JP7064603B2 - 臨床分析装置およびキュベットの移送方法 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
本出願は、参照によってその内容全体を本明細書に組み入れる２０１８年２月２３日出願の米国仮特許出願第６２／６３４，３３４号の優先権を主張する。

本開示は、キュベットを使用する臨床分析装置に関し、より詳細には、キュベットを臨床分析装置内で移送するデバイスおよび方法に関する。

臨床分析装置は、反応の実施および／または液体の移送に個別のキュベットを使用することができる。キュベットは、キュベットホッパに装填され、次いで、キュベットホッパから取り出されて臨床分析装置内の他の場所に移送される。キュベットを移送前に単体化しないと、キュベットが一団になり、移送システムを詰まらせることがある。

一態様では、臨床分析装置が提供される。臨床分析装置は、第１の場所と；第２の場所と；第１の場所と第２の場所との間に延び、キュベットが第１の場所から第２の場所まで摺動することを可能にするように構成された、シュートと；キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置と、キュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である１つまたはそれ以上のゲートを含む、装填アセンブリとを含む。

別の態様では、臨床分析装置が提供される。臨床分析装置は、複数のキュベットを受けるように構成されたキュベットホッパと；キュベットを受けるように構成された１つまたはそれ以上のレセプタクルを有するインキュベーションリングと、キュベットホッパに近接する第１の場所とインキュベーションリングに近接する第２の場所との間に延び、キュベットが第１の場所から第２の場所へ摺動することを可能にするように構成された、シュートと；キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置とキュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である第１のゲートと、キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置とキュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である第２のゲートと、第１のゲートと第２のゲートとの間にあり１つのキュベットを受容可能な空間とを含む、装填アセンブリとを含む。

別の態様では、キュベットを臨床分析装置内で移送する方法が提供され、方法は、１つまたはそれ以上のキュベットをシュートに装填する工程であって、１つまたはそれ以上のキュベットはシュートに沿って第１のゲートへ摺動する、工程と；第１のゲートを用いて、シュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動の動きを阻止する工程と；第１のゲートから、１つのキュベットを受容可能な距離を置いて配置された第２のゲートを用いて、キュベットの動きを阻止する工程と；第１のキュベットが第２のゲートへ摺動することを可能にするように第１のゲートを後退させる工程と；第１のゲートを通過してキュベットが動くことを防止するために、第１のゲートを延ばす工程と；第１のキュベットがシュートに沿って摺動することを可能にするように第２のゲートを後退させる工程とを含む。

数多くの他の態様は、この開示の上記その他の実施形態に従って提供される。この開示の実施形態の他の構成および態様は、以下にある詳細な説明、添付の特許請求の範囲および添付の図面からより十分に明らかになろう。

以下に述べる図面は、例示を目的としており、必ずしも縮尺通りに描かれていない。図面は、いかなる形においても、本開示の範囲の限定を意図するものではない。

実施形態による、キュベット装填装置とインキュベーションリングとを含む、第１の状態にある臨床分析装置の一部分の概略的な上面図である。 実施形態による、図１Ａの臨床分析装置の部分正面図である。 実施形態による、キュベット装填装置とインキュベーションリングを含む、第２の状態にある臨床装置の一部分の概略的な上面図である。 実施形態による、図１Ｃの臨床分析装置の部分正面図である。 実施形態による、キュベット装填装置とインキュベーションリングを含む、第３の状態にある臨床装置の一部分の概略的な上面図である。 実施形態による、図１Ｅの臨床分析装置の部分正面図である。 実施形態による、キュベット装填装置とインキュベーションリングを含む、第４の状態にある臨床装置の一部分の概略的な部分側面図である。 実施形態によるキュベットの等角図である。 実施形態によるキュベットの側面図である。 実施形態によるキュベットの正面図である。 実施形態によるキュベットの上面図である。 実施形態による、キュベット装填装置およびキュベットホッパの側面断面図である。 実施形態による、キュベット装填装置で使用されるプランジャの端部の側面断面図である。 実施形態による、臨床分析装置内でキュベットを移送する方法を示す図である。

次に、添付の図面に示される本開示の例示的な実施形態を詳細に参照する。図面全体を通じて、可能な限り、いくつかの図面を通して同じまたは同等の要素を示すのに同じ参照符号を使用する。本明細書に記載される様々な実施形態の構成は、特段の記載がない限り、互いに組み合わせることができる。

臨床分析装置は、液体の混合および／または移送に個別のキュベットを使用することができる。これらの臨床分析装置は、無秩序の向きのキュベットが充填されたキュベットホッパを含む。臨床分析装置内の機構は、キュベットをキュベットホッパから取り出し、それらを臨床分析装置内の他の場所に送達する。いくつかの実施形態では、機構は、キュベットをキュベットホッパからインキュベーションリングに移送し、そこでキュベットは、一度に１つ特定の向きでレセプタクルに装填される。キュベットの装填が一度に１つでないと、キュベットが臨床分析装置内の移送機構でつかえてそれを詰まらせることがある。

