JP7000871B2 - 半導体装置および電力変換装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置および電力変換装置に関する。
特許文献1には、コレクタランドに接合された半導体チップと、半導体チップの上面に設けられた電極の一部を覆う金属プレートとを備えた半導体実装構造が開示されている。金属プレートとエミッタランドとは、ボンディングワイヤによってボンディング接続される。金属プレートは、ボンディングワイヤの配線方向に沿って半導体チップから突出するように延びる突出部を有する。コレクタランド上には、金属プレートの突出部を保持可能な絶縁性を有するスペーサが設けられる。
特開2015-126066号公報
一般に、半導体チップの上面にリードフレームをはんだで接合する構造では、接合の際にリードフレームが上下に動き易い。特に、リードフレームとケースとの接続部を支点として、リードフレームが上下に動くことが考えられる。
ここで、特許文献1では、ボンディングワイヤの配線方向において、半導体チップの片側のみでスペーサが金属プレートを保持している。このスペーサを、半導体チップの上面にリードフレームが接合される構造に適用すると、ケースからリードフレームが延びる方向において、半導体チップの片側のみでリードフレームがスペーサに保持されることとなる。
このとき、スペーサによってリードフレームの上下の動きを抑制できない可能性がある。よって、半導体チップとリードフレームとを接合する際に、両者を接合するはんだの厚さが目標値から外れる可能性がある。従って、はんだの厚さが信頼性の観点から設定した基準値の範囲を外れ、信頼性が低下する可能性がある。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、はんだの厚さを制御し易い半導体装置および電力変換装置を得ることを目的とする。
開示に係る半導体装置は、複数の半導体チップと、該複数の半導体チップの上に設けられた第1リードフレームと、該複数の半導体チップと該第1リードフレームとの間にそれぞれ設けられ、該複数の半導体チップと該第1リードフレームとを接合する複数のはんだと、該複数の半導体チップの間に設けられ、該第1リードフレームを支持する絶縁性の第1スペーサと、該第1スペーサと材質が異なり、該複数の半導体チップを封止する封止樹脂と、を備え、該第1スペーサは、該複数の半導体チップの間と、該複数のはんだの間を埋める。

本発明に係る半導体装置では、第1リードフレームが延びる方向における半導体チップの両側で、第1スペーサは第1リードフレームを支持する。このため、第1リードフレームの上下の動きを抑制でき、はんだの厚さを制御し易い。
本発明に係る半導体装置では、複数の半導体チップの間に第1スペーサが設けられる。このため、第1スペーサの両側の半導体チップを接合するはんだの厚さのバラつきを抑制できる。従って、はんだの厚さを制御し易い。
実施の形態1に係る半導体装置の断面図である。 比較例に係る半導体装置の断面図である。 実施の形態2に係る半導体装置の断面図である。 実施の形態2に係る第1リードフレームと第1スペーサの斜視図である。 実施の形態3に係る第1リードフレームの平面図である。 実施の形態3に係る第1スペーサの斜視図である。 実施の形態4に係る第1リードフレームの平面図である。 実施の形態4に係る第1スペーサの斜視図である。 実施の形態5に係る第1リードフレームの斜視図である。 実施の形態5に係る半導体装置の製造方法を説明する図である。 実施の形態6に係る半導体装置の断面図である。 実施の形態7に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
本発明の実施の形態に係る半導体装置および電力変換装置について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る半導体装置100の断面図である。半導体装置100はアルミフィン10を備える。アルミフィン10の上には絶縁基板12が設けられる。絶縁基板12の上面には回路パターン14が設けられる。回路パターン14の上にははんだ16が設けられる。はんだ16はチップ下はんだである。はんだ16の上には半導体チップ18が設けられる。はんだ16は回路パターン14と半導体チップ18とを接合する。
半導体チップ18は例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)等のパワー半導体チップである。半導体チップ18はワイドバンドギャップ半導体によって形成されても良い。ワイドバンドギャップ半導体は、例えば、炭化珪素、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドである。半導体チップ18はダイオード等を含んでも良い。
