JP6995997B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラム及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を再形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う技術が提供される。
図1は半導体デバイスの製造方法を実施するための基板処理装置(以下単に、基板処理装置10という)の上面断面図である。本実施形態にかかるクラスタ型の基板処理装置10の搬送装置は、真空側と大気側とに分かれている。また、基板処理装置10では、基板としてのウエハ200を搬送するキャリヤとして、FOUP(Front Opening Unified Pod:以下、ポッドという。)100が使用されている。
図1に示されているように、基板処理装置10は、真空状態などの大気圧未満の圧力(負圧)に耐え得る第1搬送室103を備えている。第1搬送室103の筐体101は平面視が例えば五角形であり、上下両端が閉塞した箱形状に形成されている。
予備室122,123の前側には、大気圧下の状態でウエハ200を搬送することができる第2搬送室121がゲートバルブ128、129を介して連結されている。第2搬送室121には、ウエハ200を移載する第2基板移載機124が設けられている。
図2は基板処理装置10が備える第1プロセスユニットとしての処理炉202aの概略構成図であって、図3は処理炉202aの縦断面図である。
処理炉202a内には、第1の処理室としての洗浄室30が形成されている。この洗浄室30には、ウエハ200を水平に支持する支持具34が備えられている。この支持具34は、モータ等からなる回転機構36に回転軸37を介して接続され、この回転機構36により、水平に支持された状態のウエハ200を回転させるように構成されている。
図4は基板処理装置10が備える第2プロセスユニットとしての処理炉202bの概略構成図であって、図5は処理炉202bの縦断面図である。
図6は基板処理装置10が備える第3プロセスユニットとしての処理炉202cの縦断面図であって、図7は処理炉202cの上面断面図である。処理炉202cは、第3の処理室としての処理室201cを備えている。本実施形態における処理炉202cは、上述した処理炉202bと処理室201内の構成が異なっている。処理炉202cにおいて、上述した処理炉202bと異なる部分のみ以下に説明し、同じ部分は説明を省略する。
本実施形態における処理炉202dは、上述した図4に示されている処理炉202bと同様の構成である。処理炉202dは、第4の処理室としての処理室201dを備えている。
図8に示されているように、制御部(制御手段)であるコントローラ121は、CPU(Central Processing Unit)121a,RAM(Random Access Memory)121b,記憶装置121c,I/Oポート121dを備えたコンピュータとして構成されている。RAM121b,記憶装置121c,I/Oポート121dは、内部バスを介して、CPU121aとデータ交換可能なように構成されている。コントローラ121には、例えばタッチパネル等として構成された入出力装置122が接続されている。
半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、シリコン(Si)層と、シリコン酸化(SiO2)層と、シリコン窒化(SiN)層を表面に有するウエハ200上のSiN層上に、SiN膜を形成する工程の一例について、図9~図12を用いて説明する。本工程では、処理炉202aにおいてウエハ200の表面から自然酸化膜を除去し、ウエハ200のSi層上に酸化膜を再形成する処理を行う。そして、処理炉202bにおいてウエハ200のSi層表面とSiO2層表面を改質する処理を行う。そして、処理炉202cにおいてウエハ200のSiN層上にSiN膜を選択成長させる処理を行う。そして、処理炉202dにおいてウエハ200のSi層表面とSiO2層表面に微形成されたSiN膜をエッチングする処理を行う。以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
少なくとも、第1の膜としてのSi膜と、前記第1の膜とは異なる第2の膜としてのSiN膜とが表面に露出したウエハ200に対して、第1の無機系材料としてのDHFを供給し、ウエハ200の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
ウエハ200に対して、酸化剤としてのSC1液を供給し、前記Si膜を酸化して表面に酸化膜を再形成する工程と、
ウエハ200に対して、第2の無機系材料としてのClF3ガスを供給し、前記Si膜の表面を改質する工程と、
ウエハ200に対して、堆積ガスとしてのSiCl4ガスとNH3ガスを供給し、前記SiN膜の表面に薄膜としてのSiN膜を選択成長させる工程と、
を順に行う。
先ず、第1プロセスユニットとしての処理炉202a内に、Si層とSiO2層とSiN層を表面に有するウエハ200を搬入し、自然酸化膜を除去する処理と、Si層表面に酸化膜を再形成する処理を行う。
ゲートバルブ70aにより基板搬入搬出口33を開き、パターンが形成されたSi層とSiO2層とSiN層を表面に有するウエハ200を第1基板移載機112により洗浄室30内に搬入する。
まず、処理炉202aにおいて、ウエハ200表面から自然酸化膜を除去する処理を行う。
ウエハ200の回転を維持しつつ、切替部15aをDHF供給部14側に切替え、配管16aを介してノズル40からDHFを供給し、ウエハ200の表面を洗浄する。
そして、ウエハ200の回転を維持しつつ、ノズル40からのDHFの供給を停止し、切替部15cをDIW供給部18側に切替え、配管21を介してノズル42からリンス液としてのDIWをウエハ200の中心に向けて供給し、ウエハ表面に残留するDHFを洗い流し、リンスを行う。
そして、洗浄室30に、乾燥用ガス供給管56を介して乾燥用ガスとしてのN2を供給しつつ排気管54より排気して洗浄室30をN2雰囲気とし、このN2雰囲気中でウエハ200を乾燥させる。なお、給水部50からカバー38の内面への水の供給は、安全性を高めるため、ステップS10のDHF洗浄または、ステップS11のDIWリンス、ステップS12の乾燥にかけて連続的に行うのが好ましい。即ち、少なくともウエハ200からDHFやDIW等がカバー38へ飛ぶ間はカバー38の内面に純水を供給するようにするのがよい。なお、後述する酸化膜再形成工程においてもカバー38の内面に純水を供給するようにするのがよい。
