JP7008334B2 - 光学的検出方法及び光学的検出装置 - Google Patents
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Description
また、磁性粒子を用いて、標的物質の検出板表面への濃縮を促進しても、同時に、検出板表面に未結合の磁性粒子も濃縮してしまい、その結果ノイズ源も増えてしまう結果となっていた。
(2)前記結合体は、前記標的物質に前記磁性粒子が2個以上結合していることを特徴とする前記(1)記載の光学的検出方法。
(3)前記結合体は、前記標的物質に、前記近接場による蛍光又は散乱光を発する標識物質が結合していることを特徴とする前記(1)乃至(2)のいずれか1項記載の光学的検出方法。
(4)裏面側から全反射条件で照射される光により表面上に近接場を形成可能な検出板を備え、かつ、標的物質を含む液体の試料及び前記標的物質と結合体を形成する磁性粒子を前記検出板の前記表面上に保持可能な液体保持部と、前記全反射条件で前記検出板の前記裏面側から光を照射する光照射部と、前記検出板の前記表面側に配され、前記表面上の領域を検出領域とし前記近接場により前記結合体から発せられる蛍光又は散乱光を検出する光検出部と、前記検出板の前記裏面側に配されるとともに前記検出板の前記表面上に導入された前記試料中の前記結合体を磁場の印加により前記検出板の前記表面上に引き寄せ可能とされるとともに前記磁場を印加した状態で前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動可能とされ、その移動に追従させて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場内又は前記近接場外に移動可能とされる第2の磁場印加部で形成される磁場印加部とを備え、前記表面は、前記結合体の吸着を抑制する表面であるとともに印加磁場に応じて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場外まで移動可能とされる面とされることを特徴とする、光学的検出装置。
(5)前記光検出部が、前記蛍光又は散乱光を含む検出領域の様子を2次元画像として取得する装置であることを特徴とする前記(4)に記載の光学的検出装置。
(6)前記検出板が、裏面から表面に向けて、光透過性基板、表面プラズモン共鳴を発生する金属層の順で積層された積層構造を備えることを特徴とする前記(4)乃至(5)のいずれか1項記載の光学的検出装置。
(7)前記検出板が、裏面から表面に向けて、光透過性基板、金属層又は半導体層、光透過性誘電材料で形成される誘電体層の順で積層された積層構造を備えることを特徴とする前記(4)乃至(5)のいずれか1項記載の光学的検出装置。
なお、本明細書において、「光信号の変動」とは、前記結合体の移動に伴う光信号の移動と、前記結合体の姿勢変化に伴う光信号の変化とを含む概念である。また、「結合体の変動」とは、前記結合体の移動と、前記結合体の姿勢変化とを含む概念である。
前記液体保持部は、検出板が配され、かつ、導入される標的物質を含む液体の試料及び前記試料に添加され、前記標的物質と結合して結合体を形成する磁性粒子を前記検出板の表面上に保持するものである。
光照射部は、全反射条件で検出板の裏面側から光を照射可能とされる。
光照射部の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のランプ、LED、レーザー等が挙げられる。本発明では、検出板の裏面側から全反射条件で光を照射することで表面近傍に形成される近接場が標的物質を含む結合体から蛍光や散乱光を発生させることを検出原理とする。そのため光照射部に求められる役割としては、検出板の裏面側から全反射条件で光を照射することのみであり、このような役割を担うものであれば光源の選択に制限がない。
また、光信号として、標的物質を含む結合体による蛍光を用いる場合は、蛍光を励起可能な波長を持つ単色光源を用いるか、または、ランプ、LED等の広い波長帯域を持つ光源からの光をバンドパスフィルタ等の光学フィルタを透過させて単色化し、蛍光を励起可能な波長のみを取り出した後に検出板の裏面側から照射することが好ましい。