半導体チップの上には、はんだ20が設けられる。はんだ20は、チップ上はんだである。半導体チップ18の上には、第1リードフレーム22が設けられる。はんだ20は、半導体チップ18と第1リードフレーム22との間に設けられる。はんだ20は、半導体チップ18と第1リードフレーム22とを接合する。
半導体装置100はケース28を備える。ケース28は半導体チップ18および絶縁基板12を囲む。第1リードフレーム22は、ケース28の内壁から半導体チップ18に向かって延びる。ケース28はインサートケースである。ケース28は、第1リードフレーム22と一体化されている。
第1リードフレーム22には、半導体チップ18に向かって突出し、半導体チップ18と接合される接合部24が設けられる。接合部24はエンボス部とも呼ばれる。第1リードフレーム22の一端はケース28と一体化され、第1リードフレーム22の他端は、回路パターン14と接続される。第1リードフレーム22の他端が接続された回路パターン14は、第1リードフレーム22が接合された半導体チップ18が設けられた回路パターン14とは別の回路パターン14である。
半導体装置100は複数の第1スペーサ26を備える。複数の第1スペーサ26は柱状である。複数の第1スペーサ26は、第1リードフレーム22が延びる方向における半導体チップ18の両側で、第1リードフレーム22をそれぞれ支持する。第1リードフレーム22が延びる方向は、ケース28から第1リードフレーム22が引き出される方向である。各々の第1スペーサ26は、回路パターン14と第1リードフレーム22に挟まれる。また、第1スペーサは半導体チップ18と離れている。
第1スペーサ26は絶縁性である。第1スペーサ26は例えばPPS(Poly Phenylene Sulfide)樹脂から形成される。これに限らず、第1スペーサ26は、樹脂、ゴム等であっても良い。
第1スペーサ26と第1リードフレーム22との間には、接着剤34が設けられる。接着剤34は、第1スペーサ26の上面または第1リードフレーム22の裏面に塗布される。接着剤34は、第1スペーサ26と第1リードフレーム22とを接合する。また、第1スペーサ26と回路パターン14との間に、さらに接着剤34が設けられても良い。
第1スペーサ26は半導体チップ18の搭載面に設けられる。ここで、半導体チップ18の搭載面は回路パターン14の上面である。第1スペーサ26の高さは、はんだ16、20、半導体チップ18および接合部24の厚さの和に対応する。第1スペーサ26の高さは、はんだ16、20の厚さの目標値に応じて決定される。
ケース28の内部には封止樹脂29が設けられる。半導体チップ18は、封止樹脂29により封止されている。ケース28の内部は封止樹脂29に埋められる。封止樹脂29は、第1スペーサ26と材質が異なる。封止樹脂29は例えばエポキシ樹脂から形成される。
本実施の形態では、半導体装置100は複数の半導体チップ18を備える。1つの第1リードフレーム22には複数の半導体チップ18が接合されている。複数の第1スペーサ26は、第1リードフレーム22が延びる方向での複数の半導体チップ18の両側で、第1リードフレーム22をそれぞれ支持する。また、複数の第1スペーサ26は、複数の半導体チップ18が並ぶ方向における複数の半導体チップ18の両側で、第1リードフレーム22をそれぞれ支持する。つまり、複数の半導体チップ18は、複数の第1スペーサ26の間に設けられる。
図2は、比較例に係る半導体装置101の断面図である。半導体装置101は第1スペーサ26を備えない。このとき、矢印30に示すように、第1リードフレーム22とケース28との接続部を支点として、第1リードフレーム22が上下に動く可能性がある。このとき、はんだ20の厚さが目標値に対して、大きくまたは小さくなりすぎる場合がある。また、複数の半導体チップ18をそれぞれ接合する複数のはんだ20の厚さがバラつく可能性がある。
これに対し、本実施の形態では、第1リードフレーム22が延びる方向における半導体チップ18の両側で、複数の第1スペーサ26が第1リードフレーム22をそれぞれ支持する。このとき、半導体チップ18の両側で、第1リードフレーム22の半導体チップ18の搭載面からの高さが規定される。このため、第1リードフレーム22の上下の動きを抑制できる。つまり、第1リードフレーム22の半導体チップ18の搭載面からの高さを一定にできる。従って、本実施の形態では、はんだ20の厚さを制御し易い。このとき、はんだ20の厚さを、信頼性の観点から設定した基準値の範囲に収めることができる。このため、はんだ20の厚さを適正な値に設定でき、信頼性を向上できる。
