JP7065499B2 - 処理装置および処理方法 - Google Patents
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Description
また加工実行ごとに、第1回転体と第2回転体の回転方向の組み合わせを双方ともに逆にすることで同一の加工能力のまま前回の加工における処理具に堆積した分離結晶へ逆方向の作用を加えられ、堆積物の離脱を促進することができる。
また正対した第1回転体と第2回転体は双方の軸の位置により円周外縁部に保持された処理具の作用は軸の位置により同方向/逆方向というように作用方向の加工中に停止することなく入れ替えることができ、加工中に常に加工能力と堆積物離脱作用を連続的に切り替えることが可能である。
本発明にかかる実施形態の処理装置および処理方法について、図面を参照して説明する。実施形態にかかる処理装置10は、ワークW(例えば、シリコン(Si)、サファイア、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム(GaN)等を主成分とする基板)を研削する研削装置である。処理装置10は、処理具である砥石Gと処理対象であるワークWの振動を検知する検知センサ61,62を備える。また、砥石G(によるワークWへ)の加工圧力をモニタするモニタ部を備える。処理装置10は、これら検知センサ61,62の検知結果および加工圧力を常時収集するとともに、検知センサ61,62の検知結果および加工圧力に基づいて砥石Gおよび/またはワークWの回転速度を制御する。
なお、プロファイル算出部74の動作(プロファイル算出部74によるワークWの厚みプロファイルの算出)については、図4を参照して詳述する。
図3は、実施形態に係る処理装置10の研削処理を示すフローチャートである。
ステップS101では、制御部77は、記憶部73に格納されている選択されたレシピを参照する。ステップS102では、制御部77は、レシピにより規定された手順に従い、モータ32,46,48,53等を制御して研削処理を開始する。
図4は、実施形態に係る処理装置のプロファイル測定処理を示すフローチャートである。なお、このプロファイル測定処理は、図3を参照して説明した研削処理の途中で実施される。例えば、設定された研削量の50%~80%が終了すると実行されることが好ましい。設定された研削量の50%未満であると、砥石Gの送り量とワークWの実際の研削量との関係を導出するには研削量が少なく、80%を超えると砥石Gの送り量をワークWの実際の研削量に基づいて補正しても研削が進みすぎておりワークWの補正が不能となる虞があるためである。
(1)上死点位置P1
図1の紙面に向かって揺動動作の向きが左向きから右向きに切り替わる位置である。より具体的には、工具スピンドル42の回転軸と、スピンドル311の回転軸とが最も近づく位置である。なお、揺動の幅が大きく、工具スピンドル42の回転軸とスピンドル311の回転軸とが重なったのち離れるような場合(図1で説明すると、工具スピンドル42の回転軸が紙面に向かって右側から左側に揺動動作し、工具スピンドル42の回転軸とスピンドル311の回転軸とが重なったのち、さらに工具スピンドル42の回転軸が紙面に向かって右側から左側に揺動動作する場合)には、平面視にて(Z軸に対して垂直な面)にて、砥石GとワークWとが最も重なる位置(平面視にて、砥石GとワークWとの重畳する面積が最も広くなる位置)を上死点位置P1と定義してもよい。
(2)下死点位置P2
図1の紙面に向かって揺動動作の向きが右向きから左向きに切り替わる位置である。より具体的には、工具スピンドル42の回転軸と、スピンドル311の回転軸とが最も離れる位置である。なお、揺動の幅が大きく、工具スピンドル42の回転軸とスピンドル311の回転軸とが重なったのち離れるような場合(図1で説明すると、工具スピンドル42の回転軸が紙面に向かって右側から左側に揺動動作し、工具スピンドル42の回転軸とスピンドル311の回転軸とが重なったのち、さらに工具スピンドル42の回転軸が紙面に向かって右側から左側に揺動動作する場合)には、平面視にて(Z軸に対して垂直な面)にて、砥石GとワークWとが最も重ならない位置(平面視にて、砥石GとワークWとの重畳する面積が最も狭くなる位置)を下死点位置P2と定義してもよい。
以上の各実施形態では、工具スピンドル42、スピンドル311の回転軸が略鉛直方向に向く縦型の装置を対象として説明してきたが、本願発明はこの形式に限定されるものではなく、これら回転軸が略水平方向に向く横型の装置においても同様に適用が可能である。図示の形式では、下方に位置するスピンドルが従来技術で説明した固定スピンドルを形成し、上方に位置する工具スピンドルが、同じく軸方向駆動スピンドルを形成している。ただし、この固定側、駆動側の上下関係は逆になっていてもよい。また、上記実施形態では、工具スピンドル42側(砥石G側)を揺動動作させているが、スピンドル311側(ワークW側)を揺動動作させる構成としてもよい。さらに、工具スピンドル42側(砥石G側)およびスピンドル311側(ワークW側)の双方を揺動動作させる構成としてもよい。
20 基台(メインフレーム)
30 ワーク保持部
31 保持テーブル
311 スピンドル
312 軸受け
313 回転ステージ(第2回転体)
32 モータ(動力源)
33 ベルト(動力伝達手段)
40 工具回転駆動部
41 架台(フレーム)
42 工具スピンドル(第1回転体)
421 ナット部
43 スピンドルカバー
45 送りねじ
46 工具回転駆動モータ(動力源)
47 ベルト(動力伝達手段)
48 軸方向駆動モータ
49 シリンダ
50 揺動機構
51 ガイドレール
52 シリンダ
53 モータ(動力源)
61,62 検知センサ(振動加速度センサ)
70 制御装置
71 通信部
72 負荷モニタ部
73 記憶部
74 プロファイル算出部
75 累積時間計測部
76 判定部
77 制御部
80 プロファイル測定器
D1 ワークの厚み
D2 ワークの研削量
D3 送り量
L1 回転ステージまでの距離
L2 研削前のワーク上面までの距離
L3 研削後のワーク上面までの距離
G 砥石
W ワーク
Claims (6)