本明細書に開示される臨床分析装置は、キュベットホッパとインキュベーションリングとの間のような、第１の場所と第２の場所との間に延びる少なくとも１つのシュートを含む。シュートに対して可動なゲートは、一度に１つのキュベットがゲートを通過できるようにする、キュベットのためのステージング（ｓｔａｇｉｎｇ）域を作成することができる。概ねキュベットのサイズの空間は、第１のゲートと第２のゲートを分離することができる。動作中、両方のゲートは、キュベットがシュート上を動かないように延ばされる。第１のゲートは、第１のキュベットが第１のゲートと第２のゲートとの間の空間に入ることを可能にするように、開くまたは後退することができる。次いで、第１のゲートは、第１のキュベットを単体化または単離するように閉じることができる。次いで、第２のゲートが、第１のキュベットがシュートに沿って動くことを可能にするように、後退することができる。いくつかの実施形態では、第１のキュベットは、摺動してシュートから出てインキュベーションリングのレセプタクルに入ることができる。したがって、一度に１つのキュベットがシュート上をインキュベーションリングへ動くことができ、したがって上述した詰まりが防止される。

臨床分析装置のいくつかの実施形態は、第１のゲートと第２のゲートに対して可動なカムを含む。カムの動きによって、第１のゲートと第２のゲートは、シュートへと延ばされ、それから後退させられる。臨床分析装置のいくつかの実施形態は、上述のカムを動作させる単一の駆動機構を含み、それによって臨床分析装置は費用が削減され、簡素化される。

臨床分析装置のいくつかの実施形態は、インキュベーションリングのレセプタクルのような場所にキュベットを着座させるプランジャを含む。プランジャは、プランジャがキュベットに接触したか、および／またはそれを着座させたかを決定するために、圧力を感知するセンサを含むことができる。プランジャは、キュベットの頂部部分に接触する、またはキュベット内へと延びることができる。プランジャは、カムと一緒に動いてもよく、またはカムと一緒には動かなくてもよい。

図１～図１０を参照して、本明細書においてキュベット装填アセンブリを含む臨床分析装置およびキュベットを移送する方法の例示的な実施形態のさらなる詳細を説明する。

次に図１Ａおよび図１Ｂを参照する。図１Ａは、第１の状態にある臨床分析装置１００の一部分の上面図であり、図１Ｂは、臨床分析装置１００の部分的な側面断面図である。図１Ａの臨床分析装置１００の図は、インキュベーションリング１０２、キュベットホッパ１０６、フィーダ１０８、およびキュベット装填アセンブリ１１０を含む。図面には、いくつかのキュベット１１２が臨床分析装置１００の異なる場所に示されている。

インキュベーションリング１０２は、軸または中心点１１６周りに回転可能な円形デバイスとすることができる。インキュベーションリング１０２は、上面１１８と、下面１２０（図１Ｂ）と、上面１１８と下面１２０との間に延びる複数のレセプタクル１２２とを有することができる。各レセプタクル１２２は、キュベット１１２を受けるように構成される。たとえば、キュベット装填アセンブリ１１０は、インキュベーションリング１０２が中心点１１６周りに回転するときにキュベット１１２をインキュベーションリング１０２の個々のレセプタクル１２２に一度に１つ装填することができる。図１Ａおよび図１Ｂに示される臨床分析装置１００は、キュベット１１２Ａがステージング場所にありインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２Ａに受け入れられるように設定される、第１の状態にある。

さらに、キュベット１１２の等角図、側面図、正面図および上面図をそれぞれ示す図２Ａ～図２Ｄを参照する。キュベット１１２は、図２Ａ～図２Ｄに示されるものとは異なる構成を有することもできる。キュベット１１２は、容器部分２００と、リップ２０２とを含むことができる。容器部分２００は、液体（たとえば、試薬または反応混合物）を保持するように構成される。容器部分２００の断面形状は、広幅側面２０４Ａと狭幅側面２０４Ｂを有する略矩形とすることができ、広幅側面２０４Ａは、狭幅側面２０４Ｂより幅が広い。容器部分２００は、互いに距離Ｄ２１離れた上端２０６と下端２０８を含むことができる。距離Ｄ２１は、約１．４９インチ（３．７７ｃｍ）とすることができる。容器部分２００およびリップ２０２を含めたキュベット１１２の全長は、約１．５インチ（３．８ｃｍ）とすることができる。

リップ２０２は、キュベット１１２の位置合わせおよび移送を可能にすることができる。たとえば、キュベット１１２は、その移送の間、リップ２０２で支持される。リップ２０２は、上面２１０と下面２１２を有することができる。リップ２０２は、上面２１０と下面２１２との間に約０．０４２インチ（１．０２ｍｍ）の厚さＤ２２（図２Ｃ）を有することができる。リップ２０２は、上面２１０と下面２１２との間、および容器部分２００内へと延びる開口部２１６を含むことができる。開口部２１６は、液体の容器部分２００への分配およびそこからの抜き取り（たとえば、吸引）を可能にする。

