JP7065996B2

JP7065996B2 - 自動分析装置

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Publication number: JP7065996B2
Application number: JP2020550306A
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Inventors: 雄大福士; 高通森
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Filing date: 2019-09-20
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Description

本発明は、自動分析装置に関する。

試料の定性・定量分析を行う自動分析装置においては、一定量の試料と一定量の試薬とを反応容器内に吐出して混合および反応させ、この反応液の反応を光学的に測定することにより試料である検体の成分や濃度等の分析を行う。このような自動分析装置においては、分析対象である試料の分注に用いるプローブを適宜洗浄することによりクロスコンタミネーションの発生を抑制して分析精度の維持を図っている。

このようなプローブの洗浄に係る技術として、例えば、特許文献１には、試薬や分析対象である検体を反応容器に分注する分注用ノズルと、前記分注用ノズルを繰返し使用するために洗浄する洗浄手段を具備し、反応容器内で化学反応させた反応液の吸光度を測定して成分分析を行う自動分析装置おいて、前記洗浄後に前記分注用ノズルの外壁に残存した洗浄水を真空吸引し、非接触で除去、乾燥し得る自動分析装置が開示されている。

特開２００２－３４０９１３号公報

ところで、自動分析装置におけるプローブの洗浄には洗浄水として多量の水を必要とするが、洗浄水が多く確保出来ない場合、例えば、洗浄水を多く確保できない地域で自動分析装置を使用する場合には分析を継続的に実施できないことが考えられる。

本発明は上記に鑑みてなされたものであり、プローブの洗浄における洗浄水の使用量を削減することができる自動分析装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、分析対象の試料と試薬とを反応させる複数の反応容器に分注対象を分注するプローブと、前記反応容器の前記試料と前記試薬の反応液を測定する測定部と、前記プローブの洗浄を行う洗浄槽と、前記プローブ、前記測定部、及び前記洗浄槽の動作を制御する制御装置とを備えた自動分析装置において、前記洗浄槽は、前記プローブを浸漬して洗浄するための洗浄水を貯留し、前記プローブを上方から挿入して洗浄する洗浄プールと、ポンプから前記洗浄プールへ供給される洗浄水の通流と遮断とを切り換える供給弁と、前記洗浄プールの側方に離間して設けられ、前記プローブを上方から挿入して前記プローブの表面に付着した洗浄水を前記プローブの先端方向に吸引する乾燥槽とを有し、前記制御装置は、前記洗浄プールへの洗浄水の供給を前記供給弁により遮断した状態で、前記洗浄プールに前記プローブを挿入して洗浄水に浸漬させることで洗浄し、洗浄水に浸漬させて洗浄した後に、前記洗浄プールから抜き出し、前記洗浄プールから抜き出した後に移動して前記乾燥槽に挿入し、前記プローブの表面の洗浄水を吸引させるものとする。

本発明によれば、プローブの洗浄における洗浄水の使用量を削減することができる。

第１の実施の形態に係る自動分析装置の全体構成を概略的に示す図である。洗浄槽の構成を示す縦断面図である。第１の実施の形態に係る洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。第１の実施の形態に係る試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。第２の実施の形態に係る洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。第２の実施の形態に係る試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。第３の実施の形態に係る洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。第３の実施の形態に係る試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。

本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。

＜第１の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態を図１～図４を参照しつつ説明する。

図１は、本実施の形態に係る自動分析装置の全体構成を概略的に示す図である。

図１において、自動分析装置１００は、反応容器２に試料と試薬とを各々分注して反応させ、この反応させた液体を測定する装置であり、試料搬送機構１７と、試薬ディスク９と、反応ディスク１と、第１試料分注機構１１および第２試料分注機構１２と、試薬分注機構７，８と、攪拌機構５，６と、光源４ａと、分光光度計４と、洗浄機構３と、制御装置２１とから概略構成されている。

反応ディスク１には、反応容器２が円周状に並んでいる。反応容器２は試料と試薬とを混合させた混合液を収容するための容器であり、反応ディスク１上に複数並べられている。反応ディスク１の近くには、分析対象の試料を収容した試料容器１５を一つ以上搭載した試料ラック１６を搬送する試料搬送機構１７が配置されている。

