JP6949216B2 - 4−スルホンアリールジベンゾフランを含む光電材料及び応用 - Google Patents
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Description
Ar1、Ar2は、5〜15個の環原子を有するアリール基又はヘテロアリール基又は縮合環アリール基であり、R1、R2は、アルキル基置換又は未置換のアクリジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサジニイル基、カルバゾール、インデノカルバゾール、ジフェニルアミン又は他の芳香族ジフェニルアミン誘導体、水素、ハロゲン、C1−C4アルキル基を表し、R1、R2の少なくとも1つは、アルキル基置換又は未置換のアクリジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサジニイル基、カルバゾール、インデノカルバゾール、ジフェニルアミン又は他の芳香族ジフェニルアミン誘導体であり、ヘテロアリール基のヘテロ原子はN、Oである。
実施例1
ジベンゾフラン(8.41g、50mmol)を量って、三つ口フラスコに入れ、窒素で保護し、乾燥ジエチルエーテル(150mL)を添加した。フラスコを−78℃の低温反応器に入れ、n−ブチルリチウム(2.2M、68mL、150mmol)をゆっくりと滴下し、滴下終了後、反応系をゆっくりと室温まで昇温し、10時間撹拌を続けた。その後、−78℃に冷却し、I2のテトラヒドロフラン溶液(38g、150mmol)をゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温で4時間撹拌した。反応が完了した後、10%のNaHSO3溶液(100mL)を添加し、抽出して層を分離した。無機相をジクロロメタン(3*50mL)で抽出し、有機相を収集し、無水MgSO4で乾燥させ、溶液をスピン乾燥して粗生成物を取得し、その後、エタノールでスラリー化し、吸引濾過して乾燥させ、14gの白色固体を取得した。収率は、67%であった。
4,6−ジヨードジベンゾフラン(b)(4.2g、10mmol)、チオフェノール(0.55g、5mmol)、CuI(0.48g、2.5mmol)、フェナントロリン(0.9g、5mmol)、及び炭酸カリウム(4.8g、35mmol)を量って、100mLの三つ口フラスコに入れ、窒素ガスを3回交換した。乾燥DMSOを添加し、温度を130℃に上げ、16時間反応させた。反応が完了した後、150mLの水を添加し、ジクロロメタン(3*50mL)で抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。砂コア漏斗で濾過し、溶媒をスピン乾燥させ、n−ヘキサンを溶離剤として使用し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、1.8gの白色固体を取得した。収率は、44.8%であった。
(3)4−ヨード−6−(フェニルスルホニル)ジベンゾ[b,d]フラン(e1)の合成
合成経路は以下のとおりである。
4−ヨード−6−(フェニルチオ)ジベンゾ[b,d]フラン(d1)(1g、2.49mmol)をフラスコに入れ、ジクロロメタンで溶解し、反応系を氷浴に入れ、2.2当量のメタクロロ過安息香酸をゆっくりと添加し、室温で24時間反応させた。反応が完了した後、5%のNaHSO3溶液50mLを添加し、ジクロロメタン(3*50mL)で抽出し、有機層を合わせ、Na2CO3溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、吸引濾過してから乾燥させて、0.7gの白色固体を取得した。収率は、64.8%であった。
4−ヨード−6−(フェニルスルホニル)ジベンゾ[b,d]フラン(e1)(0.6g、1.38mmol)、3−(9H−カルバゾール)−9−イル−フェニルボロン酸(f1) (0.4g、1.38mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.08g、0.07mmol)、炭酸カリウム(0.48g、3.45mmol)を量って、50mLのフラスコに入れ、10mLジオキサン、2mL純水を添加し、吸引排気して窒素ガス保護に置き換え、100℃に加熱して10時間反応させた。反応が完了した後、20mLの水を添加し、ジクロロメタン(3*20mL)で抽出し、溶離剤としてジクロロメタン:n−ヘキサン=2:1を使用し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、0.66gの白色固体を取得した。収率は、86.9%であった。
1H NMR (400MHz ,CDCl3) δ = 8.45 (d, J = 8.0 Hz, 2 H), 8.08 (s, 1 H), 8.03 (d, J = 8.0 Hz, 2 H), 7.89−7.66 (m, 8 H), 7.53−7.46 (m, 6 H), 7.45−7.36 (m, 4 H) ppm. Ms(ESI: Mz 550) (M+1)
実施例2
4,6−ジヨードジベンゾフラン(b)(4.2g、10mmol)、2−ナフタレンチオール(0.8g、5mmol)、CuI(0.48g、2.5mmol)、フェナントロリン(0.9g、5mmol)、及び炭酸カリウム(4.8g、35mmol)を量って、100mLの三つ口フラスコに入れ、窒素ガスを3回交換した。乾燥DMSOを添加し、温度を130℃に上げ、16時間反応させた。反応が完了した後、150mLの水を添加し、ジクロロメタン(3*50mL)で抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。砂コア漏斗で濾過し、溶媒をスピン乾燥させ、n−ヘキサンを溶離剤として使用し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、2.1gの白色固体を取得した。収率は、46.5%であった。