光検出部は、検出板の表面側に配され、表面上の領域を検出領域とし光の照射に伴い標的物質を含む結合体から発せられる光信号を検出可能とされる。光検出部としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のフォトダイオード、光電子増倍管等の光検出器を用いることができる。光信号の情報を2次元画像情報として取得することができると、光点として現れる2次元画像情報における光信号の位置情報や、2次元上で観察されるサイズ情報、光点における光信号強度の増減情報を時系列で観察することにより、その光点が、標的物質によるものであるか若しくは標的物質に関与する情報を示すものであるか、又は、夾雑物、光源出力の揺らぎ、検出板表面のキズ等の標的物質に関与しない情報を示すものであるかを区別することが可能となる。このような2次元画像情報の取得を可能とするには、光検出部として撮像デバイスを選択すればよい。撮像デバイスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のCCDイメージセンサ、CMOSイメージセンサ等のイメージセンサを用いることができる。
磁場印加部は、第1の磁場印加部及び第2の磁場印加部のいずれかで形成される。
第1の磁場印加部は、結合体を検出板表面に平行な方向又は前記表面から遠ざける方向に移動させるか或いは前記結合体の姿勢を変化させる部であり、検出板の表面から、標的物質と磁性粒子との結合体を遠ざける遠ざけ磁場、または、表面近傍で表面に平行に移動させる方向に磁力を作用させる平行移動用磁場を、印加可能である。結合体は、近接場内においてのみ、蛍光または光散乱による光信号を発生する。また、近接場の電場強度は検出板の表面から遠ざかるにつれて減衰する。その為、遠ざけ磁場の印加によって結合体が表面から遠ざけられると光信号が減衰し、さらに、結合体が、近接場の電場強度がゼロとみなせる程度までの距離以上に表面から遠ざけられると、結合体の光信号が消滅することとなる。また、光検出部に撮像デバイスを用い、2次元画像情報を取得できる場合には、第1の磁場の印加によって表面近傍で変動した結合体の発する光信号は、光信号の変動として経時的に計測することが可能となる。本発明では、このような光信号の減衰(消滅を含む)または変動(減衰、消滅を伴いうる)を検知して、標的物質を検知する。第1の磁場印加部は、結合体を検出板の表面から遠ざける、または表面近傍で変動させることができる磁場の発生が可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知の電磁石及び永久磁石のいずれか1つ以上を用いることができる。なお、第1の磁場が印加される方向も、前記結合体を前記検出板の前記表面から遠ざける、または前記表面近傍で平行に移動させる、または姿勢を変化させることが可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜設定することができる。
第2の磁場印加部は、前記検出板の裏面側に配されるとともに前記検出板の前記表面上に導入された前記試料中の前記結合体を磁場の印加により前記検出板の前記表面側に引き寄せ可能とされるとともに前記磁場を印加した状態で前記結合体を前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動させるか又は前記結合体の姿勢を変化させる部である。
前記第2の磁場印加部としては、このような部材であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の電磁石及び永久磁石を用いて構成することができる。例えば、スライド部材上に前記電磁石又は前記永久磁石を保持し、前記検出板の前記裏面側における前記光照射部からの前記光が照射される領域(検出領域)の近傍に前記電磁石又は前記永久磁石を位置させる初期状態と、前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に向けて前記電磁石又は前記永久磁石を移動させた状態との間で移動制御させることで構成することができる。なお、前記電磁石を用いる場合、前記移動制御中、連続的或いは断続的に励磁させた状態とする。また、前記移動制御中に励磁の強度を変化させてもよい。
また、複数の前記電磁石又は永久磁石を配置し、各部材における前記磁場の印加状態を制御することによっても、前記スライド部材上に前記電磁石又は前記永久磁石を保持して前記移動制御を行う構成と同等の効果を得ることができる。
また、前記第2の磁場印加部としては、特に制限はないが、貫通孔が形成されている、或いはU字型などの不完全な環状、或いは複数の部材が環状乃至不完全な環状に配置された構成であってもよい。
磁性粒子は、標的物質と結合して結合体を形成し、磁場印加部による磁力によって、標的物質を検出板の表面から遠ざける、または表面近傍で変動させる作用を持つ。磁性粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば公知の磁気ビーズなどを用いることができる。
本発明では、標的物質に、近接場により蛍光又は散乱光などの光信号を発する標識物質を結合させて用いてもよい。標識物質は、標的物質そのものによる光信号が微弱で検出が困難な場合に特に有効であり、標的物質に代わって、強い光信号を発する役目を果たす。標識物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば公知の蛍光物質、光を散乱する物質を用いることができる。蛍光物質としては、例えば蛍光色素や量子ドットなど公知の蛍光物質が挙げられる。光を散乱する物質としては、ナノ粒子、例えばポリスチレンビーズや金ナノ粒子などが挙げられる。
本発明では、近接場を用いて検出板の表面上の標的物質を含む結合体による蛍光又は散乱光を光信号として検出して標的物質を検出するに際し、前記結合体を前記表面から遠ざける方向、または前記表面近傍で前記表面と平行な方向に移動させるか又は前記結合体の姿勢を変化させる第1の磁場を印加する第1の結合体変動工程及び前記検出板の裏面側に配される磁場印加部からの第2の磁場の印加により前記結合体を前記表面上に引き寄せるとともに前記第2の磁場を印加した状態で前記磁場印加部を前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動させ、前記磁場印加部の移動に追従させて前記結合体を移動させるか又は前記結合体の姿勢を変化させる第2の結合体変動工程のいずれかで実施される結合体変動工程によって生じる光信号の低減または変動を計測して、標的物質を検出する。つまり、結合体が、第1の磁場によって、検出板の表面から遠ざかることまたは表面近傍で前記表面と平行な方向に移動すること又は姿勢を変化させること、及び、第2の磁場を印加する磁場印加部によって、前記磁場印加部の移動に追従させて前記結合体を移動させるか又は前記結合体の姿勢を変化させることのいずれかを以て、前記結合体の検出を行う。この検出機構においては、結合体は、前記結合体変動工程の実施前には、近接場が発生している領域内に存在していなくてはならない。
光学的検出装置による標的物質の測定に際して、試料には磁性粒子が添加される。また、必要に応じて標識物質及び重り物質が添加される。一般に、磁性粒子、標識物質及び重り物質は、溶液中に分散されて保管されているか、粉末状で保管されており、使用時に試料と混合される。混合の方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(1)試料を液体保持部に注入した後に磁性粒子、標識物質及び重り物質を混合する方法、(2)磁性粒子、標識物質及び重り物質を液体保持部に注入した後に試料を液体保持部に注入する方法、(3)試料と磁性粒子、標識物質及び重り物質とを混合(以下、「事前混合」という。)した後に液体保持部に注入する方法、などの手法を用いることができる。事前混合を採用した場合、磁性粒子を容器越しに磁石で集めながら、容器内を洗浄することによって、容易に磁性粒子及び結合体以外の物質を取り除くことができると共に、結合体の濃縮を行うことができる。その結果、より高精度で高感度な検出が実施可能となり好ましい。
検出板の表面には、結合体を構成する標的物質、磁性粒子、標識物質及び重り物質の吸着を抑制する化学的な表面処理を施しておいてもよい。前記表面処理により、結合体が、検出板の表面に捕捉されることなく、遠ざけ磁場等の第1の磁場印加により検出板の表面から遠ざかる、または表面近傍で移動することが容易となるので好ましい。表面処理の方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、タンパク質などの吸着を抑制する各種ブロッキング法を用いることができる。ブロッキング法の例としては、ポリエチレングリコールを用いる手法、エタノールアミンを用いる方法、スキムミルクを用いる方法などが挙げられる。表面処理によって結合体の検出板表面への吸着を抑制すれば、安定した正確な検出が可能となる。
