JP7171628B2 - エチレン系ポリマーを生成するための高圧フリーラジカル重合 - Google Patents
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Description
本出願は、2107年6月28日出願の米国仮出願第62/526003号の利益を主張するものである。
a)第1の開始剤混合物を、反応器に沿った位置Lで管状反応器に注入するステップと、
b)Lから上流の145*D予熱器~1000*D予熱器の距離(L-L1の位置L1で、圧縮補給CTA系を注入するステップであって、D予熱器=メートル(m)での予熱器の内径であり、L1が予熱器内に位置する、ステップと、
c)任意選択的に、1つ以上の追加の圧縮補給CTA系(複数可)を、L1から上流の1つ以上の位置Li、Li+1、Ln(2≦iおよび2≦n)で予熱器に注入するステップであって、各位置が、独立して、145*D予熱器から1000*D予熱器の距離にあり、nが、L1から上流の予熱器に注入される補給CTA系(複数可)の注入位置の総数に等しく、(L-L1)が、各(L-Li)、(L-Li+1)、(L-Ln)よりも小さい、ステップと、
d)少なくともエチレン、第1の開始剤混合物、およびステップb)の圧縮補給CTA系を含む反応混合物を、反応器構成で重合させて、エチレン系ポリマーを形成するステップと、を含み、
前記プロセスは、L1で、次の関係を満たす対数変動係数(log(CoV1))を有し、
logCoVLi=logCoV0,Li - 0.0223×[(L-Li)/D予熱器]≦-1.30、
式中、145≦[(L-Li)/D予熱器]≦1000であり、
CoV0,L1=(φエチレン主流,L1/φ補給CTA系,L1)0.5であり、
式中、φ補給CTA系,L1は、位置L1で予熱器に注入される補給CTA系流(kg/時)であり、
ただしi=nの場合、“φ補給CTA系Li,L1から上流”は、ゼロに等しく、予熱器への圧縮補給CTA系の追加注入がない場合、
logCoVLi=logCoV0,Li - 0.0223×[(L-Li)/D予熱器]≦-1.30、
式中、145≦[(L-Li)/D予熱器]≦1000であり、
CoV0,Li=(φエチレン主流,Li/φ補給CTA系,Li)0.5であり、
ただしi=nの場合、“φ補給CTA系Li+1,Liから上流”はゼロに等しく、同じ補給CTA系が、予熱器の各位置で注入される場合、L1で予熱器に注入される補給CTA系の量は、予熱器に注入される補給CTA系の総量のうちの少なくとも51重量%であり、L1で注入される補給CTA系とは異なり、L1から上流の場所で予熱器に注入される各補給CTA系では、これらの補給CTA系の各々の活性(Cs)が、下流位置で注入される各補給CTA系の活性(Cs)以上である。
高圧フリーラジカル開始重合プロセスでは、2つの基本的な種類の反応器が知られている。第1の種類は、1つ以上の反応ゾーンを備えた攪拌式オートクレーブ容器(オートクレーブ反応器)である。2番目の種類は、ジャケット付き管状反応器であり、管が、1つ以上の反応ゾーンを有する(管状反応器)。本発明の高圧プロセスは、各々少なくとも2つの反応ゾーンを有する管状および/またはオートクレーブ反応器で実行することができる。一実施形態では、重合は、1つ以上の管状反応器で(直列または並列で、好ましくは直列で)実行される。
反対の記載がないか、文脈から含意されるか、または当該技術分野において慣例的でない限り、全ての部およびパーセントは重量に基づき、全ての試験方法は本出願の出願日現在で最新のものである。「高圧フリーラジカル重合プロセス」という用語は、本明細書で使用される場合、少なくとも1000バール(100MPa)の高圧で実行されるフリーラジカル重合プロセスを指す。
CoV0,Li=(φエチレン主流,Li/φ補給CTA系,Li)0.5、
ただし、
