JP7154595B2 - 光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 - Google Patents
光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7154595B2 JP7154595B2 JP2019040456A JP2019040456A JP7154595B2 JP 7154595 B2 JP7154595 B2 JP 7154595B2 JP 2019040456 A JP2019040456 A JP 2019040456A JP 2019040456 A JP2019040456 A JP 2019040456A JP 7154595 B2 JP7154595 B2 JP 7154595B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- cycloalkenone
- producing
- reaction
- cycloalkene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title description 34
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-enone Chemical compound O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- -1 imide compound Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 25
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 24
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 claims description 11
- BZKFMUIJRXWWQK-UHFFFAOYSA-N Cyclopentenone Chemical compound O=C1CCC=C1 BZKFMUIJRXWWQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 9
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical class C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 6
- WZCRDVTWUYLPTR-UHFFFAOYSA-N cyclohept-2-en-1-one Chemical compound O=C1CCCCC=C1 WZCRDVTWUYLPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N cycloheptene Chemical compound C1CCC=CCC1 ZXIJMRYMVAMXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 39
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 31
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- MKACMVMZUIQKNY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-nitroisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 MKACMVMZUIQKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910013684 LiClO 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZJVWSGLEWZZJFQ-VURMDHGXSA-N (2z)-cyclodec-2-en-1-one Chemical compound O=C\1CCCCCCC\C=C/1 ZJVWSGLEWZZJFQ-VURMDHGXSA-N 0.000 description 1
- YBCKTQFKZPWBNP-NTMALXAHSA-N (2z)-cyclododec-2-en-1-one Chemical compound O=C\1CCCCCCCCC\C=C/1 YBCKTQFKZPWBNP-NTMALXAHSA-N 0.000 description 1
- SMBUFVUYDMRGGD-ALCCZGGFSA-N (2z)-cyclonon-2-en-1-one Chemical compound O=C\1CCCCCC\C=C/1 SMBUFVUYDMRGGD-ALCCZGGFSA-N 0.000 description 1
- NSHQAIKRVDXIMX-XQRVVYSFSA-N (2z)-cyclooct-2-en-1-one Chemical compound O=C\1CCCCC\C=C/1 NSHQAIKRVDXIMX-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXUZKXVROWEIF-UHFFFAOYSA-N 1,2-butylene carbonate Chemical compound CCC1COC(=O)O1 ZZXUZKXVROWEIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZSLSTXKPQAVHL-UHFFFAOYSA-N 2-$l^{1}-oxidanylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N([O])C(=O)C2=C1 NZSLSTXKPQAVHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910013063 LiBF 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910013870 LiPF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 description 1