反応ディスク１と試料搬送機構１７との間には、回転および上下動可能な第１試料分注機構１１および第２試料分注機構１２が配置されている。

第１試料分注機構１１は、その先端を下方に向けて配置された試料プローブ１１ａを有しており、試料プローブ１１ａには、試料用ポンプ１９が接続されている。第１試料分注機構１１は、図示しない洗浄水タンクから試料用ポンプ１９により送出される洗浄水（以下、内洗水と記載）を試料プローブ１１ａから吐出可能であるように構成されている。また、第１試料分注機構１１は、水平方向への回転動作および上下動作が可能なように構成されており、試料プローブ１１ａを試料容器１５に挿入して試料用ポンプ１９を作動させて試料を吸引し、試料プローブ１１ａを反応容器２に挿入して試料を吐出することにより、試料容器１５からから反応容器２への試料の分注を行う。

第１試料分注機構１１の稼動範囲には、試料プローブ１１ａを洗浄水により洗浄する洗浄槽１３および特別な洗浄液により洗浄する洗浄容器２３が配置されている。試料プローブ１１ａを試料容器１５に挿入して試料を吸引する位置を第１試料吸引位置とし、試料プローブ１１ａを反応容器２に挿入して試料を吐出する位置を第１試料吐出位置とすると、洗浄槽１３および洗浄容器２３は第１試料吸引位置と第１試料吐出位置との間に配置されている。

第２試料分注機構１２は、その先端を下方に向けて配置された試料プローブ１２ａを有しており、試料プローブ１２ａには、試料用ポンプ１９が接続されている。第２試料分注機構１２は、図示しない洗浄水タンクから試料用ポンプ１９により送出される洗浄水（内洗水）を試料プローブ１２ａから吐出可能であるように構成されている。第２試料分注機構１２は、水平方向への回転動作および上下動作が可能なように構成されており、試料プローブ１２ａを試料容器１５に挿入して試料用ポンプ１９を作動させて試料を吸引し、試料プローブ１２ａを反応容器２に挿入して試料を吐出することにより、試料容器１５からから反応容器２への試料の分注を行う。

第２試料分注機構１２の稼動範囲には、試料プローブ１２ａを洗浄水により洗浄する洗浄槽１４および特別な洗浄液により洗浄する洗浄容器２４が配置されている。試料プローブ１２ａを試料容器１５に挿入して試料を吸引する位置を第２試料吸引位置とし、試料プローブ１２ａを反応容器２に挿入して試料を吐出する位置を第２試料吐出位置とすると、洗浄槽１４および洗浄容器２４は第２試料吸引位置と第２試料吐出位置との間に配置されている。

洗浄槽１３，１４は、試料分注後の試料プローブ１１ａ，１２ａの外側および内側の洗浄を試料分注のたびに行うものである。また、洗浄容器２３，２４は、予め登録された検体種別の試料に対して、予め登録された分析項目の測定依頼があった場合に、その試料を分析する前に試料プローブ１１ａ，１２ａに対して追加洗浄処理を行うものである。

試薬ディスク９は、分析に用いる試薬を収容した複数の試薬ボトル１０を円周上に載置可能であって、試薬ボトル１０の保管庫としての役割も有しており、試薬ボトル１０を保冷する機能を有している。

反応ディスク１と試薬ディスク９との間には、水平方向への回転移動および上下動作が可能に構成され、試薬ボトル１０から反応容器２に試薬を分注するための試薬分注機構７，８が設置されており、それぞれその先端を下方に向けて配置された試薬プローブ７ａ，８ａを備えている。試薬プローブ７ａ，８ａには、試薬用ポンプ１８が接続されている。この試薬用ポンプ１８により、試薬プローブ７ａ，８ａを介して試薬ボトル１０等から吸引した試薬、洗剤、希釈液、前処理用試薬等を反応容器２に分注する。

試薬分注機構７の稼動範囲には試薬プローブ７ａを洗浄水により洗浄する洗浄槽３２が、試薬分注機構８の稼動範囲には試薬プローブ８ａを洗浄水により洗浄する洗浄槽３３が配置されている。

反応ディスク１の周囲には、攪拌機構５，６や、光源４ａから反応容器２の反応液を介して得られる透過光を測定することにより、反応液の吸光度を測定する分光光度計４や、使用済みの反応容器２を洗浄する洗浄機構３等が配置されている。