キュベット１１２は、リップ２０２の下面２１２と容器部分２００の広幅側面２０４Ａとの間に連結される１つまたはそれ以上の支持部材２２０を含むことができる。支持部材２２０の１つまたはそれ以上は、傾斜側部２２２を含むことができる。移送機構（図２Ａ～図２Ｄには示されず）は、以下に記載するように、キュベット１１２の移送の間、傾斜側部２２２に接触することができる。傾斜側部は、シュート１３０に沿ったキュベット１１２の摺動性を促進することができ、キュベット１１２のための位置合わせ機構を提供することができる。

さらに、図１Ａおよび図１Ｂを参照する。キュベットホッパ１０６は、複数のキュベット１１２を収納することができる。たとえば、使用者は、複数のキュベット１１２をキュベットホッパ１０６に装填することで、キュベットホッパ１０６を装填することができる。キュベット１１２は、キュベットホッパ１０６内にランダムに積み重ねられる、または配置される。フィーダ１０８は、キュベット１１２をキュベットホッパ１０６から取り出し、本明細書に記載されるようなキュベット装填アセンブリ１１０によって受けられるようにそれらを所定の向きに位置合わせすることができる。

さらに、キュベットホッパ１０６、およびキュベット装填アセンブリ１１０に連結されたフィーダ１０８の断面図である図３を参照する。フィーダ１０８は、キュベット１１２を配向および／または分離（たとえば、単体化）するタンブラ、ホイール３００または他のデバイスを含むことができる。ルーフ３０２または他のデバイスは、ホイール３００の近くまたは上にあるキュベット１１２の数を減少させることによってホイール３００に掛かる負荷を制限するように、ホイール３００の上に配置することができる。したがって、ルーフ３０２は、ホイール３００の近くでキュベット１１２がつかえることになる可能性を減少させる。ルーフ３０２は、さらに、キュベット１１２をフィーダ１０８へ誘導することができる。キュベットホッパ１０６内のキュベット１１２を単体化し配向することに他の機構を使用することもできる。

フィーダ１０８は、キュベット１１２をシュート１３０へと供給および／または配向することができ、キュベット１１２をシュート１３０へと供給および／または配向することに使用される案内部３１０または他のデバイスを含むことができる。さらに図１Ａおよび図１Ｂを参照すると、シュート１３０は、第１のレール１３２Ａと第２のレール１３２Ｂとを含むことができ、それらの間には空間１３２Ｃがある。空間１３２Ｃは、第１のレール１３２Ａと第２のレール１３２Ｂとの間の距離Ｄ１１とすることができ、キュベット１１２の容器部分２００（図２）を受けるのに十分な幅とすることができる。たとえば、距離Ｄ１１は、キュベット１１２の容器部分２００の上端２０６近くの狭幅側面２０４Ｂの幅よりわずかに大きくてよい。空間１３２Ｃは、キュベット１１２のリップ２０２または傾斜側部２２２が第１のレール１３２Ａと第２のレール１３２Ｂに接触することを可能にする。そのような接触によって、キュベット１１２は、本明細書に記載されるようにシュート１３０に沿って摺動することが可能になる。他の実施形態は、複数のシュートを含むことができる。たとえば、第１のシュートは、第１の方向に延び、第２の方向に延びる第２のシュートへキュベットを落下させることができる。

シュート１３０は、キュベット１１２がフィーダ１０８からシュート１３０に沿ってキュベット装填アセンブリ１１０へと摺動することを可能にするように、キュベット装填アセンブリ１１０に向かって傾斜していてよい。シュート１３０は、垂直距離Ｖ３１下がり、水平距離Ｈ３１に延び、スロープＶ３１／Ｈ３１を有することができる（図３）。スロープは、キュベット１１２がフィーダ１０８からキュベット装填アセンブリ１１０へと摺動することができるようにキュベット１１２とシュート１３０との間の摩擦力に打ち勝つのに十分な重力を提供することができる。

図１Ｂに示されるように、第１のレール１３２Ａおよび第２のレール１３２Ｂは、空間１３２Ｃに向かって傾斜していてよい。傾斜面により、キュベット１１２は空間１３２Ｃの中心に向かって案内され、したがって位置合わせが改善される。傾斜面は、さらに、リップ２０２の下面２１２（図２Ｃ）の面積、または、支持部材２２０の、第１のレール１３２Ａと第２のレール１３２Ｂに接触する表面（たとえば、側面２２２）の面積を減少させ、それによって、シュート１３０に沿ったキュベット１１２の摺動性が向上する。

第１のレール１３２Ａは、上面１３６Ａを有することができ、第２のレール１３２Ｂは、上面１３６Ｂを有することができる。上面１３６Ａおよび上面１３６Ｂは、リップ２０２の下面２１２（図２Ｂ）に対して低い摩擦係数を有する材料とすることができる。低い摩擦係数によって、キュベット１１２は、シュート１３０に沿って摺動することが可能になる。リップ２０２の下面２１２ならびに上面１３６Ａおよび上面１３６Ｂは、キュベット１１２がシュート１３０にあるゲートによって止められ、ゲートが除かれるとまた摺動に戻ることができるように、低静摩擦を有することができる。