- DFLRGCFWSRELEL-UHFFFAOYSA-N cyclobut-2-en-1-one Chemical compound O=C1CC=C1 DFLRGCFWSRELEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCIYGNATMHQYCT-OWOJBTEDSA-N cyclodecene Chemical compound C1CCCC\C=C\CCC1 UCIYGNATMHQYCT-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N cyclododecene Chemical compound C1CCCCC\C=C/CCCC1 HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- BESIOWGPXPAVOS-UPHRSURJSA-N cyclononene Chemical compound C1CCC\C=C/CCC1 BESIOWGPXPAVOS-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- GGRQLKPIJPFWEZ-UHFFFAOYSA-N cycloprop-2-en-1-one Chemical compound O=C1C=C1 GGRQLKPIJPFWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXWYYGXTJLWHA-UHFFFAOYSA-N cyclopropene Chemical compound C1C=C1 OOXWYYGXTJLWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMUVJAZTJOCSND-OWOJBTEDSA-N cycloundecene Chemical compound C1CCCC\C=C\CCCC1 GMUVJAZTJOCSND-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011245 gel electrolyte Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
- Y02P20/133—Renewable energy sources, e.g. sunlight
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
非特許文献1に記載されたような電解反応では、電気エネルギーにより活性化を行うため、一般的に常温常圧で反応を行うことが可能である。また、印加する電気エネルギーを制御することにより、選択的に目的生成物を得ることができる。しかしながら、陽極として汎用される金属電極或いは炭素電極を用いた場合、高い電圧が必要であるため、膨大な電気エネルギーを要するという問題があった。
非特許文献2に記載されたような光触媒反応では、電解反応を利用せずに光触媒を用いる。光エネルギーにより活性化を行うため、一般的に常温常圧で反応を行うことが可能である。しかしながら、シクロアルケノンの生成速度が非常に遅く、実用性に乏しいという問題があった。
特許文献4に記載されたような光電解反応では、半導体光電極を用いて光照射下で反応を行うことにより、単純な電気化学反応と比べてわずかな電気エネルギーで目的生成物を得ることができる。しかしながら、半導体光電極を用いて有機化合物を直接に酸化して目的生成物を得る場合、一般的な半導体光電極は強い酸化力を持つため、反応の選択性が低いという問題があった。
〔1〕 シクロアルケンとイミド化合物と支持電解質とを含有した電解液中、分子状酸素存在下において、光応答性半導体金属酸化物アノード電極を用いて、光照射下で、シクロアルケンを電解酸化する工程を含む、シクロアルケノンの製造方法。
〔2〕 前記光応答性半導体金属酸化物アノード電極は、
導電性基材と、
前記導電性基材の表面に配置されている、WO3、BiVO4、Fe2O3、TiO2から選択される1種又は2種以上の光応答性n型半導体と
を有することを特徴とする〔1〕に記載のシクロアルケノンの製造方法。
〔3〕 前記導電性基材が、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、スズドープ酸化インジウム(ITO)から選択される1種又は2種以上の導電性ガラス基材である〔2〕に記載のシクロアルケノンの製造方法。
〔4〕 前記イミド化合物が、次の一般式(1)で表されるN-ヒドロキシフタルイミド誘導体である〔1〕~〔3〕のいずれかに記載のシクロアルケノンの製造方法。
〔5〕 前記シクロアルケンが、次の一般式(2)
図1は、本発明のシクロアルケノンの製造方法の一実施形態(以後、本実施形態ということがある)に係わる光電解酸化装置1を模式的に示した図である。本発明の実施形態のシクロアルケノンの製造は、光応答性半導体金属酸化物アノード電極12とカソード電極14を備え、分子状酸素存在下において、シクロアルケン、イミド化合物及び支持電解質を溶解した電解液16を収容した電解槽18において光照射下で行う。光応答性半導体金属酸化物アノード電極12とカソード電極14は直流電源15を介して電気的に接続し、光電解酸化反応を行う。定電位にて電解酸化反応を行う場合、光応答性半導体金属酸化物アノード電極12とカソード電極14に加え参照電極を用いることも可能である。電解槽18は図1のような一室型でも、図2のような隔膜29を有する二室型のもの(電解槽28)でも良い。
本実施形態に係る電解液は、シクロアルケンとイミド化合物と支持電解質と電解液の溶媒を含有する。その電解液は、さらに分子状酸素を含む。
本発明の実施形態で原料として使用するシクロアルケンは、好ましく3~12員環のものであり、より好ましく3~10員環のものであり、さらに好ましく5~7員環のものである。例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、シクロウンデセン、シクロドデセンなどが挙げられる。その中に、次の一般式(2)