メルトインデックス-メルトインデックス、すなわちI2を、ASTM D1238、条件190℃/2.16kgに従って測定し、10分当たりの溶出したグラムで報告した。I10をASTM D1238、条件190℃/10kgに従って測定し、10分当たりの溶出量をグラムで報告した。密度:密度測定のための試料を、ASTM D1928に従って調製する。試料は、190℃および30,000psiで3分間、次いで(21℃)および207mPaで1分間プレスする。ASTM D792、方法Bを使用して、サンプルをプレスしてから1時間以内に測定を行った。
従来の補給CTA注入LDPE管状プロセスに使用したプロセスフロー図(図1a)
補給CTAの従来の注入を用いたLDPEプロセスに使用される高圧ポリエチレンのプロセスフロー図が、図1aに示されている。エチレン系供給流(ライン1)は、反応器区画の後に位置し、本明細書では示されていない、高圧および低圧分離器からリサイクルされた未反応エチレン、未反応CTAで構成される。プロセス流はまた、補給エチレン、補給CTA、過酸化物の解離からの化学構成成分、溶媒、および他の不純物も含む。低圧リサイクルからのエチレン系流は、補給エチレンと混合され、最終供給物がブースタおよび一次圧縮機システムによって圧縮されることに留意されたい。エチレン系供給流は、最高4000バールの多段階ハイパー圧縮機システムで圧縮される。排出流(ライン4)は、反応器の前面(ライン5)および側面(ライン6)に送られる。過酸化物/開始剤の混合物は、異なる位置で反応器に注入されるため、複数の反応ゾーンが生じる。図1aでは、第1の過酸化物は、ハイパー排出流から下流で注入される。補給CTAは、位置L1で、ハイパー圧縮機システムの第1段階の吸入部で(ライン1に)注入される。任意選択的に、ハイパー圧縮機システムの中間段階で(ライン2に)反応器システムに補給CTAを注入するか、またはハイパー圧縮機システムの吸入部で(予熱器から上流のライン5に)CTA補給を注入してもよい。任意選択的に、補給CTAを、第1の開始剤(開始剤混合物)とブレンドし、第1の反応ゾーン(位置Lのライン7)に注入してもよい。このスキームでは、反応器は、4つの反応ゾーンで構成され、それぞれ反応器の前面および側面にエチレン系供給流が分配される。より多くのPO(過酸化物)注入ノズルを導入することによって、より多くの反応ゾーンを達成することができる。
補給CTAの従来の注入を用いたLDPEプロセスに使用される高圧ポリエチレンのプロセスフロー図が、図1bに示されている。エチレン系供給流(ライン1)は、高圧および低圧分離器からリサイクルされた未反応エチレン、未反応CTAで構成されている。それらは、反応器区画の後に位置し、本明細書では示されていない。次いで、エチレン系供給流(ライン1)は、流れ2と流れ3とに均等に分割され、その後多段階ハイパー圧縮機システムの第1段階および第2段階に供給される。排出流(ライン6およびライン7)は、反応器に分配される。これはまた、補給エチレン、補給CTA、過酸化物の解離からの化学構成成分、溶媒、および他の不純物も含む。低圧リサイクルからのエチレン系流は、補給エチレンと組み合わせられ、ブースタおよび一次圧縮機システムによって圧縮されることに留意されたい。例えば、流れ6は、スプリッタバルブを通じて流れ8と流れ9とに分割され、それぞれ反応ゾーン1および2に送られるが、流れ7は第3の反応ゾーンに供給される。開始剤混合物は、異なる位置で反応器に注入されるため、複数の反応ゾーンが生じる。図1bでは、第1の過酸化物は、ハイパー排出流から下流で注入される。補給CTAは、位置L1で、ハイパー圧縮機システムの第1段階の吸入部で(ライン2に)注入される。任意選択的に、ハイパー圧縮機システムの中間段階で(ライン4に)反応器システムに補給CTAを注入するか、またはハイパー圧縮機システムの吸入部で(予熱器から上流のライン8に)CTA補給を注入してもよい。任意選択的に、補給CTAを、第1の開始剤(開始剤混合物)とブレンドし、第1の反応ゾーン(位置Lのライン10)に注入してもよい。このスキームでは、4つの反応ゾーンがあり、反応器の前面および側面に3つのエチレン系供給流が分配される。より多くのPO注入ノズルを導入することによって、より多くの反応ゾーンを達成することができる。
実施例IP1.1~IP1.4、IP2.1~IP2.4、およびIP3.1~IP3.4、CP1.1~CP1.4、およびCP2.1~CP2.4に使用される高圧ポリエチレンのプロセスフロー図が、図2に示されている。エチレン系供給流(ライン1)は、高圧および低圧分離器からリサイクルされた未反応エチレン、未反応CTAを含む。高圧および低圧分離器は、反応器区画の後に位置し、本明細書には示されていない。これはまた、補給エチレン、過酸化物の解離からの化学構成成分、溶媒、および他の不純物も含む。低圧リサイクルからのエチレン系流は、補給エチレンと混合され、ブースタおよび一次圧縮機システムによって圧縮されることに留意されたい。次いで、エチレン系供給流は最高4000バールの多段階ハイパー圧縮機システムで圧縮される。排出流(ライン4)は、反応器の前面(ライン5)および側面(ライン6)に送られる。開始剤混合物は、異なる位置で反応器に注入されるため、複数の反応ゾーンが生じる。図2では、第1の過酸化物は、ハイパー排出流から下流で注入される。補給CTAは、第1の過酸化物注入位置から上流の場所であって、ハイパー圧縮機システムから下流の場所L1の予熱器に供給される。全てのCTAが第1の反応ゾーンに供給されることを示している。補給CTAは単一のCTAでも複数のCTAの混合物でもよく、L1およびLi、I=1、2、3など、2つ以上の位置で予熱器に注入することができる。このスキームでは、反応器は、4つの反応ゾーンで構成され、それぞれ反応器の前面および側面にエチレン系供給流が分配される。より多くのPO注入ノズルを導入することによって、より多くの反応ゾーンを達成することができる。
実施例IP1.5~IP1.8、IP2.5~IP2.8、およびIP3.5~IP3.8、CP1.5~CP1.8、およびCP2.5~CP2.8に使用される高圧ポリエチレンのプロセスフロー図が、図3に示されている。エチレン系供給流(ライン1)は、高圧および低圧分離器からリサイクルされた未反応エチレン、未反応CTAを含む。それらは、反応器区画の後に位置し、本明細書では示されていない。次いで、エチレン系供給流(ライン1)は、流れ2と流れ3とに均等に分割され、その後多段階ハイパー圧縮機システムの第1段階および第2段階に供給される。排出流(ライン6およびライン7)は、反応器に分配される。これはまた、補給エチレン、補給CTA、過酸化物の解離からの化学構成成分、溶媒、および他の不純物も含む。低圧リサイクルからのエチレン系流は、補給エチレンと組み合わせられ、ブースタおよび一次圧縮機システムによって圧縮されることに留意されたい。例えば、流れ6は、スプリッタバルブを通じて流れ8と流れ9とに分割され、それぞれ反応ゾーン1および2に送られるが、流れ7は第3の反応ゾーンに供給される。開始剤混合物は、異なる位置で反応器に注入されるため、複数の反応ゾーンが生じる。図3では、第1の過酸化物は、ハイパー排出流から下流で注入される。補給CTAは、第1の過酸化物注入位置から上流の場所であってハイパー圧縮機システムから下流の場所L1の予熱器に供給される。全てのCTAが第1の反応ゾーンに供給されることを示している。補給CTAは単一のCTAでも複数のCTAの混合物でもよく、L1およびLi、I=1、2、3など、2つ以上の位置で予熱器に注入することができる。このスキームでは、4つの反応ゾーンがあり、反応器の前面および側面に3つのエチレン系供給流が分配される。より多くのPO注入ノズルを導入することによって、より多くの反応ゾーンを達成することができる。
例えば、IP3.1~IP3.4、IP4.1~IP4.4を使用する高圧LDPEポリエチレンのプロセスフロー図が、図4に示されている。これは、図2に示されているプロセスと同様である。唯一の違いは、2つのCTA系が位置L1およびL2で予熱器に注入されることである。より多くのCTA注入位置およびとCTA系を適用してもよい。
例えば、IP3.5~IP3.8、IP4.5~IP4.8を使用する高圧ポリエチレンのプロセスフロー図が、図5に示されている。これは、図2に示されているプロセスと同様である。唯一の違いは、2つのCTA系が位置L1およびL2で予熱器に注入されることである。より多くのCTA注入位置およびとCTA系を適用してもよい。
