JP6988371B2 - 画像形成装置、露光位置の補正方法、プログラム及びテストチャート形成媒体の製造方法 - Google Patents
画像形成装置、露光位置の補正方法、プログラム及びテストチャート形成媒体の製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、画像形成装置、露光位置の補正方法、プログラム及びテストチャート形成媒体の製造方法に関する。
従来、帯電した感光体の表面を露光して静電潜像を形成し、当該静電潜像を現像して得られたトナー像を記録媒体に転写して画像を形成する電子写真方式の画像形成装置がある。感光体の表面を露光する方法としては、感光体を回転させて感光体の表面を副走査方向に移動させるとともに、画像データに基づいて変調された光線を回転多面鏡に照射して、回転多面鏡の複数の鏡面の各々で反射した光線を順に感光体の表面上で主走査方向に走査させる方法が広く用いられている。
回転多面鏡の鏡面に凹凸があったり、鏡面の回転速度にむらがあったりすると、鏡面を反射した光線による露光位置にずれが生じる。このような鏡面の状態に応じた露光位置のずれは、回転多面鏡の回転周期で繰り返し発生するため、形成画像において周期的なドットの位置ずれとして現れる。この周期的なドットの位置ずれは、スクリーン処理のパターンなどと干渉することにより、筋むらといった画質不良として視認される。
これに対し、特許文献１には、回転多面鏡の各鏡面による走査の開始タイミング及び終了タイミングから走査時間を測定し、得られた各鏡面での走査時間に応じて光線の書込クロックを調整することで主走査方向の露光位置のずれを補正する技術が記載されている。
また、回転多面鏡の製造時や設置時に、回転多面鏡の鏡面形状や回転速度を高精度に測定して露光位置のずれを予め補正する技術がある。
また、回転多面鏡の製造時や設置時に、回転多面鏡の鏡面形状や回転速度を高精度に測定して露光位置のずれを予め補正する技術がある。
しかしながら、特許文献１に記載された技術では、主走査の範囲内（画像形成領域内）における非線形な露光位置のずれがあった場合に当該ずれを正確に補正することができない。また、鏡面の面倒れ等による露光位置の副走査方向へのずれがあった場合に当該ずれを検出して補正することができない。このように、特許文献１の技術では、画像形成領域内の各位置における露光位置の任意の方向のずれを正確に補正することができないという課題がある。
また、回転多面鏡の鏡面の凹凸は、継続的に遠心力を受けること等により継時的に変化し、また鏡面の回転速度のむらもモーターの特性変化等により経時的に変化し得る。このため、製造時や設置時に露光位置のずれを補正したのでは、鏡面の凹凸や回転速度の経時変化により生じた後発的な露光位置のずれを補正することができないという課題がある。
このように、上記従来の技術では、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正することができないという課題がある。
この発明の目的は、後発的に生じた露光位置のずれをより正確に補正することができる画像形成装置、露光位置の補正方法、プログラム及びテストチャート形成媒体の製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項１に記載の画像形成装置の発明は、
感光体と、
光源と、
所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、
画像データに基づいて変調された前記光線を書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段と、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段と、
前記書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段と、
を備え、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
感光体と、
光源と、
所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、
画像データに基づいて変調された前記光線を書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段と、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段と、
前記書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段と、
を備え、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の画像形成装置において、
前記補正手段は、前記主走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
前記補正手段は、前記主走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の画像形成装置において、
前記補正手段は、検出された前記ずれの量に応じて前記クロック特性変更手段により前記クロック特性を調整させることで前記ずれを補正することを特徴としている。
前記補正手段は、検出された前記ずれの量に応じて前記クロック特性変更手段により前記クロック特性を調整させることで前記ずれを補正することを特徴としている。
請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか一項に記載の画像形成装置において、
前記補正手段は、前記副走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
前記補正手段は、前記副走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
請求項５に記載の発明は、請求項１から４のいずれか一項に記載の画像形成装置において、
前記検出パターンは、前記複数の鏡面の各々による走査でそれぞれ形成された個別パターンを有し、
前記個別パターンは、前記副走査方向について互いに分離されていることを特徴としている。
前記検出パターンは、前記複数の鏡面の各々による走査でそれぞれ形成された個別パターンを有し、
前記個別パターンは、前記副走査方向について互いに分離されていることを特徴としている。
請求項６に記載の発明は、請求項１から５のいずれか一項に記載の画像形成装置において、
記録媒体の表面を読み取る読取手段を備え、
前記補正手段は、前記テストチャートが形成された記録媒体の前記読取手段による読取結果に基づいて前記ずれを補正することを特徴としている。
記録媒体の表面を読み取る読取手段を備え、
前記補正手段は、前記テストチャートが形成された記録媒体の前記読取手段による読取結果に基づいて前記ずれを補正することを特徴としている。
また、上記目的を達成するため、請求項７に記載の露光位置の補正方法の発明は、
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置における露光位置の補正方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正工程では、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置における露光位置の補正方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正工程では、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
また、上記目的を達成するため、請求項８に記載のプログラムの発明は、
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置のコンピューターを、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段、
として機能させ、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置のコンピューターを、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段、
として機能させ、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴としている。
また、上記目的を達成するため、請求項９に記載のテストチャート形成媒体の製造方法の発明は、
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置により、テストチャートが形成された記録媒体であるテストチャート形成媒体を製造する方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
当該製造方法は、
前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られた像を記録媒体に転写して前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンを含むテストチャートを形成する画像形成工程を含むことを特徴としている。
感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置により、テストチャートが形成された記録媒体であるテストチャート形成媒体を製造する方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
当該製造方法は、
前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られた像を記録媒体に転写して前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンを含むテストチャートを形成する画像形成工程を含むことを特徴としている。
本発明に従うと、後発的に生じた露光位置のずれをより正確に補正することができるという効果がある。