本発明の実施形態での生成物であるシクロアルケノンは、好ましく3~12員環のものであり、より好ましく3~10員環のものであり、さらに好ましく5~7員環のものである。例えば、2-シクロプロペン-1-オン、2-シクロブテン-1-オン、2-シクロペンテン-1-オン、2-シクロヘキセン-1-オン、2-シクロヘプテン-1-オン、2-シクロオクテン-1-オン、2-シクロノネン-1-オン、2-シクロデセン-1-オン、2-シクロドデセン-1-オンなどが挙げられる。前記シクロアルケノンが、次の一般式(3)
本実施形態に用いるイミド化合物は、次の一般式(1)で表されるN-ヒドロキシフタルイミド誘導体であることが好ましい。
本実施形態の酸化反応に利用される分子状酸素は、分子状酸素を含む酸素ガス或いは分子状酸素を含む混合ガスを用いて電解液中に導入することができる。電解液中の分子状酸素源は特に限定されないが、例えば、大気などの雰囲気中の酸素が電解液中に溶解する程度の濃度で十分である。また、生産性などの観点から、電解液中の酸素濃度を維持するため、電解液中に酸素含有ガスを吹き込むことが好ましい。
本実施形態に用いる支持電解質は、電解液中に溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、LiPF6,LiBF4、LiClO4などのリチウム塩を含むものが挙げられる。このうちLiClO4が好ましい。この支持塩は、電解液中の濃度が0.05mol/L以上であることが好ましく、0.1mol/L以上であることがより好ましい。
本実施形態に用いる電解液の溶媒は、水を含む水系溶媒でも、水を含まない非水系溶媒でもよい。上記一般式(1)で表されるシクロヘキセン等のシクロアルケンとイミド化合物及び支持電解質を溶解するものであれば特に限定されない。例えば、支持電解質がLiClO4などのリチウム塩の場合、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどの環状カーボネート;イオン液体;ゲル電解質などを用いてもよい。その中、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒が好ましく、アセトニトリルがより好ましい。
また、水を含む水系溶媒の場合、例えば、水とアセトニトリルとを含む混合溶媒を用いることができる。その混合溶媒における水の体積比(混合前の体積)は、0%以上80%以下であることが好ましく、0質量%以上60質量%以下であることがより好ましい。
図1に示す本実施形態に用いる光応答性半導体金属酸化物アノード電極12は、導電性基材とその導電性基材上に形成されている光応答性半導体金属酸化物を備えている(図示なし)。
本実施形態に使用する導電性基材としては、フッ素ドープ酸化スズFTO、スズドープ酸化インジウムITOなどの導電性ガラス基材;或いは金属基材などが挙げられる。電極の安定性の観点、或いは効率よく本実施形態のシクロアルケノン、例えば、上記一般式(2)で表される2-シクロヘキセン-1-オンを製造するための観点から、フッ素ドープ酸化スズFTO、スズドープ酸化インジウムITOなどの導電性ガラス基材を使用することが好ましい。導電性基材の形状は限定されないが、板状のものを好適に使用することができる。
上記の金属酸化物を1層でも、2層以上の積層でもよい。光応答性などの観点から、積層した積層型光応答性半導体金属酸化物が好ましい。すなわち、多層構造を有する光応答性半導体金属酸化物アノード電極が好ましい。例えば、後述の実施例で作成したように、WO3とBiVO4が積層した多層構造を有するアノード電極が挙げられる。
図1に示す本実施形態に係る光電解装置1は、さらにカソード電極14を含む。カソード電極14の材料としては、限定されず、例えば、白金、金、銀、パラジウム、カーボンなどが挙げられる。効率よく製造するための観点から、白金を用いることが好ましい。
図1に示す本実施形態に係る光電解装置1は、少なくとも光応答性半導体金属酸化物アノード電極12に光を照射できるように設けられている。例えば、電解槽18の一部は、光を透過できるガラスなど透明材料で構成されることができる。使用する光は実用的な観点から、可視光であることが好ましく、自然の太陽光であることがより好ましい。後述の実施例では、ソーラーシュミレーターを用いて疑似太陽光を用いた。
光電解酸化反応は、適宜の温度と圧力下で行うことが可能である。好ましくは、-5~100℃、より好ましくは、常温常圧下で行うことが経済性の点で望ましい。
また、後述の比較例4のように、窒素雰囲気等の非酸素雰囲気中で電解を行った場合には、分子状酸素を実質的に含まないため、2-シクロヘキセン-1-オンをほとんど生成しなかった。このことから、本実施形態は、図3に示されたような、イミド化合物の電解酸化を介したシクロヘキセンの酸化による酸化中間体の生成、及び、この酸化中間体の分子状酸素との反応に基づくものであることが明らかである。
アルゴン置換したグローブバッグ中で0.50mol/L、及び0.25mol/Lの六塩化タングステン(高純度化学研究所製)のジメチルホルムアミド溶液を調製した。導電性基板のFTO膜(日本板硝子製)の表面に0.50mol/Lの六塩化タングステン溶液200μLを2000rpmでスピンコートした後500℃にて空気焼成し、0.25mol/Lの六塩化タングステン溶液200μLを2000rpmで再度スピンコートした後500℃にて空気焼成し、WO3膜を作製した。そして、ビスマス前駆体塗布液(高純度化学研究所製、EMOD塗布型材料)、バナジウム前駆体塗布液(高純度化学研究所製、EMOD塗布型材料)、及び増粘剤としてエチルセルロースを溶解した酢酸ブチルからなる溶液(濃度各0.04mol/L)400μLを、WO3膜の表面に500rpmでスピンコートした。これを550℃にて空気焼成し、WO3とBiVO4が積層した可視光応答性光アノード電極を作製した。
光照射下では、光非照射下と比較して必要な印加電圧が約2.7V低減された(光照射下:1.0V;光非照射下:3.7V)。
