’）は、ＳＴＦ層の上面に第２の光学的に透明な層を付加することを含む。別の実施形態では、上述した方法は、硬化されたＳＴＦ層の上面に第２の光学的に透明な層を付加する工程（ｆ）を更に含む。
第１及び第２の光学的に透明な層は、同じ材料から作られるか又は異なる材料から作られ得、それらは、前述したものである。更に、ＳＴＦは、前述したものと同じである。
本開示は、上述した保護アセンブリを含むディスプレイデバイスにも関する。いくつかの実施形態では、ディスプレイデバイスは、フレキシブルディスプレイデバイスであり得る。例示的なデバイスを図１に示す。デバイス１０００は、可撓性基材１００、ディスプレイパネル２００及び保護アセンブリ３００を有し、保護アセンブリは、ディスプレイパネルの表示側にある。保護アセンブリ３００は、第１の透明な可撓性フィルム１０、光学的に透明なＳＴＦ層２０及び第２の透明な可撓性フィルム３０を含む。透明な可撓性フィルム及びＳＴＦ層は、前述したものと同じである。可撓性基材１００は、ポリマーフィルム又はガラス層であり得、当技術分野で周知である。ディスプレイパネル２００は、任意の公知のタイプのディスプレイであり得る。例示的なディスプレイパネルとしては、限定するものではないが、ＬＣＤ及びＯＬＥＤが挙げられる。
本明細書に記載される概念は、以下の実施例において更に説明され、実施例は、特許請求の範囲に記載される本発明の範囲を限定するものではない。別段の指示がない限り、温度の全ての単位は、室温（２０～２５℃）であり、圧力の全ての単位は、標準圧力又は１０１ｋＰａである。
材料
ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬＴＭＭＡ－ＳＴ－ＺＬ：３０重量％の固体含有量の、メタノール中の７０～１００ｎｍの粒子サイズのコロイダルシリカ単分散ナノ粒子、Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｍｅｒｉｃａ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓから市販。
Ｖ６５ ＨＰ：２，２’－アゾビス（２．４－ジメチルバレロニトリル）、富士フイルム和光純薬株式会社（東京、日本）から市販。
ポリマーの調製
実施例１
ヒドロキシエチルアクリレート（「ＨＥＡ」）とグリシジルメタクリレート（「ＧＭＡ」）とから誘導されるコポリマーを以下の通りに調製した。
４０ｍｌのガラスバイアル内で１．６２９２ｇのＧＭＡを１８．４２２０ｇのＨＥＡ及び１５．０１２３ｇのイソプロピルアルコール（「ＩＰＡ」）と混合した。バイアルを氷／水浴中に入れて、浴との温度平衡に到達させた。次いで、０．６０６２ｇのＶ６５ ＨＰをバイアルに添加した。次いで、バイアルをシェーカーに入れ、Ｖ６５ ＨＰを溶解させて溶液を形成した。次いで、バイアルを浴に戻した。三口丸底フラスコの１００ｍｌ反応器への供給プロセスにわたり、溶液を浴中で保持した。３つの口は、それぞれ熱電対、コンデンサー及び溶液の供給口に連結した。反応器は、加熱マントルにより加熱した。加熱マントルは、磁気撹拌子で反応器を撹拌するためにマグネチックスターラー上に乗せた。反応器に１５．０ｇのＩＰＡを入れた。次いで、反応器を８０℃まで加熱し、８０℃で維持した。溶液を９０分かけて反応器に供給した。溶液を供給した後、反応器を８０℃で２時間維持した。その後、反応器を２０～２５℃まで冷却した。反応器中でポリマー溶液が得られ、直接使用した。ポリマー溶液中のポリマー含有量は、４１．６重量％であった。
実施例２
カルボキシエチルアクリレート（「ＣＥＡ」）とＧＭＡとから誘導されるコポリマーを以下の通りに調製した。
溶液を、２．０２２３ｇのＣＥＡ、１８．００６２ｇのＧＭＡ、１４．８１５９ｇのＩＰＡ及び０．６０３９ｇのＶ６５ ＨＰを混合することによって調製したことを除いて、実施例１と同じ手順を行った。最終製品のポリマー溶液中のポリマー含有量は、３８．３重量％であった。
実施例３
ＨＥＡと、ＣＥＡと、ＧＭＡとから誘導されるコポリマーを以下の通りに調製する。
５．７７２ｇのＨＥＡ、７．１６ｇのＣＥＡ、７．０６４ｇのＧＭＡ、１５ｇのＩＰＡ及び０．６ｇのＶ６５ ＨＰを混合することによって溶液を調製することを除いて、実施例１と同じ手順を行う。
５０μｍのポリイミド（ＰＩ）フィルムの作製
実施例４