第１のレール１３２Ａは、端部１３３Ａを有することができ、第２のレール１３２Ｂは、端部１３３Ｂを有することができる。ディフレクタ１３４は、端部１３３Ａおよび端部１３３Ｂから距離Ｄ１２のところに配置することができる。距離Ｄ１２は、キュベット１１２の最大幅の長さより大きくてよい。たとえば、距離Ｄ１２は、キュベット１１２のリップ２０２の最大幅部分より大きくてよい。キュベット１１２は、シュート１３０から出たときにディフレクタ１３４に接触することができ、ディフレクタ１３４との接触によってインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２内へと偏向またはその他の方法で案内される。

キュベット装填アセンブリ１１０は、キュベット１１２がインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２に挿入される前の、キュベット１１２のためのステージング域を提供することができる。図１Ａの実施形態では、キュベット１１２Ａは、ステージング域にある。キュベット装填アセンブリ１１０は、第１のゲートアセンブリ１５０Ａと、第２のゲートアセンブリ１５０Ｂとを含むことができる。第１のゲートアセンブリ１５０Ａは、第２のゲートアセンブリ１５０Ｂの鏡像であってよく、両方とも同じように動作することができる。第１のゲートアセンブリ１５０Ａは、第１のゲート１５２Ａを含むことができ、第２ゲートアセンブリ１５０Ｂは、第２のゲート１５２Ｂを含むことができる。第１のゲート１５２Ａは、第１のナイフ部分１５６Ａを含むことができ、第２のゲート１５２Ｂは、第２のナイフ部分１５６Ｂを含むことができる。第１のナイフ部分１５６Ａは、傾斜部分１５７を含むことができる。傾斜部分１５７は、第１のゲート１５２Ａが、隣り合うキュベット１１２間で動くことを可能にする。たとえば、傾斜部分１５７は、互いに接触していることがある隣り合うキュベット１１２間に第１のゲート１５２Ａが入ることを可能にする先端または同様のものを有することができる。

図１Ｂおよび図３に示されるキュベット装填アセンブリ１１０の実施形態は、シュート１３０の下に配置された第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを示している。他の実施形態では、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂは、シュート１３０の上に配置することができる。図１Ａに示される実施形態では、第１のゲート１５２Ａは、第１のまたは後退位置にあり、第２のゲート１５２Ｂは、第２のまたは伸長位置にあり、これは臨床分析装置１００の第１の状態と称することができる。本明細書に記載されるように、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂの位置は、臨床分析装置１００の動作とともに変わる。

支持体１５８（図１Ａ）は、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂに対して固定された場所にあってよい。第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂは、支持体１５８に対して可動であってよく、支持体１５８内のレセプタクル（図示せず）を通過することができる。第１のばね１６０Ａは、支持体１５８と、第１のゲート１５２Ａに固定された第１の部材１６２Ａとの間に延びることができる。第２のばね１６０Ｂは、支持体１５８と、第２のゲート１５２Ｂに固定された第２の部材１６２Ｂとの間に延びることができる。第１のばね１６０Ａおよび第２のばね１６０Ｂはそれぞれ、方向１６６に、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを付勢することができる。たとえば、第１のばね１６０Ａおよび第２のばね１６０Ｂは、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを第１のまたは後退位置に付勢することができる。第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを方向１６６に付勢することに他のデバイスを使用することもできる。

第１のカムフォロア１７０Ａは、第１のゲート１５２Ａに連結することができ、第２のカムフォロア１７０Ｂは、第２のゲート１５２Ｂに連結することができる。第１のカムフォロア１７０Ａおよび第２のカムフォロア１７０Ｂはともに、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂに対して回転するホイールをそれぞれ含むことができる。第１のカムフォロア１７０Ａは、第１のカム１７２Ａに接触することができ、第２のカムフォロア１７０Ｂは、第２のカム１７２Ｂに接触することができる。たとえば、第１のばね１６０Ａは、第１のカム１７２Ａに対して第１のカムフォロア１７０Ａを付勢することができ、第２のばね１６０Ｂは、第２のカム１７２Ｂに対して第２のカムフォロア１７０Ｂを付勢することができる。いくつかの実施形態では、カムフォロアは、第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂに対して摺動する剛性部材とすることができる。

第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂは、Ｚ方向に可動である可動カム支持体１８０（図１Ｂ）に連結することができる。たとえば、アクチュエータ１８１は、プロセッサ１８２から受けた命令に応じてＺ方向にカム支持体１８０を動かすことができる。第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂはともに、カム支持体１８０の垂直（たとえば、Ｚ方向）位置が第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２ＢのＸ方向の位置を決定するようなＸ方向の輪郭にすることができる。たとえば、カム支持体１８０がＺ方向に動くと、第１のカムフォロア１７０Ａおよび第２のカムフォロア１７０ＢはそれぞれＸ方向に第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂの輪郭に追従し、それによって第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂは、Ｘ方向に動かされる（たとえば、第１の位置と第２の位置との間で延び、および後退する）。本明細書に記載されるように、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２ＢのＸ方向の動きによって、インキュベーションリング１０２へのキュベット１１２の装填が可能にされ、または防止される。