また、本実施の形態では、複数の第1スペーサ26によって、複数の半導体チップ18の両側で、第1リードフレーム22の高さを揃える事ができる。これにより、複数の半導体チップ18をそれぞれ接合する複数のはんだ20の厚さのバラつきを抑制できる。
また、本実施の形態では第1スペーサ26と半導体チップ18とが離れている。このため、第1スペーサ26から半導体チップ18が応力を受けることを防止できる。
また、はんだ16、20のうち第1リードフレーム22と接触するはんだ20の方が、第1リードフレーム22の上下の動きの影響を受け易い。しかし、第1リードフレーム22の上下の動きを抑制することで、チップ下はんだであるはんだ16の厚さも制御し易くなる。
本実施の形態の変形例として、第1スペーサ26は、封止樹脂29より融点が高いものとしても良い。これにより、封止樹脂29の充填時に、第1スペーサ26が変形等することを防止できる。また、第1スペーサ26は、封止樹脂29より硬くても良い。これにより、第1スペーサ26の変形によるはんだ16、20の厚さの変化を抑制できる。
また、本実施の形態では、回路パターン14に半導体チップ18が接合される。これに限らず、半導体チップ18は絶縁基板12に接合されても良い。また、リードフレームの上に半導体チップ18が設けられ、リードフレームと半導体チップ18が接合されていても良い。
また、本実施の形態では半導体チップ18の搭載面に第1スペーサ26が設けられるものとした。これに限らず、第1スペーサ26は絶縁基板12の上面等に設けられても良い。第1スペーサ26は、第1リードフレーム22を支持できる位置に設けられれば良い。
また、本実施の形態では半導体装置100は2つの第1リードフレーム22を備える。2つの第1リードフレーム22はケース28の互いに対向する内壁からそれぞれ延びる。半導体装置100が備える第1リードフレーム22の数および配置はこれに限らない。例えば、半導体装置100が備える第1リードフレーム22の数は1つ以上であれば良い。
また、本実施の形態では1つの第1リードフレーム22に2つの半導体チップ18が接合される。これに限らず、1つの第1リードフレーム22に接合される半導体チップ18の数は1つ以上であれば良い。
また、本実施の形態では複数の第1スペーサ26が半導体チップ18の両側にそれぞれ設けられた。これに限らず、1つの第1スペーサ26が、第1リードフレーム22が延びる方向での半導体チップ18の両側において、第1リードフレーム22を支持しても良い。例えば、1つの第1スペーサ26が半導体チップ18を囲むように設けられても良い。また、第1スペーサ26は半導体チップ18と接していても良い。
これらの変形は以下の実施の形態に係る半導体装置および電力変換装置について適宜応用することができる。なお、以下の実施の形態に係る半導体装置および電力変換装置については実施の形態1との共通点が多いので、実施の形態1との相違点を中心に説明する。
実施の形態2.
図3は、実施の形態2に係る半導体装置200の断面図である。本実施の形態では、第1スペーサ226の構造が実施の形態1と異なる。第1スペーサ226は、複数の半導体チップ18の間に設けられる。第1スペーサ226は、複数の半導体チップ18の間で第1リードフレーム22を支持する。第1スペーサ226は、複数の半導体チップ18の間を埋める。また、第1スペーサ226は、複数の接合部24の間に嵌め込まれる。
第1スペーサ226は、第1リードフレーム22に接着剤を塗布することにより、第1リードフレーム22に接合される。図3において、便宜上、接着剤は省略されている。第1スペーサ226の形状は、複数の半導体チップ18の間の空間の形状に合わせて調節される。第1スペーサ226の幅は、複数の半導体チップ18または複数の接合部24の間隔に等しい。
図4は、実施の形態2に係る第1リードフレーム22と第1スペーサ226の斜視図である。互いに隣接する複数の接合部24の間には凹部が形成される。第1スペーサ226は、凹部に嵌め込まれる。第1スペーサ226は、複数の接合部24に沿って設けられる。
本実施の形態では、複数の半導体チップ18の間に第1スペーサ26を取り付けることで、はんだ20の厚さをコントロールできる。複数の半導体チップ18の間で、第1リードフレーム22の半導体チップ18の搭載面からの高さを規定できる。このため、第1スペーサ226の両側の半導体チップ18を接合するはんだ20の厚さのバラつきを抑制できる。従って、はんだ20の厚さを制御し易い。
さらに、複数の半導体チップ18間の狭い隙間が第1スペーサ26で埋められる。このため、封止樹脂29の充填の効率を向上できる。
本実施の形態の変形例として、第1スペーサ226は複数の半導体チップ18の間に設けられれば、複数の半導体チップ18の間を埋めなくても良い。つまり、複数の半導体チップ18と第1スペーサ226とは離れていても良い。
実施の形態3.
図5は、実施の形態3に係る第1リードフレーム322の平面図である。図6は、実施の形態3に係る第1スペーサ326の斜視図である。本実施の形態では、第1リードフレーム322および第1スペーサ326の構造が実施の形態2と異なる。実施の形態2と同様に、第1スペーサ326は、複数の半導体チップ18の間に設けられる。第1リードフレーム322の複数の半導体チップ18側の面には凹部332が設けられる。凹部332は複数の接合部24の間に設けられる。凹部332は、貫通孔である。凹部332は、平面視においてオーバル形である。
図6に示されるように、第1スペーサ326は本体部326aを有する。本体部326aは直方体である。本体部326aは、凹部332よりも幅が広い。さらに、第1スペーサ326は本体部326aから上方に突出する凸部326bを有する。凸部326bの形状は、凹部332の形状に対応し、オーバル形である。
第1スペーサ326の凸部326bは、凹部332に嵌め込まれる。凸部326bは凹部332と嵌合する。この状態において、本体部326aは第1リードフレーム322の半導体チップ18側の面と接する。本体部326aは、回路パターン14と第1リードフレーム322とに挟まれる。また、本実施の形態では、第1スペーサ326と第1リードフレーム322とは接合されていない。
本実施の形態では、第1スペーサ326が凹部332に差し込まれることにより、第1スペーサ326は第1リードフレーム322に固定される。これにより、はんだ20の厚さを制御できる。また、実施の形態2と同様に、第1スペーサ326により複数の半導体チップ18間の狭ギャップを埋めることができ、樹脂充填の効率を向上できる。さらに、接着剤により第1スペーサ326を第1リードフレーム322に固定する必要がないため、製造工程を簡易化できる。また、第1スペーサ326が凹部332に差し込まれるため、第1スペーサ326の位置ずれを防止できる。
凹部332の形状は、図5に示されるものに限らない。凹部332は例えば、円形または多角形等でも良い。また、互いに隣接する接合部24の間に複数の凹部332が設けられても良い。また、凹部332は貫通孔ではなく、溝であっても良い。また、第1スペーサ326の形状は、図6に示されるものに限らない。例えば、凸部326bは凹部332と嵌合できれば、別の形状でも良い。
実施の形態4.
図7は、実施の形態4に係る第1リードフレームの平面図である。図8は、実施の形態4に係る第1スペーサ426の斜視図である。本実施の形態では、第1リードフレーム422および第1スペーサ426の構造が実施の形態1と異なる。第1リードフレーム422の複数の半導体チップ18側の面には複数の凹部432が設けられる。複数の凹部432は、貫通孔である。各々の凹部432は、平面視において円形である。
図8に示されるように、第1スペーサ426は本体部426aを有する。本体部426aは、凹部432よりも幅が広い。本体部426aは円柱状である。さらに、第1スペーサ426は本体部426aから上方に突出する凸部426bを有する。凸部426bの形状は、凹部432の形状に対応し、円柱状である。また、本体部426aの凸部426bと反対側からは支持部426cが延びる。支持部426cは円柱状である。
凸部426bは、凹部432に嵌め込まれる。凸部426bは凹部432と嵌合する。この状態において、本体部426aは第1リードフレーム422の半導体チップ18側の面と接する。また、支持部426cは回路パターン14と接する。本体部426aと支持部426cは、回路パターン14と第1リードフレーム422とに挟まれる。
本実施の形態では、第1スペーサ426が凹部432に差し込まれる。これにより、第1リードフレーム422の高さを規定でき、はんだ20の厚さを制御できる。また、第1スペーサ426が凹部432に差し込まれることで、第1スペーサ426の位置がずれることを防止できる。さらに、本実施の形態では複数の半導体チップ18と離れた位置に第1スペーサ426が設けられる。このため、複数の半導体チップ18の隙間の形状によらず、第1スペーサ426を形成できる。従って、半導体装置の構造を簡易化できる。
凹部432の形状は、図7に示されるものに限らない。凹部432は例えば、楕円形または多角形等でも良い。また、図7では2つの凹部432が図示されているが、第1リードフレーム422に設けられる凹部432の数は複数であれば良い。また、複数の凹部432の位置は、図7に示されるものに限らない。複数の凹部432は、半導体チップ18を挟むように設けられれば別の位置でも良い。
また、凹部432は貫通孔ではなく、溝であっても良い。また、第1スペーサ426の形状は、図8に示されるものに限らない。例えば、凸部426bは凹部432と嵌合できれば、別の形状でも良い。
実施の形態5.
図9は、実施の形態5に係る第1リードフレーム522の斜視図である。本実施の形態では、第1リードフレーム522の構造が実施の形態1と異なる。第1リードフレーム522は、ケース28に固定されたケース側部分522aと、半導体チップ18と接合されたチップ側部分522bとを有する。
ケース側部分522aは水平方向に延びる。ケース側部分522aの一端は下方に向かって屈曲する。ケース側部分522aの一端には、差込部522cが設けられる。チップ側部分522bの端部は上方に向かって屈曲する。チップ側部分522bの端部は差込部522cに差し込まれる。ケース側部分522aの一端と、チップ側部分522bの端部とは互いに接合されている。
図10は、実施の形態5に係る半導体装置500の製造方法を説明する図である。ケース側部分522aの他端はケース28と一体化されている。チップ側部分522bは水平方向に延びる。ここで、水平方向は、絶縁基板12の上面と平行な方向である。なお、図10では、アルミフィン10、絶縁基板12、はんだ16は省略されている。
次に、本実施の形態の半導体装置500の製造方法を説明する。まず、ケース側部分522aとチップ側部分522bとを別部品として形成する。つまり、第1リードフレーム522は、ケース28と接合された根元部分の近傍で、2つに分離された状態で形成される。ケース側部分522aは、例えばインサート成形により、ケース28と一体化された状態で形成される。
次に、絶縁基板12上に設けられた回路パターン14の上に、はんだ16および第1スペーサ26を設ける。また、はんだ16の上に半導体チップ18を設ける。さらに、半導体チップの上にはんだ20を設ける。次に、チップ側部分522bを第1スペーサ26とはんだ20の上に設ける。ここで、チップ側部分522bの裏面に接着剤を塗布しておく。これにより、第1スペーサ26とチップ側部分522bとが接合される。さらに、リフローなどを行い、はんだ16で半導体チップ18と回路パターン14を接合する。同様に、はんだ20で半導体チップ18とチップ側部分522bとを接合する。
その後、ケース側部分522aと、チップ側部分522bと接合する。これにより、絶縁基板12の側面にケース28が取り付けられる。次に、ケース28の内部を封止樹脂29で充填する。
本実施の形態では、半導体チップ18とチップ側部分522bとをはんだ20で接合するはんだ接合工程の後に、ケース側部分522aとチップ側部分522bと接合する。これにより、はんだ接合工程において、第1リードフレーム522がケース28との接続部を支点として上下に動くことで発生するはんだ20の厚さのバラつきを防止できる。従って、はんだ20による接合を安定して実施でき、はんだ20の厚さを安定させることができる。
本実施の形態では、第1リードフレーム522はケース28近傍で分離された。これに限らず、第1リードフレーム522は、第1スペーサ26および半導体チップ18が接合される領域よりもケース28側で分離されれば良い。
実施の形態6.
