JP7041545B2 - インプリント装置、物品の製造方法及びモールド - Google Patents
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- モールドを用いて基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドを保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記モールドのパターンを変形させる第1変形部と、を有し、
前記第1変形部は、前記モールドのパターンが形成された第1面とは反対側の第2面に設けられた、凸部又は凹部で構成された複数の構造物のそれぞれに対して、前記第1面に平行な方向及び前記第1面に垂直な方向の少なくとも一方の方向に力を加えることで前記モールドのパターンを変形させることを特徴とするインプリント装置。 - 前記モールドのパターンと前記基板のショット領域との形状差を計測する計測部と、
前記計測部で計測された前記形状差に基づいて、前記モールドのパターンの形状が前記基板のショット領域の形状と一致するように、前記第1変形部による前記モールドのパターンの変形を制御する制御部と、
を更に有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記計測部で計測された前記形状差と、前記複数の構造物のそれぞれに加える力の量及び方向と、前記モールドのパターンの変形の量及び方向との関係を示す敏感度とに基づいて、前記第1変形部により前記複数の構造物のそれぞれに加える力の量及び方向を決定することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 予め計測された、前記モールドのパターンと前記基板のショット領域との形状差に基づいて、前記モールドのパターンの形状が前記基板のショット領域の形状と一致するように、前記第1変形部による前記モールドのパターンの変形を制御する制御部を更に有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、予め計測された前記形状差と、前記複数の構造物のそれぞれに加える力の量及び方向と、前記モールドのパターンの変形の量及び方向との関係を示す敏感度とに基づいて、前記第1変形部により前記複数の構造物のそれぞれに加える力の量及び方向を決定することを特徴とする請求項4に記載のインプリント装置。
- 前記第1変形部は、前記複数の構造物のそれぞれに対して、前記第1面に平行な面内において、第1方向、前記第1方向に直交する第2方向、及び、前記第1方向及び第2方向に交差する第3方向の少なくとも1つの方向に力を加えることで前記モールドのパターンを変形させることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記保持部に保持された前記モールドの側面に対して、前記第1面に平行な方向に力を加えることで前記モールドのパターンを変形させる第2変形部を更に有することを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記保持部に保持された前記モールドに熱を加えることで前記モールドのパターンを変形させる第3変形部を更に有することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記保持部を前記第1面に垂直な方向に駆動する駆動部を更に有し、
前記第1変形部は、前記駆動部によって前記モールドと前記基板との間隔を狭めることで前記基板上のインプリント材に前記モールドを接触させている間に、前記複数の構造物のそれぞれに対して、前記第1面に平行な方向及び前記第1面に垂直な方向の少なくとも一方の方向に力を加えることで前記モールドのパターンを変形させることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記モールドの前記第2面には、前記第1面を前記基板側に凸形状に変形させるための凹形状のキャビティが設けられ、
前記複数の構造物のそれぞれは、前記第2面における前記キャビティの面積よりも小さい面積を有する凹部で構成されていることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記複数の構造物のそれぞれは、前記第1面に垂直な方向における前記キャビティの深さよりも小さい深さを有する凹部で構成されていることを特徴とする請求項10に記載のインプリント装置。
- 前記モールドの前記第2面には、前記モールドの前記第1面を前記基板側に凸形状に変形させるための凹形状のキャビティが設けられ、
前記複数の構造物は、前記第2面の領域のうち前記キャビティの領域を除く領域に設けられていることを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記複数の構造物は、前記キャビティを取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項12に記載のインプリント装置。
- 前記複数の構造物は、前記モールドの前記第1面に形成されたパターンを含むパターン領域を前記第2面に投影した領域を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至14のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上のインプリント材を成形するためのモールドであって、
前記インプリント材に形成すべきパターンが形成された第1面とは反対側の第2面に設けられた、凸部又は凹部で構成された複数の構造物を有し、
前記第2面には、前記モールドの前記第1面を前記基板側に凸形状に変形させるための凹形状のキャビティが設けられ、
前記複数の構造物のそれぞれは、前記第2面における前記キャビティの面積よりも小さい面積を有する凹部で構成されていることを特徴とするモールド。 - 前記複数の構造物のそれぞれは、前記第1面に垂直な方向における前記キャビティの深さよりも小さい深さを有する凹部で構成されていることを特徴とする請求項16に記載のモールド。
- 前記複数の構造物は、前記第2面の領域のうち前記キャビティの領域を除く領域に設けられていることを特徴とする請求項16又は17に記載のモールド。
- 前記複数の構造物は、前記キャビティを取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項18に記載のモールド。
- 前記複数の構造物は、前記モールドの前記第1面に形成されたパターンを含むパターン領域を前記第2面に投影した領域を取り囲むように設けられていることを特徴とする請求項16に記載のモールド。
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