次に、ウエハ200上のSi層を酸化させて表面に酸化膜を再形成する処理を行う。
ウエハ200の回転を維持しつつ、切替部15bをSC1液供給部17側に切替え、配管16bを介してノズル40からSC1液を供給し、ウエハ200の表面を洗浄する。SC1液が供給されることにより、図10(B)に示されているように、化学的作用によって優先的にSi層表面が酸化され、1nm程度の薄い酸化膜(SiO2膜)が形成される。そして、Si層表面上のSiO2膜表面と、SiO2層表面には、OH終端が形成される。このとき、SiN層表面は酸化されにくいのでH分子が残る。また、SC1液に含まれるそれぞれの濃度や供給時間を調整することにより、Si層表面上に形成される酸化膜の膜厚を制御することができる。この際、SiN層表面はほとんど酸化されずに酸化膜が形成されない。化学的作用によってSi層表面が薄い酸化膜で被覆されることにより、その後の工程で行うF含有ガスによる改質処理によって、Si層表面が直接ダメージを受けることを防止することができる。
そして、ウエハ200の回転を維持しつつ、ノズル40からのSC1液の供給を停止し、切替部15cをDIW供給部18側に切替え、配管21を介してノズル42からリンス液としてのDIWをウエハ200の中心に向けて供給し、ウエハ表面に残留するSC1液を洗い流し、リンスを行う。
そして、洗浄室30に、乾燥用ガス供給管56を介して乾燥用ガスとしてのN2を供給しつつ排気管54より排気して洗浄室30をN2雰囲気とし、このN2雰囲気中でウエハ200を乾燥させる。
次に、第2プロセスユニットとしての処理炉202b内に、ウエハ200を搬入し、上述の洗浄処理において形成されたSi層上のSiO2膜表面及びSiO2層表面に対して、原料ガスの吸着を抑制する吸着制御剤としての改質ガスを供給する改質処理を行う。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図4に示されているように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201b内に搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220を介して反応管203の下端開口を閉塞した状態となる。
処理室201b内が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201b内の圧力は、圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づき、APCバルブ243がフィードバック制御される(圧力調整)。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201b内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201b内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電量がフィードバック制御される(温度調整)。ヒータ207による処理室201b内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
(ClF3ガス供給:ステップS16)
バルブ314を開き、ガス供給管310内に改質ガスであるClF3ガスを流す。ClF3ガスは、MFC312により流量調整され、ノズル410のガス供給孔410aから処理室201b内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してClF3ガスが供給される。これと並行してバルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管510内を流れたN2ガスは、MFC512により流量調整され、ClF3ガスと一緒に処理室201b内に供給され、排気管231から排気される。
(残留ガス除去:ステップS17)
次に、ClF3ガスの供給が停止されると、処理室201b内のガスを排気するパージ処理が行われる。このとき排気管231のAPCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201b内を真空排気し、処理室201b内に残留する未反応のClF3ガスもしくは酸化膜上にF分子が吸着した後のClF3ガス、ClFxガス、HFガス等を処理室201b内から排除する。このときバルブ514は開いたままとして、N2ガスの処理室201b内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201b内に残留する未反応のClF3ガスもしくは酸化膜上にF分子が吸着した後のClF3ガスを処理室201b内から排除する効果を高めることができる。
上記したステップS16およびステップS17を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(m回))行うことにより、ウエハ200のSi層表面に形成された酸化膜上にはF分子が吸着される。また、ウエハ200のSiN層表面にはF分子は吸着されない。
ガス供給管510からN2ガスを処理室201b内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201b内が不活性ガスでパージされ、処理室201b内に残留するガスや副生成物が処理室201b内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201b内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201b内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、反応管203の下端が開口される。そして、改質処理済のウエハ200がボート217に支持された状態で反応管203の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。その後、改質処理済のウエハ200は、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