図11は、実施の形態6に係る半導体装置600の断面図である。図11では、便宜上、アルミフィン10、絶縁基板12、はんだ16、20、半導体チップ18、ケース28、封止樹脂29は省略されている。本実施の形態では、第1リードフレーム622の上方に、さらに第2リードフレーム623が設けられる。
本実施の形態では、回路パターン14の上に第1スペーサ626が設けられる。第1スペーサ626の上には第1リードフレーム622が設けられる。第1リードフレーム622の上には第2スペーサ627が設けられる。第2スペーサ627の上には、第2リードフレーム623が設けられる。第2スペーサ627は、第2リードフレーム623を支持する。第2スペーサ627は絶縁性である。
第2リードフレーム623は第1リードフレーム622の直上に位置し、第1リードフレーム622と平行である。図示は省略しているが、回路パターン14と第1リードフレーム622との間には、実施の形態1と同様に半導体チップ18およびはんだ16、20が設けられる。また、第1リードフレーム622と第2リードフレーム623との間には、半導体チップ18およびはんだ16、20が設けられる。
本実施の形態では第2スペーサ627により、第1リードフレーム622と第2リードフレーム623との距離を均一にできる。第1リードフレーム622と第2リードフレーム623とが適切な距離を保つことで、第1リードフレーム622と第2リードフレーム623の自己インダクタンスを互いに打ち消すことができる。従って、半導体装置600の性能を向上できる。
本実施の形態では2つのリードフレームが積層している。これに限らず、複数のリードフレームが積層し、複数のリードフレームを複数のスペーサがそれぞれ支持していれば良い。
実施の形態7.
本実施の形態は、上述した実施の形態1~6にかかる半導体装置を電力変換装置に適用したものである。本実施の形態は特定の電力変換装置に限定されるものではないが、以下、実施の形態7として、三相のインバータに実施の形態1~6にかかる半導体装置を適用した場合について説明する。
図12は、本実施の形態にかかる電力変換装置800を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。
図12に示す電力変換システムは、電源700、電力変換装置800、負荷900から構成される。電源700は、直流電源であり、電力変換装置800に直流電力を供給する。電源700は種々のもので構成することが可能であり、例えば、直流系統、太陽電池、蓄電池で構成することができる。また、電源700は、交流系統に接続された整流回路またはAC/DCコンバータで構成することとしてもよい。また、電源700を、直流系統から出力される直流電力を所定の電力に変換するDC/DCコンバータによって構成することとしてもよい。
電力変換装置800は、電源700と負荷900の間に接続された三相のインバータである。電力変換装置800は、電源700から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷900に交流電力を供給する。電力変換装置800は、図12に示すように、直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路801と、主変換回路801の各スイッチング素子を駆動する駆動信号を出力する駆動回路802と、駆動回路802を制御する制御信号を駆動回路802に出力する制御回路803とを備えている。
負荷900は、電力変換装置800から供給された交流電力によって駆動される三相の電動機である。なお、負荷900は特定の用途に限られるものではなく、各種電気機器に搭載された電動機である。負荷900は、例えば、ハイブリッド自動車、電気自動車、鉄道車両、エレベーター、もしくは、空調機器向けの電動機として用いられる。
以下、電力変換装置800の詳細を説明する。主変換回路801は、図示しないスイッチング素子と還流ダイオードを備えている。主変換回路801は、スイッチング素子がスイッチングすることによって、電源700から供給される直流電力を交流電力に変換し、負荷900に供給する。主変換回路801の具体的な回路構成は種々のものがあるが、本実施の形態にかかる主変換回路801は2レベルの三相フルブリッジ回路である。2レベルの三相フルブリッジ回路は、6つのスイッチング素子とそれぞれのスイッチング素子に逆並列された6つの還流ダイオードから構成することができる。主変換回路801には、上述した実施の形態1~6のいずれかにかかる半導体装置を適用する。主変換回路801の各スイッチング素子には、半導体チップ18を適用する。6つのスイッチング素子は2つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成する。各上下アームはフルブリッジ回路の各相(U相、V相、W相)を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路801の3つの出力端子は、負荷900に接続される。
駆動回路802は、主変換回路801のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路801のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、後述する制御回路803からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号であるオン信号となる。スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号であるオフ信号となる。
制御回路803は、負荷900に所望の電力が供給されるよう主変換回路801のスイッチング素子を制御する。具体的には、負荷900に供給すべき電力に基づいて主変換回路801の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間であるオン時間を算出する。例えば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するPWM制御によって主変換回路801を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号を、オフ状態となるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるよう、駆動回路802に制御指令である制御信号を出力する。駆動回路802は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号又はオフ信号を駆動信号として出力する。
本実施の形態に係る電力変換装置800では、主変換回路801として実施の形態1~6にかかる半導体装置を適用するため、信頼性を向上できる。
本実施の形態では、2レベルの三相インバータに実施の形態の1~6を適用する例を説明したが、本実施の形態はこれに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では、2レベルの電力変換装置としたが3レベルまたはマルチレベルの電力変換装置であっても構わない。また、単相負荷に電力を供給する場合には単相のインバータに実施の形態1~6を適用しても構わない。また、直流負荷等に電力を供給する場合にはDC/DCコンバータまたはAC/DCコンバータに実施の形態1~5を適用することも可能である。
また、実施の形態1~6を適用した電力変換装置800は、上述した負荷900が電動機の場合に限定されるものではなく、例えば、放電加工機、レーザー加工機、誘導加熱調理器または非接触器給電システムの電源装置として用いることもできる。さらに、電力変換装置800を、太陽光発電システムまたは蓄電システム等のパワーコンディショナーとして用いることも可能である。
なお、各実施の形態で説明した技術的特徴は適宜に組み合わせて用いてもよい。
100、200、500、600 半導体装置、800 電力変換装置、801 主変換回路、802 駆動回路、803 制御回路、18 半導体チップ、20 はんだ、22、322、422、522、622 第1リードフレーム、623 第2リードフレーム、24 接合部、26、226、326、426、626 第1スペーサ、326a、426a 本体部、326b、426b 凸部、627 第2スペーサ、28 ケース、29 封止樹脂、332、432 凹部、34 接着剤

Claims (11)

  1. 複数の半導体チップと、
    前記複数の半導体チップの上に設けられた第1リードフレームと、
    前記複数の半導体チップと前記第1リードフレームとの間にそれぞれ設けられ、前記複数の半導体チップと前記第1リードフレームとを接合する複数のはんだと、
    前記複数の半導体チップの間に設けられ、前記第1リードフレームを支持する絶縁性の第1スペーサと、
    前記第1スペーサと材質が異なり、前記複数の半導体チップを封止する封止樹脂と、
    を備え
    前記第1スペーサは、前記複数の半導体チップの間と、前記複数のはんだの間を埋めることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記第1リードフレームの前記複数の半導体チップ側の面には凹部が設けられ、前記第1スペーサは前記凹部に嵌め込まれることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  3. 前記第1スペーサは、
    前記凹部よりも幅が広く、前記第1リードフレームの前記半導体チップ側の面と接する本体部と、
    前記本体部から上方に突出し、前記凹部に嵌め込まれる凸部と、
    を有することを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  4. 前記凹部は、貫通孔であることを特徴とする請求項またはに記載の半導体装置。
  5. 前記第1リードフレームには、前記複数の半導体チップに向かって突出し、前記複数の半導体チップとそれぞれ接合される複数の接合部が設けられ、
    前記第1スペーサは、前記複数の接合部の間に嵌め込まれることを特徴とする請求項からの何れか1項に記載の半導体装置。
  6. 前記第1スペーサと前記第1リードフレームとは接合されていないことを特徴とする請求項からの何れか1項に記載の半導体装置。
  7. 前記半導体チップを囲むケースをさらに備え、
    前記第1リードフレームは、前記ケースに固定されたケース側部分と、前記半導体チップと接合されたチップ側部分と、を有し、
    前記ケース側部分と、前記チップ側部分とは互いに接合されていることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の半導体装置。
  8. 前記第1リードフレームの上方に設けられた第2リードフレームと、
    前記第1リードフレームの上に設けられ、前記第2リードフレームを支持する絶縁性の第2スペーサと、
    をさらに備えることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の半導体装置。
  9. 前記半導体チップはワイドバンドギャップ半導体によって形成されていることを特徴とする請求項1からの何れか1項に記載の半導体装置。
  10. 前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドであることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  11. 請求項1から1の何れか1項に記載の半導体装置を有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
    前記半導体装置を駆動する駆動信号を前記半導体装置に出力する駆動回路と、
    前記駆動回路を制御する制御信号を前記駆動回路に出力する制御回路と、
    を備えた電力変換装置。
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