プランジャ１８４は、カム支持体１８０に連結することができる。プランジャ１８４は、レセプタクル１２２Ａの上に位置する。プランジャ１８４は、インキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２にキュベット１１２（たとえば、キュベット１１２Ａ）を着座させ、またはその他の方法で配置してもよい。動作中、カム支持体１８０は、インキュベーションリング１０２に向かってＺ方向に下方に可動である。この動きの間、プランジャ１８４は、キュベット１１２のリップ２０２の開口部２１６（図２Ａ）に入り、キュベット１１２をレセプタクル１２２に押し込むことができる。したがって、そうではなく、プランジャ１８４は、不適当に着座されたキュベット１１２をインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２に着座させることもある。いくつかの実施形態では、プランジャ１８４の端部１８５は、テーパまたは斜面１８６（図１Ｆ）を有することができ、それによって位置合わせ不良のキュベット１１２の開口部２１６へのプランジャ１８４の挿入が改善される。

図４は、プランジャ１８４の端部１８５の一実施形態の断面図である。図４に示される端部１８５は、キュベット１１２（図１Ｂ）がインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２内に適切に着座されたかどうかを示すセンサ４１８を含む。端部１８５は、本体４０４と、本体４０４に対して可動である先端部４０６を含むことができる。先端部４０６は、本体４０４のキャビティ４１１内でＺ方向に可動であるピストン４１０に連結する、またはそれと一体形成することができる。ピストン４１０は、本体４０４内に位置する上面４１２を含むことができる。ばね機構４１６は、ピストン４１０を本体４０４の外へＺ方向に付勢することができる。機構（図示せず）は、ピストン４１０が本体４０４から延びることができる距離を制限することができる。

本体４０４は、ピストン４１０の場所を示すセンサ４１８を含むことができる。たとえば、センサ４１８は、ピストン４１０が本体４０４内の所定の場所に達したことに応答して信号を生成することができる。図４に示されるセンサ４１８は、発光体４２０と、光検出器４２２を含み、それらの間の光路を含む。ピストン４１０が図４に示されるように延ばされると、光路は、発光体４２０と光検出器４２２との間に延びる。光検出器４２２への光の入射によって、光検出器４２２は、ピストン４１０がセンサ４１８より下にあることを示す信号を生成する。ピストン４１０が光路を遮断するように動くと、光検出器４２２によって生成される信号は、ピストン４１０がセンサ４１８のところまたはその上に位置することを示すように変わる。プロセッサ１８２は、光検出器４２２に電気接続していてよく、光検出器４２２によって生成される信号の変化を検出することができる。

上述したように、プランジャ１８４は、キュベット１１２（図２Ｂ）をインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２（たとえば、キュベット１１２Ａをレセプタクル１２２Ａ）内に着座させることができる。プランジャ１８４がキュベット１１２をレセプタクル１２２に押し込むとき、端部１８５は、キュベット１１２の下端２０８（図２Ｂ）に接触することができる。プランジャ１８４によって加えられる力は、ばね機構４１６によって加えられるばね力に打ち勝つことができ、それによってピストン４１０がキャビティ４１１内へと動かされ、発光体４２０と光検出器４２２との間の光路が遮断される。プロセッサ１８２は、光検出器４２２によって生成される信号の変化を、キュベット１１２がレセプタクル１２２内に適切に着座されたことの標示として解釈することができる。光路が遮断されたとき、プランジャ１８４によってＺ方向に加えられる力が大きい場合、プロセッサ１８２は、キュベットが適切に着座されていないと決定することができる。光路が遮断されない、またはプランジャ１８４が力を及ぼすことができない場合、プロセッサ１８２は、キュベットがインキュベーションリング１０２のレセプタクル内に装填されていないと決定することができる。他のセンサを端部１８５に使用することもできる。たとえば、圧力センサは、キャビティ４１１内のピストン４１０の位置を示すことができる。