以下、本発明の画像形成装置、露光位置の補正方法、プログラム及びテストチャート形成媒体の製造方法に係る実施の形態を図面に基づいて説明する。
＜画像形成装置の構成＞
図１は、本発明の実施形態である画像形成装置１の概略構成を示す模式図である。
図２は、画像形成装置１の主要な機能構成を示すブロック図である。
画像形成装置１は、記録媒体供給部２と、記録媒体排出部３と、制御部１０（光源制御手段、露光制御手段、補正手段、コンピューター）と、記憶部２１と、操作部２２と、表示部２３と、通信部２４と、搬送部２５と、スキャナー３０と、画像形成部４０と、画像読取部５０（読取手段）と、バス６０などを備える。これらの各部は、バス６０を介して接続されている。
画像形成装置１は、記録媒体供給部２に格納された用紙などの記録媒体を搬送部２５の搬送ローラー２５１により搬送し、当該搬送されている記録媒体上に画像形成部４０により電子写真方式で画像を形成して記録媒体排出部３に排出する。
図１は、本発明の実施形態である画像形成装置１の概略構成を示す模式図である。
図２は、画像形成装置１の主要な機能構成を示すブロック図である。
画像形成装置１は、記録媒体供給部２と、記録媒体排出部３と、制御部１０（光源制御手段、露光制御手段、補正手段、コンピューター）と、記憶部２１と、操作部２２と、表示部２３と、通信部２４と、搬送部２５と、スキャナー３０と、画像形成部４０と、画像読取部５０（読取手段）と、バス６０などを備える。これらの各部は、バス６０を介して接続されている。
画像形成装置１は、記録媒体供給部２に格納された用紙などの記録媒体を搬送部２５の搬送ローラー２５１により搬送し、当該搬送されている記録媒体上に画像形成部４０により電子写真方式で画像を形成して記録媒体排出部３に排出する。
制御部１０は、ＣＰＵ１１（Central Processing Unit）、ＲＡＭ１２（Random Access Memory）及びＲＯＭ１３（Read Only Memory）を有する。
ＣＰＵ１１は、ＲＯＭ１３に記憶されているプログラム１３１を読み出して実行し、各種演算処理を行う。
ＲＡＭ１２は、ＣＰＵ１１に作業用のメモリー空間を提供し、一時データを記憶する。
ＲＯＭ１３は、ＣＰＵ１１により実行されるプログラム１３１や設定データ等を格納する。なお、ＲＯＭ１３に代えてＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read Only Memory）やフラッシュメモリー等の書き換え可能な不揮発性メモリーが用いられてもよい。
これらのＣＰＵ１１、ＲＡＭ１２及びＲＯＭ１３を有する制御部１０は、プログラム１３１に従って画像形成装置１の各部を統括制御する。例えば、制御部１０は、搬送部２５に記録媒体を搬送させ、記憶部２１に記憶された画像データに基づいて画像形成部４０により記録媒体に画像を形成させる。また、制御部１０は、後述する方法により、所定のテストチャートの読取結果に基づいて露光位置の補正処理を行う。
記憶部２１は、ＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）などにより構成され、スキャナー３０により取得された画像データや、通信部２４を介して外部から入力された画像データなどが記憶される。なお、これらのデータや情報はＲＡＭ１２に記憶されてもよい。
操作部２２は、操作キーや表示部２３の画面に重ねられて配置されたタッチパネルなどの入力デバイスを備え、これらの入力デバイスに対する入力操作を操作信号に変換して制御部１０に出力する。
表示部２３は、ＬＣＤ（Liquid crystal display）などの表示装置を備え、制御部１０による制御下で、画像形成装置１の状態や、タッチパネルへの入力操作の対象となる操作ボタンを含む操作画面などを表示する。
通信部２４は、制御部１０による制御下で、ネットワーク上のコンピューターや他の画像形成装置と通信を行って画像データや印刷ジョブデータなどを送受信する。
搬送部２５は、記録媒体を挟持した状態で回転することで記録媒体を移動させる搬送ローラー２５１を複数備え、制御部１０による制御下で搬送ローラー２５１を回転駆動させることで記録媒体を所定の搬送経路に沿って搬送する。
スキャナー３０は、制御部１０による制御下で、ユーザーにより所定の記録媒体載置台に載置された記録媒体の表面を読み取って画像データを生成し、生成された画像データを記憶部２１に記憶させる。
画像形成部４０は、制御部１０による制御下で、記憶部２１に記憶された画像データに基づいて記録媒体に画像を形成する。画像形成部４０は、図示しない帯電ローラーにより表面が帯電されるドラム状の感光体４３（像担持体）と、帯電された感光体４３の表面にレーザービーム（光線）を射出して露光することにより当該表面に静電潜像を形成する光源４１と、トナーを含む現像剤を用いて静電潜像を現像し、感光体４３の表面にトナー像を形成する現像部４６と、形成されたトナー像が一次転写される中間転写ベルト４７と、中間転写ベルト４７から記録媒体にトナー像を二次転写する転写部４８と、トナー像が転写された記録媒体を加熱及び加圧して記録媒体にトナー像を定着させる画像定着部４９などを備える。上記のうち、光源４１、感光体４３及び現像部４６を含む作像ユニットは、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）及びＫ（ブラック）の各色に対応して４つ設けられ、中間転写ベルト４７に沿ってＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの順に配列されている。
画像読取部５０は、制御部１０による制御下で、画像形成部４０により画像が形成された記録媒体の表面を読み取って画像データを生成し、生成された画像データを記憶部２１に記憶させる。画像読取部５０は、記録媒体の搬送方向について画像形成部４０の下流側に設けられ、記録媒体が記録媒体排出部３に排出される前に（すなわち、インラインで）記録媒体の表面を読み取る。画像読取部５０は、例えば記録媒体の搬送方向と直交する幅方向についての記録媒体の幅に亘る撮像が可能なラインセンサーとすることができる。
＜画像形成部の構成及び動作＞
次に、画像形成部４０の詳細な構成及び動作について説明する。
図３は、画像形成部４０のうち静電潜像の形成に係る構成要素を説明する模式図である。
画像形成部４０は、レーザービームの光源４１、スリット４５１、コリメーターレンズ４５２、ポリゴンミラー４２（回転多面鏡）、ｆθレンズ４５３、シリンドリカルレンズ４５４、感光体４３、ミラー４５５及び同期センサー４４を備えている。
次に、画像形成部４０の詳細な構成及び動作について説明する。
図３は、画像形成部４０のうち静電潜像の形成に係る構成要素を説明する模式図である。
画像形成部４０は、レーザービームの光源４１、スリット４５１、コリメーターレンズ４５２、ポリゴンミラー４２（回転多面鏡）、ｆθレンズ４５３、シリンドリカルレンズ４５４、感光体４３、ミラー４５５及び同期センサー４４を備えている。
光源４１は、複数の発光素子を備えたマルチビーム方式の光源であり、複数の発光素子の各々からレーザービームを射出することで、複数の（本実施形態では、４つの）レーザービームを並行して照射することができる。光源４１としては、半導体レーザーアレイ等を用いることができる。
スリット４５１は、光源４１から照射された各レーザービームを所定のスポット径に整形する。
コリメーターレンズ４５２は、スリット４５１を通過したレーザービームを平行光に変換する。
スリット４５１は、光源４１から照射された各レーザービームを所定のスポット径に整形する。
コリメーターレンズ４５２は、スリット４５１を通過したレーザービームを平行光に変換する。
ポリゴンミラー４２は、正多角形柱体（本実施形態では、正六角柱体）の回転体の外周面に複数の（本実施形態では、６つの）ミラー状のポリゴン面４２ａ（鏡面）を備え、各ポリゴン面４２ａに平行な回転軸（正多角形柱体の回転対称軸）を中心に回転する。ポリゴンミラー４２は、平行光に変換されたレーザービームを各ポリゴン面４２ａで反射して感光体４３へと導く。レーザービームは、ポリゴンミラー４２の回転によって偏向され、感光体４３の軸方向に沿って感光体４３上を走査する。このレーザービームが走査する方向が主走査方向であり、感光体４３上で主走査方向と交差する（本実施形態では、直交する）方向が副走査方向である。このように、ポリゴンミラー４２は、回転している外周面にレーザービームを照射することにより、複数のポリゴン面４２ａの各々で反射したレーザービームを順に感光体４３の表面上で主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられている。また、感光体４３を回転させて感光体４３の表面を副走査方向に移動させながら上記の逐次主走査を行うことで、帯電した感光体４３の表面の二次元露光が行われる。以下では、ポリゴンミラー４２の６つのポリゴン面４２ａをそれぞれ第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面と記す。
ｆθレンズ４５３は、ポリゴンミラー４２と感光体４３との間の光路上に配置され、感光体４３の表面を走査するレーザービームの走査速度を等速化する。
シリンドリカルレンズ４５４は、ｆθレンズ４５３を通過したレーザービームを感光体４３上に結像する。
シリンドリカルレンズ４５４は、ｆθレンズ４５３を通過したレーザービームを感光体４３上に結像する。
ミラー４５５は、感光体４３の表面を走査する直前のレーザービームを反射して同期センサー４４に導く。
同期センサー４４は、レーザービームを検出すると、検出信号を制御部１０に出力する。制御部１０は、検出信号を受信すると、各ポリゴン面４２ａによる走査の開始タイミングの基準となる同期信号を生成する。
同期センサー４４は、レーザービームを検出すると、検出信号を制御部１０に出力する。制御部１０は、検出信号を受信すると、各ポリゴン面４２ａによる走査の開始タイミングの基準となる同期信号を生成する。
図４は、画像形成部４０のうち静電潜像の形成に係る部分の主要な機能構成を示す機能ブロック図である。