- 処理対象であるワークを研削処理または研磨処理する処理装置であって、
処理具を保持して回転動作させる第1回転体と、
前記ワークを保持して回転動作させる第2回転体と、
前記第1回転体又は前記第2回転体を揺動動作させる揺動機構と、
前記揺動機構を制御し、前記第1回転体又は前記第2回転体を揺動動作させることで、前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させる制御部と、
を備えることを特徴とする処理装置。 - 前記制御部は、
前記第1回転体又は前記第2回転体を揺動動作させることで、前記処理具と前記ワークとの当接面を、前記ワークの回転中心を通る中心線を仮想線として、前記ワークの一方側から前記仮想線を越えて前記ワークの他方側へと移動させることにより、前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させる、
ことを特徴とする請求項1に記載の処理装置。 - 前記制御部は、
前記第1回転体または第2回転体の少なくとも一方の回転速度を上昇または低下させることにより前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の処理装置。 - 前記処理具による前記ワークへの加工圧力をモニタする加工圧力モニタ部を備え、
前記制御部は、
前記加工圧力が所定の値を超えると、前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の処理装置。 - 前記処理具または前記ワークの振動が所定の閾値を越えた否かを判定する判定部を備え、
前記制御部は、
前記判定部での判定結果に基づいて、前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の処理装置。 - 処理対象であるワークを研削処理または研磨処理する処理方法であって、
処理具を保持して回転動作させる第1回転体を回転動作させる工程と、
前記ワークを保持して回転動作させる第2回転体を回転動作させる工程と、
制御部が、前記第1回転体又は前記第2回転体を揺動動作させる揺動機構を制御し、前記第1回転体又は前記第2回転体を揺動動作させることで、前記第1回転体に対する前記第2回転体の相対的な回転速度を逆転させる工程と、
を有することを特徴とする処理方法。
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JP2018035046A JP7065499B2 (ja) | 2018-02-28 | 2018-02-28 | 処理装置および処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2018035046A JP7065499B2 (ja) | 2018-02-28 | 2018-02-28 | 処理装置および処理方法 |
Publications (2)
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JP2019147232A JP2019147232A (ja) | 2019-09-05 |
JP7065499B2 true JP7065499B2 (ja) | 2022-05-12 |
Family
ID=67848681
Family Applications (1)
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JP2018035046A Active JP7065499B2 (ja) | 2018-02-28 | 2018-02-28 | 処理装置および処理方法 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002239900A (ja) | 2000-10-06 | 2002-08-28 | Nagase Integrex Co Ltd | 砥石の駆動方法及びドレッシング方法並びにそれに用いる研削盤 |
JP2004268232A (ja) | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 研削装置及びその制御方法 |
JP2007098554A (ja) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Koyo Mach Ind Co Ltd | 両頭平面研削装置及びその制御方法 |
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---|---|---|---|---|
JPS63288654A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-25 | Nisshin Kogyo Kk | 半導体ウェ−ハの研削方法及び装置 |
JPH0557608A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-03-09 | Mitsubishi Materials Corp | 研削盤のドレツシング装置 |
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- 2018-02-28 JP JP2018035046A patent/JP7065499B2/ja active Active
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---|---|---|---|---|
JP2002239900A (ja) | 2000-10-06 | 2002-08-28 | Nagase Integrex Co Ltd | 砥石の駆動方法及びドレッシング方法並びにそれに用いる研削盤 |
JP2004268232A (ja) | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 研削装置及びその制御方法 |
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