１２．８３７ｋｇのトリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＭＢ、セイカ株式会社、和歌山精化工業株式会社、日本）及び１０７．５ｋｇのジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）を、撹拌しながら窒素パージされている８０ガロンの反応器に入れた。溶液を撹拌して、ＴＦＭＢをＤＭＡＣ溶媒中に完全に溶解させ、全ての後続の工程中に撹拌を継続した。反応混合物を約４０℃まで加熱した。１．１１ｋｇのビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ、三菱化学株式会社、日本）及び１５．０７９ｋｇの４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物（６ＦＤＡ、Ｓｙｎａｓｉａ，Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，ＮＪ）を６時間かけて４つの別々のアリコートで添加した。１．８３１ｇのＢＰＤＡ及び２４．８８１ｇの６ＦＤＡの３つの追加のアリコートを約３時間かけて反応混合物に添加した。プレポリマーの粘度は、２５℃で約８９ポアズであった。ポリマーの一部を、窒素パージされた反応器内において、ＤＭＡＣ中の６重量％ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤＡ）の混合物を使用して約１２００～１３００ポアズに重合した（「仕上げた」）。材料を４０℃で約２４時間かけてＰＭＤＡ溶液と重合し、ポリアミック酸溶液を形成した。ポリアミック酸溶液を移動ベルト上にキャストし、約９５～約１５０℃の範囲のオーブン温度で乾燥させた。自立膜をベルトから剥離し、約１１０～約６７５℃の温度（輻射ヒーター表面温度）のテンターオーブン内において輻射ヒーターで加熱して乾燥させ、ポリマーフィルムをイミド化した。５０μｍのＰＩフィルムを得た。
ＳＴＦ、保護アセンブリの作製及び特性評価
実施例５
ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬＴＭＭＡ－ＳＴ－ＺＬ（ＭＡ－ＳＴ－ＺＬ）、ジエチレングリコール並びに実施例１及び２から調製した合成コポリマーを、表１に記載の量で混合して混合物を形成した。３０℃でロータリーエバポレーターを用いて混合物からメタノールを除去し、対照及びサンプル１～３として液体ＳＴＦ配合物を形成した。
Figure 0007171792000003
対照及びサンプル１～３から調製した液体ＳＴＦ配合物を、実施例４から作製した第１の５０μｍの無色ポリイミドフィルム上にドローダウンバーコーターを用いてコーティングし、ＳＴＦ層を形成した。実施例４から作製した５０μｍの無色のポリイミドフィルムの第２のフィルムをＳＴＦ層上に配置して、保護アセンブリを形成し、次いでこれを約１０ｓｅｃ－１の速度の突き刺し試験で試験した。結果を表２に示す。
Figure 0007171792000004
サンプル１の透過率及びヘイズは、Ａｇｉｌｅｎｔ／Ｈｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄ ８４５３ ＵＶ－ＶＩＳ分光計（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ，Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ，ＣＡから市販）を使用して測定した。透過率は、４００～８００ｎｍの波長で測定した。実施例４から作製した２つの５０μｍのＰＩフィルムを含み、２つのフィルム間にジエチレングリコールが充填されたブランクサンプルを４００～８００ｎｍの波長で１００％の透過率にベースライン設定した。サンプル１の透過率は、９４％であり、ヘイズは、０．８４未満であった。
実施例６
５７．４重量％のＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＡＳＯＬＴＭＭＡ－ＳＴ－ＺＬ、２５．７重量％のジエチレングリコール、８．５重量％の実施例１から調製したコポリマー及び８．４重量％の実施例２から調製したコポリマーを混合して混合物を形成した。３０℃でロータリーエバポレーターを用いて混合物からメタノールを除去し、液体ＳＴＦ配合物を形成する。
ＳＴＦ配合物を、実施例４から作製された５０μｍのＰＩフィルム上にコーティングし、乾燥することでＰＩフィルム上にＳＴＦ層を形成する。ＳＴＦ層をＰＩフィルムと共に１５０℃で５～１５分間ベークして、第１の５０μｍのＰＩフィルム上に架橋ＳＴＦ層を形成する。実施例４から作製した第２の５０μｍのＰＩフィルムを、架橋されたＳＴＦ層上に積層することで保護アセンブリを形成する。保護アセンブリは、１０ｓｅｃ－１の速度での突き刺し試験に合格する。
１０ 第１の透明な可撓性フィルム
２０ 光学的に透明なＳＴＦ層
３０ 第２の透明な可撓性フィルム
１００ 可撓性基材
２００ ディスプレイパネル
３００ 保護アセンブリ
１０００ デバイス

Claims (12)

  1. ４０～１００ｎｍの範囲の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子；
    ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート）である少なくとも１種のポリマー；並びに、