画像形成部４０は、光源４１による発光動作を制御するための書込クロック生成部４１１（クロック特性変更手段）、画像処理部４１２及び光源駆動制御部４１３と、ポリゴンミラー４２の回転動作を制御するポリゴンミラー駆動制御部４２１と、感光体４３の回転動作を制御する感光体駆動制御部４３１とを備えている。
画像形成部４０は、光源４１による発光動作を制御するための書込クロック生成部４１１（クロック特性変更手段）、画像処理部４１２及び光源駆動制御部４１３と、ポリゴンミラー４２の回転動作を制御するポリゴンミラー駆動制御部４２１と、感光体４３の回転動作を制御する感光体駆動制御部４３１とを備えている。
書込クロック生成部４１１は、レーザービームの走査に用いられる書き込み用の画素クロック（以下では、書込クロックＰＣＬＫと記す）を生成して画像処理部４１２及び光源駆動制御部４１３に出力する。書込クロック生成部４１１は、ポリゴンミラー４２のポリゴン面４２ａごとに、当該ポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックＰＣＬＫのクロック特性を調整して出力することができる。ここで、クロック特性は、書込クロックＰＣＬＫの周波数及び位相の少なくとも一部を含む。
図５は、書込クロック生成部４１１の構成を示すブロック図である。
書込クロック生成部４１１は、基準クロック生成部４１１１と、６つのＰＬＬ（Phase Locked Loop）４１１２ａ〜４１１２ｆ（以下、互いに区別しない場合にはＰＬＬ４１１２と記す）と、セレクター４１１３とを備える。
書込クロック生成部４１１は、基準クロック生成部４１１１と、６つのＰＬＬ（Phase Locked Loop）４１１２ａ〜４１１２ｆ（以下、互いに区別しない場合にはＰＬＬ４１１２と記す）と、セレクター４１１３とを備える。
６つのＰＬＬ４１１２ａ〜４１１２ｆは、それぞれポリゴンミラー４２の第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面に対応している。各ＰＬＬ４１１２には、対応するポリゴン面４２ａの状態（表面の凹凸形状や回転速度）に応じて設定された補正値Ｄｍと、基準クロック生成部４１１１により生成された基準クロックＣＬＫとが入力される。ＰＬＬ４１１２は、補正値Ｄｍに応じて基準クロックＣＬＫの周波数を調整し、図示しない位相同期回路を介して書込クロックＰＣＬＫとして出力する。
詳しくは、ＰＬＬ４１１２は、基準クロックＣＬＫの周波数を１／Ｍに分周して位相比較器に入力する１／Ｍ分周器と、ＰＬＬ４１１２の出力（後述のＶＣＯの出力）である書込クロックＰＣＬＫの周波数を１／Ｎに分周して位相比較器に入力する１／Ｎ分周器と、位相比較器の出力をローパスフィルタにより平滑化した信号に応じた周波数の書込クロックＰＣＬＫを出力するＶＣＯ（Voltage Controlled Oscillator）と、を有する。このようなＰＬＬ４１１２により、基準クロックＣＬＫの周波数をＮ／Ｍ倍した周波数の書込クロックＰＣＬＫを出力することができる。ここで、１／Ｍ分周器による分周比Ｍは、制御部１０から入力される補正値Ｄｍに応じて変更可能となっている。これにより、ＰＬＬ４１１２は、補正値Ｄｍに応じて周波数が調整された書込クロックＰＣＬＫを出力することができる。
詳しくは、ＰＬＬ４１１２は、基準クロックＣＬＫの周波数を１／Ｍに分周して位相比較器に入力する１／Ｍ分周器と、ＰＬＬ４１１２の出力（後述のＶＣＯの出力）である書込クロックＰＣＬＫの周波数を１／Ｎに分周して位相比較器に入力する１／Ｎ分周器と、位相比較器の出力をローパスフィルタにより平滑化した信号に応じた周波数の書込クロックＰＣＬＫを出力するＶＣＯ（Voltage Controlled Oscillator）と、を有する。このようなＰＬＬ４１１２により、基準クロックＣＬＫの周波数をＮ／Ｍ倍した周波数の書込クロックＰＣＬＫを出力することができる。ここで、１／Ｍ分周器による分周比Ｍは、制御部１０から入力される補正値Ｄｍに応じて変更可能となっている。これにより、ＰＬＬ４１１２は、補正値Ｄｍに応じて周波数が調整された書込クロックＰＣＬＫを出力することができる。
セレクター４１１３は、制御部１０からの制御信号（走査に用いられるポリゴン面４２ａを特定する信号、及び上述の同期信号）に応じて、ＰＬＬ４１１２ａ〜４１１２ｆから出力される書込クロックＰＣＬＫのうちいずれか一つを選択して（切り替えて）画像処理部４１２及び光源駆動制御部４１３に出力する。
図４の画像処理部４１２は、記憶部２１に記憶された画像データに対し各種の画像処理を施す手段であり、制御部１０から入力された同期信号、及び書込クロック生成部４１１から入力された書込クロックＰＣＬＫに同期して画像形成に必要な画像データを光源駆動制御部４１３に転送する。
光源駆動制御部４１３は、書込クロック生成部４１１から入力された書込クロックＰＣＬＫに同期して、画像処理部４１２から転送された画像データに応じて変調されたレーザービームを光源４１から射出させる。
ポリゴンミラー駆動制御部４２１は、制御部１０からの制御信号に応じてポリゴンミラー４２のポリゴンモーターを動作させて、所定の回転速度でポリゴンミラー４２を回転させる。
感光体駆動制御部４３１は、制御部１０からの制御信号に応じて感光体４３の回転モーターを動作させて、所定の回転速度で感光体４３を回転させる。
＜露光位置の補正方法＞
ポリゴンミラー４２の各ポリゴン面４２ａは、表面に凹凸がなく法線の副走査方向の向きが揃っており、回転速度にむらがないことが望ましい。このような理想的な状態のポリゴン面４２ａを用いてレーザービームの逐次主走査を行うことで、主走査方向及び副走査方向についての位置ずれがない所望の露光を行うことができる。
しかしながら、ポリゴン面４２ａには、僅かな凹凸があったり、法線の向きが所定の向きからずれる「面倒れ」が生じていたりすることがある。また、ポリゴン面４２ａの表面形状は、継続的に遠心力を受けること等により継時的に変化することがある。また、ポリゴンミラー４２のポリゴンモーターの特性変化によりポリゴン面４２ａの回転速度が経時変化したり速度むらが生じたりする。このように、ポリゴン面４２ａの状態が理想的な状態ではなく、かつ複数のポリゴン面４２ａの状態にばらつきがある場合には、ポリゴン面４２ａごとの走査において、ポリゴン面４２ａの状態に応じて露光位置にずれが生じてしまう。
これに対し、本実施形態の画像形成装置１では、書込クロックＰＣＬＫをポリゴン面４２ａごとに調整することで、主走査方向についての露光位置のずれを補正することができる。以下では、この露光位置の補正方法について説明する。
ポリゴンミラー４２の各ポリゴン面４２ａは、表面に凹凸がなく法線の副走査方向の向きが揃っており、回転速度にむらがないことが望ましい。このような理想的な状態のポリゴン面４２ａを用いてレーザービームの逐次主走査を行うことで、主走査方向及び副走査方向についての位置ずれがない所望の露光を行うことができる。
しかしながら、ポリゴン面４２ａには、僅かな凹凸があったり、法線の向きが所定の向きからずれる「面倒れ」が生じていたりすることがある。また、ポリゴン面４２ａの表面形状は、継続的に遠心力を受けること等により継時的に変化することがある。また、ポリゴンミラー４２のポリゴンモーターの特性変化によりポリゴン面４２ａの回転速度が経時変化したり速度むらが生じたりする。このように、ポリゴン面４２ａの状態が理想的な状態ではなく、かつ複数のポリゴン面４２ａの状態にばらつきがある場合には、ポリゴン面４２ａごとの走査において、ポリゴン面４２ａの状態に応じて露光位置にずれが生じてしまう。
これに対し、本実施形態の画像形成装置１では、書込クロックＰＣＬＫをポリゴン面４２ａごとに調整することで、主走査方向についての露光位置のずれを補正することができる。以下では、この露光位置の補正方法について説明する。
図６は、露光位置のずれの補正方法を説明する図である。
図６（ａ）は、主走査方向についての露光位置のずれを補正しない場合の走査の状態を示す図である。図６（ａ）の左側では第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面を用いて行われる走査の主走査方向についての範囲が示されている。ここで、「ＳＯＳ（Start Of Scan）」は、主走査方向についての走査開始位置を示し、「ＥＯＳ（End Of Scan）」は、主走査方向についての走査終了位置を示す。また、この走査は、図６（ａ）の右側に示されるように、各ポリゴン面４２ａについてクロック特性が同一の書込クロックＰＣＬＫを用いて行われたものである。
各ポリゴン面４２ａによる走査でのＳＯＳは、上述した同期信号の生成直後の所定タイミングで露光が行われることで、主走査方向の位置が互いに揃っている。一方、各ポリゴン面４２ａによる走査でのＥＯＳは、各ポリゴン面４２ａの状態の相違を反映して、主走査方向について範囲Ｒに亘ってばらついている。このような主走査方向についてのＥＯＳのばらつきは、ジッターとも呼ばれる。
本実施形態では、形成される像における画素の大きさは、約１０μｍ（２４００ｄｐｉ）乃至は約２０μｍ（１２００ｄｐｉ）であり、ジッターの生じる範囲Ｒの大きさは、例えば数μｍである。
図６（ａ）は、主走査方向についての露光位置のずれを補正しない場合の走査の状態を示す図である。図６（ａ）の左側では第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面を用いて行われる走査の主走査方向についての範囲が示されている。ここで、「ＳＯＳ（Start Of Scan）」は、主走査方向についての走査開始位置を示し、「ＥＯＳ（End Of Scan）」は、主走査方向についての走査終了位置を示す。また、この走査は、図６（ａ）の右側に示されるように、各ポリゴン面４２ａについてクロック特性が同一の書込クロックＰＣＬＫを用いて行われたものである。
各ポリゴン面４２ａによる走査でのＳＯＳは、上述した同期信号の生成直後の所定タイミングで露光が行われることで、主走査方向の位置が互いに揃っている。一方、各ポリゴン面４２ａによる走査でのＥＯＳは、各ポリゴン面４２ａの状態の相違を反映して、主走査方向について範囲Ｒに亘ってばらついている。このような主走査方向についてのＥＯＳのばらつきは、ジッターとも呼ばれる。