イミド化合物として2、2、6、6-テトラメチルピペリジン 1-オキシル(TEMPOと略記)(東京化成工業製)を用いた以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは19%の電流効率で得られた。結果を表1に示す。
イミド化合物を用いなかった以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。電解液2-シクロヘキセン-1-オンは19%の電流効率で得られた。結果を表1に示す。
電流を印加しなかった以外は、実施例1と同様に反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは得られなかった。結果を表1に示す。
電解槽の雰囲気を大気下とした以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは79%の電流効率で得られた。結果を表1に示す。
電解槽の雰囲気を窒素雰囲気とした以外は、上記実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンの生成量はごく僅かであった。結果を表1に示す。
イミド化合物として下記式(7)
シクロアルケンとしてシクロペンテン(東京化成工業製)を用いた以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。下記式(8)
イミド化合物を用いなかった以外は、実施例4と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは5%の電流効率で得られた。結果を表2に示す。
シクロアルケンとしてシクロヘプテン(東京化成工業製)を用いた以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。下記式(9)
イミド化合物を用いなかった以外は、実施例5と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは3%の電流効率で得られた。結果を表2に示す。
0.50mol/Lのタングステン酸ナトリウム(和光純薬製)溶液を、強酸性イオン交換樹脂(ダウ・ケミカル製、Dowex50 WX2)を充填したカラムに通し、タングステン酸水溶液を調製した。調製したタングステン酸水溶液、増粘剤であるポリエチレングリコール(和光純薬製)からなる溶液をエバポレーターで水を留去し、導電性基板のFTO膜の表面にスピンコートした後、550℃で空気焼成し、WO3可視光応答性光アノード電極を作製した。
得られたWO3可視光応答性光アノード電極を用いた以外は、実施例1と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは24%の電流効率で得られた。結果を表2に示す。
イミド化合物を用いなかった以外は、実施例6と同様に電解酸化反応を行った。反応後の電解液を実施例1と同様に分析した。2-シクロヘキセン-1-オンは15%の電流効率で得られた。結果を表2に示す。
12、22、32:光応答性半導体金属酸化物アノード電極(金属酸化物アノード電極)
14、24:カソード電極
15、25:電源
16、26:電解液
18、28:電解槽
29:隔膜
Claims (5)
- シクロアルケンとイミド化合物と支持電解質とを含有した電解液中、分子状酸素存在下において、光応答性半導体金属酸化物アノード電極を用いて、光照射下で、シクロアルケンを電解酸化する工程を含む、シクロアルケノンの製造方法。
- 前記光応答性半導体金属酸化物アノード電極は、
導電性基材と、
前記導電性基材の表面に配置されている、WO3、BiVO4、Fe2O3、TiO2から選択される1種又は2種以上の光応答性n型半導体と
を有することを特徴とする請求項1に記載のシクロアルケノンの製造方法。 - 前記導電性基材が、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、スズドープ酸化インジウム(ITO)から選択される1種又は2種以上の導電性ガラス基材である請求項2に記載のシクロアルケノンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019040456A JP7154595B2 (ja) | 2019-03-06 | 2019-03-06 | 光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019040456A JP7154595B2 (ja) | 2019-03-06 | 2019-03-06 | 光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020143013A JP2020143013A (ja) | 2020-09-10 |
JP7154595B2 true JP7154595B2 (ja) | 2022-10-18 |
Family
ID=72353176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019040456A Active JP7154595B2 (ja) | 2019-03-06 | 2019-03-06 | 光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7154595B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113789529B (zh) * | 2021-09-03 | 2022-11-25 | 浙江工业大学 | 一种将乙二醛光电催化氧化为乙醛酸的合成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016031491A1 (ja) | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 株式会社ダイセル | 固体酸触媒、及び酸化物の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59185787A (ja) * | 1983-04-06 | 1984-10-22 | Masaichiro Masui | 電極酸化反応メデイエイタ−および酸化方法 |