攪拌機構５，６は、水平方向への回転動作および上下動作が可能なように構成されており、反応容器２に挿入することにより試料と試薬との混合液（反応液）の攪拌を行う。攪拌機構５，６の稼動範囲には、攪拌機構５，６を洗浄水により洗浄する洗浄槽３０，３１が配置されている。また、洗浄機構３には、洗剤吐出機構２０が接続されている。

制御装置２１は、コンピュータ等から構成され、自動分析装置１００の全体の動作を制御するとともに、血液や尿等の液体試料中の所定の成分の濃度を求める演算処理を行う。なお、図１においては、図示の簡単のため、自動分析装置１００を構成する各機構と制御装置２１との接続関係を一部省略して示している。

以上のように構成した自動分析装置１００による分析対象の試料の分析処理では、まず、試料搬送機構１７によって反応ディスク１近くに搬送された試料ラック１６の上に載置された試料容器１５内の試料を、第１試料分注機構１１の試料プローブ１１ａまたは第２試料分注機構１２の試料プローブ１２ａにより反応ディスク１上の反応容器２へと分注する。次に、分析に使用する試薬を、試薬ディスク９上の試薬ボトル１０から試薬分注機構７，８の試薬プローブ７ａ，８ａにより先に試料を分注した反応容器２に対して分注する。続いて、攪拌機構５，６で反応容器２内の試料と試薬との混合液の撹拌を行う。その後、光源４ａら発生させた光を混合液の入った反応容器２を透過させ、透過光の光度を分光光度計４により測定する。分光光度計４により測定された光度を、Ａ／Ｄコンバータおよびインターフェイスを介して制御装置２１に送信する。そして制御装置２１によって演算を行い、試薬に応じた分析項目の所定の成分の濃度を求め、結果を表示部（不図示）等にて表示させたり、記憶部（不図示）に記憶させたりする。なお、光源４ａ、分光光度計４、及び、制御装置２１は、反応容器２の試料と試薬の反応液を測定する測定部を構成する。

ここで、以降の説明においては、試料プローブ１１ａの洗浄槽１３を代表して説明するが、他の試料プローブ１２ａおよび試薬プローブ７ａ，８ａの洗浄槽１４，３２，３３の構造、及び、洗浄処理においても試料プローブ１１ａの場合と同様である。

図２は、洗浄槽の構成を示す縦断面図である。

図２において、試料プローブ１１ａの洗浄槽１３は、試料プローブ１１ａを浸漬して洗浄するための洗浄水を貯留する洗浄プール３６と、試料プローブ１１ａの表面に付着した洗浄水を吸引する乾燥槽３７と、試料プローブ１１ａに洗浄水を掛け流して洗浄する外洗部３８とを有している。

また、洗浄槽１３には、洗浄プール３６からオーバーフローした廃液（洗浄水）、及び、外洗部３８のノズル４１から吐出された洗浄水を外部の廃液タンクまたは下水設備（ともに図示せず）に排出する廃液口１３ａが設けられている。

洗浄プール３６は、浸漬位置３９に移動された試料プローブ１１ａを貯留された洗浄水に浸漬して洗浄するものである。洗浄プール３６には、洗浄水を供給するためのポンプ１０１によって、洗浄プール３６に貯留された洗浄水の液面よりも低い位置（例えば、洗浄プール３６の底部）から洗浄水（例えば、蒸留水などのシステム水）が供給される。ポンプ１０１から洗浄プール３６への洗浄水の供給は、ポンプ１０１と洗浄プール３６の間の洗浄水の流路に設けられた電磁弁３５ｂの開閉を制御装置２１によって開状態に制御することより行われる。ポンプ１０１から電磁弁３５ｂを介して洗浄プール３６に洗浄水が供給されることにより、洗浄プール３６内の洗浄水が置換され、洗浄プール３６からオーバーフローした洗浄水は廃液口１３ａを経て排出される。なお、洗浄プール３６に試料プローブ１１ａを浸漬した状態で洗浄液を供給することにより、洗浄効果を向上することができる。

乾燥槽３７は、乾燥位置４０に移動された試料プローブ１１ａを挿入し、真空吸引によって表面の洗浄水を除去するものである。このとき、試料プローブ１１ａからの内洗水（洗浄水）の吐出も同時に行われる。乾燥槽３７には、負圧を保つための真空タンク１０２と真空タンク１０２を減圧するための真空ポンプ１０３とが、真空瓶３４を介して接続されている。真空瓶３４は、乾燥槽３７に挿入された試料プローブ１１ａの表面から真空吸引によって除去された洗浄水や試料プローブ１１ａから吐出される内洗水をトラップするものである。真空ポンプ１０３が動作すると真空ポンプ１０３に接続された真空タンク１０２内が減圧される。乾燥槽３７での真空吸引は、真空タンク１０２と真空瓶３４との間に設けられた電磁弁３５ｃの開閉を制御装置２１によって開状態に制御することにより行われる（ことのとき、電磁弁３５ａは閉状態に制御する）。また、真空瓶３４からの廃液の排出は、真空瓶３４からの廃液の流路に設けられた電磁弁３５ａの開閉を制御装置２１によって開状態に制御することにより行われる（このとき、電磁弁３５ｃは閉状態に制御する）。乾燥槽３７の真空吸引によって、試料プローブ１１ａの表面の洗浄水が汚れ等と一緒に除去される。

外洗部３８は、洗浄位置４２に移動された試料プローブ１１ａに洗浄水を掛け流して表面を洗浄するものである。外洗部３８には、試料プローブ１１ａの表面に洗浄水を吐出して掛け流すノズル４１が設けられている。ノズル４１への洗浄水の供給は、ポンプ１０１とノズル４１の間の洗浄水の流路に設けられた電磁弁３５ｂの開閉を制御装置２１によって開状態に制御することにより行われる。

ここで、試料プローブ１１ａ，１２ａ及び試薬プローブ７ａ，８ａの洗浄槽１３，１４，３２，３３による洗浄処理の処理内容について説明する。

図３は、洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。また、図４は、試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。

図３及び図４において、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを試料容器１５から検体を吸引するサンプル吸引位置４４に移動して試料を吸引させた後、反応容器位置４３に移動させて検体を反応容器２に吐出させ、分注処理を終了する（ステップＳ１）。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを浸漬位置３９に移動させ（ステップＳ２）、試料プローブ１１ａを洗浄プール３６に貯留された洗浄水に浸漬して引き上げる（ステップＳ３）。試料プローブ１１ａを洗浄プール３６の洗浄水に浸漬した後に引き上げることにより、試料プローブ１１ａの表面に付着した汚れが洗浄水の表面張力によりに引っ張られて除去され、試料プローブ１１ａの側面の汚れの付着量が低減する。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを乾燥位置４０に移動させ（ステップＳ４）、試料プローブ１１ａを乾燥槽３７に挿入させて、真空吸引によって表面の洗浄水を除去し、同時に、試料プローブ１１ａからシステム水を吐出して試料プローブ１１ａの内部を洗浄する（ステップＳ５）。

次に、分析動作を継続するかどうかを判定し（ステップＳ６）、判定結果がＮＯの場合には、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを洗浄位置４２（基本位置）に移動させつつ分析処理の終了動作を行って自動分析装置１００を停止する（ステップＳ６１）。また、ステップＳ６での判定結果がＹＥＳの場合には、制御装置２１は、分注動作を継続し（ステップＳ７）、続いて、洗浄動作を予め定めた回数だけ実施したかどうかを判定する（ステップＳ８）。なお、分注動作の回数は制御装置２１でカウントされて記憶部（図示せず）に記憶されている。ステップＳ８での判定結果がＮＯの場合には、ステップＳ１の処理に戻る。

また、ステップＳ８での判定結果がＹＥＳの場合には、制御装置２１は、電磁弁３５ｂを開状態に制御して開放し（ステップＳ８１）、洗浄プール３６に貯留された洗浄水を置換し（ステップＳ８２）、電磁弁３５ｂを閉状態に制御して閉じ（ステップＳ８３）、洗浄回数をリセットして（ステップＳ８４）、ステップＳ１の処理に戻る。

洗浄動作（ステップＳ２～Ｓ５）が繰り返されると洗浄プール３６に貯留された洗浄水は序所に汚染されるため、洗浄動作が規定の回数繰り返された場合には洗浄プール３６に溜められた洗浄水を新しい洗浄水と置換する。このとき、洗浄プール３６に貯留された洗浄水の交換回数を少なく調整することで洗浄水の使用量を削減することが出来る。

以上のように構成した本実施の形態の効果を説明する。

自動分析装置におけるプローブの洗浄には洗浄水として多量の水を必要とするが、洗浄水が多く確保出来ない場合、例えば、洗浄水を多く確保できない地域で自動分析装置を使用する場合には分析を継続的に実施できないことが考えられる。

これに対して本実施の形態においては、分析対象の試料と試薬とを反応させる複数の反応容器２に分注対象を分注するプローブ（例えば、試料プローブ１１ａ，１２ａ、試薬プローブ７ａ，８ａ）と、反応容器２の試料と試薬の反応液を測定する測定部（第２試料分注機構１２、光源４ａ、及び、制御装置２１）と、プローブの洗浄を行う洗浄槽と、プローブ、測定部、及び洗浄槽１３，１４，３２，３３の動作を制御する制御装置２１とを備えた自動分析装置１００において、洗浄槽１３，１４，３２，３３は、プローブを浸漬して洗浄するための洗浄水を貯留する洗浄プール３６と、プローブの表面に付着した洗浄水を吸引する乾燥槽３７とを有し、制御装置２１は、洗浄プール３６の洗浄水にプローブを浸漬させて洗浄した後に、乾燥槽３７でプローブの表面の洗浄水を吸引させるように構成したので、試料プローブ１１ａ，１２ａ及び試薬プローブ７ａ，８ａの洗浄における洗浄水の使用量を削減することができる。

＜第２の実施の形態＞
本発明の第２の実施の形態を図５及び図６を参照しつつ説明する。本実施の形態では、第１の実施の形態との相違点についてのみ説明するものとし、図面における第１の実施の形態と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。

本実施の形態は、洗浄動作において、乾燥槽３７による真空吸引の後に、さらに、洗浄位置４２に移動して外洗部３８での洗浄を行うものである。

図５は、洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。また、図６は、試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。

図５及び図６において、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを試料容器１５から検体を吸引するサンプル吸引位置４４に移動して試料を吸引させた後、反応容器位置４３に移動させて検体を反応容器２に吐出させ、分注処理を終了する（ステップＳ１）。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを浸漬位置３９に移動させ（ステップＳ２）、試料プローブ１１ａを洗浄プール３６に貯留された洗浄水に浸漬して引き上げる（ステップＳ３）。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを洗浄位置４２に移動させ（ステップＳ５１）、電磁弁３５ｄを開閉制御することで外洗部３８において試料プローブ１１ａにノズル４１から洗浄水を吐出して外洗を行う（ステップＳ５２）。このとき、外洗前に真空吸引して試料プローブ１１ａの表面の洗浄水を汚れとともに除去しているので、洗浄動作の効果を維持しつつ、外洗に使用する洗浄水の水量を抑制することができる。

洗浄動作（ステップＳ２～Ｓ５２）が繰り返されると洗浄プール３６に貯留された洗浄水は序所に汚染されるため、洗浄動作が規定の回数繰り返された場合には洗浄プール３６に溜められた洗浄水を新しい洗浄水と置換する。このとき、洗浄プール３６に貯留された洗浄水の交換回数を少なく調整することで洗浄水の使用量を削減することが出来る。

その他の構成は第１の実施の形態と同様である。

以上のように構成した本実施の形態においても第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

また、外洗前に真空吸引して試料プローブ１１ａの表面の洗浄水を汚れとともに除去しているので、洗浄動作の効果を維持しつつ、外洗に使用する洗浄水の水量を抑制することができる。

＜第３の実施の形態＞
本発明の第３の実施の形態を図７及び図８を参照しつつ説明する。本実施の形態では、第１及び第２の実施の形態との相違点についてのみ説明するものとし、図面における第１の実施の形態と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。

本実施の形態は、洗浄動作において、乾燥槽３７による真空吸引の後の洗浄位置４２に移動しての外洗部３８での洗浄の後に、さらに、乾燥槽３７による真空吸引を行うものである。