再び図１Ａおよび図１Ｂを参照すると、第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂは、第１のカムフォロア１７０Ａおよび第２のカムフォロア１７０Ｂに対してＺ方向のいくつかの位置を有することができる。臨床分析装置１００は、第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂがそれぞれ第１のカムフォロア１７０Ａおよび第２のカムフォロア１７０Ｂに接触する位置に応じて異なる状態にあると称される。図１Ｂに示される実施形態は、カム１７２Ａ、１７２Ｂにおける３つの異なる位置である、第１の位置Ｚ１１、第２の位置Ｚ１２および第３の位置Ｚ１３を示している。第１の位置Ｚ１１がカムフォロア１７０Ａ、１７０Ｂに接触するようにカム１７２Ａ、１７２Ｂが配置されるとき、臨床分析装置１００は、第１の状態にある。第２の位置Ｚ１２がカムフォロア１７０Ａ、１７０Ｂに接触するようにカム１７２Ａ、１７２Ｂが配置されるとき、臨床分析装置１００は、第２の状態にある。第３の位置Ｚ１３がカムフォロア１７０Ａ、１７０Ｂに接触するようにカム１７２Ａ、１７２Ｂが配置されるとき、臨床分析装置１００は、第３の状態にある。第１の状態では、図１Ａおよび図１Ｂに示されるように、第１のゲート１５２Ａは後退位置にあり、第２のゲート１５２Ｂは伸長位置にある。したがって、キュベット１１２Ａは、第２のゲート１５２Ｂへ摺動することができ、そこで第２のゲート１５２Ｂによって止められる。具体的には、第１のゲート１５２Ａは後退し、それによってキュベット１１２Ａはシュート１３０に沿って第２のゲート１５２Ｂへ自由に摺動する。

カム支持体１８０がＺ方向に下方に動くと、図１Ｃおよび図１Ｄに示されるように位置Ｚ１２に達し、臨床分析装置１００は第２の状態になる。第２の状態では、第１のゲート１５２Ａと第２のゲート１５２Ｂの両方が、図１Ｃおよび図１Ｄに示されるように延ばされ、それによってシュート１３０に沿ったキュベット１１２の摺動が阻止される。第２の状態では、キュベット１１２は、単一のキュベット１１２Ａが第１のゲート１５２Ａと第２のゲート１５２Ｂとの間に位置するように単体化される。他の実施形態では、１つまたはそれ以上のキュベット１１２が第１のゲート１５２Ａと第２のゲート１５２Ｂとの間で受容可能であってもよい。

カム支持体１８０がＺ方向に下方に動き続けると、図１Ｅおよび図１Ｆに示されるように位置Ｚ１３に達し、臨床分析装置１００は第３の状態になる。第３の状態では、第１のゲート１５２は延ばされ、第２のゲート１５２Ｂは後退される。この構成では、キュベット１１２Ａは、第２のゲート１５２Ｂから解放されて下方に摺動し、シュート１３０を出てレセプタクル１２２Ａ内へと落下する。キュベット１１２Ａは、シュート１３０を離れた後、ディフレクタ１３４に接触する、または他の方法でディフレクタ１３４により案内され、レセプタクル１２２Ａ内へと案内される。

カム支持体１８０は、プランジャ１８４の端部１８５が図１Ｇに示されるようにキュベット１１２Ａの底部に接触するポイントまで、Ｚ方向に下方に移動し続けることができる。この構成は、臨床分析装置１００の第４の状態と称することができる。プランジャ１８４がキュベット１１２Ａの底部に接触したことをセンサ４１８（図４）が検出したときにプランジャ１８４がＺ方向の特定の位置にあるかどうかを決定するように、プロセッサ１８２によってカム支持体１８０の位置が監視される。接触がＺ方向の特定の位置の上でなされた場合、キュベット１１２Ａがレセプタクル１２２Ａ内に適切に着座されていないことを示す標示（たとえば、アラーム）が提供される。センサ４１８がキュベット１１２の底部を感知しなかった場合、レセプタクル１２２Ａ内にキュベット１１２が配置されていないことを示す標示が提供される。

他の実施形態では、プランジャ１８４は、キュベット１１２Ａ内に完全には延びない。そうではなく、先端部４０６（図４）は、キュベット１１２Ａの開口部２１６（図２Ａ）内へと部分的に延びることができるようにテーパ化してもよい。たとえば、先端部４０６の下側部分が開口部２１６より小さく、先端部４０６の上側部分が開口部２１６より大きくてもよい。この実施形態では、プランジャ１８４は、キュベット１１２Ａが適切に着座されているかどうかを決定するのにキュベット１１２Ａの全長Ｄ２１（図２Ｂ）を動かなくてすむ。たとえば、先端部４０６がキュベット１１２Ａの上面２１０に接触するはずの位置までプランジャ１８４が動き、センサ４１８がキュベット１１２Ａを感知した場合、プロセッサ１８２は、キュベット１１２Ａが適切に着座されていると決定することができる。センサ４１８が、Ｚ方向の高すぎる位置でキュベット１１２Ａを検出した場合、プロセッサ１８２は、キュベット１１２Ａが適切に着座されていないと決定することができる。プランジャ１８４がキュベットに接触せずにＺ方向に低すぎる位置まで動いた場合、プロセッサ１８２は、キュベット１１２Ａがレセプタクル１２２Ａ（図１Ｄ）にないことを示すことができる。いくつかの実施形態では、プランジャ１８４の少なくとも一部分は、レセプタクル１２２Ａ内に進むまたは通ることができる。