    アルキレングリコール、ポリアルキレングリコール、ポリオール及びこれらの組み合わせからなる群から選択される液体媒体
    を含む光学的に透明なせん断増粘流体であって、前記少なくとも１種のポリマーは、前記液体媒体に実質的に可溶性であり、前記固体ナノ粒子は、前記せん断増粘流体の総重量を基準として５０～６０重量％の量で存在し及び、前記少なくとも１種のポリマーが、前記せん断増粘流体の総重量を基準として１５～２０重量％の量で存在する、光学的に透明なせん断増粘流体。
  2. テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、ヘキサメトキシメチルメラミン、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジグリシジルエーテル、コハク酸、プロパントリカルボン酸、イソシアネート及びブロックイソシアネートからなる群から選択される架橋剤を更に含む、請求項１に記載のせん断増粘流体。
  3. 前記固体ナノ粒子は、１．３～２．０の屈折率を有し、及び前記少なくとも１種のポリマーは、前記固体ナノ粒子と同じ屈折率を有する、請求項１又は２に記載のせん断増粘流体。
  4. 前記少なくとも１種のポリマーは、２５０℃未満の温度で架橋されている、請求項１～３のいずれか一項に記載のせん断増粘流体。
  5. 前記少なくとも１種のポリマーは、紫外線（ＵＶ）架橋されている、請求項１～３のいずれか一項に記載のせん断増粘流体。
  6. 前記固体ナノ粒子は、無機又は有機ナノ粒子である、請求項１～５のいずれか一項に記載のせん断増粘流体。
  7. 前記無機ナノ粒子は、シリカナノ粒子であり、及び前記シリカナノ粒子は、アルコール中でオルトケイ酸テトラエチルを加水分解することによって作られた単分散で均一なサイズのシリカナノ粒子である、請求項６に記載のせん断増粘流体。
  8. 前記シリカナノ粒子は、オルガノアルコキシシラン又はメタリルシランの有機ケイ素化合物によって変性されている、請求項７に記載のせん断増粘流体。
  9. 第１の光学的に透明な層と、前記第１の光学的に透明な層上に配置されている、請求項１～８のいずれか一項に記載のせん断増粘流体とを含む保護アセンブリ。
  10. 前記せん断増粘流体上に配置された第２の光学的に透明な層を更に含む、請求項９に記載の保護アセンブリ。
  11. 保護アセンブリを製造する方法であって、
    （ａ）ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート）である少なくとも１種のポリマーを提供する工程；
    （ｂ）前記少なくとも１種のポリマーをアルキレングリコール、ポリアルキレングリコール、ポリオール及びこれらの組み合わせからなる群から選択される液体媒体に溶解させて、ポリマー溶液を形成する工程；
    （ｃ）４０～１００ｎｍの範囲の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子を前記ポリマー溶液に分散させて、光学的に透明なせん断増粘流体（ＳＴＦ）を形成する工程であって、前記固体ナノ粒子は、前記せん断増粘流体の総重量を基準として５０～６０重量％の量で存在し及び、前記少なくとも１種のポリマーが、前記せん断増粘流体の総重量を基準として１５～２０重量％の量で存在する工程；
    （ｄ）前記せん断増粘流体を第１の光学的に透明な層上にコーティングして、ＳＴＦ層を形成する工程；及び
    （ｅ）前記ＳＴＦ層をある量の硬化エネルギーに曝露して、硬化されたＳＴＦ層を形成する工程
    を含む方法。
  12. 保護アセンブリを製造する方法であって、
    （ａ）ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート）である少なくとも１種のポリマーと架橋剤とを提供する工程；
    （ｂ）前記少なくとも１種のポリマーと前記架橋剤とをアルキレングリコール、ポリアルキレングリコール、ポリオール及びこれらの組み合わせからなる群から選択される液体媒体に溶解させて、ポリマー溶液を形成する工程；
    （ｃ）４０～１００ｎｍの範囲の平均粒子サイズを有する固体ナノ粒子を前記ポリマー溶液に分散させて、光学的に透明なせん断増粘流体（ＳＴＦ）を形成する工程であって、前記固体ナノ粒子は、前記せん断増粘流体の総重量を基準として５０～６０重量％の量で存在し及び、前記少なくとも１種のポリマーが、前記せん断増粘流体の総重量を基準として１５～２０重量％の量で存在する工程；
    （ｄ）前記せん断増粘流体を第１の光学的に透明な層上にコーティングして、ＳＴＦ層を形成する工程；及び
    （ｅ）前記ＳＴＦ層をある量の硬化エネルギーに曝露して、硬化されたＳＴＦ層を形成する工程
    を含む方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114250629B (zh) * 2021-12-02 2023-07-25 西安工程大学 一种智能防刺面料的制备方法及其产品和应用
CN116100886A (zh) * 2022-06-30 2023-05-12 深圳大学 一种力传感复合膜及制备方法
CN115071237A (zh) * 2022-07-07 2022-09-20 深圳大学 一种复合膜及其制备方法
CN115386340B (zh) * 2022-09-20 2024-01-30 四川省地质矿产勘查开发局四0三地质队 一种非连续剪切增稠流体及其制备方法与应用

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003147017A (ja) 2001-02-23 2003-05-21 Fuji Photo Film Co Ltd 硬化性組成物、それを用いたハードコート処理物品及び画像表示装置
JP2008214390A (ja) 2007-02-28 2008-09-18 Chiba Univ 流体組成物
WO2014098025A1 (ja) 2012-12-18 2014-06-26 日産化学工業株式会社 スチレン構造を含む自己組織化膜の下層膜形成組成物
JP2016069476A (ja) 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物及びその用途
JP2016101716A (ja) 2014-11-28 2016-06-02 住友化学株式会社 光学積層体
JP2019164293A (ja) 2018-03-20 2019-09-26 日立化成株式会社 画像表示装置、共重合体溶液、及びフィルム材
US20190338142A1 (en) 2016-12-29 2019-11-07 3M Innovative Properties Company Flexible Nanoparticle Optical Coating Compositions
JP2021509180A (ja) 2017-12-15 2021-03-18 シェンジェン ロイオル テクノロジーズ カンパニー リミテッドＳｈｅｎｚｈｅｎ Ｒｏｙｏｌｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． フレキシブル耐衝撃保護材及びそのフレキシブル耐衝撃保護カバー

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5886102A (en) * 1996-06-11 1999-03-23 Shipley Company, L.L.C. Antireflective coating compositions
CN1194044C (zh) * 2002-12-16 2005-03-23 同济大学 用硅溶胶制备纳米白碳黑的方法
US7226878B2 (en) * 2003-05-19 2007-06-05 The University Of Delaware Advanced body armor utilizing shear thickening fluids
US20040242729A1 (en) * 2003-05-30 2004-12-02 3M Innovative Properties Company Stabilized particle dispersions containing surface-modified inorganic nanoparticles
JP2011018508A (ja) * 2009-07-08 2011-01-27 Seiko Epson Corp 電気光学装置および電子機器
JP5657961B2 (ja) * 2009-10-29 2015-01-21 関西ペイント株式会社 共重合体、該共重合体を含有する水性塗料組成物及び複層塗膜形成方法
US10626284B2 (en) * 2011-12-15 2020-04-21 The Sherwin-Williams Company Rheological methods for high block, tack and scrub resistant coating composition
CN102702877A (zh) * 2012-05-15 2012-10-03 湖南大学 一种隔热自洁的透明氟碳涂料制备工艺
ES2761202T3 (es) * 2012-05-22 2020-05-19 Dsm Ip Assets Bv Nanopartículas orgánicas-inorgánicas híbridas
CN102719065A (zh) * 2012-07-06 2012-10-10 华东理工大学 一种聚乳酸/剪切增稠流体高韧性材料及制备方法
CN102926211B (zh) * 2012-11-14 2015-01-07 北京化工大学 一种基于分子胶体的剪切增稠流体及其制备方法和用途
JP6382841B2 (ja) * 2012-12-28 2018-08-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光学的に透明なホットメルト加工可能な高屈折率接着剤
CN105228823B (zh) * 2013-02-27 2018-10-12 康宁股份有限公司 用于降低挠性玻璃基材的双轴弯曲和/或翘曲的方法和结构
US9493670B2 (en) * 2013-04-18 2016-11-15 Empire Technology Development Llc Coatings that provide hydrophilic surface
US20160096967A1 (en) * 2014-10-03 2016-04-07 C3Nano Inc. Property enhancing fillers for transparent coatings and transparent conductive films
KR101705642B1 (ko) * 2014-12-23 2017-02-13 주식회사 효성 투명 도전성 필름
WO2017064514A1 (en) * 2015-10-16 2017-04-20 Oxford University Innovation Limited Microfluidic arrangements
KR101801471B1 (ko) * 2016-06-23 2017-11-24 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 필름 및 이를 이용한 화상표시장치
CN108047822B (zh) * 2017-10-27 2019-09-03 广东烯谷碳源新材料有限公司 利用剪切增稠体系剥离石墨制备石墨烯导热散热复合材料的方法
KR20190064711A (ko) * 2017-11-30 2019-06-11 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 모바일 단말기
KR102078477B1 (ko) * 2018-11-06 2020-02-17 부산대학교 산학협력단 표면에 폴리아크릴아마이드를 가지는 폴리스티렌 입자를 포함하는 점조화 거동이 우수한 전단농화유체 및 그 제조방법

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003147017A (ja) 2001-02-23 2003-05-21 Fuji Photo Film Co Ltd 硬化性組成物、それを用いたハードコート処理物品及び画像表示装置
JP2008214390A (ja) 2007-02-28 2008-09-18 Chiba Univ 流体組成物
WO2014098025A1 (ja) 2012-12-18 2014-06-26 日産化学工業株式会社 スチレン構造を含む自己組織化膜の下層膜形成組成物
JP2016069476A (ja) 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 硬化性樹脂組成物及びその用途
JP2016101716A (ja) 2014-11-28 2016-06-02 住友化学株式会社 光学積層体
US20190338142A1 (en) 2016-12-29 2019-11-07 3M Innovative Properties Company Flexible Nanoparticle Optical Coating Compositions
JP2020514464A (ja) 2016-12-29 2020-05-21 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 可撓性ナノ粒子光学コーティング組成物
JP2021509180A (ja) 2017-12-15 2021-03-18 シェンジェン ロイオル テクノロジーズ カンパニー リミテッドＳｈｅｎｚｈｅｎ Ｒｏｙｏｌｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． フレキシブル耐衝撃保護材及びそのフレキシブル耐衝撃保護カバー
JP2019164293A (ja) 2018-03-20 2019-09-26 日立化成株式会社 画像表示装置、共重合体溶液、及びフィルム材

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