本実施形態では、形成される像における画素の大きさは、約１０μｍ（２４００ｄｐｉ）乃至は約２０μｍ（１２００ｄｐｉ）であり、ジッターの生じる範囲Ｒの大きさは、例えば数μｍである。
図６（ｂ）は、主走査方向についての露光位置のずれを補正した場合の走査の状態を示す図である。
図６（ａ）のように、ポリゴン面４２ａごとに露光位置が主走査方向にずれて（ばらついて）いる場合、当該露光位置のずれ量に応じて各ポリゴン面４２ａについての書込クロックＰＣＬＫの周波数を調整することで、図６（ｂ）の左側に示されるように露光位置のずれを補正することができる。すなわち、図６（ｂ）の右側に示されるように、ＥＯＳが主走査方向の負方向にずれているポリゴン面４２ａについては書込クロックＰＣＬＫの周波数を低減させ、ＥＯＳが主走査方向の正方向にずれているポリゴン面４２ａについては書込クロックＰＣＬＫの周波数を増大させることで、図６（ｂ）の左側に示されるように、露光位置のずれを補正してＥＯＳのばらつきを解消させることができる。
図６（ａ）のように、ポリゴン面４２ａごとに露光位置が主走査方向にずれて（ばらついて）いる場合、当該露光位置のずれ量に応じて各ポリゴン面４２ａについての書込クロックＰＣＬＫの周波数を調整することで、図６（ｂ）の左側に示されるように露光位置のずれを補正することができる。すなわち、図６（ｂ）の右側に示されるように、ＥＯＳが主走査方向の負方向にずれているポリゴン面４２ａについては書込クロックＰＣＬＫの周波数を低減させ、ＥＯＳが主走査方向の正方向にずれているポリゴン面４２ａについては書込クロックＰＣＬＫの周波数を増大させることで、図６（ｂ）の左側に示されるように、露光位置のずれを補正してＥＯＳのばらつきを解消させることができる。
＜露光位置のずれの検出方法＞
本実施形態では、露光位置のずれに経時変化があったり、主走査方向の位置に対する露光位置の非線形なずれがあったりする場合においても当該ずれを検出して補正することができる。
以下では、露光位置のずれの検出方法について説明する。
本実施形態では、露光位置のずれに経時変化があったり、主走査方向の位置に対する露光位置の非線形なずれがあったりする場合においても当該ずれを検出して補正することができる。
以下では、露光位置のずれの検出方法について説明する。
図７は、露光位置のずれの経時変化の例を示す図である。
図７のプロットＡは、主走査方向の各位置について、初期状態の露光位置のずれの大きさをプロットしたものであり、プロットＢは、所定期間経過後の（経時変化後の）露光位置のずれの大きさをプロットしたものである。
このように、露光位置のずれは、経時的に変化する。これは、上述したとおり、各ポリゴン面４２ａの形状や回転速度の経時変化に起因する。
また、プロットＡ及びプロットＢでは、いずれも、主走査方向の位置に対して露光位置のずれ量が非線形に変化している。これは、各ポリゴン面４２ａの形状や回転速度が主走査方向について必ずしも一様とはならないことに起因する。
このように、露光位置のずれに経時変化がある場合や、露光位置の非線形なずれがある場合に当該ずれを検出して正確に補正するために、本実施形態では、画像形成装置１により所定のテストチャートを記録媒体に記録し、当該テストチャートの読取結果を解析することで露光位置のずれを検出する。
図７のプロットＡは、主走査方向の各位置について、初期状態の露光位置のずれの大きさをプロットしたものであり、プロットＢは、所定期間経過後の（経時変化後の）露光位置のずれの大きさをプロットしたものである。
このように、露光位置のずれは、経時的に変化する。これは、上述したとおり、各ポリゴン面４２ａの形状や回転速度の経時変化に起因する。
また、プロットＡ及びプロットＢでは、いずれも、主走査方向の位置に対して露光位置のずれ量が非線形に変化している。これは、各ポリゴン面４２ａの形状や回転速度が主走査方向について必ずしも一様とはならないことに起因する。
このように、露光位置のずれに経時変化がある場合や、露光位置の非線形なずれがある場合に当該ずれを検出して正確に補正するために、本実施形態では、画像形成装置１により所定のテストチャートを記録媒体に記録し、当該テストチャートの読取結果を解析することで露光位置のずれを検出する。
図８は、記録媒体Ｍに形成されたテストチャート１００の例を示す図である。
テストチャート１００は、ポリゴン面特定パターン１１０（鏡面特定パターン）と、副走査方向についてポリゴン面特定パターン１１０に対して所定の相対位置に形成された露光位置ずれ検出パターン１２０（検出パターン）とを有する。ポリゴン面特定パターン１１０は、記録媒体Ｍの副走査方向の一方の端部近傍で主走査方向に延びる矩形領域に形成されている。また、露光位置ずれ検出パターン１２０は、主走査方向についてポリゴン面特定パターン１１０と同一の幅を有し、ポリゴン面特定パターン１１０から副走査方向に所定の間隔ｄだけ離れた矩形領域に形成されている。
このテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍが、テストチャート形成媒体を構成する。
テストチャート１００は、ポリゴン面特定パターン１１０（鏡面特定パターン）と、副走査方向についてポリゴン面特定パターン１１０に対して所定の相対位置に形成された露光位置ずれ検出パターン１２０（検出パターン）とを有する。ポリゴン面特定パターン１１０は、記録媒体Ｍの副走査方向の一方の端部近傍で主走査方向に延びる矩形領域に形成されている。また、露光位置ずれ検出パターン１２０は、主走査方向についてポリゴン面特定パターン１１０と同一の幅を有し、ポリゴン面特定パターン１１０から副走査方向に所定の間隔ｄだけ離れた矩形領域に形成されている。
このテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍが、テストチャート形成媒体を構成する。
ポリゴン面特定パターン１１０では、第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面の各々により１回ずつ走査を用って形成された単位特定パターン１１０ａが、副走査方向に繰り返し形成されている。この単位特定パターン１１０ａでは、特定の一のポリゴン面４２ａ（本実施形態では第１ポリゴン面）による走査で形成された基準部分が特定できるようになっている。
また、露光位置ずれ検出パターン１２０では、第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面の各々により１回ずつ走査を用って形成された単位検出パターン１２０ａが副走査方向に繰り返し形成されている。
単位特定パターン１１０ａ及び単位検出パターン１２０ａの副走査方向の幅は、例えば約１ｍｍである。
また、露光位置ずれ検出パターン１２０では、第１ポリゴン面〜第６ポリゴン面の各々により１回ずつ走査を用って形成された単位検出パターン１２０ａが副走査方向に繰り返し形成されている。
単位特定パターン１１０ａ及び単位検出パターン１２０ａの副走査方向の幅は、例えば約１ｍｍである。
図９は、単位特定パターン１１０ａ及び単位検出パターン１２０ａを説明する図である。
図９（ａ）の左側には、単位特定パターン１１０ａが示され、図９（ａ）の右側には、単位特定パターン１１０ａの形成に用いられた書込クロックＰＣＬＫがポリゴン面４２ａごとに示されている。
図９（ａ）の右側に示されるように、単位特定パターン１１０ａを形成する場合には、第１ポリゴン面による走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫの周波数が、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面による走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫの周波数よりも大幅に小さくされ、かつ位相がずらされている。
このような書込クロックＰＣＬＫで各ポリゴン面４２ａによる走査を行うことで、図９（ａ）の左側に示されるように、単位特定パターン１１０ａでは、第１ポリゴン面による走査で形成された基準部分１１１が、他の第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面による走査で形成された部分よりも主走査方向の正方向に大きくずれて形成されている。これにより、単位特定パターン１１０ａにおいて第１ポリゴン面による走査で形成された基準部分１１１を容易に特定できるようになっている。
なお、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫの調整では、周波数の調整のみ行うことで、ＳＯＳの位置はずらさず、ＥＯＳの位置をずらすようにしても良い。また、位相の調整のみ行って、単位特定パターン１１０ａの全体を副走査方向にずらすようにしても良い。
単位特定パターン１１０ａの内容は、特には限られないが、例えばべたパターンとすることができる。
図９（ａ）の左側には、単位特定パターン１１０ａが示され、図９（ａ）の右側には、単位特定パターン１１０ａの形成に用いられた書込クロックＰＣＬＫがポリゴン面４２ａごとに示されている。
図９（ａ）の右側に示されるように、単位特定パターン１１０ａを形成する場合には、第１ポリゴン面による走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫの周波数が、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面による走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫの周波数よりも大幅に小さくされ、かつ位相がずらされている。
このような書込クロックＰＣＬＫで各ポリゴン面４２ａによる走査を行うことで、図９（ａ）の左側に示されるように、単位特定パターン１１０ａでは、第１ポリゴン面による走査で形成された基準部分１１１が、他の第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面による走査で形成された部分よりも主走査方向の正方向に大きくずれて形成されている。これにより、単位特定パターン１１０ａにおいて第１ポリゴン面による走査で形成された基準部分１１１を容易に特定できるようになっている。
