JP6983012B2 - イオンポンプ内のイオン軌道操作アーキテクチャ - Google Patents
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Description
Claims (15)
- 陽極と、
前記陽極に向けて延びる少なくとも1つの面構造を有する裏打ち面と、
前記陽極と前記裏打ち面の間に位置決めされ、前記少なくとも1つの面構造が開口部に位置合わせされるような開口部を有する陰極と、を備えている、
ことを特徴とするイオンポンプ。 - 前記陽極は、円筒体を備え、
前記陰極内の前記開口部は、前記円筒体内の開口部に位置合わせされる、
請求項1に記載のイオンポンプ。 - 前記少なくとも1つの面構造は、前記陰極内の前記開口部の中に延びる、
請求項1に記載のイオンポンプ。 - 複数の陽極を更に備え、
前記陰極は、複数の開口部を更に備え、
前記裏打ち面は、複数の面構造を更に備え、各面構造が、それぞれの陽極に向けて延び、前記陰極内のそれぞれの開口部に位置合わせされる、
請求項1に記載のイオンポンプ。 - 前記複数の陽極の各々が、円筒体を備え、
前記陰極内の各開口部が、前記複数の陽極のうちの1つにおけるそれぞれの開口部に位置合わせされる、
請求項4に記載のイオンポンプ。 - 前記複数の面構造の一部が、該複数の面構造の他のものよりも前記それぞれの陽極に向けてより遠くに延びる、
請求項4に記載のイオンポンプ。 - 前記陽極に面する前記陰極の側面上にNEG材料を更に備えている、
請求項1に記載のイオンポンプ。 - 前記裏打ち面に面する前記陰極の側面上にNEG材料を更に備えている、
請求項1に記載のイオンポンプ。 - 開口部を有する円筒形陽極と、
前記円筒形陽極の前記開口部に位置合わせされた開口部を有する陰極板を有し該陰極版の開口部が前記陰極を欠いている陰極と、
前記陰極板の開口部に位置合わせされたポストと、を備え、
前記ポストと陰極板の間の電位差が前記陰極板に向かって動くイオンの軌跡を該イオンが前記陰極板に衝突するように制御する、
ことを特徴とするイオンポンプ。 - 前記ポストは、前記陰極板内の前記開口部の中に延びている、
請求項9に記載のイオンポンプ。 - 各々がそれぞれの開口部を有する複数の円筒形陽極を更に備え、
前記陰極板は、前記複数の円筒形陽極のうちのそれぞれの1つにおけるそれぞれの開口部に各々が位置合わせされた複数の開口部を更に備えている、
請求項9に記載のイオンポンプ。 - 陽極と陰極の間に第1の電位差を印加して該陽極の近くの空間に形成されたイオンを該陰極に向けて移動する段階と、
ポストと前記陰極の間に第2の電位差を印加して、前記イオンを該陰極に衝突させるために該イオンが該陰極に向けて移動するように該イオンを誘導する段階と、を含む、
ことと特徴とする方法。 - 前記ポストは、前記陰極内の開口部に位置合わせされる、
請求項12に記載の方法。 - 前記陽極は、円筒形であり、前記陰極内の前記開口部は、該円筒体内の開口部に位置合わせされる、
請求項13に記載の方法。 - 前記ポストと前記陰極の間の前記電位差は、該陰極からの材料のスパッタリングを最大にするように設計された角度でイオンを該陰極に衝突させる、
請求項12に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/259,424 US10550829B2 (en) | 2016-09-08 | 2016-09-08 | Ion trajectory manipulation architecture in an ion pump |
US15/259,424 | 2016-09-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018056117A JP2018056117A (ja) | 2018-04-05 |
JP6983012B2 true JP6983012B2 (ja) | 2021-12-17 |
Family
ID=59686884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017172662A Active JP6983012B2 (ja) | 2016-09-08 | 2017-09-08 | イオンポンプ内のイオン軌道操作アーキテクチャ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10550829B2 (ja) |
EP (1) | EP3293753B1 (ja) |
JP (1) | JP6983012B2 (ja) |
CN (1) | CN107808810B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2578138A (en) | 2018-10-18 | 2020-04-22 | Edwards Ltd | Non-mechanical vacuum pumping system and analytical instrument |
GB2578293A (en) | 2018-10-18 | 2020-05-06 | Edwards Ltd | A set of pumps, and a method and system for evacuating a vacuum chamber in a radioactive environment |
GB2576968B (en) | 2019-05-24 | 2021-12-08 | Edwards Ltd | A vacuum pumping system having multiple pumps |
GB2592655B (en) * | 2020-03-05 | 2023-01-11 | Edwards Vacuum Llc | Pump module |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL229703A (ja) * | 1957-07-24 | |||
US3324729A (en) | 1964-09-14 | 1967-06-13 | Gen Electric | Method and apparatus for detecting leaks |
US3460745A (en) * | 1967-08-23 | 1969-08-12 | Varian Associates | Magnetically confined electrical discharge getter ion vacuum pump having a cathode projection extending into the anode cell |
US3452923A (en) * | 1967-09-19 | 1969-07-01 | Varian Associates | Tetrode ion pump |
JPS5822855B2 (ja) * | 1981-06-19 | 1983-05-11 | 株式会社東芝 | 三極形イオンポンプ |
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IT1156530B (it) * | 1982-09-14 | 1987-02-04 | Varian Spa | Pompa ionica con catodo a struttura perfezionata particolarmente per il pompaggio di gas nobili |
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CN102074758B (zh) * | 2010-07-30 | 2012-06-20 | 比亚迪股份有限公司 | 一种电池的加热电路 |
US9960026B1 (en) * | 2013-11-11 | 2018-05-01 | Coldquanta Inc. | Ion pump with direct molecule flow channel through anode |
JP6327974B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-05-23 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 | 積層型超高真空作成装置 |
JP5855294B1 (ja) * | 2015-02-06 | 2016-02-09 | 株式会社日立製作所 | イオンポンプおよびそれを用いた荷電粒子線装置 |
US10262845B2 (en) | 2015-02-10 | 2019-04-16 | Hamilton Sundstrand Corporation | System and method for enhanced ion pump lifespan |
-
2016
- 2016-09-08 US US15/259,424 patent/US10550829B2/en active Active
-
2017
- 2017-08-23 EP EP17187555.2A patent/EP3293753B1/en active Active
- 2017-09-08 CN CN201710805474.7A patent/CN107808810B/zh active Active
- 2017-09-08 JP JP2017172662A patent/JP6983012B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3293753A1 (en) | 2018-03-14 |
CN107808810B (zh) | 2022-01-04 |
JP2018056117A (ja) | 2018-04-05 |
CN107808810A (zh) | 2018-03-16 |
US10550829B2 (en) | 2020-02-04 |
EP3293753B1 (en) | 2019-07-31 |
US20180068836A1 (en) | 2018-03-08 |
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A621 | Written request for application examination |
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