図1は、本発明の実施形態で用いる光学的検出装置の基本例である。光学的検出装置1は、検出板2と、カバーガラス4と、光源5と、光検出部6と、第1の磁場印加部8とで構成される。カバーガラス4は、標的物質を含む試料、磁性粒子、標識物質、重り物質の混合溶液3(必ずしも標識物質、重り物質を含むものではない)を、検出板2とで挟む態様で、混合溶液3の液層を検出板2表面上に保持するように配される。光源5(「光照射部」ともいう。)は、検出板2の裏面に光学的に貼り合せたプリズム11を介して全反射条件で検出板2の裏面側から光Lを照射するように配される。光検出部6は、検出板2の表面側に配され、表面上の領域を検出領域とし光Lの照射に伴い結合体から発せられる光信号Sを検出する。第1の磁場印加部8は、検出板2の表面から結合体を遠ざける方向、または前記表面近傍で平行移動させる方向の、遠ざけ磁場又は平行移動用磁場を印加する。検出板2とカバーガラス4とで、液体保持部が構成される。図1に示す光学的検出装置1では、全反射条件で検出板2の裏面側から光Lを照射する目的でプリズム11を配する構成としているが、同じ目的から裏面に回折格子が形成された検出板を用いることにより、プリズム11に代えることもできる。
本発明の第1の実施形態を、図3及び4を参照して説明する。本実施形態では、標的物質自身が光信号を発する場合について説明する。試料中の標的物質には、1つ以上の磁性粒子が結合可能である。図3及び図4では、標的物質1つに対して複数の磁性粒子が結合して結合体を形成している場合について図示したものである。図3及び図4では、図示しないが全反射条件で検出板2の裏面側から照射された光が形成する近接場が、検出板表面に発生している。結合体は、図1または図2に記載の装置を用いて検出される。また、図3及び4では、磁性粒子の例として抗体付き磁性ビーズ16で説明し、標的物質の例として抗原15で説明する。
図3に示される状況下では、検出板2表面上で近接場内の抗原15から光信号が発生する。次に検出板2の表面に対して遠ざけ磁場又は平行移動用磁場を印加すると、結合体は検出板2の表面から遠ざかる、または前記表面近傍で移動するまたは姿勢が変化することから、前記抗原15による光信号は減衰又は消滅又は変動する。前記光信号の減衰又は消滅又は変動を検出することによって、抗原15を検知することができる。
本発明の第2の実施形態を、図5及び6を参照して説明する。本実施形態では、標的物質自身が発する光信号が微弱であるか、または光信号を発しない場合で、磁性粒子が発する光信号を検知して、試料中の標的物質を検知する。この場合においては、磁性粒子は蛍光又は散乱光を発する粒子である。本実施形態では、標的物質には2つ以上の磁性粒子が結合して結合体を形成することが好ましい。
本発明の第3の実施形態を、図7及び8を参照して説明する。本実施形態では、試料中で、標的物質に磁性粒子と標識物質を結合させる場合について説明する。標識物質が色素であって、標的物質自体に蛍光信号を発する機能を付与する場合も、本実施形態で説明することができるが、ここでは、標的物質を磁性粒子と標識物質とで挟み込んで、所謂サンドイッチ構造をとる場合を例に説明を行う。
第1乃至3の実施形態の前提となる近接場について、検出板にSiO2基板を用いた場合の具体例を示す。図9に、SiO2ガラスを検出板として用い、その表面に水を載せ、その裏面にSiO2ガラス製のプリズムを光学的に密着させて配し、入射角67°で375nmのp偏光の単色光を入射した場合のエバネッセント場の電場強度分布の計算結果を示す。横軸zは検出板の表面からの距離(nm)を示す。z=0が検出板の表面を示す。図9から分かるように検出板の表面では、入射光の強度を1としたとき、強度約4.5の電場が形成されている。前記エバネッセント場の電場強度は、前記検出板の表面から離れるにつれて弱くなり、前記検出板の表面からの2000nm離れるとほぼ0になる。遠ざけ磁場の印加によって、前記検出板の表面から結合体を遠ざけると、図9に示すような電場強度の減衰又は消滅によって、光信号の減衰又は消滅が起きることとなる。
次に、本発明の実施形態の測定原理の検証の為の実験例を示す。ここでは、磁性粒子そのものによる散乱光を光信号と見立て、前記磁性粒子が検出板表面から遠ざけられることによって、前記光信号が消滅する様子を観測した。実験には図1に記載の装置を用いた。検出板2には、厚さ0.75mmのSiO2基板を用いた。光源5には白色LED光源(Thorlabs社、型番MWWHF2)を用いた。検出板2の裏面にはSiO2ガラス製のプリズム11を光学的に密着させて配し、検出板2の表面に対して入射角67°で光源5からの白色光を入射した。磁性粒子には、直径1μmの磁性ビーズを用いた。前記磁性粒子の濃度は5μg/mlとした。前記磁性粒子を含んだ液体試料をSiO2基板に10μl滴下した後、5分静置し、重力沈降により前記磁性粒子を検出板2の表面上に沈降させた。白色光の照射によって検出板2の表面に近接場を形成し、光信号の測定を行った。前記光信号は、10倍の対物レンズを備えた光学顕微鏡を用いて、冷却CMOSカメラ(BITRAN社、型番CS-51M)にて観測した。つまり、光検出器6として、10倍の対物レンズを備えたCMOSカメラを用いたこととなる。遠ざけ磁場を印加する前には、前記近接場によって、前記重力沈降した磁性粒子から発した散乱光による光信号と、夾雑物によるノイズ信号が同時に観測され、この時点では前記磁性粒子と前記夾雑物とを区別できなかった。次に、第1の磁場印加部8の1例である遠ざけ磁場印加部として永久磁石を用いて遠ざけ磁場を印加し、磁性粒子を検出板2の表面から遠ざけると、磁場印加前に前記CMOSカメラにて観測された光点の内の幾つかが消滅したことが観測された。このように、前記遠ざけ磁場の印加によって、前記磁性粒子が前記検出板の表面から遠ざかり、その結果、光信号の消滅が生じることから、前記磁性粒子を夾雑物と分けて検出することができた。
次に、本発明の第4の実施形態に係る光学的検出装置を図10を参照しつつ説明する。なお、図10は、第4の実施形態に係る光学的検出装置の説明図である。
図10に示すように、第4の実施形態に係る標的物質検出装置50は、公知の表面プラズモン共鳴センサに準じて構成され、プリズム51と、検出板52と、カバーガラス54と、光源55と、光検出部56と、第2の磁場印加部58とで構成される。なお、図中の符号53は、標的物質を含む試料、磁性粒子、標識物質、重り物質の混合溶液(必ずしも標識物質、重り物質を含むものではない)を示している。
プリズム51、検出板52、カバーガラス54、光源55及び光検出部56は、図1を用いて説明した、光学的検出装置1におけるプリズム11、検出板2、カバーガラス4、光源5及び光検出部6と同様に構成することができ、第4の実施形態に係る光学的検出装置50は、第1の磁場印加部8に代えて第2の磁場印加部58が配される点で光学的検出装置1と相違する。以下、相違点について説明する。
前記結合体の変動は、第2の磁場印加部58を磁場印加部として、第2の磁場印加部58からの前記磁場の印加により検出板52の前記表面上に導入された混合溶液53中の前記結合体を検出板52の前記表面上に引き寄せるとともに前記磁場を印加した状態で第2の磁場印加部58を検出板52の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動させ、第2の磁場印加部58の移動に追従させて前記結合体を移動させるか又は前記結合体の姿勢を変化させることにより行う(結合体変動工程)。なお、第2の磁場印加部58を、環状に配置された複数の部材により構成した場合、各部材毎に磁場印加状態を制御することでスライド移動部材を用いずに前記結合体変動工程を行うことも可能である。
第2の磁場印加部58を用いる場合、前記磁場の印加により混合溶液53中の前記結合体の全部又は一部を検出板52の表面上に引き寄せるため、検出板52の前記表面上に混合溶液53を導入後、混合溶液53の液層中を浮遊する前記結合体が検出板52の前記表面上に重力沈降することを待つ必要がない。
また、光信号の形状(前記結合体の形状)に異方性が確認できる場合、前記結合体変動工程の実施前後における光信号(2次元画像)を、図13,14のように得ることもでき、前記標的物質に基づく光信号cを、検出板52の前記表面上のキズ、前記表面に吸着ないし前記表面上に存在する夾雑物、光源出力の揺らぎなどのノイズ信号dと明確に区別して検出することができる。なお、図13が前記結合体変動工程前における、検出板52の前記表面上の様子を示す図であり、図14が前記結合体変動工程後における、検出板52の前記表面上の様子を示す図である。
なお、図1に示す光学的検出装置1について、第1の磁場印加部8による磁場の印加が前記結合体を検出板2から遠ざけるように実施される例を図示して説明をしたが(第1~第3の実施形態参照)、第1の磁場印加部8による磁場の印加が、前記結合体を検出板2の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動させるように実施されることで、光学的検出装置50と同様に、前記結合体の移動に伴って前記光信号が検出板2の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動することを利用した前記標的物質の検出を行うことができる。
また、前記光信号の形状(前記結合体の形状)に異方性が確認できる場合も、光学的検出装置50と同様に、前記結合体の姿勢変化に伴う前記光信号の変化を利用した前記標的物質の検出を行うことができる。
実施例について述べる。本実施例には、図1に記載の光学的検出装置1を用いた。検出板2には、厚さ0.75mmのSiO2基板を用いた。光源5には白色LED光源(Thorlabs社、型番MWWHF2)を用い、出射端にコリメートレンズを装着した600μmコア径の光ファイバを用いた。検出板2の裏面にはSiO2ガラス製のプリズム11を光学的に密着させて配し、検出板2の表面に対して入射角67°で光源5からの白色光を、S偏光が検出板2に入射するように偏光フィルタを介してプリズム11へ入射した。