4−ヨード−6−(ナフタレン−2−チオ)ジベンゾ[b,d]フラン(d2)(2g、4.42mmol)をフラスコに入れ、ジクロロメタンで溶解し、反応系を氷浴に入れ、2.2当量のメタクロロ過安息香酸をゆっくりと添加し、室温で24時間反応させた。反応が完了した後、5%のNaHSO3溶液50mLを添加し、ジクロロメタン(3*50mL)で抽出し、有機層を合わせ、Na2CO3溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離し、吸引濾過してから乾燥させて、2gの白色固体を取得した。収率は、93.5%であった。
4−ヨード−6−(ナフタレン−2−スルホニル)ジベンゾ[b,d]フラン(e2)(1.2g、2.76mmol)、4−(9H−カルバゾール)−9−イル−フェニルボロン酸(f2)(0.8g、2.76mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.16g、0.14mmol)、炭酸カリウム(1g、6.9mmol)を量って、50mLのフラスコに入れ、20mLのジオキサン、4mLの純水を添加し、吸引排気して窒素ガス保護に置き換え、100℃に加熱して10時間反応させた。反応が完了した後、20mLの水を添加し、ジクロロメタン(3*20mL)で抽出し、溶離剤としてジクロロメタン:n−ヘキサン= 2:1を使用し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、1.3gの白色固体を取得した。収率は、86.1%であった。
1H NMR (400MHz ,CDCl3) δ = 8.78 (s, 1 H), 8.20 (d, J = 8.0 Hz, 1 H), 8.06 (d, J = 8.0 Hz, 1 H), 7.96−7.92 (m, 7 H), 7.76−7.53 (m, 6 H), 7.46−28 (m, 9 H) ppm. Ms(ESI: Mz 550) (M+1)
実施例3
合成経路は以下のとおりである。
4−ヨード−6−(フェニルスルホニル)ジベンゾ[b,d]フラン(e2)(1.21g、2.5mmol)、f3(1.21g、2.5mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0.14g、0.12mmol)、炭酸カリウム(0.86g、6.25mmol)を量って、50mLのフラスコに入れ、20mLのジオキサン、4mLの純水を添加し、吸引排気して窒素ガス保護に置き換え、100℃に加熱して10時間反応させた。反応が完了した後、20mLの水を添加し、ジクロロメタン(3*20mL)で抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して、1.32gの白色固体を取得した。収率は、73.7%であった。
Ms(ESI: Mz 716) (M+1)
実施例4
窒素の保護下で、20℃/分の加熱及び冷却速度で示差走査熱量測定法(DSC)によって、化合物9のガラス転移温度を測定した。測定された化合物9のガラス転移温度Tgは98.9℃である(図1)。ただし、文献で報告されているCBPのガラス転移温度は62℃であった。
実施例5
デバイスの構造は、ITO/HATCN(5nm)/TAPC(50nm)/化合物9:Ir(ppy):(4wt%、20nm)/TmPyPb(50nm)/LiF(1nm)/AL(100nm)である。
まず、透明導電ITOガラス基板(10と20を含む)を、予め洗浄剤溶液、脱イオン水、エタノール、アセトン及び脱イオン水で洗浄した後、酸素プラズマで30秒間処理した。
次に、ITO上に厚さ5nmのHATCNを正孔注入層30として蒸着した。
次に、正孔注入層上に厚さ50nmのTAPCを正孔輸送層40として蒸着した。
次に、正孔輸送層上に厚さ20nmの化合物9:Ir(ppy):(4wt%)を発光層50として蒸着した。
次に、発光層上に厚さ50nmのTmPyPbを電子輸送層60として蒸着した。
次に、電子輸送層上に厚さ1nmのLiFを電子注入層70として蒸着した。
最後に、電子注入層上に厚さ100nmのアルミニウムをデバイス陰極80として蒸着した。
比較例
デバイスの構造は、ITO/HATCN(5nm)/TAPC(50nm)/CBP:Ir(ppy):(4wt%、20nm)/TmPyPb(50nm)/LiF(1nm)/AL(100nm)である。
Claims (7)
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の双極性材料の製造方法であって、
ジベンゾフラン(a)をn−ブチルリチウムの存在下でリチウム塩とした後、ヨウ素化して4,6−ジヨードジベンゾフラン(b)を生成し、更に置換若しくは非置換のアリールチオフェノール、ヘテロアリールチオフェノール又は縮合環アリールチオフェノール(c)とのウルマン反応によりチオエーテル中間体(d)を生成するステップと、
ヨードチオエーテル中間体を酸化して、ヨードスルホン化合物(e)を生成するステップと、
スルホン化合物(e)を、置換若しくは非置換のアリールホウ酸/ホウ酸エステル、ヘテロアリールホウ酸/ホウ酸エステル又は縮合環アリールホウ酸/ホウ酸エステル(f)とパラジウム触媒による鈴木反応により反応させて、前記双極性材料を生成するステップとを含み、
反応式は次のとおりであることを特徴とする製造方法。
- 有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、
陰極、陽極及び有機層を含み、
前記有機層は、正孔輸送層、正孔阻止層、電子輸送層及び発光層のうちの1つ又は複数であり、
前記有機層の材料は、請求項1〜3のいずれか一項に記載の双極性材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイス。 - 前記有機層の総厚さは1〜1000nmであり、
前記有機層は、蒸着又はスピンコーティングにより形成された薄膜である請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の双極性材料を含む有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
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