次に、第3プロセスユニットとしての処理炉202c内に、ウエハ200を搬入し、SiN層の表面に薄膜としての窒化膜を選択成長させる処理を行う。
(原料ガス供給:ステップS19)
バルブ324を開き、ガス供給管320内に原料ガスであるSiCl4ガスを流す。SiCl4ガスは、MFC322により流量調整され、ノズル420のガス供給孔420aから処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してSiCl4ガスが供給される。これと並行してバルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管520内を流れたN2ガスは、MFC522により流量調整され、SiCl4ガスと一緒に処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル430内へのSiCl4ガスの侵入を防止するために、バルブ534を開き、ガス供給管530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管330、ノズル430を介して処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。
(残留ガス除去:ステップS20)
SiN層上にSi含有層を形成した後、バルブ324を閉じて、SiCl4ガスの供給を停止する。
そして、処理室201c内に残留する未反応もしくはSi含有層の形成に寄与した後のSiCl4ガスや反応副生成物を処理室201c内から排除する。
(反応ガス供給:ステップS21)
処理室201c内の残留ガスを除去した後、バルブ334を開き、ガス供給管330内に、反応ガスとしてNH3ガスを流す。NH3ガスは、MFC332により流量調整され、ノズル430のガス供給孔430aから処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。このときウエハ200に対して、NH3ガスが供給される。これと並行してバルブ534を開き、ガス供給管530内にN2ガスを流す。ガス供給管530内を流れたN2ガスは、MFC532により流量調整される。N2ガスはNH3ガスと一緒に処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル420内へのNH3ガスの侵入を防止するために、バルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管320、ノズル420を介して処理室201c内に供給され、排気管231から排気される。
(残留ガス除去:ステップS22)
SiN層上にSiN膜を形成した後、バルブ334を閉じて、NH3ガスの供給を停止する。
そして、上述した第1の工程と同様の処理手順により、処理室201c内に残留する未反応もしくはSiN膜の形成に寄与した後のNH3ガスや反応副生成物を処理室201c内から排除する。
そして、原料ガスとしてのSiCl4ガスと反応ガスとしてのNH3ガスとを互いに混合しないよう交互に供給し、上述のステップS19~ステップS22を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(n回))行うことにより、ウエハ200のSiN層上に、所定の厚さ(例えば0.1~10nm)のSiN膜を形成する。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。
以上、上述のステップ16~ステップS23を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(o回))行うことにより、ウエハ200のSiN層上に、所定の厚さ(例えば1~100nm)のSiN膜(選択SiN膜)を形成する。このとき図11(C)に示されているように、SiO2層上やSi層上のSiO2膜上には、不完全性によって島状にSiN膜が微形成されてしまう。
次に、第4プロセスユニットとしての処理炉202d内に、図12(A)に示されているように、SiN層以外の表面に島状にSiN膜が微形成されたウエハ200を搬入し、SiN層以外の表面に微形成されたSiN膜をエッチングする処理を行う。
(エッチングガス供給:ステップS25)
バルブ344を開き、ガス供給管340内にエッチングガスであるClF3ガスを流す。ClF3ガスは、MFC342により流量調整され、ノズル440のガス供給孔440aから処理室201d内に供給され、排気管231から排気される。このとき図12(B)に示されているように、ウエハ200に対してClF3ガスが供給される。これと並行してバルブ544を開き、ガス供給管540内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管540内を流れたN2ガスは、MFC542により流量調整され、ClF3ガスと一緒に処理室201d内に供給され、排気管231から排気される。
(残留ガス除去:ステップS26)
次に、ClF3ガスの供給が停止されると、処理室201d内のガスを排気するパージ処理が行われる。このとき排気管231のAPCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201d内を真空排気し、処理室201d内に残留する未反応のClF3ガスもしくはSiN層以外の表面に微形成されたSiN膜をエッチングした後のClF3ガスを処理室201d内から排除する。このときバルブ544は開いたままとして、N2ガスの処理室201d内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、図12(C)に示されているように、処理室201d内に残留する未反応のClF3ガスもしくはSiN層以外の表面に微形成されたSiN膜をエッチングした後のClF3ガス、エッチングして発生した副生成物を処理室201d内から排除する効果を高めることができる。
上述のステップS25とステップS26を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(p回))行うことにより、ウエハ200のSiN層以外の表面に微形成されたSiN膜はライトエッチングされる。
上述のステップS16~ステップS27を順に行うサイクルを1回以上(所定回数(q回))行うことにより、図12(D)に示されているように、Si層とSiO2層とSiN層を表面に有するウエハ200のSi層表面の損傷を抑制しつつ、SiN層表面上にSiN膜が選択成長される。