なお、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫの調整では、周波数の調整のみ行うことで、ＳＯＳの位置はずらさず、ＥＯＳの位置をずらすようにしても良い。また、位相の調整のみ行って、単位特定パターン１１０ａの全体を副走査方向にずらすようにしても良い。
単位特定パターン１１０ａの内容は、特には限られないが、例えばべたパターンとすることができる。
また、図９（ｂ）の左側には、単位検出パターン１２０ａが示され、図９（ｂ）の右側には、単位検出パターン１２０ａの形成に用いられた書込クロックＰＣＬＫがポリゴン面４２ａごとに示されている。
図９（ｂ）の右側に示されるように、単位検出パターン１２０ａの形成では、各ポリゴン面４２ａによる走査に同一のクロック特性の書込クロックＰＣＬＫが用いられる。この結果、図９（ｂ）の左側に示されるように、単位検出パターン１２０ａでは、各ポリゴン面４２ａの状態（形状や回転速度）を反映した主走査方向の露光位置のずれ（ＥＯＳの範囲Ｒにおけるジッター）がそのまま表れるようになっている。
図９（ｂ）の右側に示されるように、単位検出パターン１２０ａの形成では、各ポリゴン面４２ａによる走査に同一のクロック特性の書込クロックＰＣＬＫが用いられる。この結果、図９（ｂ）の左側に示されるように、単位検出パターン１２０ａでは、各ポリゴン面４２ａの状態（形状や回転速度）を反映した主走査方向の露光位置のずれ（ＥＯＳの範囲Ｒにおけるジッター）がそのまま表れるようになっている。
図１０は、単位検出パターン１２０ａの内容例を示す図である。
単位検出パターン１２０ａでは、各ポリゴン面４２ａによる走査において４つのレーザービームにより各々形成される副走査方向の４つの画素行のうち、上側の２つの画素行にのみオン画素（トナーを付与する画素）が配置されて個別パターン１２１が形成され、下側の２つの画素行はオフ画素（トナーを付与しない空白画素）とされる。このように、単位検出パターン１２０ａ（露光位置ずれ検出パターン１２０）では、複数のポリゴン面４２ａの各々による走査でそれぞれ形成された個別パターン１２１が、副走査方向について互いに分離した状態で形成される。
また、主走査方向についても、２画素ごとにオン画素とオフ画素が交互に配置されるように露光が行われる。したがって、単位検出パターン１２０ａは、主走査方向及び副走査方向について、いずれもオン画素とオフ画素が２画素ごとに交互に現れる「２オン２オフ」パターンで形成され、この結果、主走査方向及び副走査方向について２×２画素の大きさを有する個別単位パターン１２１ａがマトリクス状に配置されたパターンとなる。
なお、単位特定パターン１１０ａについても図１０のようなパターンで形成しても良い。
単位検出パターン１２０ａでは、各ポリゴン面４２ａによる走査において４つのレーザービームにより各々形成される副走査方向の４つの画素行のうち、上側の２つの画素行にのみオン画素（トナーを付与する画素）が配置されて個別パターン１２１が形成され、下側の２つの画素行はオフ画素（トナーを付与しない空白画素）とされる。このように、単位検出パターン１２０ａ（露光位置ずれ検出パターン１２０）では、複数のポリゴン面４２ａの各々による走査でそれぞれ形成された個別パターン１２１が、副走査方向について互いに分離した状態で形成される。
また、主走査方向についても、２画素ごとにオン画素とオフ画素が交互に配置されるように露光が行われる。したがって、単位検出パターン１２０ａは、主走査方向及び副走査方向について、いずれもオン画素とオフ画素が２画素ごとに交互に現れる「２オン２オフ」パターンで形成され、この結果、主走査方向及び副走査方向について２×２画素の大きさを有する個別単位パターン１２１ａがマトリクス状に配置されたパターンとなる。
なお、単位特定パターン１１０ａについても図１０のようなパターンで形成しても良い。
図８のポリゴン面特定パターン１１０では、各単位特定パターン１１０ａに含まれる基準部分１１１の副走査方向の位置を特定することができる。したがって、この基準部分１１１の位置と、副走査方向についての間隔ｄの大きさ（画素数）とに基づいて、露光位置ずれ検出パターン１２０の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定することができる。すなわち、図１０に示されるように、各個別パターン１２１に対応するポリゴン面４２ａの番号を特定することができる。
このポリゴン面４２ａの特定結果と、露光位置ずれ検出パターン１２０における個別単位パターン１２１ａの位置の所定位置からのずれ量とを対応付けることにより、各ポリゴン面４２ａに対応する露光位置のずれを検出することができる。
具体的には、まず、露光位置ずれ検出パターン１２０において、第１ポリゴン面により形成された複数の個別パターン１２１に着目する。第１ポリゴン面に対応する個別パターン１２１は、露光位置ずれ検出パターン１２０において副走査方向について６つごとに現れる。この第１ポリゴン面に対応する複数の個別パターン１２１において、主走査方向の位置が対応する個別単位パターン１２１ａについての主走査方向の位置をそれぞれ特定して平均することで、第１ポリゴン面における当該主走査方向の位置での露光位置のずれを検出することができる。このような検出を主走査方向の各位置について行うことで、第１ポリゴン面における主走査方向の各位置での露光位置のずれを検出することができる。上述したように、露光位置のずれの大きさは、数μｍと非常に小さいため、通常、画像読取部５０による読取結果から直接検出するのは困難であるが、複数の個別単位パターン１２１ａの位置を平均する算出方法によれば、高精度に露光位置のずれを検出することができる。
同様に、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面の各々についても、当該ポリゴン面４２ａにおける主走査方向の各位置での露光位置のずれを検出することができる。
具体的には、まず、露光位置ずれ検出パターン１２０において、第１ポリゴン面により形成された複数の個別パターン１２１に着目する。第１ポリゴン面に対応する個別パターン１２１は、露光位置ずれ検出パターン１２０において副走査方向について６つごとに現れる。この第１ポリゴン面に対応する複数の個別パターン１２１において、主走査方向の位置が対応する個別単位パターン１２１ａについての主走査方向の位置をそれぞれ特定して平均することで、第１ポリゴン面における当該主走査方向の位置での露光位置のずれを検出することができる。このような検出を主走査方向の各位置について行うことで、第１ポリゴン面における主走査方向の各位置での露光位置のずれを検出することができる。上述したように、露光位置のずれの大きさは、数μｍと非常に小さいため、通常、画像読取部５０による読取結果から直接検出するのは困難であるが、複数の個別単位パターン１２１ａの位置を平均する算出方法によれば、高精度に露光位置のずれを検出することができる。
同様に、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面の各々についても、当該ポリゴン面４２ａにおける主走査方向の各位置での露光位置のずれを検出することができる。
そして、ポリゴン面４２ａごとの露光位置のずれに基づいて、図６（ｂ）のように各ポリゴン面４２ａによる走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫの周波数を調整することにより、各ポリゴン面４２ａの状態に応じた露光位置の主走査方向についてのずれを補正することができる。
なお、図６（ｂ）の例では、各ポリゴン面４２ａについて書込クロックＰＣＬＫの周波数を固定しているが、主走査方向の各位置での露光位置のずれ量に応じて、走査中に書込クロックＰＣＬＫを変化させても良い。
なお、図６（ｂ）の例では、各ポリゴン面４２ａについて書込クロックＰＣＬＫの周波数を固定しているが、主走査方向の各位置での露光位置のずれ量に応じて、走査中に書込クロックＰＣＬＫを変化させても良い。
次に、画像形成装置１で実行される露光位置補正処理の制御部１０による制御手順について説明する。
図１１は、露光位置補正処理の制御手順を示すフローチャートである。
露光位置補正処理が開始されると、制御部１０は、記録媒体Ｍにテストチャート１００を形成するチャート出力処理を実行する（ステップＳ１０１）。チャート出力処理の内容については、後述する。
露光位置補正処理が開始されると、制御部１０は、記録媒体Ｍにテストチャート１００を形成するチャート出力処理を実行する（ステップＳ１０１）。チャート出力処理の内容については、後述する。
チャート出力処理が終了すると、制御部１０は、画像読取部５０により記録媒体Ｍ上のテストチャート１００を読み取らせる（ステップＳ１０２）。
次に、制御部１０は、読取結果（テストチャート１００の画像データ）を解析し、露光位置ずれ検出パターン１２０の各位置の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定する（ステップＳ１０３）。すなわち、テストチャート１００のポリゴン面特定パターン１１０における基準部分１１１の副走査方向の位置と、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０との間隔ｄの画素数とに基づいて、露光位置ずれ検出パターン１２０の各個別パターン１２１に対応するポリゴン面４２ａを特定する。
次に、制御部１０は、上述のアルゴリズムに従って、ポリゴン面４２ａごとの露光位置のずれを検出し、当該検出結果に基づいて、各ポリゴン面４２ａに対応する補正値Ｄｍを算出する（ステップＳ１０４）。
ステップＳ１０３及びステップＳ１０４は、補正工程に相当する。
ステップＳ１０４の処理が終了すると、制御部１０は、露光位置補正処理を終了させる。以降、画像形成装置１による画像形成を行う場合には、制御部１０は、各ポリゴン面４２ａによる走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫを、ステップＳ１０４で算出された補正値Ｄｍに基づいて補正する。