キュベット１１２Ａがレセプタクル１２２Ａ内に着座された後、カム支持体１８０は、Ｚ方向に上昇することができる。プランジャ１８４がインキュベーションリング１０２から去った後、インキュベーションリング１０２は、別のキュベット１１２を受けるためにシュート１３０の端部の下に空のレセプタクル１２２を配置するように中心点１１６周りに回転することができる。

位置Ｚ１２に達すると、第１のゲート１５２Ａと第２のゲート１５２Ｂの両方が図１Ｃに示されるような伸長位置になるが、それらの間にキュベットは配置されない。カム支持体１８０がＺ方向に上昇し続けると、位置Ｚ１１に達し、それによって第１のゲート１５２Ａが後退し、図１Ａに示されるように別のキュベット１１２が第２のゲート１５２Ｂ近くに配置される。次いで上述したプロセスが繰り返されて、キュベット１１２が単体化され、別のキュベットがインキュベーションリング１０２のレセプタクル１２２内に装填される。

上述したプロセスは、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを動かすために、第１のカムフォロア１７０Ａおよび第２のカムフォロア１７０Ｂに接触する第１のカム１７２Ａおよび第２のカム１７２Ｂを含む。アクチュエータのような他のデバイスを実装し、第１のゲート１５２Ａおよび第２のゲート１５２Ｂを動かすこともできる。

臨床分析装置１００および装填アセンブリ１１０は、キュベットをインキュベーションリング１０２に装填するとして述べてきた。他の実施形態では、装填装置は、キュベットを臨床分析装置１００内またはそれに連結された他の場所に装填することもできる。それに応じて、プランジャ１８４は、これらの他の場所にキュベットを着座させ、キュベットの適切な配置を決定することができる。

別の態様では、図５の流れ図５００によって、キュベットを臨床分析装置内で移送する方法が提供され説明される。方法は、５０２で、１つまたはそれ以上のキュベット（たとえば、キュベット１１２）をシュート（たとえば、シュート１３０）に装填することを含み、１つまたはそれ以上のキュベットは、シュートに沿って第１のゲート（たとえば、第１のゲート１５２Ａ）へ摺動する。方法は、５０４で、第１のゲートを用いて、シュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動の動きを阻止することを含む。方法は、５０６で、第１のゲートから、１つのキュベットを受容可能な距離を置いて配置された第２のゲート（たとえば、第２のゲート１５２Ｂ）を用いて、キュベットの動きを阻止することを含む。方法は、５０８で、第１のキュベット（たとえば、キュベット１１２Ａ）がシュートに沿って第２のゲートへ摺動することを可能にするように、第１のゲートを後退させることを含む。方法は、５１０で、第１のゲートを通過してキュベットが動くことを防止するように、第１のゲートを延ばすことを含む。方法は、５１２で、第１のキュベットがシュートに沿って摺動することを可能にするように第２のゲートを後退させることを含む。

上述の説明は、本開示の例示的な実施形態を開示している。本開示の範囲内に入る上記で開示した装置、システムおよび方法の修正形態は、当業者には容易に明らかであろう。したがって、本開示は、例示的な実施形態に関連して開示されているが、他の実施形態も特許請求の範囲によって定められる本開示の範囲内に入り得ると理解されたい。

Claims (14)