図13(A)~図13(C)は、上記で説明した基板処理装置10を用いて、Si層、SiO2層、SiN層が表面に形成されたウエハに対して、上記で説明した基板処理工程を行ってSiN層上にSiN膜を選択成長させたウエハの縦断面図である。本実験例においては、上記基板処理工程のステップS13のAPM洗浄を70℃で行った。
図14(A)~図14(C)は、上記で説明した基板処理装置10を用いて、Si層、SiO2層、SiN層が表面に形成されたウエハに対して、上記で説明した基板処理工程のうちステップS13~S15のAPM洗浄を行わないでSiN層上にSiN膜を選択成長させたウエハの縦断面図である。つまり、ステップS10~S12のDHF洗浄を行った後、化学的作用によってSi層表面上に酸化膜を再形成しないで、ステップS16~S18の改質処理を行って、SiN層上にSiN膜を選択成長させたウエハの縦断面図である。
図14(D)~図14(F)は、上記で説明した基板処理装置10を用いて、Si層、SiO2層、SiN層が表面に形成されたウエハに対して、上記で説明した基板処理工程のうちステップS10~S12のDHF洗浄を行わないでSiN層上にSiN膜を選択成長させたウエハの縦断面図である。つまり、ウエハ上に形成された自然酸化膜を除去しないで、ステップS13~S15のAPM洗浄を行って、ステップS16~S18の改質処理を行い、SiN層上にSiN膜を選択成長させたウエハの縦断面図である。
次に、上記で説明した基板処理装置10を用いて、上記で説明した基板処理工程において、比較例1として成膜直後のSiN層上に上述したDHF洗浄とAPM洗浄を行わないでSiN膜を選択成長させた場合と、比較例2として成膜してから時間が経過したSiN層上にDHF洗浄とAPM洗浄を行わないでSiN膜を選択成長させた場合と、比較例3として成膜してから時間が経過したSiN層上にDHF洗浄のみを行って(APM洗浄を行わないで)SiN膜を選択成長させた場合と、本実施例としてSiN層上に上述の基板処理工程を行って(DHF洗浄とAPM洗浄を行って)SiN膜を選択成長させた場合と、で形成されるSiN膜の膜厚にどのような差があるかについて図15(A)に基づいて説明する。
次に、上記で説明した基板処理装置10を用いて、上記で説明した基板処理工程において、比較例1としてSi層上に上述したDHF洗浄とAPM洗浄を行わないでSiN膜を選択成長させた場合と、比較例2としてSi層上にDHF洗浄のみを行って(APM洗浄を行わないで)SiN膜を選択成長させた場合と、本実施例としてSi層上に上述の基板処理工程を行って(DHF洗浄とAPM洗浄を行って)SiN膜を選択成長させた場合と、で形成されるSiN膜の膜厚にどのような差があるかについて図15(B)に基づいて説明する。
上述の実施形態では、第1のガス供給系と第2のガス供給系を備え、洗浄処理を行う処理炉202aと、第3のガス供給系を備え、改質処理を行う処理炉202bと、第4のガス供給系を備え、成膜処理を行う処理炉202cと、第5のガス供給系を備え、エッチング処理を行う処理炉202dとを備えたクラスタ型の基板処理装置10を用いて、それぞれの処理を別の処理炉で行う構成について説明したが、本発明はこのような場合に限定されるものではない。洗浄処理を行う処理炉202aを備えた基板処理装置と、図16及び図17に示されているような第3のガス供給系~第5のガス供給系を同一の処理炉202e(処理室201e)内に備えた基板処理装置300を用いて、改質処理と成膜処理とエッチング処理を同一処理炉202a(処理室201e)内で行う構成においても同様に適用可能である。すなわち、インサイチュで基板処理を行う構成においても同様に適用可能である。
121 コントローラ
200 ウエハ(基板)
202a,202b,202c,202d,202e 処理炉
Claims (27)
- 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、アンモニアと過酸化水素水の混合溶液を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う半導体装置の製造方法。 - 前記第1の無機系材料は、ハロゲン元素を含む第1のハロゲン系材料である請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1のハロゲン系材料はフッ化水素である請求項2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の無機系材料は第2のハロゲン系材料である請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2のハロゲン系材料はフッ素含有ガスである請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記堆積ガスは、原料ガスと、前記原料ガスと反応する反応ガスを含み、
前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程では、前記原料ガスと前記反応ガスとを互いに混合しないよう交互に供給する請求項1から5のいずれか記載の半導体装置の製造方法。 - 前記原料ガスは第3のハロゲン系材料である請求項6記載の半導体装置の製造方法。
- 前記原料ガスは塩素含有ガスである請求項6記載の半導体装置の製造方法。
- 少なくとも、シリコン膜である第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う半導体装置の製造方法。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なり、シリコン窒化膜である第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う半導体装置の製造方法。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる工程と、
を順に行う半導体装置の製造方法。 - 前記酸化剤は、アンモニア、過酸化水素水、過酸化水素ガス、酸素の活性種と水素の活性種からなる混合ガス、酸素ガスのうち少なくとも1つから構成される請求項11記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の膜の表面に前記窒化膜を選択成長させる工程の後、
