JP7084031B2 - 光学積層体 - Google Patents
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Description
<1> 支持基材と、前記支持基材上に形成され、金属又は半金属の酸化物からなる下地層と、アルミニウムの含有量が98.0質量%以下であるアルミニウム系合金からなり、前記下地層上に形成され、表面が不動態被膜で覆われているハーフミラー層と、前記ハーフミラー層上に形成され、金属又は半金属の酸化物からなる保護層とを備える光学積層体。
本発明の光学積層体は、少なくとも、支持基材、下地層、ハーフミラー層、及び保護層を備えている。
支持基材として、厚みが100μmのPETフィルムを用意した。各実施例及び各比較例において、PETフィルムの一方の表面上に、スパッタリングにより、表1に示される構成の各層(下地層、ガスバリア層(GB層1)、ハーフミラー層(HM層)、ガスバリア層(GB層2)、及び保護層)を、表1に示される左側からの並び順で積層する形で、形成して光学積層体を得た。なお、表1中において、記号「-」は、該当する層を形成しないことを示す。また、表1中において、カッコ内の数値は、各層の厚みを示す。ハーフミラー層の厚み(不動態被膜を含む)は、蛍光X線分析(リガク社製、ZSX-100e)によって測定した。各層のスパッタリングの成膜条件は、以下の通りである。
ターゲット:Siターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:6500W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):65sccm
ターゲット:Siターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:443W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
ターゲット:A5052ターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:874W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
<成膜条件:ハーフミラー層(実施例2、比較例3,4)>
ターゲット:A5652ターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:874W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
<成膜条件:ハーフミラー層(実施例3、比較例5,6)>
ターゲット:A5082ターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:874W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
<成膜条件:ハーフミラー層(比較例7~9)>
ターゲット:A1050ターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:874W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
ターゲット:Siターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:443W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):0sccm
ターゲット:Siターゲット、成膜圧力:0.4Pa、投入電力:6500W、供給ガス(Ar):200sccm、供給ガス(O2):65sccm
各実施例及び各比較例の光学積層体について、JIS K7136及び7361-1に準拠して、ヘーズメータ(HZ-2、スガ試験機株式会社製)を用いて、0時間後、及び120時間後及び2000時間後の全光線透過率及びヘーズを測定した。結果は、表1に示した。また、各全光線透過率の結果に基づいて算出した全光線透過率の変化率(透過変化率)(%)も、表1に示した。
Claims (3)
- 支持基材と、
前記支持基材上に形成され、金属又は半金属の酸化物からなる下地層と、
アルミニウムの含有量が98.0質量%以下であるアルミニウム系合金からなり、前記下地層上に形成され、表面が不動態被膜で覆われているハーフミラー層と、
前記ハーフミラー層上に形成され、金属又は半金属の酸化物からなる保護層とを備え、
前記ハーフミラー層は、前記アルミニウム系合金からなる層状の中心部を有し、
前記不動態被膜は、前記中心部と前記下地層との間、及び前記中心部と前記保護層との間にそれぞれ形成され、
前記不動態被膜のうち、前記中心部と前記下地層との間のものは、前記アルミニウム系合金と、前記下地層に酸化物として含まれる酸素との反応物によって形成されると共に、前記中心部と前記保護層との間のものは、前記アルミニウム系合金と、前記保護層に酸化物として含まれる酸素との反応物によって形成される光学積層体。 - 前記アルミニウム系合金は、前記アルミニウムと前記アルミニウム以外の金属とからなり、前記アルミニウム以外の金属として、少なくともマグネシウムを含む請求項1に記載の光学積層体。
- 前記ハーフミラー層の厚みは、10nm以上15nm以下である請求項1又は請求項2に記載の光学積層体。
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JP2003029010A (ja) | 2001-07-16 | 2003-01-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 半透過ミラー付き基板及び半透過型液晶表示装置 |
JP2007072427A (ja) | 2005-03-10 | 2007-03-22 | Mitsubishi Materials Corp | 耐腐食性に優れた反射板用反射膜およびこの耐腐食性に優れた反射板用反射膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
JP2010257714A (ja) | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Stanley Electric Co Ltd | 車両用灯具、車両用灯具のレンズ、および、その製造方法 |
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