図７は、洗浄処理の処理内容を示すフローチャートである。また、図８は、試料プローブの位置の移動の様子を示す図である。

図７及び図８において、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを試料容器１５から検体を吸引するサンプル吸引位置４４に移動して試料を吸引させた後、反応容器位置４３に移動させて検体を反応容器２に吐出させ、分注処理を終了する（ステップＳ１）。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを洗浄位置４２に移動させ（ステップＳ５１）、電磁弁３５ｄを開閉制御することで外洗部３８において試料プローブ１１ａにノズル４１から洗浄水を吐出して外洗を行う（ステップＳ５２）。

続いて、制御装置２１は、試料プローブ１１ａを乾燥位置４０に移動させ（ステップＳ５３）、試料プローブ１１ａを乾燥槽３７に挿入させて、真空吸引によって表面の洗浄水を除去し、同時に、試料プローブ１１ａからシステム水を吐出して試料プローブ１１ａの内部を洗浄する（ステップＳ５４）。このとき、外洗前の真空吸引による汚れの除去と外洗後の真空吸引を行うようので、洗浄動作の効果を維持しつつ、使用する洗浄水の水量をさらに抑制することができる。

次に、分析動作を継続するかどうかを判定し（ステップＳ６）、判定結果がＮＯの場合には、制御装置２１は、分析処理の終了動作を行って自動分析装置１００を停止する（ステップＳ６１）。また、ステップＳ６での判定結果がＹＥＳの場合には、制御装置２１は、分注動作を継続し（ステップＳ７）、続いて、洗浄動作を予め定めた回数だけ実施したかどうかを判定する（ステップＳ８）。なお、分注動作の回数は制御装置２１でカウントされて記憶部（図示せず）に記憶されている。ステップＳ８での判定結果がＮＯの場合には、ステップＳ１の処理に戻る。

洗浄動作（ステップＳ２～Ｓ５４）が繰り返されると洗浄プール３６に貯留された洗浄水は序所に汚染されるため、洗浄動作が規定の回数繰り返された場合には洗浄プール３６に溜められた洗浄水を新しい洗浄水と置換する。このとき、洗浄プール３６に貯留された洗浄水の交換回数を少なく調整することで洗浄水の使用量を削減することが出来る。

その他の構成は第１及び第２の実施の形態と同様である。

またあ、外洗前の真空吸引による汚れの除去と外洗後の真空吸引を行うようので、洗浄動作の効果を維持しつつ、使用する洗浄水の水量をさらに抑制することができる。

＜付記＞
なお、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内の様々な変形例や組み合わせが含まれる。また、本発明は、上記の実施の形態で説明した全ての構成を備えるものに限定されず、その構成の一部を削除したものも含まれる。

例えば、洗浄プール３６での浸漬効果を向上するために洗浄プール３６内に表面活性剤などの洗剤を添加することも有効である。

また、洗浄プール３６内で洗浄水の流れをつくることでより汚れをより剥離しやすい状態にして良い。例えば、プローブの浸漬時、内洗水を洗浄プール内で吐出することで洗浄プール３６内で乱流を起こしたり、洗浄プール３６内にプロペラ(図示せず)を設置したりすることで洗浄水の渦を作ることで実現可能である。

さらに、洗浄層に洗浄プールを２つ以上備え、１つ目の洗浄プールでは浸漬し、２つ目の洗浄プールでは洗浄プール内に洗浄水の流れを起こし、より剥離しやすい状態にすることでプローブの外洗水使用量を抑えることもできる。内洗水の吐出位置は乾燥槽３７とすることで真空吸引された汚れが乾燥槽３７と真空瓶３４との間の流路に付着しても洗い流すことができ、流路の詰まりを防ぐことが出来る。

また、反応容器２に分注対象を吐出後、プローブ側面についた検体を直接、乾燥位置４０で真空吸引動作を行ったとしても、真空吸引動作によりプローブ側面に付着した検体は低減させることが可能となるので、その後に行う洗浄位置４２での洗浄時間は少なくなり、結果として洗浄水の低減につなげることが出来る。

また、乾燥槽３７は真空吸引する方法に代えて、試料プローブ１１ａの直角方向から気流を吹き付けて液滴や汚れを吹き飛ばす方式を用いても良い。

また、上記の各構成、機能等は、それらの一部又は全部を、例えば集積回路で設計する等により実現してもよい。また、上記の各構成、機能等は、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを解釈し、実行することによりソフトウェアで実現してもよい。