前記基板に対して、エッチングガスを供給し、前記第2の膜の表面以外の基板の表面に微形成された窒化膜をエッチングする工程を行う請求項11記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1の膜の表面を改質する工程と、前記第2の膜の表面に前記窒化膜を選択成長させる工程と、前記第2の膜の表面以外の基板の表面に微形成された窒化膜をエッチングする工程と、を順に複数回繰り返し行う請求項13記載の半導体装置の製造方法。
- 基板を収容する第1の処理室と、
前記第1の処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記第1の処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
基板を収容する第2の処理室と、
前記第2の処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
基板を収容する第3の処理室と、
前記第3の処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
基板を前記第1の処理室、前記第2の処理室、前記第3の処理室に搬入出させる搬送系と、
少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板を、前記第1の処理室に搬入する処理と、前記第1の処理室に前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記第1の処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記基板を前記第1の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第2の処理室に搬入する処理と、前記第2の処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記基板を前記第2の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第3の処理室に搬入する処理と、前記第3の処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系、前記搬送系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を収容する第1の処理室と、
前記第1の処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記第1の処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
基板を収容する第2の処理室と、
前記第2の処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
基板を収容する第3の処理室と、
前記第3の処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
基板を前記第1の処理室、前記第2の処理室、前記第3の処理室に搬入出させる搬送系と、
少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なり、シリコン窒化膜である第2の膜とが表面に露出した基板を、前記第1の処理室に搬入する処理と、前記第1の処理室に前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記第1の処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記基板を前記第1の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第2の処理室に搬入する処理と、前記第2の処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記基板を前記第2の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第3の処理室に搬入する処理と、前記第3の処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系、前記搬送系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を収容する第1の処理室と、
前記第1の処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記第1の処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
基板を収容する第2の処理室と、
前記第2の処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
基板を収容する第3の処理室と、
前記第3の処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
基板を前記第1の処理室、前記第2の処理室、前記第3の処理室に搬入出させる搬送系と、
少なくとも、シリコン膜である第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板を、前記第1の処理室に搬入する処理と、前記第1の処理室に前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記第1の処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記基板を前記第1の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第2の処理室に搬入する処理と、前記第2の処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記基板を前記第2の処理室から搬出する処理と、前記基板を前記第3の処理室に搬入する処理と、前記第3の処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系、前記搬送系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
前記処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
前記処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板を収容した前記処理室に、前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
前記処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
前記処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なり、シリコン窒化膜である第2の膜とが表面に露出した基板を収容した前記処理室に、前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の無機系材料を供給する第1のガス供給系と、
前記処理室に、酸化剤を供給する第2のガス供給系と、
前記処理室に、第2の無機系材料を供給する第3のガス供給系と、
前記処理室に、堆積ガスを供給する第4のガス供給系と、
少なくとも、シリコン膜である第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板を収容した前記処理室に、前記第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する処理と、前記処理室に、前記酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する処理と、前記処理室に、前記第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する処理と、前記処理室に、前記堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる処理と、を行うよう、前記第1のガス供給系、前記第2のガス供給系、前記第3のガス供給系、前記第4のガス供給系を制御することが可能なように構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の第1の処理室に、少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板を搬入する手順と、
前記基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する手順と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する手順と、
前記基板を前記第1の処理室から搬出する手順と、
前記基板を前記基板処理装置の第2の処理室に搬入する手順と、
前記基板に、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する手順と、
前記基板を前記第2の処理室から搬出する手順と、
前記基板を前記基板処理装置の第3の処理室に搬入する手順と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する手順と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する手順と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する手順と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる手順と、
をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なり、シリコン窒化膜である第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する手順と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する手順と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する手順と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる手順と、
をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - 少なくとも、シリコン膜である第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する手順と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する手順と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する手順と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる手順と、
をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - 少なくとも、シリコン膜である第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う基板処理方法。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なり、シリコン窒化膜である第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に薄膜を選択成長させる工程と、
を順に行う基板処理方法。 - 少なくとも、第1の膜と、前記第1の膜とは組成が異なる第2の膜とが表面に露出した基板に対して、第1の無機系材料を供給し、前記基板の表面から自然酸化膜を除去する工程と、
前記基板に対して、酸化剤を供給し、前記第1の膜を酸化して表面に酸化膜を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の無機系材料を供給し、前記第1の膜の表面を改質する工程と、
前記基板に対して、堆積ガスを供給し、前記第2の膜の表面に窒化膜を選択成長させる工程と、
を順に行う基板処理方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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