ステップＳ１０３及びステップＳ１０４は、補正工程に相当する。
ステップＳ１０４の処理が終了すると、制御部１０は、露光位置補正処理を終了させる。以降、画像形成装置１による画像形成を行う場合には、制御部１０は、各ポリゴン面４２ａによる走査で用いられる書込クロックＰＣＬＫを、ステップＳ１０４で算出された補正値Ｄｍに基づいて補正する。
図１２は、チャート出力処理の制御手順を示すフローチャートである。
チャート出力処理が呼び出されると、制御部１０は、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫを調整する（ステップＳ２０１）。すなわち、制御部１０は、図９（ｂ）の右側に示されるように、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性が、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性と異なるように書込クロック生成部４１１の動作設定を行う。
チャート出力処理が呼び出されると、制御部１０は、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫを調整する（ステップＳ２０１）。すなわち、制御部１０は、図９（ｂ）の右側に示されるように、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性が、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性と異なるように書込クロック生成部４１１の動作設定を行う。
次に、制御部１０は、感光体４３上に、ポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成する（ステップＳ２０２）。すなわち、制御部１０は、感光体駆動制御部４３１により、帯電した感光体４３を回転させて感光体４３の表面を副走査方向に移動させるとともに、ポリゴンミラー駆動制御部４２１によりポリゴンミラー４２を回転させて、ポリゴン面特定パターン１１０の画像データに応じて変調された光線による逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせてポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成する。
ポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像の形成が終了すると、制御部１０は、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫを元に戻す（ステップＳ２０３）。ここでは、制御部１０は、第１ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性が、第２ポリゴン面〜第６ポリゴン面に対応する書込クロックＰＣＬＫのクロック特性と同一となるように書込クロック生成部４１１の動作設定を変更する。
次に、制御部１０は、感光体４３上に、露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成する（ステップＳ２０４）。すなわち、制御部１０は、感光体４３を回転させながらポリゴンミラー４２を回転させて、露光位置ずれ検出パターン１２０の画像データに応じて変調された光線による逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせて露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成する。
ステップＳ２０１〜ステップＳ２０４は、光源制御工程及び露光制御工程に相当する。
ステップＳ２０１〜ステップＳ２０４は、光源制御工程及び露光制御工程に相当する。
次に、制御部１０は、画像形成部４０の各部を動作させて、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０を現像させ、記録媒体Ｍに転写させて定着させる（ステップＳ２０５）。
ステップＳ２０５は、画像形成工程に相当する。
ステップＳ２０５の処理が終了すると、制御部１０は、処理を露光位置補正処理に戻す。
ステップＳ２０５は、画像形成工程に相当する。
ステップＳ２０５の処理が終了すると、制御部１０は、処理を露光位置補正処理に戻す。
（変形例）
続いて上記実施形態の変形例について説明する。
上記実施形態では、主走査方向についての露光位置のずれを補正する例を用いて説明したが、本変形例では、これに代えて、又はこれに加えて、副走査方向についての露光位置のずれを検出して補正する。以下では、上記実施形態との相違点について説明する。
続いて上記実施形態の変形例について説明する。
上記実施形態では、主走査方向についての露光位置のずれを補正する例を用いて説明したが、本変形例では、これに代えて、又はこれに加えて、副走査方向についての露光位置のずれを検出して補正する。以下では、上記実施形態との相違点について説明する。
ポリゴンミラー４２のポリゴン面４２ａの法線が、所望の方向から副走査方向に傾斜している場合、すなわちポリゴン面４２ａに副走査方向への面倒れが生じている場合には、当該ポリゴン面４２ａによる走査での露光位置は、副走査方向にずれることとなる。この場合には、図１０の個別パターン１２１や個別単位パターン１２１ａが副走査方向にずれるため、当該ずれを検出することで、ポリゴン面４２ａごとに、露光位置の副走査方向のずれを検出することができる。
このように検出された副走査方向のずれを補正する場合には、例えば、画像形成に用いられる画像データにおける画素データを、検出されたポリゴン面４２ａごとの副走査方向の露光位置のずれ量に応じて副走査方向にシフトする補正を行えば良い。
あるいは、副走査方向に多数のレーザービームを並行して照射可能な光源を用い、ポリゴン面４２ａごとに露光に用いるレーザービームを選択する構成において、検出されたポリゴン面４２ａごとの副走査方向の露光位置のずれに基づいて選択するレーザービームを変更することで露光位置のずれを補正しても良い。
なお、副走査方向のずれに加えて主走査方向のずれも補正する場合には、書込クロックＰＣＬＫの調整を併せて行えば良い。
あるいは、副走査方向に多数のレーザービームを並行して照射可能な光源を用い、ポリゴン面４２ａごとに露光に用いるレーザービームを選択する構成において、検出されたポリゴン面４２ａごとの副走査方向の露光位置のずれに基づいて選択するレーザービームを変更することで露光位置のずれを補正しても良い。
なお、副走査方向のずれに加えて主走査方向のずれも補正する場合には、書込クロックＰＣＬＫの調整を併せて行えば良い。
以上のように、本実施形態に係る画像形成装置１は、感光体４３と、光源４１と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数のポリゴン面４２ａ（鏡面）を有し、回転している外周面に光源４１からレーザービームを照射することにより、複数のポリゴン面４２ａの各々で反射したレーザービームを順に感光体４３の表面上で主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられたポリゴンミラー４２（回転多面鏡）と、制御部１０と、を備え、制御部１０は、画像データに基づいて変調されたレーザービームを書込クロックに応じて光源４１から射出させ（光源制御手段）、帯電した感光体４３の表面を副走査方向に移動させるとともに、ポリゴンミラー４２を回転させて変調されたレーザービームによる逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせて画像データに係る画像の静電潜像を形成し（露光制御手段）、画像形成装置１は、書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能な書込クロック生成部４１１を備え、制御部１０は、レーザービームによる露光位置の、複数のポリゴン面４２ａの各々の状態に応じたずれを補正し（補正手段）、複数のポリゴン面４２ａのうち一のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性と、他のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性とを異ならせて二次元露光を行わせることで、一のポリゴン面４２ａによる走査で形成された基準部分１１１を特定可能なポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成し（露光制御手段）、ポリゴン面特定パターン１１０に対する所定の相対位置に所定のクロック特性で二次元露光を行わせることで、ずれを検出するための露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成し（露光制御手段）、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を現像して得られたテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍの読取結果に基づいて、基準部分１１１と露光位置ずれ検出パターン１２０との位置関係から露光位置ずれ検出パターン１２０の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定し、当該ポリゴン面４２ａの特定結果と露光位置ずれ検出パターン１２０とに基づいて複数のポリゴン面４２ａの各々に係るずれを検出して補正する（補正手段）。
このような構成によれば、記録媒体Ｍ上のテストチャート１００の各部の形成（走査）に用いられたポリゴン面４２ａを容易に特定することができる。よって、テストチャート１００から露光位置のずれを特定することで、ポリゴン面４２ａの状態に応じた露光位置のずれをポリゴン面４２ａごとに容易に特定することができ、ポリゴン面４２ａごとに露光位置のずれを正確に補正することができる。
また、実際に露光を行って形成されたテストチャート１００から各ポリゴン面４２ａについての露光位置のずれを検出できるため、後発的に生じた露光位置のずれを検出して補正することができる。これにより、ポリゴン面４２ａの形状や回転速度が経時的に変化した場合であっても、露光位置のずれを正確に補正することができる。
また、テストチャート１００から、主走査方向についての各位置における露光位置のずれを検出できるため、主走査方向に対して非線形なずれが生じていても、当該ずれを正確に検出して補正することができる。
また、光源４１から感光体４３に至る光路上に露光位置のずれ検出のためのセンサー等を設ける方法と比較して、簡素な構成により低コストで、レーザービームの光路を妨げることなく露光位置のずれを検出して補正することができる。
また、実際に露光を行って形成されたテストチャート１００から各ポリゴン面４２ａについての露光位置のずれを検出できるため、後発的に生じた露光位置のずれを検出して補正することができる。これにより、ポリゴン面４２ａの形状や回転速度が経時的に変化した場合であっても、露光位置のずれを正確に補正することができる。
また、テストチャート１００から、主走査方向についての各位置における露光位置のずれを検出できるため、主走査方向に対して非線形なずれが生じていても、当該ずれを正確に検出して補正することができる。
また、光源４１から感光体４３に至る光路上に露光位置のずれ検出のためのセンサー等を設ける方法と比較して、簡素な構成により低コストで、レーザービームの光路を妨げることなく露光位置のずれを検出して補正することができる。
また、制御部１０は、主走査方向についてのずれを検出して補正する（補正手段）。これにより、ポリゴン面４２ａごとに主走査方向の露光位置がずれてジッターが生じ、当該ジッターの周期とスクリーン処理のパターンなどが干渉して筋むらといった画質不良が生じるのを抑制することができる。
また、制御部１０は、検出されたずれの量に応じて書込クロック生成部４１１によりクロック特性を調整させることでずれを補正する（補正手段）。これにより、簡易な方法で正確に主走査方向についての露光位置のずれを補正することができる。
また、上記変形例に係る制御部１０は、副走査方向についてのずれを検出して補正する（補正手段）。これにより、ポリゴン面４２ａの面倒れ等により副走査方向についての露光位置のずれが生じている場合においても、当該ずれを検出して補正することができる。
また、露光位置ずれ検出パターン１２０は、複数のポリゴン面４２ａの各々による走査でそれぞれ形成された個別パターン１２１を有し、個別パターン１２１は、副走査方向について互いに分離されている。これにより、ポリゴン面４２ａごとの露光位置のずれを互いに独立して正確に検出することができる。
また、画像形成装置１は、記録媒体Ｍの表面を読み取る画像読取部５０を備え、制御部１０は、テストチャート１００が形成された記録媒体Ｍの画像読取部５０による読取結果に基づいてずれを補正する（補正手段）。これにより、画像形成装置１においてテストチャート１００を読み取って露光位置のずれの検出及び補正を行うことができる。
また、上記実施形態に係る露光位置の補正方法は、画像データに基づいて変調されたレーザービームを書込クロックに応じて光源４１から射出させる光源制御工程、帯電した感光体４３の表面を副走査方向に移動させるとともに、ポリゴンミラー４２を回転させて変調されたレーザービームによる逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせて画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、レーザービームによる露光位置の、複数のポリゴン面４２ａの各々の状態に応じたずれを補正する補正工程、を含み、露光制御工程では、複数のポリゴン面４２ａのうち一のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性と、他のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性とを異ならせて二次元露光を行わせることで、一のポリゴン面４２ａによる走査で形成された基準部分１１１を特定可能なポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成し、ポリゴン面特定パターン１１０に対する所定の相対位置に所定のクロック特性で二次元露光を行わせることで、ずれを検出するための露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成し、補正工程では、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を現像して得られたテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍの読取結果に基づいて、基準部分１１１と露光位置ずれ検出パターン１２０との位置関係から露光位置ずれ検出パターン１２０の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定し、当該ポリゴン面４２ａの特定結果と露光位置ずれ検出パターン１２０とに基づいて複数のポリゴン面４２ａの各々に係るずれを検出して補正する。
このような方法によれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正することができる。
このような方法によれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正することができる。
また、上記実施形態に係るプログラムは、画像形成装置１のコンピューター（制御部１０）を、画像データに基づいて変調されたレーザービームを書込クロックに応じて光源４１から射出させる光源制御手段、帯電した感光体４３の表面を副走査方向に移動させるとともに、ポリゴンミラー４２を回転させて変調されたレーザービームによる逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせて画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段、レーザービームによる露光位置の、複数のポリゴン面４２ａの各々の状態に応じたずれを補正する補正手段、として機能させ、露光制御手段は、複数のポリゴン面４２ａのうち一のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性と、他のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性とを異ならせて二次元露光を行わせることで、一のポリゴン面４２ａによる走査で形成された基準部分１１１を特定可能なポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成し、ポリゴン面特定パターン１１０に対する所定の相対位置に所定のクロック特性で二次元露光を行わせることで、ずれを検出するための露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成し、補正手段は、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を現像して得られたテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍの読取結果に基づいて、基準部分１１１と露光位置ずれ検出パターン１２０との位置関係から露光位置ずれ検出パターン１２０の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定し、当該ポリゴン面４２ａの特定結果と露光位置ずれ検出パターン１２０とに基づいて複数のポリゴン面４２ａの各々に係るずれを検出して補正する。
このようなプログラムによれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正することができる。
このようなプログラムによれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正することができる。
また、上記実施形態に係るテストチャート形成媒体の製造方法は、画像データに基づいて変調されたレーザービームを書込クロックに応じて光源４１から射出させる光源制御工程、帯電した感光体４３の表面を副走査方向に移動させるとともに、ポリゴンミラー４２を回転させて変調されたレーザービームによる逐次主走査を行わせることで、感光体４３の表面の二次元露光を行わせて画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、を含み、露光制御工程では、複数のポリゴン面４２ａのうち一のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性と、他のポリゴン面４２ａによる走査に用いられる書込クロックのクロック特性とを異ならせて二次元露光を行わせることで、一のポリゴン面４２ａによる走査で形成された基準部分１１１を特定可能なポリゴン面特定パターン１１０の静電潜像を形成し、ポリゴン面特定パターン１１０に対する所定の相対位置に所定のクロック特性で二次元露光を行わせることで、ずれを検出するための露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を形成し、当該製造方法は、ポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０の静電潜像を現像して得られた像を記録媒体Ｍに転写してポリゴン面特定パターン１１０及び露光位置ずれ検出パターン１２０を含むテストチャート１００を形成する画像形成工程を含む。
このような方法によれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正するためのテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍを製造することができる。
このような方法によれば、画像形成領域内の任意の位置に後発的に生じた露光位置のずれを検出して正確に補正するためのテストチャート１００が形成された記録媒体Ｍを製造することができる。
なお、本発明は、上記実施形態及び変形例に限られるものではなく、様々な変更が可能である。
例えば、単位検出パターン１２０ａは、図１０に示したものに限られず、例えば、主走査方向にオン画素が繋がったパターンであっても良い。
例えば、単位検出パターン１２０ａは、図１０に示したものに限られず、例えば、主走査方向にオン画素が繋がったパターンであっても良い。
また、テストチャート１００の読み取りは、画像読取部５０に代えて、スキャナー３０や、画像形成装置１の外部に設けられた画像読取装置により行っても良い。
また、テストチャート１００の読取結果から、テストチャート１００の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定する処理、各ポリゴン面４２ａに対応する露光位置のずれを検出する処理、及び補正値を算出する処理の少なくとも一部を、画像形成装置１の外部に設けられた情報処理装置により行っても良い。
また、テストチャート１００の読取結果から、テストチャート１００の各部の形成に用いられたポリゴン面４２ａを特定する処理、各ポリゴン面４２ａに対応する露光位置のずれを検出する処理、及び補正値を算出する処理の少なくとも一部を、画像形成装置１の外部に設けられた情報処理装置により行っても良い。
また、露光位置ずれ検出パターン１２０の形成に用いられる書込クロックＰＣＬＫは、必ずしも図９（ｂ）のように各ポリゴン面４２ａについて同一としなくても良く、ポリゴン面４２ａごとに予め定められたクロック特性の書込クロックＰＣＬＫを用いても良い。この場合でも、走査に用いた書込クロックＰＣＬＫのクロック特性を参照することで、露光位置ずれ検出パターン１２０における個別パターン１２１や個別単位パターン１２１ａの位置から露光位置のずれを検出することができる。
また、テストチャート１００のポリゴン面特定パターン１１０と露光位置ずれ検出パターン１２０との間は、空白でなくても良く、任意の画像が形成されていても良い。例えば、ポリゴン面特定パターン１１０と露光位置ずれ検出パターン１２０との間隔ｄを人が特定する場合に、当該間隔ｄにおける画素数が特定しやすい画像、例えば１画素単位の階段状の画像を形成しても良い。
また、光源４１は、マルチビーム方式のものに限られず、各ポリゴン面４２ａに対して単一のレーザービームを照射して走査する構成のものであっても良い。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、本発明の範囲は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲とその均等の範囲を含む。
１ 画像形成装置
１０ 制御部（光源制御手段、露光制御手段、補正手段、コンピューター）
４０ 画像形成部
４１ 光源
４２ ポリゴンミラー（回転多面鏡）
４２ａ ポリゴン面（鏡面）
４３ 感光体
４４ 同期センサー
５０ 画像読取部（読取手段）
１００ テストチャート
１１０ ポリゴン面特定パターン（鏡面特定パターン）
１１０ａ 単位特定パターン
１１１ 基準部分
１２０ 露光位置ずれ検出パターン（検出パターン）
１２０ａ 単位検出パターン
１２１ 個別パターン
１２１ａ 個別単位パターン
４１１ 書込クロック生成部（クロック特性変更手段）
１０ 制御部（光源制御手段、露光制御手段、補正手段、コンピューター）
４０ 画像形成部
４１ 光源
４２ ポリゴンミラー（回転多面鏡）
４２ａ ポリゴン面（鏡面）
４３ 感光体
４４ 同期センサー
５０ 画像読取部（読取手段）
１００ テストチャート
１１０ ポリゴン面特定パターン（鏡面特定パターン）
１１０ａ 単位特定パターン
１１１ 基準部分
１２０ 露光位置ずれ検出パターン（検出パターン）
１２０ａ 単位検出パターン
１２１ 個別パターン
１２１ａ 個別単位パターン
４１１ 書込クロック生成部（クロック特性変更手段）
Claims (9)
- 感光体と、
光源と、
所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、
画像データに基づいて変調された前記光線を書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段と、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段と、
前記書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段と、
を備え、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴とする画像形成装置。 - 前記補正手段は、前記主走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
- 前記補正手段は、検出された前記ずれの量に応じて前記クロック特性変更手段により前記クロック特性を調整させることで前記ずれを補正することを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
- 前記補正手段は、前記副走査方向についての前記ずれを検出して補正することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
- 前記検出パターンは、前記複数の鏡面の各々による走査でそれぞれ形成された個別パターンを有し、
前記個別パターンは、前記副走査方向について互いに分離されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の画像形成装置。 - 記録媒体の表面を読み取る読取手段を備え、
前記補正手段は、前記テストチャートが形成された記録媒体の前記読取手段による読取結果に基づいて前記ずれを補正することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の画像形成装置。 - 感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置における露光位置の補正方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正工程では、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴とする露光位置の補正方法。 - 感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置のコンピューターを、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御手段、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御手段、
前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを補正する補正手段、
として機能させ、
前記露光制御手段は、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記ずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
前記補正手段は、前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られたテストチャートが形成された記録媒体の読取結果に基づいて、前記基準部分と前記検出パターンとの位置関係から前記検出パターンの各部の形成に用いられた鏡面を特定し、当該鏡面の特定結果と前記検出パターンとに基づいて前記複数の鏡面の各々に係る前記ずれを検出して補正することを特徴とするプログラム。 - 感光体と、光源と、所定の回転軸の回りで回転する回転体の外周面に複数の鏡面を有し、回転している前記外周面に前記光源から光線を照射することにより、前記複数の鏡面の各々で反射した前記光線を順に前記感光体の表面上で所定の主走査方向に走査させる逐次主走査が行われるように設けられた回転多面鏡と、前記走査に用いられる書込クロックの周波数及び位相の少なくとも一方を含むクロック特性を変更可能なクロック特性変更手段と、を備えた画像形成装置により、テストチャートが形成された記録媒体であるテストチャート形成媒体を製造する方法であって、
画像データに基づいて変調された前記光線を前記書込クロックに応じて前記光源から射出させる光源制御工程、
帯電した前記感光体の表面を前記主走査方向に交差する副走査方向に移動させるとともに、前記回転多面鏡を回転させて前記変調された光線による前記逐次主走査を行わせることで、前記感光体の表面の二次元露光を行わせて前記画像データに係る画像の静電潜像を形成する露光制御工程、
を含み、
前記露光制御工程では、
前記複数の鏡面のうち一の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性と、他の鏡面による前記走査に用いられる前記書込クロックの前記クロック特性とを異ならせて前記二次元露光を行わせることで、前記一の鏡面による前記走査で形成された基準部分を特定可能な鏡面特定パターンの静電潜像を形成し、
前記鏡面特定パターンに対する所定の相対位置に所定の前記クロック特性で前記二次元露光を行わせることで、前記光線による露光位置の、前記複数の鏡面の各々の状態に応じたずれを検出するための検出パターンの静電潜像を形成し、
当該製造方法は、
前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンの静電潜像を現像して得られた像を記録媒体に転写して前記鏡面特定パターン及び前記検出パターンを含むテストチャートを形成する画像形成工程を含むことを特徴とするテストチャート形成媒体の製造方法。
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