JP7165878B2

JP7165878B2 - 現像装置の洗浄液および洗浄方法

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Publication number: JP7165878B2
Application number: JP2018182573A
Authority: JP
Inventors: 祐二白濱; 真着能
Original assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Current assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date: 2017-09-28
Filing date: 2018-09-27
Publication date: 2022-11-07
Anticipated expiration: 2038-09-27
Also published as: JP2019065283A

Description

本発明はプリント基板の製造工程で用いられるドライフィルムレジスト現像液を扱う現像装置の洗浄液とそれを用いた洗浄方法に係るものである。

プリント基板や各種基板の製造においては、配線パターンをフォトリソグラフィーの手法を用いて形成する。このフォトリソグラフィーにおいては、アルカリ可溶型感光膜を露光し、不要な部分を炭酸アルカリ等のアルカリ性現像液をスプレーで吹き付け、除去する（現像）ことで、配線パターンを形成する。すなわち、アルカリ性現像液を繰り返し使用すると、アルカリ性現像液中にレジスト成分が残留する。

このレジスト成分残留物は、粘着性を有するようになり、現像装置中に堆積する。これはプリント基板製造工程における現像工程中で発生する「スカム」と呼ばれている。スカムは放置しておくと、配管を詰まらせ、現像装置を動作不能状態に至らしめる。また、基板に付着し、次工程でのエッチング不良を引き起こすといった不具合の原因ともなる。したがって、スカムの除去が必要となる。

特許文献１では、モノヒドロキシ化合物を必須成分として含む酸性水溶液からなるアルカリ現像装置用洗浄剤組成物が開示されている。特許文献１に開示された洗浄剤は、実施例として旭化成株式会社製ドライフィルムフォトレジスト（商品名：サンフォート）を１重量％炭酸ナトリウム水溶液の現像液で現像し、現像装置内に生成したスカムを良好に溶解することができると記載されている。

特許文献２では、ケイ酸類と炭酸塩を含有し、界面活性剤を含まず、ｐＨが７以上であるレジスト除去剤が開示されている。ここでは、実施例として基板上に矩形状に形成したレジスト（太陽インキ製レジスト、ＰＳＲ－４０００Ｇ２４）を８０℃で６０分加熱し、さらにＵＶランプ（３６５ｎｍ）を３時間照射して得たものをスカムとし、洗浄液に浸漬させたときに、基板上の剥離状態を目視で検査した結果を示している。なお、ここでは、基板からスカムとしたものが、完全に剥離したか否かを評価の対象としており、溶解したか否かの記載はない。

特許文献３には、アルカリ金属の水酸化物およびアルカリ土類金属の水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも１種（ａ）と、下記一般式（１）で表される水酸基含有芳香族化合物（ｂ）と、キレート剤（ｃ）とを含む、アルカリ現像装置用洗浄剤組成物が、スカムの洗浄剤として開示されている。

ここでは、実施例として、６カ月間、アルカリ現像工程に使用された液状レジスト現像装置内とドライフィルム現像装置内のスカム汚れおよびスケール汚れが付着しているスプレーノズルとギヤ部品、計４種類の部品を試験片として用い、洗浄後の各部品に付着しているスカム汚れおよびスケール汚れの除去具合を目視確認している。

特開２００３－２５３２９６号公報：特許第４１８９１５８号特開２０１１－０２８１４６号公報：特許第５５６５５５１号特開２０１５－０４０２９０号公報：特許第６１９８５２０号

特許文献に開示されている洗浄液は、異なる洗浄液を別々の工程で使用する多段工程ではなく、一段工程での洗浄である点で一定の効果を示していると言える。しかし、これらの洗浄液では洗浄にムラがあり、スカムを十分に除去できない場合もあった。また、洗浄中に発泡が生じ、使用後に洗浄液が大幅に減少してしまうという課題もあった。

本発明は上記の課題に鑑みて想到されたものであり、洗浄ムラが少なく、また発泡することもないプリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムの洗浄液および洗浄方法を提供する。

より具体的に本発明に係る洗浄液は、
プリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムを溶解除去する洗浄液であって、
７０質量％以上９０質量％以下の有機溶剤と、
アミン類と、
水で構成されることを特徴とする。

また、本発明に係る洗浄方法は、
上記の洗浄液をスカムが付着した被洗浄物に接触させる工程と、前記工程を一定時間維持する工程を有することを特徴とする。

本発明に係るプリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムの洗浄液は、スカムを溶解し、その工程で発泡現象を生じない。したがって、洗浄ムラがなく、また洗浄毎に洗浄液が減少する程度が少なく、リサイクル使用に適した洗浄液を提供することができる。

以下に本発明に係る洗浄液について説明する。以下の説明は本発明の一実施形態を説明するものであり、本発明は以下の説明に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、以下の実施形態は改変することができる。

本発明に係る洗浄液は、アルカリ溶液と、有機溶剤と、水で構成される。アルカリ溶液は、洗浄液全体のｐＨを１０乃至１４に調整することが必要である。この範囲でスカムはよく溶解するからである。

アルカリ溶液は水酸化ナトリウムおよびアミン類が好適に利用できる。水酸化ナトリウムは、洗浄液の１乃至１５質量％含有される。好ましくは２乃至１４質量％であり、より好ましくは２乃至１０質量％がよい。この比率で、本発明に係る洗浄液のｐＨを１２～１４の範囲にすることができる。水酸化ナトリウムは、従来からプリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムの洗浄に用いられてきた。しかし、水酸化ナトリウム単体では、後述する実施例でも示されるように、あまり効果のある洗浄液とはいえない。

アミン類は１～３級の水溶性のアミン類が好適に利用できる。特に１級アミン、２級アミンは望ましい。アルカリ溶液としてアミン類を用いた場合も含有比率は水酸化ナトリウムの場合と同様としてよい。アミン類としては特に１アミノ２プロパノール（ＣＡＳ番号７８－９６－６）は好適に利用できる。アルカリ溶液にアミン類を用いた場合は、ｐＨは１０～１２の範囲が好適である。

本発明に係る洗浄液は、このアルカリ溶液に有機溶剤と水が混合される。有機溶剤は５乃至９０質量％の範囲で利用することができる。有機溶剤の含有量が増加すると、洗浄力は高くなる。したがって、被洗浄物へのスカムの付着程度によって、有機溶剤の含有量を変化させて使用することができる。通常は、洗浄液全量に対して５乃至２０質量％が含有されていればよい。しかし、有機溶剤を３０乃至９０質量％含有させることで、スカムの付着量が多い場合であっても、好適に除去することができる。

なお、多量の有機溶剤中に水酸化ナトリウムを混入すると、有機溶剤と水酸化ナトリウムが分離してしまう。これは、通常一般的に使用されている水溶性の有機溶媒であれば、すべて同じように挙動する。そこで、有機溶剤の比率が高い場合は、アルカリ溶液としてアミン類を用いるのが望ましい。アミン類は多量の有機溶剤にも分離することなく混ざり合うアルカリ溶液であるからである。

有機溶剤と水酸化ナトリウムが均一に混合せず、分離するのは、有機溶剤が洗浄液全体に対して７０質量％を超える範囲で生じることを実験的に確認している。したがって、少なくとも、有機溶剤を洗浄液全体の７０質量％以上混在させる場合は、アルカリ溶液をアミン類とするのがよい。

有機溶剤は、水溶性の有機溶剤が利用できる。特に以下に列挙する有機溶剤は同様の効果を奏する。

有機溶剤として水溶性アルコールは好適に利用できる。より具体的にはエタノール（ＣＡＳ番号：６４－１７－５）、１メトキシ２プロパノール（ＣＡＳ番号：１０７－９８－２）、メタノール（ＣＡＳ番号：６７－５６－１）、１－プロパノール（ＣＡＳ番号：７１－２３－８）、２－プロパノール（ＣＡＳ番号：６７－６３－０）、ブチルアルコール（ＣＡＳ番号：７１－３６－３）といった、炭素数が１から４の一価アルコールである。

また、水溶性の多価アルコールも同様の効果を奏する。より具体的には、二価アルコールであるグリコール類（エチレングリコール（ＣＡＳ番号：１０７－２１－１）、プロピレングリコール（ＣＡＳ番号：５７－５５－６）、ジエチレングリコール（ＣＡＳ番号：１１１－４６－６）等）、三価アルコールであるグリセリン（ＣＡＳ番号：５６－８１－５）である。

また、水溶性のグリコールエーテルも利用することができる。具体的にはジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＣＡＳ番号：１１２－３４－５）、エチレングリコール（ＣＡＳ番号：１０７－２１－１）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（ＣＡＳ番号：１１１－９０－０）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＣＡＳ番号：３４５９０－９４－８）、トリエチレングリコール（ＣＡＳ番号：１１２－２７－６）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＣＡＳ番号：１１２－４９－２）である。