図1に示す光学的検出装置1の構成にしたがって、実施例2に係る光学的検出装置を次のように製造した。先ず、実施例2に係る検出板2は、光透過性基板を厚み0.75mmのSiO2層で構成し、厚みが36nmのSi層、厚みが365nmのSiO2層をこの順番で積層する形で製造した。更に、メトキシオリゴエチレングリコール-シラン化合物により、検出板2の表面に自己組織化単分子膜を形成し、結合体や夾雑物の吸着を抑制する表面処理を行った。
2,52 検出板
3,53 混合溶液
4,54 カバーガラス
5,55 光源
6,56 光検出部
8 第1の磁場印加部
9 引き寄せ磁場印加部
11,51 プリズム
58 第2の磁場印加部
S 光信号
L 光
M1 標的物質と磁性粒子と標識物質(非磁性)との結合体
M2 標的物質と磁性粒子との結合体
N 標的物質と標識物質(非磁性)との結合体
Claims (7)
- 近接場を用いて検出板の表面上の標的物質を含む結合体による蛍光又は散乱光を光信号として検出する標的物質の光学的検出方法であって、
前記結合体は少なくとも前記標的物質と磁性粒子の結合によって形成され、前記検出板の裏面側に配される磁場印加部からの第2の磁場の印加により前記結合体を前記表面上に引き寄せるとともに前記第2の磁場を印加した状態で前記磁場印加部を前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動させ、前記磁場印加部の移動に追従させて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場内又は前記近接場外に移動させる第2の結合体移動工程で実施される結合体移動工程によって生じる前記光信号の低減又は移動を計測して、前記標的物質を検出し、かつ、前記表面は、前記結合体の吸着を抑制する化学的な処理が施されるとともに印加磁場に応じて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場外まで移動可能な面とされることを特徴とする、光学的検出方法。 - 前記結合体は、前記標的物質に前記磁性粒子が2個以上結合していることを特徴とする請求項1記載の光学的検出方法。
- 前記結合体は、前記標的物質に、前記近接場による蛍光又は散乱光を発する標識物質が結合していることを特徴とする請求項1乃至2のいずれか1項記載の光学的検出方法。
- 裏面側から全反射条件で照射される光により表面上に近接場を形成可能な検出板を備え、かつ、標的物質を含む液体の試料及び前記標的物質と結合体を形成する磁性粒子を前記検出板の前記表面上に保持可能な液体保持部と、
前記全反射条件で前記検出板の前記裏面側から光を照射する光照射部と、
前記検出板の前記表面側に配され、前記表面上の領域を検出領域とし前記近接場により前記結合体から発せられる蛍光又は散乱光を検出する光検出部と、
前記検出板の前記裏面側に配されるとともに前記検出板の前記表面上に導入された前記試料中の前記結合体を磁場の印加により前記検出板の前記表面上に引き寄せ可能とされるとともに前記磁場を印加した状態で前記検出板の前記表面の面内方向と平行な方向のベクトル成分を持つ方向に移動可能とされ、その移動に追従させて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場内又は前記近接場外に移動可能とされる第2の磁場印加部で形成される磁場印加部とを
備え、
前記表面は、前記結合体の吸着を抑制する表面であるとともに印加磁場に応じて前記近接場内に存在する前記結合体を前記近接場外まで移動可能とされる面とされることを特徴とする、光学的検出装置。 - 前記光検出部が、前記蛍光又は散乱光を含む検出領域の様子を2次元画像として取得する装置であることを特徴とする請求項4記載の光学的検出装置。
- 前記検出板が、裏面から表面に向けて、光透過性基板、表面プラズモン共鳴を発生する金属層の順で積層された積層構造を備えることを特徴とする請求項4乃至5のいずれか1項記載の光学的検出装置。
- 前記検出板が、裏面から表面に向けて、光透過性基板、金属層又は半導体層、光透過性誘電材料で形成される誘電体層の順で積層された積層構造を備えることを特徴とする請求項4乃至5のいずれか1項記載の光学的検出装置。
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