１…反応ディスク、２…反応容器、３…洗浄機構、４…分光光度計、４ａ…光源、５…攪拌機構、６…攪拌機構、７…試薬分注機構、７ａ…試薬プローブ、８…試薬分注機構、８ａ…試薬プローブ、９…試薬ディスク、１０…試薬ボトル、１１…第１試料分注機構、１１ａ…試料プローブ、１２…第２試料分注機構、１２ａ…試料プローブ、１３，１４…洗浄槽、１３ａ…廃液口、１５…試料容器、１６…試料ラック、１７…試料搬送機構、１８…試薬用ポンプ、１９…試料用ポンプ、２０…洗剤吐出機構、２１…制御装置、２３…洗浄容器、２４…洗浄容器、３０，３１…洗浄槽、３２，３３…洗浄槽、３４…真空瓶、３５ａ…電磁弁、３５ｂ…電磁弁、３５ｃ…電磁弁、３５ｄ…電磁弁、３６…洗浄プール、３７…乾燥槽、３８…外洗部、３９…浸漬位置、４０…乾燥位置、４１…ノズル、４２…洗浄位置、４３…反応容器位置、４４…サンプル吸引位置、１００…自動分析装置、１０１…ポンプ、１０２…真空タンク、１０３…真空ポンプ

Claims

分析対象の試料と試薬とを反応させる複数の反応容器に分注対象を分注するプローブと、前記反応容器の前記試料と前記試薬の反応液を測定する測定部と、前記プローブの洗浄を行う洗浄槽と、前記プローブ、前記測定部、及び前記洗浄槽の動作を制御する制御装置とを備えた自動分析装置において、
前記洗浄槽は、
前記プローブを浸漬して洗浄するための洗浄水を貯留し、前記プローブを上方から挿入して洗浄する洗浄プールと、
ポンプから前記洗浄プールへ供給される洗浄水の通流と遮断とを切り換える供給弁と、
前記洗浄プールの側方に離間して設けられ、前記プローブを上方から挿入して前記プローブの表面に付着した洗浄水を前記プローブの先端方向に吸引する乾燥槽とを有し、
前記制御装置は、
前記洗浄プールへの洗浄水の供給を前記供給弁により遮断した状態で、前記洗浄プールに前記プローブを挿入して洗浄水に浸漬させることで洗浄し、
前記プローブを洗浄水に浸漬させて洗浄した後に前記洗浄プールから抜き出し、
前記プローブを前記洗浄プールから抜き出した後に移動して前記乾燥槽に挿入し、前記プローブの表面の洗浄水を吸引させることを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記制御装置は、前記乾燥槽で前記プローブの表面の洗浄水を吸引させると同時に、前記プローブから洗浄水を吐出させることを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記洗浄槽は、前記プローブに洗浄水を掛け流して洗浄する外洗部を有し、
前記制御装置は、前記乾燥槽で前記プローブの表面の洗浄水を吸引させた後に、前記外洗部で前記プローブの洗浄を行うことを特徴とする自動分析装置。
請求項３記載の自動分析装置において、
前記制御装置は、前記外洗部で前記プローブの洗浄を行った後に、前記乾燥槽で前記プローブの表面の洗浄水を吸引させることを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記洗浄槽の前記洗浄プールは、洗浄水を供給するためのポンプによって前記洗浄水の液面よりも低い位置に前記洗浄水が供給されることを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記制御装置は、前記洗浄プールの洗浄水に前記プローブを浸漬させた状態で、前記洗浄プールに前記洗浄水を供給することを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記洗浄槽は、前記洗浄プールを複数有することを特徴とする自動分析装置。
請求項３記載の自動分析装置において、
前記洗浄槽は、前記洗浄プールと前記外洗部との間に前記乾燥槽を配置したことを特徴とする自動分析装置。
請求項１記載の自動分析装置において、
前記制御装置は、前記洗浄プールの洗浄水に前記プローブを浸漬させて洗浄した回数が予め定めた回数である場合に、前記洗浄プールに貯留された洗浄水を置換することを特徴とする自動分析装置。