また、水溶性のケトン類も同様の効果を奏する。これらはＮ－メチルピロリドン（ＣＡＳ番号：８７２－５０－４）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＣＡＳ番号：６８－１２－２、なお、以下単に「ジメチルホルムアミド」とも呼ぶ。）、アセトン（ＣＡＳ番号：６７－６４－１）、２ピロリドン（ＣＡＳ番号：６１６－４５－５）等である。

また、γブチロラクトン（ＣＡＳ番号：９６－４８－０）といった、環状エステルも好適に利用できる。また、γブチロラクトンと構造が近いテトラヒドロフラン（ＣＡＳ番号：１０９－９９－９）も同様に好適に利用することができる。

水はアルカリ溶液と有機溶剤に対して残り成分となる。具体的には、洗浄液全体に対して５質量％から９４質量％までで好適に利用できる。水は、ＲＯ膜で有機物やイオン成分の大半を除去した精製水以上に不純物の少ないものが好ましい。イオン交換水（純水）若しくは超純水であればより好ましい。本発明の洗浄液は、スカムを溶解するので、不要なイオンの存在は、邪魔になるからである。

また、本発明に係る洗浄液は、界面活性剤を含まない。界面活性剤は処理時に発泡し、洗浄液の損失量が多くなるからである。また、発泡すると、消泡のための処理や泡を流し落すために洗浄液が余計に必要となるからである。

本発明に係る洗浄液は、プリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムを洗浄対象（溶解対象）とする。しかし、現像工程で使用される露光膜材料は単一種類ではない。後述する実施例で示すように、本発明に係る洗浄液は、洗浄対象を２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（ＣＡＳ番号：７１８９－８２－４）を主成分として含むスカムである。

本発明に係る洗浄方法は上記の洗浄液をスカムが付着した被洗浄物に接触させる工程と、その状態を維持する工程で構成される。被洗浄物を洗浄液に一定時間浸漬させるだけでもよく、また、現像装置に洗浄液を循環させてもよい。特に現像装置内の配管の内壁などブラシなどで物理的にスカムを除去できない部分については、本発明に係る洗浄液を循環させることは非常に有効な洗浄方法となる。なお、この際のスカムは２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾールを最大成分とするスカムである。

接触させる時間は、被洗浄物の大きさおよびスカムの量に依存するが、１５分乃至３時間程度で除去することができる。もちろん、大きな現像装置の場合、２４時間以上循環させてもよい。

また、洗浄時の洗浄液温度は２０℃以上８０℃以下の温度範囲が好適に利用できる。温度が高すぎると、有機溶媒の揮発量が大きく、組成比が短時間でずれてしまう。温度が低いと溶解活性も低下するからである。

３か月間連続で使用された、プリント基板を製造する工程で使用される現像装置のノズル部品を被洗浄物として用意した。

＜スカムの分析＞
被洗浄物に付着したスカムを分析した。分析はＬＣ－ＭＳ（ＬｉｑｕｉｄＣｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙＭａｓｓＳｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：液体クロマトグラフィ質量分析装置）を使って行った。分析の結果、５つのピークを確認することができた。そのうち、メイン成分（最も含有量が多いと考えられるもの：以下「最大成分」と呼ぶ。最大成分は、主成分と同義である。）は、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（（２）式参照）であった。

その他の副ピークは、最大成分が分解されたもの、およびエチレンジオキシドを有する界面活性剤と考えられるものが含まれていた。

＜評価方法＞
サンプル洗浄液に対して、スカムが付着したノズル部品を浸漬し１５分攪拌した後、水洗、エアブローで水分除去を行い、室温で２４時間放置した。洗浄前と放置後のノズル部品の重さの差からスカムの除去量を測定した。コントロール（比較例１）は、水酸化ナトリウム水溶液とした。除去量が、水酸化ナトリウム水溶液の除去量よりも多いものは丸（記号「〇」：好適を意味する。）とした。さらに、被洗浄物の表面にスカムが目視で確認できない程スカムを除去（溶解）できたもの（ノズル１つ当たり０．０５ｇ以上のスカムを除去できた場合に相当する）は、二重丸（記号「◎」：より好適を意味する。）とした。

なお、比較例１は洗浄前よりも洗浄後の方がスカムは洗い落されているが、洗浄後の被洗浄物の表面には明らかにスカムが残存していることが目視で確認できた。この状態を評価三角（記号「△」：普通の意味）とする。

また、洗浄液中にスカムの固体物が残留しているものの、被洗浄物の表面にスカムが目視で確認できなかったものは、単に丸（記号「〇」）とした。これは、スカムを被洗浄物の表面から剥離はしたが、溶解できなかったという意味である。しかし、以下のサンプル洗浄液で、洗浄液中にスカムの固体物が残っているものはなかった。以下にサンプル洗浄液の組成を示す。なお、水は脱イオン水（ＤｅｉｏｎｉｚｅｄＷａｔｅｒ）を用いた。

（実施例１）
実施例１のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）３質量％
１メトキシ２プロパノール（１Ｍ２Ｐ）１０質量％
水（ＤＩ）８７質量％

（実施例２）
実施例２のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
エチレングリコール（ＥＧ）１０質量％
水８７質量％

（実施例３）
実施例３のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）１０質量％
水８７質量％

（実施例４）
実施例４のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）１０質量％
水８７質量％

（実施例５）
実施例５のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０質量％
水８７質量％

（実施例６）
実施例６のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
エタノール（ＥＯＨ）１０質量％
水８７質量％

（実施例７）
実施例７のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
アセトン（ＡＣ）１０質量％
水８７質量％

（実施例８）
実施例８のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
γブチロラクトン（γＢＬ）１０質量％
水８７質量％

（実施例９）
実施例９のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）１０質量％
γブチロラクトン（γＢＬ）１０質量％
水８０質量％

（実施例１０）
実施例１０のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）１０質量％
γブチロラクトン（γＢＬ）２０質量％
水７０質量％

（実施例１１）
実施例１１のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）１０質量％
γブチロラクトン（γＢＬ）８０質量％
水１０質量％

（実施例１２）
実施例１２のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）５５質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）３０質量％
水１５質量％

（実施例１３）
実施例１３のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）１質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）３９質量％
水６０質量％

（実施例１４）
実施例１４のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）５質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）８０質量％
水１５質量％

（実施例１５）
実施例１５のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）５質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）６０質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）２０質量％
したがって、有機溶剤は合計８０質量％となる。
水１５質量％

（実施例１６）
実施例１６のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）５質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）４０質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）４０質量％
したがって、有機溶剤は合計８０質量％となる。
水１５質量％

（実施例１７）
実施例１７のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）５質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）２０質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）６０質量％
したがって、有機溶剤は合計８０質量％となる。
水１５質量％

（比較例１）
比較例１のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
水酸化ナトリウム３質量％
水９７質量％

（比較例２）
比較例２のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）６５質量％
ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）２０質量％
水１５質量％

（比較例３）
比較例３のサンプル洗浄液を以下の組成で調製した。
１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）１質量％
トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＧＤＭ）３４質量％
水６５質量％

表１、表２および表３に各サンプル洗浄液の組成とその結果を示す。また、表４には比較例のサンプル洗浄液の組成とその結果を示す。なお、表中「ＮａＯＨ」は水酸化ナトリウム、「γＢＬ」はγブチロラクトン、「１Ｍ２Ｐ」は１メトキシ２プロパノール、「ＥＧ」はエチレングリコール、「ＴＥＧＤＭ」はトリエチレングリコールジメチルエーテル、「ＮＭＰ」はＮ－メチルピロリドン、「ＢＤＧ」はジエチレングリコールモノブチルエーテル、「ＤＭＦ」はジメチルホルムアミド、「ＥＯＨ」はエタノール、「ＡＣ」はアセトン、「ＤＩ」は脱イオン水、「１Ａ２Ｐ」は１アミノ２プロパノールをそれぞれ表す。

表１、表２および表３を参照して、実施例１１の場合を除いて、各被洗浄物であるノズル部品は、付着しているスカムの量は全く同じではないが、ほぼ同じだけの量が付着しているものを選んだ。実施例１１は特にスカムの付着が多いノズルを被洗浄物として選んだ。溶解量（ｇ）は、洗浄前のノズル重量（ｇ）から洗浄後のノズル重量（ｇ）を引いた値である。アルカリ溶液としては３質量％の水酸化ナトリウム、または１０質量％の１アミノ２プロパノールを使用し、各サンプル洗浄液は有機溶剤の種類を変更している。

表１および表２の実施例１乃至８はアルカリ溶液が水酸化ナトリウムの場合である。この中で二重丸「◎」評価となっているジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、エタノール（ＥＯＨ）、γブチロラクトン（γＢＬ）を用いた場合は、いずれも洗浄後のノズル部品に、スカムの残留箇所は目視では認められなかった。

表２を参照して、実施例９乃至１１は、アルカリ溶液として１級アミンである１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）を用いた例である。このように、アルカリ溶液としてアミン類も好適に利用することができる。また、実施例９乃至１１の溶解量の結果から有機溶剤の割合が増えると、スカムの溶解量も多くなった。また、実施例１１は、スカムの付着が特に多いノズルを洗浄したものである。溶解量も他のサンプルより多かったが、非常にきれいにスカムを溶解除去することができた。

なお、１メトキシ２プロパノール（１Ｍ２Ｐ）、エチレングリコール（ＥＧ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）、アセトン（ＡＣ）、γブチロラクトン（γＢＬ）１０質量％にアルカリ溶液として１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）を用いたものは、評価は丸「○」評価であったが、二重丸「◎」評価と比較し、若干の溶け残り（未除去）のスカムが表面に認められた。なお、いずれの実施例サンプル洗浄液とも、洗浄後の洗浄液中に、固形のスカムは認められなかった。したがって、これらの洗浄液を用いた洗浄を行うことで、現像装置中の配管中で、剥離したスカムが固体となって、詰まるといった不具合は生じない。

表３及び表４を参照する。実施例１２はジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）を３０質量％、１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）を５５質量％としたサンプルである。実施例４のジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）を増量したが、アルカリの成分も変わっており、溶解量はほとんど変わらなかった。実施例１２と比較例２から、有機溶剤の下限％は３０質量％と言える。

実施例１３および１４はトリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＤＧＭ）の場合の結果である。実施例１３は３９質量％であり、実施例１４は８０質量％と多い。

実施例１３と比較例３からは、実施例１から実施例１０と異なり、水の上限が６０％、ｐＨの調整にはアルカリとしての１Ａ２Ｐは必要で、その下限％が１％と言える。実施例１４と有機溶剤γＢＬで８０質量％の実施例１１との比較では、ＴＥＤＧＭがγＢＬより溶解量に有効と言える。

実施例１５から実施例１７は、有機溶剤として、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＢＤＧ）と、トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＴＥＤＧＭ）を混在させた場合のサンプルである。これら２つの有機溶剤を混在させると、ＴＥＤＧＭの量の減少と共に溶解量も減少した。しかし、実施例１６と実施例１７ではほとんど同じであった。この結果からは、ＴＥＤＧＭがＢＤＧより溶解量に有効と言える。

この結果より、有機溶剤を３０質量％以上８０質量％以下であり、水を１５質量％以上６０質量％以下であり、１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）を１質量％以上５５質量％以下含み、有機溶剤はトリエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルの少なくとも１つを含む洗浄液は好適と言える。なお、有機溶剤、水、１アミノ２プロパノール（１Ａ２Ｐ）は、各成分が上記の範囲内であって、全量で１００質量％になるように調合される。

また、いずれの実施例サンプル洗浄液も洗浄中に発泡することはなかった。したがって、洗浄を繰り返しても発泡する場合と比較して減少を抑制することができる。結果、洗浄液のリサイクル性は高い。

また、本発明に係る洗浄液は、複数の工程を経ることなく、スカムを溶解除去することができる。したがって、洗浄工程を容易に実施することができる。

本発明に係る洗浄液は、プリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムを溶解除去するのに好適に利用することができる。

Claims

プリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムを溶解除去する洗浄液であって、
７０質量％以上９０質量％以下の有機溶剤と、
アミン類と、
水で構成される洗浄液。
前記有機溶剤は、
水溶性一価アルコール、
水溶性二価アルコール、
水溶性三価アルコール、
水溶性グリコールエーテル、
γブチロラクトン、テトラヒドロフラン、
水溶性ケトンから選ばれる少なくとも一種類以上である請求項１に記載された洗浄液。
前記スカムは、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾールを最大成分とする請求項１または２の何れか一の請求項に記載された洗浄液。
請求項１乃至３のいずれか一の洗浄液を、プリント基板製造工程における現像工程中で発生するスカムが付着した被洗浄物に接触させる工程と、
前記工程を一定時間維持する工程を有する洗浄方法。