(i)L1での補給CTA1系(Cs=0.0072)は、総補給CTA系流のうちの60重量%の流量を有し、したがって、残りの補給CTA系(Cs=0.33)(総補給CTA系流のうちの40重量%)は、L2で補給CTA系を提供すると想定する。総補給CTA系(複数可)流量は、補給CTA系、L2と同じ活性(Cs=0.33)を有すると想定する。
補給CTA系、L2と補給CTA系、L1とのCs比:
RCs=(Cs,CTA系、L2/Cs,CTA系、L1)=0.33/0.0072=45.83
補給CTA系、L1(Cs=0.0072):
φCTA系,L1=φ総補給,CTA系×60重量%×RCs=50×60重量%×45.83=1375(kg/時)
補給CTA系、L2(Cs=0.33で):
φCTA系,L2=φ総補給,CTA系×(1-60重量%)=50×(1-0.6)=20(kg/時)
場所L1でのエチレン主流:
φエチレン、主流、L1=φエチレン、予熱器+φCTA系、L2=20,000+2=20,020(kg/時)
場所L2でのエチレン主流:
φエチレン、主流、L2=φエチレン、予熱器=20,000(kg/時)、
CoV0、L1、およびCoV0、L2の計算:
CoV0、L1=√(φエチレン、主流、L1/φCTA系,L1)=√(20,020(kg/時)/1375(kg/時))=3.8
CoV0、L2=√(φエチレン、主流、L2/φCTA系、L2)=√(20,000(kg/時)/20(kg/時))=31.6
logCoVL1=log(CoVo)L1-0.0023×(L-L1)/D予熱器=log(3.8)-0.023*145=-2.65(<-1.30)、
logCoVL2=log(CoVo)L2-0.0023*(L-L2)/D予熱器=log(31.6)-0.023*250=-4.07(<-1.30)。
少なくとも1つの追加の流れ(小さな流量であり得る)の主流(高い流量)への混合品質を、(L-Li)/Di比のような、初期変動係数(CoVo)と、無次元距離(L-Li)および管直径Diとの関数である、変動係数(CoV)によって評価する。LDPE管状技術では、初期変動係数は、以下の等式5
CoV0,Li=(φエチレン主流,Li/φ補給CTA系i,Li)0.5 (等式5)
によって定義され、式中、“φエチレン主流,Li”は、場所Liで注入される補給CTA系を除外した、場所Liでのエチレン系供給流[kg/h]である。
logCoVLi=logCoV0,Li-logK×(L-Li)/予熱器≦-1.30 (等式6)
(L-Li)が、第1の過酸化物注入(L)と、場所Liでの補給CTA系注入との間の距離であることに留意されたい。補給CTA系は、第1の過酸化物注入点(L)から上流で注入される。Diは、主流と補給CTA系流が注入される予熱器の内径である。K値は、混合パラメータである。乱流の場合、混合パラメータK=0.95。CoVが低いほど、予熱器を通る流れの混合品質がより良好である。商業的重合では、「0.01≦CoV≦0.05」で、流れの良好な混合が生じる。これは、予熱器の管断面からの全ての濃度測定の95%を示し、2%未満しか変動しない。したがって、K=0.95は商業的重合に使用される。K=0.95を用いると、等式6は、等式7:
logCoVLi=logV0,Li-0.0223×(L-Li)/予熱器≦-1.30 (等式7)となる。
典型的な管状LDPE技術は、従来の補給CTA系注入を適用しており、補給CTA系は、一次圧縮機システム、および/またはハイパー圧縮機システムの吸入部、および/またはハイパー圧縮機システムの中間段階、および/またはハイパー圧縮機システムの排出部に注入され得る。それらの技術は、第1の開始剤混合物から解離したフリーラジカルと反応する前に、優れた流れの混合を生じる。しかしながら、補給CTAはまた、フリーラジカルを生成し得、ハイパー圧縮機システムへの早期重合が生じ、より多くの付着物を圧縮機システムに生じ、より多くのメンテナンス作業が必要である。さらに、ポリマーもまた、予熱器内側で形成され得、付着物の増加を生じ、したがって熱伝達効果を減少させる。エチレン系供給流は、所望の開始反応温度に加熱する必要があるので、より多くの加熱エネルギーまたはより長い予熱器の長さが必要となり、プロセスがより高価であることを示す。反応ゾーンに注入する前に、補給CTA系を第1の開始剤(開始剤混合物)とブレンドする場合、不十分な流れの混合を生じ、付着物が増加したコールドスポットが反応ゾーンに作り出されるであろう。また、CTAと開始剤とをブレンドすることにより、開始剤の効率も顕著に減少され得る。
発明例IP1.1~IP2.8は、位置L1で予熱器に注入される1つの圧縮補給CTA系を示している。比「(L-L1)/D予熱器」は、145~1000であり、予熱器での付着物が少ない完全な混合流を示している。(L-L1)/D予熱器<145のとき不完全な混合流が起こり、(L-L1)/D予熱器>1000のとき予熱器での付着物が多くなるであろう。詳細な計算については、表6を参照されたい。
発明例IP3.1~3.8では、各々が同じCs値を有する2つの圧縮補給CTA系は、L2が、位置Liから上流である、位置L2およびL1で予熱器に注入される。位置L1およびL2は、次の関係を満たすことに留意されたい:145<(L-L1)/D予熱器<(L-L2)/D予熱器<1000。それらの例では、位置L1およびL2で予熱器に注入される圧縮補給CTA系は、同じ活性(Cs=0.33)を有する。第1の開始剤混合物注入前の最短距離で完全な混合流に到達するために、位置L1での圧縮補給CTA系は、ある特定のメルトインデックス生成物を生成するための補給CTA系の必要な総量のうちの少なくとも51重量%であるべきことが推奨される。(L-L1)距離を最小限に抑えることにより、予熱器に発生する付着物も最小限に抑えることができる。
発明例IP4.1~IP4.8では、L2がL1から上流である、位置L2およびL1で予熱器に注入される、2つの圧縮補給CTA系を使用する。それらの例では、位置L1およびL2で予熱器に注入される圧縮補給CTA系は、異なるCTA活性を有する。可能な限り短い(L-Li)距離で完全な流れの混合品質に到達するためには、位置L1の圧縮補給CTA系はより低いCTA活性を有すべきであるが、最も高いCTA活性を有する圧縮補給CTA系は位置Ln(2≦i≦n)で注入されるべきであることが発見された。より高いCoV0値を生じるより高いCs値には、(同じメルトインデックス生成物では)より低いCTA流が必要であろう。より高いCoV0値は、log(CoV)値の増加をもたらし、したがって完全性の低い混合性能が生じるか、あるいはより長いLからの距離を必要とし、したがって予熱器により多くの付着物が発生する。補給CTA注入と第1の開始剤混合物注入との間の距離は、予熱器でのエチレン系供給流速を約10m/秒と想定して計算する。詳細な計算は、表6および表7に見ることができる。log(CoV)への、log(CoV0)および(L-Li)/D予熱器の影響が、図6および図7に示されている。さらに、予熱器への圧縮補給CTA系注入のデモンストレーションは、図8に見ることができる。
[1]ハイパー圧縮機システムと、管状反応器を含む反応器構成とを備える反応器システムでエチレン系ポリマーを形成するプロセスであって、
前記管状反応器が予熱器を備え、かつハイパー圧縮機システムから下流に位置しており、
前記プロセスは、少なくとも、
a)第1の開始剤混合物を、前記反応器に沿った位置Lで前記管状反応器に注入するステップと、
b)Lから上流の145*D 予熱器 ~1000*D 予熱器 の距離(L-L 1 )の位置L 1 で、圧縮補給CTA系を注入するステップであって、前記予熱器の内径は、D 予熱器 =メートルであり、L 1 は前記予熱器に位置する、ステップと、
c)任意選択的に、1つ以上の追加の圧縮補給CTA系(複数可)を、L 1 から上流の1つ以上の位置L i 、L i+1 、…、L n (2≦iおよび2≦n)で予熱器に注入するステップであって、各位置が、独立して、145*D 予熱器 ~1000*D 予熱器 の距離にあり、nが、L 1 から上流の予熱器に注入される補給CTA系(複数可)の注入位置の総数に等しく、(L-L 1 )が、各(L-Li)、(L-L i+1 )、…、(L-L n )よりも少ない、ステップと、
d)少なくともエチレン、第1の開始剤混合物、およびステップb)の圧縮補給CTA系を含む反応混合物を、反応器構成で重合させて、エチレン系ポリマーを形成するステップと、を含み、
前記プロセスが、L 1 で、次の関係を満たす対数変動係数(log(CoV 1 ))を有し、
logCoV 1 =logCoV 0,L1 - 0.0223×[(L-L 1 )/D 予熱器 ]≦-1.30、
式中、145≦[(L-L 1 )/D 予熱器 ]≦1000であり、
CoV 0,L1 =(φ エチレン主流,L1 /φ 補給CTA系,L1 ) 0.5 であり、
式中、φ 補給CTA系,L1 は、位置L 1 で予熱器に注入される補給CTA系流(kg/時)であり、
ただしi=nの場合、“φ 補給CTA系Li,L1から上流 ”は、ゼロに等しく、予熱器への圧縮補給CTA系の追加注入がない場合、
[2]1つ以上の追加の圧縮補給CTA系(複数可)が、ステップc)におけるように、1つ以上の位置L i 、L i+i 、.L i+2 、L n (2≦i、2≦n)で、前記予熱器に注入され、
前記プロセスは、各場所L i 、L i+1 、Ln、(2≦i、2≦n)で、各i値が2~nの場合、以下の関係を満たす対数変動係数(CoV)を有し、
logCoV Li =logCoV 0,Li - 0.0223×[(L-L i )/D 予熱器 ]≦- 1.30、
式中、145≦[(L-L i )/D 予熱器 ]≦1000であり、
CoV 0,Li =(φ エチレン主流,Li /φ 補給CTA系,Li ) 0.5 であり、
ただしi=nの場合、“φ 補給CTA系Li+1,Liから上流 ”はゼロに等しく、
同じ補給CTA系が、各位置で前記予熱器に注入されるとき、L 1 で前記予熱器に注入される補給CTA系の量は、前記予熱器に注入される補給CTA系の総量のうちの少なくとも51重量%であり、
L 1 で注入される前記補給CTA系とは異なり、L 1 から上流の場所で前記予熱器に注入される各補給CTA系では、これらの補給CTA系の各々の活性(Cs)が、下流位置で注入される各補給CTA系の活性(Cs)以上である、上記[1]に記載のプロセス。
[3]前記プロセスは、高圧フリーラジカル重合プロセスである、上記[1]または[2]のいずれかに記載のプロセス。
[4]前記位置L 1 で注入される圧縮補給CTA系は、≦1.0000のCTA活性を有する、上記[1]または上記[2]に記載のプロセス。
[5]CoVo 、L1 は、1~180である、上記[1]~[4]のいずれかに記載のプロセス。
[6]前記ハイパー圧縮システムから排出される総エチレン系供給流は、毎時40,000kg~毎時300,000kgである、上記[1]~[5]のいずれかに記載のプロセス。
[7](L-L 1 )/D 予熱器 は、145~900である、上記[1]~[6]のいずれかに記載のプロセス。
[8]前記反応器構成は、前記管状反応器から下流に少なくとも1つのオートクレーブ反応器を備える、上記[1]~[7]のいずれかに記載のプロセス。
[9]圧縮補給CTA系は、前記位置Liで注入され、当該補給CTA系は、ケトン、アルコール、アルデヒド、飽和炭化水素、または不飽和炭化水素を含む、上記[1]~[8]のいずれかに記載のプロセス。
[10]エチレン転化率が、28%超である、上記[1]~[9]のいずれかに記載のプロセス。
Claims (10)
- ハイパー圧縮機システムと、管状反応器を含む反応器構成とを備える反応器システムでエチレン系ポリマーを形成するプロセスであって、
前記管状反応器が予熱器を備え、かつハイパー圧縮機システムから下流に位置しており、
前記プロセスは、少なくとも、
a)第1の開始剤混合物を、前記反応器に沿った位置Lで前記管状反応器に注入するステップと、
b)Lから上流の145*D予熱器~1000*D予熱器の距離(L-L1)の位置L1で、圧縮補給CTA系を注入するステップであって、D 予熱器 は、前記予熱器の内径であって、単位はメートル(m)であり、L1は前記予熱器に位置する、ステップと、
c)任意選択的に、1つ以上の追加の圧縮補給CTA系(複数可)を、L1から上流の1つ以上の位置Li、Li+1、…、Ln(2≦CTA系(複数可)の注入位置の総数に等しく、(L-L1)が、各(L-Li)、(Liおよび2≦n)で予熱器に注入するステップであって、各位置が、独立して、145*D予熱器~1000*D予熱器の距離にあり、nが、L1から上流の予熱器に注入される補給-Li+1)、…、(L-Ln)よりも少ない、ステップと、
d)少なくともエチレン、第1の開始剤混合物、およびステップb)の圧縮補給CTA系を含む反応混合物を、反応器構成で重合させて、エチレン系ポリマーを形成するステップと、を含み、
前記プロセスが、L1で、次の関係を満たす対数変動係数(log(CoV1))を有し、
logCoV1=logCoV0,L1 - 0.0223×[(L-L1)/D予熱器]≦-1.30、
式中、145≦[(L-L1)/D予熱器]≦1000であり、
CoV0,L1=(φエチレン主流,L1/φ補給CTA系,L1)0.5であり、
式中、φ補給CTA系,L1は、位置L1で予熱器に注入される補給CTA系流(kg/時)であり、
ただしi=nの場合、“φ補給CTA系Li,L1から上流”は、ゼロに等しく、予熱器への圧縮補給CTA系の追加注入がない場合、
- 1つ以上の追加の圧縮補給CTA系(複数可)が、ステップc)におけるように、1つ以上の位置Li、L i+1 、Li+2、Ln(2≦i、2≦n)で、前記予熱器に注入され、
前記プロセスは、各場所Li、Li+1、Ln、(2≦i、2≦n)で、各i値が2~nの場合、以下の関係を満たす対数変動係数(CoV)を有し、
logCoVLi=logCoV0,Li - 0.0223×[(L-Li)/D予熱器]≦- 1.30、
式中、145≦[(L-Li)/D予熱器]≦1000であり、
CoV0,Li=(φエチレン主流,Li/φ補給CTA系,Li)0.5であり、
ただしi=nの場合、“φ補給CTA系Li+1,Liから上流”はゼロに等しく、
同じ補給CTA系が、各位置で前記予熱器に注入されるとき、L1で前記予熱器に注入される補給CTA系の量は、前記予熱器に注入される補給CTA系の総量のうちの少なくとも51重量%であり、
L1で注入される前記補給CTA系とは異なり、L1から上流の場所で前記予熱器に注入される各補給CTA系では、これらの補給CTA系の各々の活性(Cs)が、下流位置で注入される各補給CTA系の活性(Cs)以上である、請求項1に記載のプロセス。 - 前記プロセスは、高圧フリーラジカル重合プロセスである、請求項1または2のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記位置L1で注入される圧縮補給CTA系は、≦1.0000のCTA活性を有する、請求項1または請求項2に記載のプロセス。
- CoVo、L1は、1~180である、請求項1~4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記ハイパー圧縮機システムから排出される総エチレン系供給流は、毎時40,000kg~毎時300,000kgである、請求項1~5のいずれか一項に記載のプロセス。
- (L-L1)/D予熱器は、145~900である、請求項1~6のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記反応器構成は、前記管状反応器から下流に少なくとも1つのオートクレーブ反応器を備える、請求項1~7のいずれか一項に記載のプロセス。
- 圧縮補給CTA系は、前記位置Liで注入され、当該補給CTA系は、ケトン、アルコール、アルデヒド、飽和炭化水素、または不飽和炭化水素を含む、請求項1~8のいずれか一項に記載のプロセス。
- エチレン転化率が、28%超である、請求項1~9のいずれか一項に記載のプロセス。
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