1. 臨床分析装置であって：
   第１の場所と；
   第２の場所と；
   第１の場所と第２の場所との間に延び、キュベットが第１の場所から第２の場所まで摺動することを可能にするように構成された、シュートと；
   ２つのゲートを含む装填アセンブリであって、各ゲートは、キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置と、キュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である、装填アセンブリと
   を含み、
   装填アセンブリは：
   第１のゲートがシュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動を可能にする第１の位置と、第１のゲートがシュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動を阻止する第２の位置との間で可動である、第１のゲートと；
   該第１のゲートから距離を置いて配置された第２のゲートであって、該第２のゲートがシュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動を可能にする第１の位置と、第２のゲートがシュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動を阻止する第２の位置との間で可動である、第２のゲートと
   を含み、ここで、１つまたはそれ以上のキュベットは、第１のゲートと第２のゲートとの間の距離内で受容可能であり、
   臨床分析装置は、
   第１のゲートに連結された第１のカムフォロアと；
   第２のゲートに連結された第２のカムフォロアと；
   第１のカムフォロアに接触している第１のカムと；
   第２のカムフォロアに接触している第２のカムと
   をさらに含み、
   ここで、第１のゲートは、第１のカムの動きに応答して可動であり、第２のゲートは、第２のカムの動きに応答して可動であり、
   第１のカムと第２のカムに取り付けられ、該第１のカムと該第２のカムを同時に動かす
   ように構成されたカム支持体と、
   カム支持体に連結され、第２の場所に配置されたレセプタクルに受け入れられているキュベットに接触するように構成されたプランジャと
   をさらに含む、前記臨床分析装置。
2. シュートは、第１のレールと、第２のレールとを含み、それらの間には空間があり、キュベットは、第１のレールと第２のレールとの間の空間内で少なくとも部分的に受容可能である、請求項１に記載の臨床分析装置。
3. キュベットの１つまたはそれ以上は、容器部分と、該容器部分から延びるリップとを有し、容器部分は、第１のレールと第２のレールとの間の空間内で受容可能であり、リップは、容器部分が該空間に受け入れられるとき、第１のレールと第２のレールに接触するように構成される、請求項２に記載の臨床分析装置。
4. 装填アセンブリは、２つのゲート間への所定の数のキュベットの配置を可能にするように構成される、請求項１に記載の臨床分析装置。
5. 装填アセンブリは、２つのゲート間への単一のキュベットの配置を可能にするように構成される、請求項１に記載の臨床分析装置。
6. プランジャは、１つまたはそれ以上のセンサを含み、該１つまたはそれ以上のセンサは、キュベットが第２の場所に配置されたレセプタクルに適切に受け入れられているとき第１の信号を生成し、キュベットが第２の場所に配置されたレセプタクルに適切に受け入れられていないとき第２の信号を生成するように構成される、請求項１に記載の臨床分析装置。
7. 第１の位置と第２の位置との間で可動であるプランジャをさらに含み、該プランジャは、第１の位置でキュベットに接触できず、プランジャは、第２の位置で第２の場所に配置されたレセプタクルに受け入れられているキュベットに接触できる、請求項１に記載の臨床分析装置。
8. プランジャは、１つまたはそれ以上のセンサを含み、該１つまたはそれ以上のセンサは、プランジャがキュベットに接触していないことに応答して第１の信号を生成し、プランジャがキュベットに接触したことに応答して第２の信号を生成するように構成される、請求項７に記載の臨床分析装置。
9. 臨床分析装置であって：
   複数のキュベットを受けるように構成されたキュベットホッパと；
   該キュベットホッパに近接する第１の場所と第２の場所との間に延び、キュベットが第１の場所から第２の場所へ摺動することを可能にするように構成された、シュートと；
   キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置とキュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である第１のゲートと、キュベットがシュートに沿って摺動することが可能にされる第１の位置とキュベットがシュートに沿って摺動することが阻止される第２の位置との間で可動である第２のゲートと、第１のゲートと第２のゲートとの間にあり１つのキュベットを受容可能な空間とを含む、装填アセンブリと
   を含み、
   第１のゲートに可動に接触している第１のカムであって、第１のゲートは、第１のカムの動きに応答して第１の位置と第２の位置との間で動く、第１のカムと；
   第２のゲートに可動に接触している第２のカムであって、第２のゲートは、第２のカムの動きに応答して第１の位置と第２の位置との間で動く、第２のカムと；
   可動カム支持体であって、第１のカムおよび第２のカムは、カム支持体に取り付けられカム支持体とともに可動である、カム支持体と；
   該カム支持体に取り付けられ、キュベットに接触できない第１の位置と第２の場所に配置されたレセプタクルに受け入れられているキュベットに接触できる第２の位置との間でカム支持体とともに可動である、プランジャと
   をさらに含む、前記臨床分析装置。
10. 第２の場所に配置され１つのキュベットをそれぞれ受けるように構成された１つまたはそれ以上のレセプタクルを有するインキュベーションリングをさらに含む、請求項９に記載の臨床分析装置。
11. プランジャがキュベットに接触できない第１の位置とプランジャが第２の場所に配置されたレセプタクルに受け入れられているキュベットに接触できる第２の位置との間で可動であるプランジャをさらに含む、請求項９に記載の臨床分析装置。
12. プランジャに連結されたセンサをさらに含み、該センサは、プランジャがキュベットに接触していないことに応答して第１の信号を生成し、プランジャがキュベットに接触したことに応答して第２の信号を生成するように構成される、請求項１１に記載の臨床分析装置。
13. キュベットを請求項１～１２のいずれか１項に記載の臨床分析装置内で移送する方法であって：
    １つまたはそれ以上のキュベットをシュートに装填する工程であって、１つまたはそれ以上のキュベットはシュートに沿って第１のゲートへ摺動する、工程と；
    第１のゲートを用いて、シュートに沿った１つまたはそれ以上のキュベットの摺動の動きを阻止する工程と；
    第１のゲートから、１つのキュベットを受容可能な距離を置いて配置された第２のゲートを用いて、キュベットの動きを阻止する工程と；
    第１のキュベットがシュートに沿って第２のゲートへ摺動することを可能にするように第１のゲートを後退させる工程と；
    第１のゲートを通過してキュベットが動くことを防止するために、第１のゲートを延ばす工程と；
    第１のキュベットがシュートに沿って摺動することを可能にするように第２のゲートを後退させる工程と
    を含む、前記方法。
14. 第１のキュベットをシュートからレセプタクル内へと摺動させる工程と；
    プランジャを第１のキュベットの開口部に向かって延ばす工程と；
    プランジャが第１のキュベットに接触していないことに応答して第１の信号を生成する工程と；
    プランジャが第１のキュベットに接触したことに応答して第２の信号を生成する工程とをさらに含む、請求項１３に記載の方法。

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