JP2876524B2 (ja) * | 1996-09-12 | 1999-03-31 | 工業技術院長 | 光エネルギーの変換方法 |
-
2019
- 2019-03-06 JP JP2019040456A patent/JP7154595B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016031491A1 (ja) | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 株式会社ダイセル | 固体酸触媒、及び酸化物の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
S. R. Waldvogel, M. Selt,Electrochemical Allylic Oxidation of Olefines: Sustainable and Safe,Angewandte Chemie,2016年,Vol. 55, No. 41,p.12578-12580,onlinelibrary.wiley.com/toc/15213773/2016/55/41 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020143013A (ja) | 2020-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Mase et al. | Efficient photocatalytic production of hydrogen peroxide from water and dioxygen with bismuth vanadate and a cobalt (II) chlorin complex | |
Oh et al. | Organic molecules as mediators and catalysts for photocatalytic and electrocatalytic CO 2 reduction | |
JP4904715B2 (ja) | 光電気化学セル及びその製造方法 | |
JP6942346B2 (ja) | シクロアルカノール及びシクロアルカノンの製造方法 | |
Liu et al. | Bromide-mediated photoelectrochemical epoxidation of alkenes using water as an oxygen source with conversion efficiency and selectivity up to 100% | |
JP6418906B2 (ja) | 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置 | |
Özcan et al. | Photoelectrocatalytic selective oxidation of 4-methoxybenzyl alcohol in water by TiO2 supported on titanium anodes | |
JP2011082144A (ja) | 複合光電極および光電気化学反応システム | |
JP2006089336A (ja) | 水の光分解反応により水素および酸素を製造する装置 | |
JP7154595B2 (ja) | 光電気化学反応システムを用いたシクロアルケノンの製造方法 | |
Sato et al. | Electrocatalytic CO2 reduction near the theoretical potential in water using Ru complex supported on carbon nanotubes | |
JP6554642B2 (ja) | 過酸化水素の製造方法および製造装置 | |
KR101891583B1 (ko) | 물 산화 촉매 반응을 위한 고분자-금속촉매 하이브리드 소재 및 이의 제조방법 | |
JP6694646B2 (ja) | 過酸化水素の製造方法および製造装置 | |
JP2019157223A (ja) | 光電極を用いた過酸化水素の製造方法 | |
US7714175B2 (en) | Production method of aromatic hydroxide | |
JP7215727B2 (ja) | 過酸化水素の製造方法及び過酸化水素の製造装置 | |
JP2016050327A (ja) | 半導体電極、光エネルギー変換装置および半導体電極の製造方法 | |
Masoumi et al. | Photo-electrochemical ep-oxidation using environmentally friendly oxidants: Overview of recent advances in efficiently designed photo-electrode | |
JP3793800B2 (ja) | ヨウ素化合物と半導体光触媒による水素及び酸素の製造方法 | |
JP5544691B2 (ja) | 有機光触媒フィルムの製造方法 | |
JP7336126B2 (ja) | 高価数マンガンの製造方法、及び製造装置 | |
JP2005068007A (ja) | ヨウ素化合物と半導体光触媒による水素及び酸素の製造方法 | |
JP6388820B2 (ja) | 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置 | |
CN116056788A (zh) | 有机碳酸酯合成用催化剂及制法、合成用电极、合成用电池、有机碳酸酯制法和合成系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220830 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7154595 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |