JP6966950B2 - ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 - Google Patents
ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6966950B2 JP6966950B2 JP2018008769A JP2018008769A JP6966950B2 JP 6966950 B2 JP6966950 B2 JP 6966950B2 JP 2018008769 A JP2018008769 A JP 2018008769A JP 2018008769 A JP2018008769 A JP 2018008769A JP 6966950 B2 JP6966950 B2 JP 6966950B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- electrode
- conductive paste
- insulating film
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 370
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 46
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 114
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 24
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 18
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 105
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 82
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 12
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 10
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 9
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229940079938 nitrocellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- -1 tarpineol Chemical compound 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/07—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
- C03C3/072—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/102—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
- C03C3/108—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing boron
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
- H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
Description
[1]モル%表記で、PbOを5〜60%、B2O3を20〜50%、SiO2を5〜30%、K2Oを3〜20%、CaOを3〜20%、含有することを特徴とするガラス。
[2]さらに、モル%表記でBaOを3〜20%含有する[1]記載のガラス。
[3]さらに、モル%表記でSrO、Al2O3およびMgOから選ばれる少なくとも1種を合計で0〜10%含有する[1]または[2]記載のガラス。
[5]前記第1のガラスが、さらにモル%表記でBaOを1〜25%含有する[4]記載のガラスの製造方法。
[6]前記第1のガラスが、さらにモル%表記でSrOを0〜15%含有する[4]または[5]記載のガラスの製造方法。
[7]前記第2のガラスが、さらにモル%表記でAl2O3およびMgOから選ばれる少なくとも1種を合計で0〜10%含有する[4]〜[6]のいずれかに記載のガラスの製造方法。
[8]前記第1のガラスと前記第2のガラスの混合割合が質量比で20:80〜80:20である[4]〜[7]のいずれかに記載のガラスの製造方法。
[9]前記第1のガラスと前記第2のガラスを混合して、[1]〜[3]のいずれかに記載のガラスを得る、[4]〜[8]のいずれかに記載のガラスの製造方法。
[11]モル%表記で、B2O3を35〜60%、K2Oを1〜40%、CaOを3〜30%、SiO2を5〜10%含有し実質的にPbOを含まない第1のガラスの粉末と、モル%表記で、PbOを20〜85%、SiO2を1〜60%、B2O3を3〜21%含む第2のガラスの粉末を含む混合物と、導電性金属粉末と、有機ビヒクルとを含有する導電ペースト。
[12][10]または[11]に記載の導電ペーストを用いて形成された電極を具備することを特徴とする太陽電池。
<ガラス>
本発明のガラスはモル%表示で、PbOを5〜60%、B2O3を20〜50%、SiO2を5〜30%、K2Oを3〜20%、CaOを3〜20%を含むことを特徴とする。
本発明は、モル%表記で、B2O3を35〜60%、K2Oを1〜40%、CaOを3〜30%、SiO2を5〜10%含有し実質的にPbOを含まない第1のガラスと、モル%表記で、PbOを20〜85%、SiO2を1〜60%、B2O3を3〜21%含む第2のガラスと、を混合する工程を含む、ガラスの製造方法を提供する。
本発明の導電ペーストは、上記本発明のガラスの粉末または本発明の製造方法により得られるガラスの粉末、導電性金属粉末および有機ビヒクルを含有する。以下、「本発明のガラスの粉末」または「ガラス粉末」とは、特に断りのない限り、「本発明のガラスの粉末または本発明の製造方法により得られるガラスの粉末」を意味する。「ガラス」も同様に「本発明のガラスまたは本発明の製造方法により得られるガラス」を意味する。該ガラスの粉末は、D50が0.5μm以上10μm以下であるガラスの粉末が好ましい。D50が1.0μm以上5.0μm以下であるガラスの粉末がさらに好ましい。
本発明の太陽電池は、このような本発明の導電ペーストを用いて形成した電極、具体的には、半導体基板上に焼付けられた電極を具備する。本発明の太陽電池においては、電極の少なくとも1つが、本発明の導電ペーストを用いて、ファイヤースルーにより、絶縁膜を部分的に貫通して半導体基板に接触する形に設けられた電極であることが好ましい。
実施例および比較例のガラスの製造に使用する第1のガラス、比較例用のガラス、第2のガラスとして、表1〜3に示す組成、特性を有するガラス粉末を製造した。すなわち、表1〜3に示す組成となるように原料粉末を配合、混合し、1000〜1300℃の電気炉中で白金ルツボを用いて30分〜1時間溶融し、薄板状ガラスを成形した後、この薄板状ガラスをボールミルでD50が所定の範囲(0.5〜10μm)となるように乾式粉砕し、150メッシュの篩にて粗粒を除去した。
ガラス転移点は、示差熱分析(DTA)により、発熱−吸熱量を示すDTA曲線の変曲点を用いて求めた。
(D50)
例1〜15、例21〜24のガラス粉末はイソプロピルアルコール60ccに対してガラス粉末0.02gを混ぜ、超音波分散により1分間分散させた。マイクロトラック測定機に試料投入し、体積基準の50%粒径であるD50の値を得た。
上記で得られた第1のガラス粉末(G1〜G11)、比較例用のガラス粉末(G12〜G15)および第2のガラス粉末(G21〜G24)を用いて、表4〜表6に組成を示す例31〜48、例51〜55のガラス粉末を製造した。例31〜48のガラス粉末については、表4および表5に示す第1のガラス粉末または比較例用のガラス粉末と、第2のガラス粉末を質量比1:1で混合して製造した。例51〜55のガラス粉末については、第1のガラスG3と第2のガラスG21を表6に示す割合で混合し製造した。各例において、混合はVミキサーにより1時間行った。
例31〜48、例51〜55のガラス粉末を用いて、Al電極形成用導電ペーストを製造し、電極形成時の絶縁膜貫通性を評価した。この際、絶縁膜は窒化珪素層と酸化アルミニウム層の2層からなるものを用いた。その結果を表4〜表6に示す。
例31〜48、例51〜55のガラス粉末を含有するAl電極形成用導電ペーストを以下の方法で作製した。
上記で作製したAl電極形成用導電ペーストをそれぞれ用いて、以下のようにして半導体基板上に絶縁膜(窒化珪素層と酸化アルミニウム層から成る2層膜)を介してAl電極を形成し、その際の絶縁膜貫通性について評価した。
上記で得られた、p型層側に絶縁膜(窒化珪素層と酸化アルミニウム層から成る2層膜)を介して形成されたAl電極を有するp型Si半導体基板とAl電極との接触抵抗成分Rc[Ω]を評価した。接触抵抗成分Rc[Ω]は、図2のパターンP1にテスターの陽極側を固定させて、パターンP2、P3、P4、P5のそれぞれの位置にテスターの陰極側を当てて電気抵抗を測定し、接触抵抗成分Rc[Ω]と、シート抵抗成分Rs[Ω]とを分離させることにより求めた。
また、上記で得られた、p型層側に絶縁膜(窒化珪素層と酸化アルミニウム層から成る2層膜)を介して形成されたAl電極を有するp型Si半導体基板を、塩酸(塩化水素の35〜38%水溶液)と水を1:1の質量比で混合した水溶液中に24時間浸して、該基板からAl電極を除去した。その後、光学顕微鏡(500倍)により絶縁膜が除去されているかどうかを以下の基準により評価した。
×;絶縁膜が除去されている箇所が確認できない。
上記例32、33、37〜40、46〜48のガラス粉末をそれぞれ含有するAl電極形成用導電ペーストを用いて製造した太陽電池の変換効率を、ソーラシミュレータ(ワコム電創社製、WXS-156-10)を用いて測定した。具体的には、ソーラシミュレータに太陽電池を設置し、分光特性AM1.5Gの基準太陽光線によって、JIS C8912に準拠して電流電圧特性を測定して、各太陽電池の変換効率を導き出した。得られた変換効率[%]の結果を表4および表5に併せて示す。なお、表4および表5において、変換効率の評価結果がない例については、その欄に「−」を記入した。
Claims (12)
- 太陽電池の電極形成用ガラスであって、
モル%表記で、
PbOを5〜60%、
B2O3を20〜50%、
SiO2を5〜30%、
K2Oを3〜20%、
CaOを3〜20%、
含有することを特徴とする電極形成用ガラス。 - さらに、モル%表記でBaOを3〜20%含有する請求項1記載の電極形成用ガラス。
- さらに、モル%表記でSrO、Al2O3およびMgOから選ばれる少なくとも1種を合計で0〜10%含有する請求項1または2記載の電極形成用ガラス。
- 太陽電池の電極形成用ガラスの製造方法であって、
モル%表記で、
B2O3を35〜60%、
K2Oを1〜40%、
CaOを3〜30%、
SiO2を5〜10%含有し実質的にPbOを含まない第1のガラスと、
モル%表記で、
PbOを20〜85%、
SiO2を1〜60%、
B2O3を3〜21%含む第2のガラスと
を混合する工程を含む、電極形成用ガラスの製造方法。 - 前記第1のガラスが、さらにモル%表記でBaOを1〜25%含有する請求項4記載の電極形成用ガラスの製造方法。
- 前記第1のガラスが、さらにモル%表記でSrOを0〜15%含有する請求項4または5記載の電極形成用ガラスの製造方法。
- 前記第2のガラスが、さらにモル%表記でAl2O3およびMgOから選ばれる少なくとも1種を合計で0〜10%含有する請求項4〜6のいずれか1項記載の電極形成用ガラスの製造方法。
- 前記第1のガラスと前記第2のガラスの混合割合が質量比で20:80〜80:20である請求項4〜7のいずれか1項記載の電極形成用ガラスの製造方法。
- 前記第1のガラスと前記第2のガラスを混合して、請求項1〜3のいずれか1項記載のガラスを得る、請求項4〜8のいずれか1項記載の電極形成用ガラスの製造方法。
- モル%表記で、PbOを5〜60%、B2O3を20〜50%、SiO2を5〜30%、K2Oを3〜20%、CaOを3〜20%含有するガラスの粉末と、導電性金属粉末と、有機ビヒクルとを含有する導電ペースト。
- モル%表記で、B2O3を35〜60%、K2Oを1〜40%、CaOを3〜30%、SiO2を5〜10%含有し実質的にPbOを含まない第1のガラスの粉末と、モル%表記で、PbOを20〜85%、SiO2を1〜60%、B2O3を3〜21%含む第2のガラスの粉末を含む混合物と、
導電性金属粉末と、有機ビヒクルとを含有する導電ペースト。 - 請求項10または11に記載の導電ペーストを用いて形成された電極を具備することを特徴とする太陽電池。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018008769A JP6966950B2 (ja) | 2018-01-23 | 2018-01-23 | ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 |
TW108102379A TW201936530A (zh) | 2018-01-23 | 2019-01-22 | 玻璃、玻璃之製造方法、導電糊及太陽能電池 |
CN201910057596.1A CN110066108A (zh) | 2018-01-23 | 2019-01-22 | 玻璃、玻璃的制造方法、导电糊剂和太阳能电池 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018008769A JP6966950B2 (ja) | 2018-01-23 | 2018-01-23 | ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019127404A JP2019127404A (ja) | 2019-08-01 |
JP6966950B2 true JP6966950B2 (ja) | 2021-11-17 |
Family
ID=67365953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018008769A Active JP6966950B2 (ja) | 2018-01-23 | 2018-01-23 | ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6966950B2 (ja) |
CN (1) | CN110066108A (ja) |
TW (1) | TW201936530A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021040123A (ja) * | 2019-08-27 | 2021-03-11 | Agc株式会社 | ガラス組成物、ガラス粉末および導電ペースト |
WO2023190084A1 (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 東洋アルミニウム株式会社 | TOPCon型太陽電池電極用導電性アルミニウムペースト組成物及びその焼成物である裏面電極が積層されているTOPCon型太陽電池 |
CN114822910B (zh) * | 2022-05-20 | 2022-12-06 | 上海银浆科技有限公司 | 导电银铝浆、制备方法、电极及电池 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2963487B2 (ja) * | 1990-03-28 | 1999-10-18 | 日本化学工業株式会社 | 釉薬および施釉物品 |
JP3003405B2 (ja) * | 1992-08-06 | 2000-01-31 | 株式会社村田製作所 | 導電ペースト及びそれを用いたセラミック電子部品の電極形成方法 |
JP3463320B2 (ja) * | 1993-06-03 | 2003-11-05 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
JP3696725B2 (ja) * | 1997-09-19 | 2005-09-21 | 日本山村硝子株式会社 | 感光性ガラスペースト用ガラス組成物 |
US6184163B1 (en) * | 1998-03-26 | 2001-02-06 | Lg Electronics Inc. | Dielectric composition for plasma display panel |
KR100256970B1 (ko) * | 1998-05-28 | 2000-05-15 | 구자홍 | 봉착유리 조성물 |
JP2000232031A (ja) * | 1999-02-12 | 2000-08-22 | Murata Mfg Co Ltd | 導電ペーストおよびこれを用いた積層セラミックコンデンサ |
JP2005158476A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレーパネル用誘電体材料 |
TW200804215A (en) * | 2006-04-06 | 2008-01-16 | Asahi Glass Co Ltd | Glass for covering electrodes, electric wiring-formed glass plate and plasma display device |
JP5286777B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-09-11 | セントラル硝子株式会社 | 感光性導電ペースト |
JP5609319B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2014-10-22 | セントラル硝子株式会社 | 低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料 |
WO2013018408A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 太陽電池用導電性ペースト組成物 |
US8956557B2 (en) * | 2012-01-24 | 2015-02-17 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick film silver paste containing copper and lead—tellurium—oxide and its use in the manufacture of semiconductor devices |
US9029692B2 (en) * | 2012-04-17 | 2015-05-12 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc | Tellurium inorganic reaction systems for conductive thick film paste for solar cell contacts |
JP5903424B2 (ja) * | 2013-12-21 | 2016-04-13 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 太陽電池用導電性ペースト組成物およびその製造方法 |
US10134925B2 (en) * | 2016-04-13 | 2018-11-20 | E I Du Pont De Nemours And Company | Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith |
JP2017218335A (ja) * | 2016-06-03 | 2017-12-14 | 旭硝子株式会社 | ガラス、導電ペーストおよび太陽電池 |
-
2018
- 2018-01-23 JP JP2018008769A patent/JP6966950B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-22 CN CN201910057596.1A patent/CN110066108A/zh active Pending
- 2019-01-22 TW TW108102379A patent/TW201936530A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110066108A (zh) | 2019-07-30 |
TW201936530A (zh) | 2019-09-16 |
JP2019127404A (ja) | 2019-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI778207B (zh) | 玻璃、玻璃粉末、導電糊料及太陽能電池 | |
KR101086183B1 (ko) | 후막 전도성 조성물 및 반도체 소자의 제조에 사용하기 위한 공정 | |
EP3405961B1 (en) | Conductive paste, method, electrode and solar cell | |
WO2011013440A1 (ja) | 太陽電池電極用無鉛導電性組成物 | |
JP6966950B2 (ja) | ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池 | |
KR101706539B1 (ko) | 태양 전지 전극 형성용 유리 프릿 조성물, 이를 사용하여 형성된 태양 전지용 전극, 및 상기 전극을 포함하는 태양 전지 | |
TW201332926A (zh) | 電極形成用玻璃及使用其的電極形成材料 | |
JP6958257B2 (ja) | ガラス組成物、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
JP2017218335A (ja) | ガラス、導電ペーストおよび太陽電池 | |
JP2020083670A (ja) | ガラス組成物、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
JP6720712B2 (ja) | ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
JP7444552B2 (ja) | ガラス組成物、ガラス組成物の製造方法、導電ペースト、及び太陽電池 | |
CN112028494B (zh) | 玻璃组合物、玻璃组合物的制造方法、导电浆料以及太阳能电池 | |
JP2014078594A (ja) | ペースト組成物と太陽電池 | |
JP7088811B2 (ja) | ガラス、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
JP2023004853A (ja) | ガラス、ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
CN116332500A (zh) | 玻璃、导电浆料和太阳能电池 | |
KR20190113131A (ko) | 태양전지 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극 | |
JP2023097338A (ja) | ガラス、導電ペーストおよび太陽電池 | |
CN115521064A (zh) | 玻璃、玻璃粉末、导电浆料和太阳能电池 | |
JP2021040123A (ja) | ガラス組成物、ガラス粉末および導電ペースト | |
CN116332501A (zh) | 玻璃、导电浆料和太阳能电池 | |
CN112441738A (zh) | 玻璃组合物、玻璃粉末和导电浆料 | |
JP6702011B2 (ja) | ガラス粉末、導電ペーストおよび太陽電池 | |
KR101981660B1 (ko) | 태양 전지 전극 형성용 유리 프릿, 상기 유리 프릿을 포함하는 페이스트 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200930 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210806 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210817 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211012 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211022 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6966950 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |