JP6934376B2 - 基板処理方法および基板処理装置 - Google Patents
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Description
本発明は、基板を処理する基板処理方法および基板処理装置に関する。処理対象の基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板、有機EL(electroluminescence)表示装置などのFPD(Flat Panel Display)用基板などが含まれる。
特許文献1には、ビアホールなどのホール部を有する処理対象面を具備する対象物に、アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液を接触させることが開示されている。混合溶液を対象物に接触させた後は、加圧された蒸気または水の少なくとも一つが処理対象面に適用される。これにより、ホール部の側壁や底部に残留する反応副生成物や残渣物などの不要物が除去されると記載されている。
特許文献1に記載の処理方法および処理装置では、アンモニア水だけでなく、過酸化水素水が、混合溶液に含まれている。混合溶液に含まれる過酸化水素が、ホール部内の不要物と反応すると、過酸化水素から多量のガスが発生し、多数の気泡がホール部内に形成される。ホール部内で発生した気泡は、ホール部の入口、つまり、ホール部の開口部の方に流れる。そのため、ホール部の入口が気泡で詰まる場合がある。
多数の気泡がホール部の入口にあると、ホール部の底まで混合溶液が到達し難くなる。さらに、混合溶液がホール部の底に到達したとしても、ホール部の底にある混合溶液が、新たな混合溶液に置換され難い。そのため、ホール部の底に不要物が残留する場合がある。特に、ホール部の側壁や底部が疎水性である場合は、混合溶液がホール部の側壁等に均一に供給され難いので、不要物の残留量が増加する傾向にある。
そこで、本発明の目的の一つは、基板に設けられた凹部内の不要物を効果的にエッチングでき、凹部内に残留する不要物を減らすことができる基板処理方法および基板処理装置を提供することである。
前記目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板に設けられた凹部の側面で露出する第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去工程と、前記第14族元素の自然酸化膜が除去された後に、前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給工程と、前記IPAが前記第14族元素の薄膜に接触した後に、前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給工程と、を含む、基板処理方法である。
この方法によれば、シリコンやゲルマニウムなどの第14族元素の自然酸化膜が、基板に設けられた凹部の側面で露出している。この自然酸化膜を除去すると、第14族元素の薄膜が凹部の側面で露出する。第14族元素の薄膜の表面は、第14族元素の自然酸化膜で覆われていない疎水面である。しかしながら、IPAにはイソプロピル基が含まれているので、IPAを基板に供給すると、IPAが第14族元素の薄膜に行き渡る。
アンモニア水は、IPAが第14族元素の薄膜に接触した後に基板に供給される。ヒドロキシ基を含むIPAで第14族元素がコーティングされているので、アンモニア水は、第14族元素の薄膜に行き渡る。さらに、アンモニア水に含まれる水酸化アンモニウムが第14族元素と反応すると、ガスが発生するものの、第14族元素の薄膜がIPAでコーティングされているので、水酸化アンモニウムと第14族元素との反応がIPAによって阻害され、単位時間あたりのガスの発生量が減少する。
単位時間あたりのガスの発生量が少ないので、単位時間あたりの気泡の発生数が少ない。もしくは、小さい気泡だけしか発生し難い。気泡が小さければ、凹部の入口を通じて気泡が凹部の外に出て行き易い。したがって、凹部が気泡で詰まり難い。同様に、気泡の発生数が少なければ、凹部が気泡で詰まり難い。さらに、凹部に出入りするアンモニア水の流れが気泡で邪魔され難いので、凹部内のアンモニア水を新たなアンモニア水に効率的に置換できる。
このように、第14族元素の薄膜にIPAが付着している状態で、アンモニア水を基板に供給するので、自然酸化膜が除去された後であっても、アンモニア水を第14族元素の薄膜に行き渡らせることができる。さらに、単位時間あたりのガスの発生量を低減できるので、アンモニア水が第14族元素の薄膜に均一に供給される状態を維持でき、活性の高いアンモニア水を第14族元素の薄膜に供給し続けることができる。これにより、凹部内の第14族元素を効果的にエッチングでき、凹部内に残留する第14族元素を減らすことができる。
第14族元素の薄膜は、第14族元素の単結晶または多結晶の薄膜であってもよいし、第14族元素の非晶質体の薄膜であってもよい。第14族元素の薄膜は、第14族元素の単体、つまり、第14族元素の割合が100%の薄膜であってもよい。第14族元素の割合が概ね100%であれば、第14族元素以外の添加物が第14族元素の薄膜に含まれていてもよい。
請求項2に記載の発明は、前記IPA供給工程は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに第2回転速度よりも小さい第1回転速度で前記基板を回転させながら、前記基板の表面全域に前記IPAの液膜を保持する液膜保持工程を含み、前記アンモニア水供給工程は、前記基板の回転速度を前記第1回転速度から前記第2回転速度に上昇させながら、前記基板に供給される前記アンモニア水の吐出を開始するアンモニア水吐出開始工程と、前記アンモニア水吐出開始工程の後に、前記基板の回転速度を前記第2回転速度に維持しながら、前記アンモニア水の吐出を継続するアンモニア水吐出継続工程とを含む、請求項1に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、アンモニア水は、基板の表面全域がIPAの液膜で覆われている状態で、基板の表面内の着液位置に向けて吐出される。着液位置に位置するIPAは、基板の表面に着液したアンモニア水によって着液位置のまわりに押し流される。これにより、概ね円形のアンモニア水の液膜が基板の表面に形成される。その一方で、IPAの液膜は、アンモニア水の液膜を取り囲む環状に変化する。アンモニア水の吐出が継続されると、アンモニア水の液膜の外周部が外方に広がり、基板の表面全域がアンモニア水の液膜で覆われる。
アンモニア水の吐出を開始する前に基板の高速回転を開始すると、アンモニア水が基板に供給される前に、IPAが基板の表面中央部からそのまわりに流れ、基板の表面中央部がIPAの液膜から露出する場合がある。その一方で、IPAおよびアンモニア水の両方が基板上に位置しているときの基板の回転速度が低すぎると、基板の表面外周部が部分的に露出する場合がある。これは、基板上のIPAが基板上のアンモニア水に向かって内方に流れるマランゴニ対流が発生するからである。
アンモニア水供給工程では、基板の回転速度を第1回転速度から第2回転速度に上昇させながらアンモニア水の吐出を開始し、基板の回転速度を第2回転速度に維持しながら、アンモニア水の吐出を継続する。アンモニア水の吐出を開始したときの基板の回転速度が低いので、アンモニア水が基板に供給される前に、基板の表面中央部がIPAの液膜から露出することはない。さらに、基板上のIPAおよびアンモニア水に加わる遠心力が徐々に増加するので、マランゴニ対流によって基板の表面外周部がIPAの液膜から露出することもない。したがって、基板の表面全域が液膜で覆われた状態を維持しながら、基板上のIPAをアンモニア水に置換することができる。
基板の表面外周部が部分的に露出しないのであれば、アンモニア水の吐出が開始される時期は、基板の加速が開始される前であってもよい。しかしながら、この場合、基板上のIPAの量は、アンモニア水の吐出が開始されたときとその前とで殆ど変わらない。これに対して、基板の回転速度を第1回転速度から第2回転速度に上昇させながらアンモニア水の吐出を開始する場合は、基板の加速を開始してからアンモニア水が基板に供給されるまでの間に、IPAが遠心力で基板から排出され、基板上のIPAの量が減少する。
アンモニア水は、基板上のIPAと混ざり合う。基板上のIPAの量が多いほど、基板上の液体に含まれるアンモニアの濃度が低下する。基板の回転速度を第1回転速度から第2回転速度に上昇させながらアンモニア水の吐出を開始すれば、基板の加速が開始される前にアンモニア水の吐出を開始する場合に比べて、アンモニアの濃度の低下量を減少させることができ、第14族元素のエッチングに要する時間を短縮できる。したがって、基板を回転方向に加速させながら、アンモニア水の吐出を開始することが好ましい。
請求項3に記載の発明は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を含む1つのサイクルを複数回行う、請求項1または2に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、IPAおよびアンモニア水がこの順番で基板に供給された後、再び、IPAおよびアンモニア水がこの順番で基板に供給される。第14族元素の薄膜に付着しているIPAは、アンモニア水の供給によって次第に減少していく。IPAを再び基板に供給することにより、第14族元素の薄膜にIPAを補充できる。これにより、アンモニア水を第14族元素の薄膜に行き渡らせることができる。
この方法によれば、IPAおよびアンモニア水がこの順番で基板に供給された後、再び、IPAおよびアンモニア水がこの順番で基板に供給される。第14族元素の薄膜に付着しているIPAは、アンモニア水の供給によって次第に減少していく。IPAを再び基板に供給することにより、第14族元素の薄膜にIPAを補充できる。これにより、アンモニア水を第14族元素の薄膜に行き渡らせることができる。
請求項4に記載の発明は、前記アンモニア水供給工程は、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の回転速度を上昇させる加速工程と、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる流量増加工程と、のうちの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、基板の表面にアンモニア水の液膜を保持しながら、基板の回転速度を上昇させる。もしくは、基板の表面にアンモニア水の液膜を保持しながら、基板の表面に向けて吐出されるアンモニア水の流量を増加させる。もしくは、基板の表面にアンモニア水の液膜を保持しながら、回転方向への基板の加速およびアンモニア水の吐出流量の増加の両方を実行する。
基板の回転速度を上昇させると、基板上の液体に加わる遠心力が増加し、基板上での液体の流速が上昇する。同様に、基板の表面に向けて吐出される液体の流量を増加させると、基板上での液体の流速が上昇する。したがって、回転方向への基板の加速およびアンモニア水の吐出流量の増加の少なくとも一方を実行することにより、基板上でのアンモニア水の流速を上昇させることができ、凹部からの気泡の排出を促進できる。これにより、凹部が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
請求項5に記載の発明は、前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第1加速工程と、前記第1加速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を低下させる第1減速工程と、前記第1減速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第2加速工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項1に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板の回転速度を上昇させる(第1加速工程)。その後、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板の回転速度を低下させる(第1減速工程)。その後、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板の回転速度を上昇させる(第2加速工程)。必要に応じて、再び第1加速工程、第1減速工程、および第2加速工程をこの順番で実行する。
基板の回転速度を上昇させると、基板上の液体に加わる遠心力が増加し、基板上での液体の流速が上昇する。さらに、基板の回転速度を一定に維持すると、概ね安定した液流が基板上に形成されるのに対し、基板の回転速度を変化させると、基板上での液体の流れが変化する。したがって、基板を高速で回転させ続けるのではなく、回転方向に加速および減速させることにより、凹部からの気泡の排出を促進できる。
請求項6に記載の発明は、前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第1流量増加工程と、前記第1流量増加工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を減少させる第1流量減少工程と、前記第1流量減少工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第2流量増加工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項1に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、アンモニア水の吐出流量を増加させる(第1流量増加工程)。その後、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、アンモニア水の吐出流量を減少させる(第1流量減少工程)。その後、基板の表面がアンモニア水の液膜で覆われている状態で、アンモニア水の吐出流量を増加させる(第2流量増加工程)。必要に応じて、再び第1流量増加工程、第1流量減少工程、および第2流量増加工程をこの順番で実行する。
基板の表面に向けて吐出される液体の流量を増加させると、基板上での液体の流速が上昇する。さらに、液体の吐出流量を一定に維持すると、概ね安定した液流が基板上に形成されるのに対し、液体の吐出流量を変化させると、基板上での液体の流れが変化する。したがって、アンモニア水を高流量で吐出し続けるのではなく変化させることにより、凹部からの気泡の排出を促進できる。
請求項7に記載の発明は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程が行われているときに、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持しながら、前記基板の直径以上の外径を有する対向面を前記基板の表面に対向させ、前記基板を取り囲む筒状のガードの上端を前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置させる密閉工程をさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、基板の直径以上の外径を有する対向面を、基板の上面、つまり、基板の表面に対向させる。さらに、基板を取り囲む筒状のガードの上端を対向面と等しい高さまたは対向面よりも上方の高さに位置させる。基板の上面は、対向面によって保護される。基板の外周面は、ガードによって保護される。さらに、基板と対向面との間の空間がガードによって取り囲まれるので、この空間の密閉度を高めることができる。これにより、パーティクルを含む雰囲気から基板を保護しながら基板を処理できる。
請求項8に記載の発明は、前記第14族元素の薄膜は、前記凹部の入口から前記凹部の底面に向かって延びている、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、第14族元素の薄膜の一部が、凹部の入口に配置されている。アンモニア水に含まれる水酸化アンモニウムが第14族元素と反応すると、ガスが発生する。したがって、凹部の入口でガスが発生する。さらに、凹部の中で発生した気泡は、凹部の入口に向かって流れる。しかしながら、アンモニア水を基板に供給する前に、第14族元素の薄膜をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部の入口が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
この方法によれば、第14族元素の薄膜の一部が、凹部の入口に配置されている。アンモニア水に含まれる水酸化アンモニウムが第14族元素と反応すると、ガスが発生する。したがって、凹部の入口でガスが発生する。さらに、凹部の中で発生した気泡は、凹部の入口に向かって流れる。しかしながら、アンモニア水を基板に供給する前に、第14族元素の薄膜をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部の入口が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
請求項9に記載の発明は、前記凹部の側面は、前記凹部の深さ方向に直交する幅方向に対向する一対の対向部を含み、前記凹部の深さ方向への前記第14族元素の薄膜の長さは、前記凹部の幅方向への前記一対の対向部の間隔よりも長い、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板処理方法である。
この方法によれば、第14族元素の薄膜が、凹部の側面の広範囲に配置されている。したがって、第14族元素をエッチングする際に発生するガスの量が増加する。さらに、第14族元素が凹部の深さ方向に長いので、第14族元素の薄膜の底面は、凹部の入口に比べてアンモニア水が到達し難い凹部の底面に近づく。しかしながら、アンモニア水を基板に供給する前に、第14族元素の薄膜をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
この方法によれば、第14族元素の薄膜が、凹部の側面の広範囲に配置されている。したがって、第14族元素をエッチングする際に発生するガスの量が増加する。さらに、第14族元素が凹部の深さ方向に長いので、第14族元素の薄膜の底面は、凹部の入口に比べてアンモニア水が到達し難い凹部の底面に近づく。しかしながら、アンモニア水を基板に供給する前に、第14族元素の薄膜をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
請求項10に記載の発明は、基板に設けられた凹部の側面で露出する第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去手段と、前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給手段と、前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給手段と、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、およびアンモニア水供給手段を制御する制御装置と、を備える、基板処理装置である。
前記制御装置は、前記基板に設けられた前記凹部の側面で露出する前記第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去工程と、前記第14族元素の自然酸化膜が除去された後に、前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給工程と、前記IPAが前記第14族元素の薄膜に接触した後に、前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給工程と、を実行する。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項11に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段をさらに備える、請求項10に記載の基板処理装置である。前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および、基板回転手段を制御する。前記IPA供給工程は、第2回転速度よりも小さい第1回転速度で前記基板を回転させながら、前記基板の表面全域に前記IPAの液膜を保持する液膜保持工程を含み、前記アンモニア水供給工程は、前記基板の回転速度を前記第1回転速度から前記第2回転速度に上昇させながら、前記基板に供給される前記アンモニア水の吐出を開始するアンモニア水吐出開始工程と、前記アンモニア水吐出開始工程の後に、前記基板の回転速度を前記第2回転速度に維持しながら、前記アンモニア水の吐出を継続するアンモニア水吐出継続工程とを含む。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項12に記載の発明は、前記制御装置は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を含む1つのサイクルを複数回行う、請求項10または11に記載の基板処理装置である。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項13に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段と、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を変更する流量調整バルブと、をさらに備える、請求項10に記載の基板処理装置である。前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、基板回転手段、および、流量調整バルブを制御する。前記アンモニア水供給工程は、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の回転速度を上昇させる加速工程と、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる流量増加工程と、のうちの少なくとも一つを含む。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項13に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段と、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を変更する流量調整バルブと、をさらに備える、請求項10に記載の基板処理装置である。前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、基板回転手段、および、流量調整バルブを制御する。前記アンモニア水供給工程は、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の回転速度を上昇させる加速工程と、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる流量増加工程と、のうちの少なくとも一つを含む。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項14に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段をさらに備える、請求項10に記載の基板処理装置である。前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および基板回転手段を制御する。前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第1加速工程と、前記第1加速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を低下させる第1減速工程と、前記第1減速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第2加速工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項15に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を変更する流量調整バルブをさらに備える、請求項10に記載の基板処理装置である。前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および流量調整バルブを制御する。前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第1流量増加工程と、前記第1流量増加工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を減少させる第1流量減少工程と、前記第1流量減少工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第2流量増加工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
請求項16に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板の直径以上の外径を有しており、前記基板の表面に対向する対向面と、前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置する上端を含み、前記基板を取り囲む筒状のガードと、をさらに備える、請求項10〜15のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
前記制御装置は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程の少なくとも一方が行われているときに、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持しながら、前記対向面を前記基板の表面に対向させ、前記ガードの上端を前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置させる密閉工程をさらに実行する。この構成によれば、前述の効果と同様な効果を奏することができる。
以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置1に備えられた処理ユニット2の内部を水平に見た模式図である。図2は、スピンチャック8および処理カップ21を上から見た模式図である。
図1に示すように、基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、基板Wを収容する箱型のキャリアが置かれるロードポート(図示せず)と、ロードポート上のキャリアから搬送された基板Wを処理液や処理ガスなどの処理流体で処理する処理ユニット2と、ロードポートと処理ユニット2との間で基板Wを搬送する搬送ロボット(図示せず)と、基板処理装置1を制御する制御装置3とを含む。
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置1に備えられた処理ユニット2の内部を水平に見た模式図である。図2は、スピンチャック8および処理カップ21を上から見た模式図である。
図1に示すように、基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、基板Wを収容する箱型のキャリアが置かれるロードポート(図示せず)と、ロードポート上のキャリアから搬送された基板Wを処理液や処理ガスなどの処理流体で処理する処理ユニット2と、ロードポートと処理ユニット2との間で基板Wを搬送する搬送ロボット(図示せず)と、基板処理装置1を制御する制御装置3とを含む。
処理ユニット2は、内部空間を有する箱型のチャンバー4と、チャンバー4内で基板Wを水平に保持しながら基板Wの中央部を通る鉛直な回転軸線A1まわりに回転させるスピンチャック8と、スピンチャック8に保持されている基板Wの上面に対向する遮断部材13と、基板Wおよびスピンチャック8から外方に排出された処理液を受け止める筒状の処理カップ21とを含む。
チャンバー4は、基板Wが通過する搬入搬出口5bが設けられた箱型の隔壁5と、搬入搬出口5bを開閉するシャッター6とを含む。フィルターによってろ過された空気であるクリーンエアーは、隔壁5の上部に設けられた送風口5aからチャンバー4内に常時供給される。チャンバー4内の気体は、処理カップ21の底部に接続された排気ダクト7を通じてチャンバー4から排出される。これにより、クリーンエアーのダウンフローがチャンバー4内に常時形成される。
スピンチャック8は、水平な姿勢で保持された円板状のスピンベース10と、スピンベース10の上方で基板Wを水平な姿勢で保持する複数のチャックピン9と、スピンベース10の中央部から下方に延びるスピン軸11と、スピン軸11を回転させることによりスピンベース10および複数のチャックピン9を回転させるスピンモータ12とを含む。スピンチャック8は、複数のチャックピン9を基板Wの外周面に接触させる挟持式のチャックに限らず、非デバイス形成面である基板Wの裏面(下面)をスピンベース10の上面に吸着させることにより基板Wを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。
遮断部材13は、スピンチャック8の上方に配置されている。遮断部材13は、基板Wよりも大きい外径を有する円板部13aである。遮断部材13は、上下方向に延びる支軸14によって水平な姿勢で支持されている。遮断部材13の中心線は、回転軸線A1上に配置されている。遮断部材13の下面13sの外径は、基板Wの外径よりも大きい。遮断部材13の下面13sは、基板Wの上面と平行であり、基板Wの上面に対向する。遮断部材13の下面13sは、基板Wの上面に対向する対向面の一例である。
処理ユニット2は、支軸14を介して遮断部材13に連結された遮断部材昇降ユニット15を含む。処理ユニット2は、遮断部材13の中心線まわりに遮断部材13を回転させる遮断部材回転ユニットを備えていてもよい。遮断部材昇降ユニット15は、第1薬液ノズル31等のスキャンノズルが基板Wの上面と遮断部材13の下面13sとの間に進入できないように遮断部材13の下面13sが基板Wの上面に近接する下位置(図6(e)参照)と、スキャンノズルが基板Wの上面と遮断部材13の下面13sとの間に進入できるように遮断部材13の下面13sが基板Wの上面から上方に離れた上位置(図5(a)参照)との間で、遮断部材13を昇降させる。遮断部材昇降ユニット15は、下位置から上位置までの任意の位置に遮断部材13を位置させる。
処理カップ21は、スピンチャック8から外方に排出された液体を受け止める複数のガード23と、複数のガード23によって下方に案内された液体を受け止める複数のカップ26と、複数のガード23と複数のカップ26とを取り囲む円筒状の外壁部材22とを含む。図1は、3つのガード23(第1ガード23A、第2ガード23B、および第3ガード23C)と、2つのカップ26(第2カップ26B、および第3カップ26C)とが設けられている例を示している。
第1ガード23A、第2ガード23B、および第3ガード23Cのそれぞれについて言及する場合、以下では、単に、ガード23という。同様に、第2カップ26B、および第3カップ26Cのそれぞれについて言及する場合、単に、カップ26という。また、第1ガード23Aに対応する構成の先頭に、「第1」を付ける場合がある。たとえば、第1ガード23Aに対応する筒状部25を、「第1筒状部25」という場合がある。第2ガード23B〜第3ガード23Cに対応する構成についても同様である。
ガード23は、スピンチャック8を取り囲む円筒状の筒状部25と、筒状部25の上端部から回転軸線A1に向かって斜め上に延びる円環状の天井部24とを含む。第1天井部24〜第3天井部24は、上から第1天井部24〜第3天井部24の順番で、上下方向に重なっている。第1筒状部25〜第3筒状部25は、外側から第1筒状部25〜第3筒状部25の順番で、同心円状に配置されている。第1天井部24〜第3天井部24の上端は、それぞれ、第1ガード23A〜第3ガード23Cの上端23aに相当する。第1天井部24〜第3天井部24の上端は、平面視でスピンベース10および遮断部材13を取り囲んでいる。
複数のカップ26は、外側から第2カップ26B、および第3カップ26Cの順番で、同心円状に配置されている。第3カップ26Cは、スピンチャック8を取り囲んでいる。第3カップ26Cは、外壁部材22の上端よりも下方に配置されている。第3カップ26Cは、チャンバー4の隔壁5に対して固定されている。第2カップ26Bは、第2ガード23Bと一体であり、第2ガード23Bと共に上下方向に移動する。第2ガード23Bは、第2カップ26Bに対して移動可能であってもよい。
ガード23は、スピンチャック8に保持されている基板Wが配置される基板保持位置よりもガード23の上端23aが上方に位置する上位置と、ガード23の上端23aが基板保持位置よりも下方に位置する下位置との間で、上下方向に移動可能である。処理ユニット2は、複数のガード23を上下方向に個別に移動させるガード昇降ユニット27を含む。ガード昇降ユニット27は、上位置から下位置までの任意の位置にガード23を位置させる。ガード昇降ユニット27は、たとえば、ガード23を上下方向に移動させる動力を発生する電動モータと、電動モータの回転を上下方向へのガード23の移動に変換するボールネジおよびボールナットとを含む。
図2に示すように、処理ユニット2は、基板Wの上面に向けて薬液を下方に吐出する第1薬液ノズル31と、基板Wの上面に向けてリンス液を下方に吐出する第1リンス液ノズル34とを含む。第1薬液ノズル31は、薬液を案内する第1薬液配管32に接続されており、第1リンス液ノズル34は、リンス液を案内する第1リンス液配管35に接続されている。第1薬液配管32に介装された第1薬液バルブ33が開かれると、薬液が、第1薬液ノズル31の吐出口から下方に連続的に吐出される。同様に、第1リンス液配管35に介装された第1リンス液バルブ36が開かれると、リンス液が、第1リンス液ノズル34の吐出口から下方に連続的に吐出される。
第1薬液ノズル31から吐出される薬液は、たとえば、DHF(希釈フッ酸)である。DHFは、フッ酸(フッ化水素酸)を水で希釈した溶液である。シリコンなどの第14族元素の自然酸化膜を除去できるのであれば、薬液は、DHF以外であってもよい。第1リンス液ノズル34から吐出されるリンス液は、たとえば、炭酸水である。リンス液は、純水(脱イオン水:Deionized Water)、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度(たとえば、10〜100ppm程度)の塩酸水のいずれかであってもよい。
図示はしないが、第1薬液バルブ33は、流路を形成するバルブボディと、流路内に配置された弁体と、弁体を移動させるアクチュエータとを含む。他のバルブについても同様である。アクチュエータは、空圧アクチュエータまたは電動アクチュエータであってもよいし、これら以外のアクチュエータであってもよい。制御装置3は、アクチュエータを制御することにより、第1薬液バルブ33を開閉させる。アクチュエータが電動アクチュエータである場合、制御装置3は、電動アクチュエータを制御することにより、全閉位置から全開位置までの任意の位置に弁体を位置させる。
第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34は、チャンバー4内で移動可能なスキャンノズルである。処理ユニット2は、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34を保持する第1ノズルアーム37と、第1ノズルアーム37を移動させることにより、鉛直方向および水平方向の少なくとも一方に第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34を移動させる第1ノズル移動ユニット38とを含む。
第1ノズル移動ユニット38は、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34から吐出された処理液が基板Wの上面に着液する処理位置(図5(a)参照)と、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34が平面視でスピンチャック8のまわりに位置する待機位置(図2に示す位置)との間で、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34を水平に移動させる。第1ノズル移動ユニット38は、たとえば、スピンチャック8および処理カップ21のまわりで鉛直に延びるノズル回動軸線A2まわりに第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34を水平に移動させる旋回ユニットである。
処理ユニット2は、基板Wの上面に向けて薬液を下方に吐出する第2薬液ノズル41と、基板Wの上面に向けてリンス液を下方に吐出する第2リンス液ノズル44とを含む。第2薬液ノズル41は、薬液を案内する第2薬液配管42に接続されており、第2リンス液ノズル44は、リンス液を案内する第2リンス液配管45に接続されている。第2薬液配管42に介装された第2薬液バルブ43が開かれると、薬液が、第2薬液ノズル41の吐出口から下方に連続的に吐出される。同様に、第2リンス液配管45に介装された第2リンス液バルブ46が開かれると、リンス液が、第2リンス液ノズル44の吐出口から下方に連続的に吐出される。
第2薬液ノズル41から吐出される薬液は、たとえば、希釈アンモニア水である。希釈アンモニア水におけるアンモニアの濃度は、2.0〜3.0wt%(たとえば、2.5wt%)である。希釈アンモニア水におけるアンモニアの濃度は、これ以外の値であってもよい。第2リンス液ノズル44から吐出されるリンス液は、たとえば、炭酸水である。第2リンス液ノズル44から吐出されるリンス液は、前述の炭酸水以外のリンス液であってもよい。
基板処理装置1は、第2薬液配管42から第2薬液ノズル41に供給される薬液の流量を変更する第2流量調整バルブ49を備えている。図示はしないが、他のノズルに対応する流量調整バルブも基板処理装置1に備えられている。第2流量調整バルブ49は、第2薬液配管42に介装されている。薬液は、第2流量調整バルブ49の開度に対応する流量で第2薬液配管42から第2薬液ノズル41に供給され、この流量で第2薬液ノズル41から吐出される。第2流量調整バルブ49の開度は、制御装置3によって変更される。
第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44は、チャンバー4内で移動可能なスキャンノズルである。処理ユニット2は、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44を保持する第2ノズルアーム47と、第2ノズルアーム47を移動させることにより、鉛直方向および水平方向の少なくとも一方に第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44を移動させる第2ノズル移動ユニット48とを含む。
第2ノズル移動ユニット48は、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44から吐出された処理液が基板Wの上面に着液する処理位置(図6(a)参照)と、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44が平面視でスピンチャック8のまわりに位置する待機位置(図2に示す位置)との間で、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44を水平に移動させる。第2ノズル移動ユニット48は、たとえば、スピンチャック8および処理カップ21のまわりで鉛直に延びるノズル回動軸線A3まわりに第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44を水平に移動させる旋回ユニットである。
処理ユニット2は、基板Wの上面に向けて処理液を下方に吐出する固定ノズル51を含む。固定ノズル51は、リンス液を案内する第3リンス液配管52に接続されている。第3リンス液配管52に介装された第3リンス液バルブ53が開かれると、リンス液が、固定ノズル51の吐出口から下方に連続的に吐出される。固定ノズル51から吐出されるリンス液は、たとえば、炭酸水である。固定ノズル51から吐出されるリンス液は、前述の炭酸水以外のリンス液であってもよい。固定ノズル51から吐出された処理液は、基板Wの上面中央部に着液する。固定ノズル51は、チャンバー4の隔壁5に対して固定されている。
図1に示すように、処理ユニット2は、基板Wの下面中央部に向けて処理液を上方に吐出する下面ノズル54を含む。下面ノズル54は、スピンベース10の上面中央部で開口する貫通穴に挿入されている。下面ノズル54の吐出口は、スピンベース10の上面よりも上方に配置されており、基板Wの下面中央部に上下方向に対向する。下面ノズル54は、下側リンス液バルブ56が介装された下側リンス液配管54に接続されている。
下側リンス液バルブ56が開かれると、リンス液が、下側リンス液配管54から下面ノズル54に供給され、下面ノズル54の吐出口から上方に連続的に吐出される。下面ノズル54から吐出されるリンス液は、たとえば、炭酸水である。下面ノズル54から吐出されるリンス液は、前述の炭酸水以外のリンス液であってもよい。下面ノズル54は、チャンバー4の隔壁5に対して固定されている。スピンチャック8が基板Wを回転させても、下面ノズル54は回転しない。
基板処理装置1は、気体供給源からの気体をスピンベース10の上面中央部で開口する下側中央開口57に導く下側気体配管59と、下側気体配管59に介装された下側気体バルブ60とを含む。下側気体バルブ60が開かれると、下側気体配管59から供給された気体が、下面ノズル54の外周面とスピンベース10の内周面とによって形成された筒状の下側気体流路58を上方に流れ、下側中央開口57から上方に吐出される。下側中央開口57の内周面は、基板Wの回転軸線A1を取り囲んでいる。下側中央開口57に供給される気体は、たとえば、窒素ガスである。気体は、ヘリウムガスやアルゴンガスなどの他の不活性ガスであってもよいし、クリーンエアーやドライエアー(除湿されたクリーンエアー)であってもよい。
処理ユニット2は、遮断部材13の下面13sの中央部で開口する上側中央開口68を介して処理液を下方に吐出する中心ノズル61を含む。処理液を吐出する中心ノズル61の吐出口(後述する第1チューブ61Aおよび第2チューブ61Bの吐出口)は、遮断部材13の中央部を上下方向に貫通する貫通穴内に配置されている。中心ノズル61の吐出口は、上側中央開口68の上方に配置されている。上側中央開口68の内周面は、基板Wの回転軸線A1を取り囲んでいる。中心ノズル61は、遮断部材13と共に鉛直方向に昇降する。
中心ノズル61は、処理液を下方に吐出する複数のインナーチューブ(第1チューブ61Aおよび第2チューブ61B)と、複数のインナーチューブを取り囲む筒状のケーシング62とを含む。第1チューブ61A、第2チューブ61B、およびケーシング62は、回転軸線A1に沿って上下方向に延びている。遮断部材13の内周面は、径方向(回転軸線A1に直交する方向)に間隔を空けてケーシング62の外周面を取り囲んでいる。
第1チューブ61Aは、基板Wの上面に向けてリンス液を下方に吐出するリンス液ノズルの一例である。第1チューブ61Aは、上側リンス液バルブ64が介装された上側リンス液配管63に接続されている。上側リンス液バルブ64が開かれると、リンス液が、上側リンス液配管63から第1チューブ61Aに供給され、第1チューブ61Aの吐出口から下方に連続的に吐出される。第1チューブ61Aから吐出されるリンス液は、たとえば、炭酸水である。第1チューブ61Aから吐出されるリンス液は、前述の炭酸水以外のリンス液であってもよい。
第2チューブ61Bは、基板Wの上面に向けて液状のIPA(イソプロピルアルコール)を下方に吐出する溶剤ノズルの一例である。第2チューブ61Bは、溶剤バルブ66が介装された溶剤配管65に接続されている。溶剤バルブ66が開かれると、IPAが、溶剤配管65から第2チューブ61Bに供給され、第2チューブ61Bの吐出口から下方に連続的に吐出される。IPAを加熱する溶剤ヒータ67は、溶剤配管65に介装されている。第2チューブ61Bには、室温(20〜30℃)よりも高温のIPAが供給される。IPAは、水よりも表面張力が低く、水よりも揮発性が高い有機溶剤の一例である。IPAは、希釈アンモニア水よりも表面張力が低い。
基板処理装置1は、気体供給源からの気体を遮断部材13の上側中央開口68に導く上側気体配管70と、上側気体配管70に介装された上側気体バルブ71とを含む。上側気体バルブ71が開かれると、上側気体配管70から供給された気体が、中心ノズル61の外周面と遮断部材13の内周面とによって形成された筒状の上側気体流路69を下方に流れ、上側中央開口68から下方に吐出される。上側中央開口68に供給される気体は、たとえば、窒素ガスである。窒素ガス以外の気体が、上側中央開口68に供給されてもよい。
処理ユニット2は、基板Wの上面に向けて処理液を吐出する内部ノズル72を含む。内部ノズル72は、第1ガード23Aの上端23aよりも下方に配置された水平部72hと、第1ガード23Aの上方に配置された鉛直部72vとを含む。第1ガード23Aおよび第2ガード23Bがいずれの位置に位置しているときでも、水平部72hは、第1ガード23Aと第2ガード23Bとの間に配置される。図2に示すように、水平部72hは、平面視円弧状である。水平部72hは、平面視直線状であってもよいし、平面視折れ線状であってもよい。
図1に示すように、内部ノズル72は、第1ガード23Aの天井部24を上下方向に貫通する貫通穴に挿入されている。鉛直部72vは、第1ガード23Aの貫通穴の上方に配置されている。鉛直部72vは、第1ガード23Aの上方に配置されたハウジング76を上下方向に貫通している。ハウジング76は、第1ガード23Aに支持されている。鉛直部72vは、回転可能にハウジング76に支持されている。内部ノズル72は、鉛直部72vの中心線に相当するノズル回動軸線A4まわりに第1ガード23Aに対して回動可能である。ノズル回動軸線A4は、第1ガード23Aを通る鉛直な軸線である。
処理液を下方に吐出する吐出口72pは、水平部72hの先端部(ノズル回動軸線A4とは反対側の端部)に設けられている。内部ノズル72は、第3薬液バルブ74が介装された第3薬液配管73に接続されている。第3薬液バルブ74が開かれると、薬液の一例である希釈アンモニア水が、第3薬液配管73から内部ノズル72に供給され、内部ノズル72の吐出口72pから下方に連続的に吐出される。
処理ユニット2は、内部ノズル72から吐出された処理液が基板Wの上面に着液する処理位置と、内部ノズル72が平面視でスピンチャック8のまわりに位置する待機位置と、の間で内部ノズル72をノズル回動軸線A4まわりに回動させるスキャンユニット77を含む。スキャンユニット77は、内部ノズル72を回動させる動力を発生する電動モータ78を含む。電動モータ78は、内部ノズル72の鉛直部72vと同軸の同軸モータであってもよいし、2つのプーリと無端状のベルトとを介して内部ノズル72の鉛直部72vに連結されていてもよい。
内部ノズル72が待機位置(図2で破線で示す位置)に配置されると、内部ノズル72の水平部72hの全体が第1ガード23Aに重なる。内部ノズル72が処理位置(図2で二点鎖線で示す位置)に配置されると、水平部72hの先端部が第1ガード23Aの上端23aよりも内側に配置され、内部ノズル72が基板Wに重なる。処理位置は、内部ノズル72から吐出された処理液が基板Wの上面中央部に着液する中央処理位置(図2で二点鎖線で示す位置)と、内部ノズル72から吐出された処理液が基板Wの上面外周部に着液する外周処理位置とを含む。
第1ガード23Aの天井部24は、第1ガード23Aの筒状部25の上端部から回転軸線A1に向かって斜め上に延びる環状の傾斜部24aと、傾斜部24aから上方に突出する突出部24bとを含む。傾斜部24aと突出部24bとは周方向(回転軸線A1まわりの方向)に並んでいる。突出部24bは、傾斜部24aから上方に延びる一対の側壁24sと、一対の側壁24sの上端の間に配置された上壁24uと、一対の側壁24sの外端の間に配置された外壁24oとを含む。突出部24bは、第1ガード23Aの傾斜部24aの下面から上方に凹んだ収容空間を形成している。
内部ノズル72が待機位置に配置されると、内部ノズル72の水平部72hの全体が、平面視で突出部24bに重なり、収容空間に収容される。図2に示すように、このとき、吐出口72pが設けられた水平部72hの先端部は、第1ガード23Aの上端23aよりも外側に配置される。内部ノズル72を待機位置に配置すれば、第1ガード23Aの上端部と第2ガード23Bの上端部とを上下方向に互いに近づけることができる。これにより、第1ガード23Aと第2ガード23Bとの間に進入する液体の量を減らすことができる。
前述のように、内部ノズル72は、ハウジング76に支持されている。同様に、スキャンユニット77は、ハウジング76に支持されている。スキャンユニット77の電動モータ78は、上下方向に伸縮可能なベローズ75の中に配置されている。ハウジング76は、第1ブラケット79Aを介して第1ガード23Aに支持されており、第2ブラケット79Bを介してガード昇降ユニット27に支持されている。ガード昇降ユニット27が第1ガード23Aを昇降させると、ハウジング76も昇降する。これにより、内部ノズル72およびスキャンユニット77が、第1ガード23Aと共に昇降する。
次に、基板処理装置1によって行われる基板Wの処理の一例について説明する。
以下では、基板Wに設けられた凹部83の側面で露出するポリシリコンの自然酸化膜を除去し、その後、ポリシリコンの薄膜84を除去する例について説明する。
図3は、処理される前(ポリシリコンの自然酸化膜が除去される前)の基板Wの断面の一例を示す模式図である。図3では、ポリシリコンの自然酸化膜を含む基板Wの自然酸化膜の表面を二点鎖線で示しており、自然酸化膜が除去された基板Wの断面を実線で示している。以下では、自然酸化膜を除去した後の基板Wについて説明する。
以下では、基板Wに設けられた凹部83の側面で露出するポリシリコンの自然酸化膜を除去し、その後、ポリシリコンの薄膜84を除去する例について説明する。
図3は、処理される前(ポリシリコンの自然酸化膜が除去される前)の基板Wの断面の一例を示す模式図である。図3では、ポリシリコンの自然酸化膜を含む基板Wの自然酸化膜の表面を二点鎖線で示しており、自然酸化膜が除去された基板Wの断面を実線で示している。以下では、自然酸化膜を除去した後の基板Wについて説明する。
図3に示すように、基板Wは、シリコンなどの半導体やガラスで形成された板状の母材81と、母材81上に形成された1つ以上の薄膜82とを含む。図3は、複数の薄膜82が母材81上に積層されている例を示している。基板Wは、基板Wの厚み方向Dtに延びる1つ以上の凹部83を含む。凹部83は、トレンチ、ビアホール、およびコンタクトホールのいずれかであってもよいし、これら以外であってもよい。
凹部83は、基板Wの最表面Ws(最も表面側に位置する薄膜82の表面)から基板Wの厚み方向Dtに延びている。凹部83は、基板Wの最表面Wsで開口する入口83iと、基板Wの内部に設けられた底面83bと、基板Wの最表面Wsから底面83bに延びる側面83sとを含む。凹部83の側面83sは、凹部83の幅方向に対向する一対の対向部83oを含む。凹部83の深さ方向は、基板Wの厚み方向Dtに一致しており、凹部83の幅方向は、基板Wの厚み方向Dtに直交する基板Wの平面方向Dsに一致している。
凹部83の深さD1、つまり、基板Wの最表面Wsから凹部83の底面83bまでの基板Wの厚み方向Dtの距離は、凹部83の幅W1、つまり、平面方向Dsへの一対の対向部83oの間隔よりも長い。凹部83の幅W1は、凹部83の底面83bに近づくしたがって段階的または連続的に変化していてもよいし、入口83iから底面83bまで一定であってもよい。図3は、凹部83が全ての薄膜82を基板Wの厚み方向Dtに貫通しており、母材81の表面81sから厚み方向Dtに凹んでいる例を示している。凹部83は、1つ以上の薄膜82だけに設けられていてもよい。薄膜82が母材81上に形成されていない場合は、母材81だけに凹部83が設けられていてもよい。
ポリシリコンの薄膜84は、凹部83の側面83sを形成している。つまり、凹部83の側面83sの一対の対向部83oは、ポリシリコンの薄膜84によって形成されている。ポリシリコンの薄膜84は、凹部83の入口83iから凹部83の底面83bに向かって基板Wの厚み方向Dtに延びている。ポリシリコンの薄膜84の先端面84sは、基板Wの最表面Wsと同一平面上に位置していてもよい。
厚み方向Dtへのポリシリコンの薄膜84の長さL1は、凹部83の幅W1よりも長く、凹部83の深さD1よりも短い。ポリシリコンの薄膜84の長さL1は、母材81上に形成された薄膜82全体の厚みTh1、つまり、基板Wの最表面Wsから母材81の表面81sまでの厚み方向Dtの距離よりも長い。ポリシリコンの薄膜84の長さL1は、凹部83の深さD1と等しくてもよいし、薄膜82全体の厚みTh1以下であってもよい。
図4は、基板処理装置1によって行われる基板Wの処理の一例について説明するための工程図である。図5および図6は、図4に示す基板Wの処理の一例が行われているときの基板処理装置1の状態を示す模式的な断面図である。図7は、図4に示す基板Wの処理の一例が行われているときの基板処理装置1の動作を示すタイムチャートである。図7において、IPAのONは、基板Wに向けてIPAが吐出されていることを意味し、IPAのOFFは、IPAの吐出が停止されていること意味する。希釈アンモニア水(図7では、NH4OHと表記)などの他の処理液についても同様である。
以下では、図1および図2を参照する。図4〜図7については適宜参照する。以下の動作は、制御装置3が基板処理装置1を制御することにより実行される。言い換えると、制御装置3は、以下の動作を実行するようにプログラムされている。制御装置3は、プログラム等の情報を記憶するメモリー3m(図1参照)とメモリー3mに記憶された情報にしたがって基板処理装置1を制御するプロセッサー3p(図1参照)とを含むコンピュータである。
基板処理装置1によって基板Wが処理されるときは、チャンバー4内に基板Wを搬入する搬入工程が行われる(図4のステップS1)。
具体的には、第1薬液ノズル31を含む全てのスキャンノズルを待機位置に位置させ、全てのガード23を下位置に位置させる。さらに、遮断部材13を上位置に位置させる。この状態で、搬送ロボットが、基板Wをハンドで支持しながら、ハンドをチャンバー4内に進入させる。その後、搬送ロボットは、基板Wの表面が上に向けられた状態でハンド上の基板Wをスピンチャック8の上に置く。搬送ロボットは、基板Wをスピンチャック8の上に置いた後、ハンドをチャンバー4の内部から退避させる。
具体的には、第1薬液ノズル31を含む全てのスキャンノズルを待機位置に位置させ、全てのガード23を下位置に位置させる。さらに、遮断部材13を上位置に位置させる。この状態で、搬送ロボットが、基板Wをハンドで支持しながら、ハンドをチャンバー4内に進入させる。その後、搬送ロボットは、基板Wの表面が上に向けられた状態でハンド上の基板Wをスピンチャック8の上に置く。搬送ロボットは、基板Wをスピンチャック8の上に置いた後、ハンドをチャンバー4の内部から退避させる。
次に、炭酸水を基板Wに供給する第1炭酸水供給工程(図4のステップS2)が行われる。
具体的には、上側気体バルブ71および下側気体バルブ60が開かれ、遮断部材13の上側中央開口68とスピンベース10の下側中央開口57が窒素ガスの吐出を開始する。ガード昇降ユニット27は、第3ガード23Cを下位置に位置させながら、第1ガード23Aおよび第2ガード23Bを上昇させて、第1ガード23Aおよび第2ガード23Bの上端23aを基板Wよりも上方に位置させる。第1ノズル移動ユニット38は、第1ノズルアーム37を移動させて、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とを基板Wの上方に位置させる。スピンモータ12は、基板Wがチャックピン9によって把持されている状態で基板Wの回転を開始する。
具体的には、上側気体バルブ71および下側気体バルブ60が開かれ、遮断部材13の上側中央開口68とスピンベース10の下側中央開口57が窒素ガスの吐出を開始する。ガード昇降ユニット27は、第3ガード23Cを下位置に位置させながら、第1ガード23Aおよび第2ガード23Bを上昇させて、第1ガード23Aおよび第2ガード23Bの上端23aを基板Wよりも上方に位置させる。第1ノズル移動ユニット38は、第1ノズルアーム37を移動させて、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とを基板Wの上方に位置させる。スピンモータ12は、基板Wがチャックピン9によって把持されている状態で基板Wの回転を開始する。
この状態で、第1リンス液バルブ36が開かれ、第1リンス液ノズル34が炭酸水の吐出を開始する。図5(a)に示すように、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板Wの上面全域を覆う炭酸水の液膜が基板W上に形成される。基板Wが帯電している場合には、基板Wから炭酸水に電荷が移動し、電荷が基板Wから除去される。第1リンス液バルブ36が開かれてから所定時間が経過すると、第1リンス液バルブ36が閉じられ、第1リンス液ノズル34からの炭酸水の吐出が停止される。
次に、DHFを基板Wに供給するDHF供給工程が行われる(図4のステップS3)。
具体的には、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第1薬液バルブ33が開かれ、第1薬液ノズル31がDHFの吐出を開始する。図5(b)に示すように、第1薬液ノズル31から吐出されたDHFは、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上の炭酸水がDHFに置換され、基板Wの上面全域を覆うDHFの液膜が形成される。第1薬液バルブ33が開かれてから所定時間が経過すると、第1薬液バルブ33が閉じられ、第1薬液ノズル31からのDHFの吐出が停止される。
具体的には、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第1薬液バルブ33が開かれ、第1薬液ノズル31がDHFの吐出を開始する。図5(b)に示すように、第1薬液ノズル31から吐出されたDHFは、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上の炭酸水がDHFに置換され、基板Wの上面全域を覆うDHFの液膜が形成される。第1薬液バルブ33が開かれてから所定時間が経過すると、第1薬液バルブ33が閉じられ、第1薬液ノズル31からのDHFの吐出が停止される。
次に、炭酸水を基板Wに供給する第2炭酸水供給工程が行われる(図4のステップS4)。
具体的には、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第1リンス液バルブ36が開かれ、第1リンス液ノズル34が炭酸水の吐出を開始する。図5(c)に示すように、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上のDHFが炭酸水に置換され、基板Wの上面全域を覆う炭酸水の液膜が形成される。
具体的には、第1薬液ノズル31の吐出口と第1リンス液ノズル34の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第1リンス液バルブ36が開かれ、第1リンス液ノズル34が炭酸水の吐出を開始する。図5(c)に示すように、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上のDHFが炭酸水に置換され、基板Wの上面全域を覆う炭酸水の液膜が形成される。
第1リンス液バルブ36が開かれてから所定時間が経過すると、第1リンス液バルブ36を開いたまま、第3リンス液バルブ53が開かれる。これにより、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が開始される。図5(d)に示すように、固定ノズル51から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。第1リンス液バルブ36は、第3リンス液バルブ53が開かれた後に閉じられる。これにより、第1リンス液ノズル34からの炭酸水の吐出が停止される。その後、第1ノズル移動ユニット38が第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34を基板Wの上方から退避させる。
次に、IPAを基板Wに供給する第1IPA供給工程が行われる(図4のステップS5)。
具体的には、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34が基板Wの上方から退避した後、ガード昇降ユニット27は、第3ガード23Cを上昇させて、第1ガード23A、第2ガード23B、および第3ガード23Cの上端23aを基板Wよりも上方に位置させる。その後、第3リンス液バルブ53が閉じられ、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が停止される。その後、溶剤バルブ66が開かれ、中心ノズル61がIPAの吐出を開始する。
具体的には、第1薬液ノズル31および第1リンス液ノズル34が基板Wの上方から退避した後、ガード昇降ユニット27は、第3ガード23Cを上昇させて、第1ガード23A、第2ガード23B、および第3ガード23Cの上端23aを基板Wよりも上方に位置させる。その後、第3リンス液バルブ53が閉じられ、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が停止される。その後、溶剤バルブ66が開かれ、中心ノズル61がIPAの吐出を開始する。
中心ノズル61から吐出されIPAは、上位置に位置する遮断部材13の上側中央開口68を通って、基板Wの上面中央部に着液する。図5(e)に示すように、基板Wの上面に着液したIPAは、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上の炭酸水がIPAに置換され、基板Wの上面全域を覆うIPAの液膜が形成される。その後、溶剤バルブ66が閉じられ、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止される。
次に、希釈アンモニア水を基板Wに供給するアンモニア水供給工程が行われる(図4のステップS6)。
具体的には、第2ノズル移動ユニット48は、中心ノズル61がIPAを吐出しているときに第2ノズルアーム47を移動させて、第2薬液ノズル41の吐出口と第2リンス液ノズル44の吐出口とを基板Wと遮断部材13との間に移動させる。このとき、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44は、中心ノズル61から下方に延びるIPAの液柱の近くに配置されるものの、IPAの液柱からは水平に離れている。
具体的には、第2ノズル移動ユニット48は、中心ノズル61がIPAを吐出しているときに第2ノズルアーム47を移動させて、第2薬液ノズル41の吐出口と第2リンス液ノズル44の吐出口とを基板Wと遮断部材13との間に移動させる。このとき、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44は、中心ノズル61から下方に延びるIPAの液柱の近くに配置されるものの、IPAの液柱からは水平に離れている。
第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44が基板Wと遮断部材13との間に配置された後は、溶剤バルブ66が閉じられ、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止される。その後、第2ノズル移動ユニット48は、第2ノズルアーム47を移動させて、第2薬液ノズル41の吐出口と第2リンス液ノズル44の吐出口とを基板Wの上面中央部に対向させる。続いて、第2薬液バルブ43が開かれ、第2薬液ノズル41が希釈アンモニア水の吐出を開始する。
図5(f)に示すように、第2薬液ノズル41から吐出された希釈アンモニア水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上のIPAが希釈アンモニア水に置換され、基板Wの上面全域を覆う希釈アンモニア水の液膜が形成される。第2薬液バルブ43が開かれてから所定時間が経過すると、第2薬液バルブ43が閉じられ、第2薬液ノズル41からの希釈アンモニア水の吐出が停止される。
図7に示すように、第1IPA供給工程において溶剤バルブ66が開かれてから所定時間が経過すると、スピンモータ12は、基板Wの回転速度を第1高回転速度Vh1から低回転速度VL1まで低下させ、低回転速度VL1に維持する。その後、スピンモータ12は、基板Wの回転速度を低回転速度VL1から第2高回転速度Vh2に上昇させ、第2高回転速度Vh2に維持する。
第1高回転速度Vh1および第2高回転速度Vh2は、たとえば、500〜1000rpmである。第1高回転速度Vh1は、第2高回転速度Vh2と等しくてもよいし、異なっていてもよい。低回転速度VL1は、たとえば、1〜40rpmである。低回転速度VL1は、第1回転速度の一例であり、第2高回転速度Vh2は、第2回転速度の一例である。
第1IPA供給工程においてIPAの吐出が停止される時期、つまり、溶剤バルブ66が閉じられる時期は、基板Wの回転速度が低回転速度VL1に低下した後である。溶剤バルブ66は、基板Wの回転速度が低回転速度VL1に維持されているときに閉じられてもよいし、基板Wの回転速度の上昇が開始された後に閉じられてもよい。図7は、後者の例を示している。
図7に示すように、第2薬液バルブ43は、基板Wの回転速度が低回転速度VL1から第2高回転速度Vh2に上昇しているときに開かれる。つまり、基板Wの回転速度の上昇が開始される時刻Tsと基板Wの回転速度の上昇が停止される時刻Teとの間の時刻T1で、希釈アンモニア水の吐出が開始される。そして、基板Wの回転速度が第2高回転速度Vh2に達した後に、第2薬液バルブ43が閉じられる。
アンモニア水供給工程が行われた後は、炭酸水を基板Wに供給する第3炭酸水供給工程が行われる(図4のステップS7)。
具体的には、第2薬液ノズル41の吐出口と第2リンス液ノズル44の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第2リンス液バルブ46が開かれ、第2リンス液ノズル44が炭酸水の吐出を開始する。図6(a)に示すように、第2リンス液ノズル44から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上の希釈アンモニア水が炭酸水に置換され、基板Wの上面全域を覆う炭酸水の液膜が形成される。
具体的には、第2薬液ノズル41の吐出口と第2リンス液ノズル44の吐出口とが基板Wの上方に位置している状態で、第2リンス液バルブ46が開かれ、第2リンス液ノズル44が炭酸水の吐出を開始する。図6(a)に示すように、第2リンス液ノズル44から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。これにより、基板W上の希釈アンモニア水が炭酸水に置換され、基板Wの上面全域を覆う炭酸水の液膜が形成される。
第2リンス液バルブ46が開かれてから所定時間が経過すると、第2リンス液バルブ46を開いたまま、第3リンス液バルブ53が開かれる。これにより、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が開始される。図6(b)に示すように、固定ノズル51から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。第2リンス液バルブ46は、第3リンス液バルブ53が開かれた後に閉じられる。これにより、第2リンス液ノズル44からの炭酸水の吐出が停止される。その後、第2ノズル移動ユニット48が第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44を基板Wの上方から退避させる。
遮断部材昇降ユニット15は、第2薬液ノズル41および第2リンス液ノズル44が基板Wの上方から退避した後、遮断部材13を上位置から上側中間位置に下降させる。その後、上側リンス液バルブ64が開かれ、中心ノズル61が炭酸水の吐出を開始する。その後、第3リンス液バルブ53が閉じられ、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が停止される。図6(c)に示すように、中心ノズル61から吐出された炭酸水は、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。上側リンス液バルブ64が開かれてから所定時間が経過すると、上側リンス液バルブ64が閉じられ、中心ノズル61からの炭酸水の吐出が停止される。
ガード昇降ユニット27は、固定ノズル51からの炭酸水の吐出が停止されてから中心ノズル61からの炭酸水の吐出が停止されるまでの期間に、第1ガード23Aを上昇させ、第2ガード23Bおよび第3ガード23Cを下降させる。これにより、第2ガード23Bおよび第3ガード23Cの上端23aが、スピンベース10の上面よりも下方に配置される。第1ガード23Aの上端23aは、遮断部材13の下面13sと等しい高さに配置されてもよいし、遮断部材13の下面13sよりも上方または下方の高さに配置されてもよい。
次に、IPAを基板Wに供給する第2IPA供給工程(図7の時刻T2〜時刻T3)が行われる(図4のステップS8)。
具体的には、遮断部材昇降ユニット15は、遮断部材13を上側中間位置から下側中間位置に下降させる。これにより、遮断部材13の下面13sは、第1ガード23Aの上端23aと等しい高さまたは第1ガード23Aの上端23aよりも下方の高さに配置される。その後、溶剤バルブ66が開かれ、中心ノズル61がIPAの吐出を開始する。図6(d)に示すように、中心ノズル61から吐出されたIPAは、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。溶剤バルブ66が開かれてから所定時間が経過すると、溶剤バルブ66が閉じられ、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止される。
具体的には、遮断部材昇降ユニット15は、遮断部材13を上側中間位置から下側中間位置に下降させる。これにより、遮断部材13の下面13sは、第1ガード23Aの上端23aと等しい高さまたは第1ガード23Aの上端23aよりも下方の高さに配置される。その後、溶剤バルブ66が開かれ、中心ノズル61がIPAの吐出を開始する。図6(d)に示すように、中心ノズル61から吐出されたIPAは、基板Wの上面中央部に着液した後、回転している基板Wの上面に沿って外方に流れる。溶剤バルブ66が開かれてから所定時間が経過すると、溶剤バルブ66が閉じられ、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止される。
次に、基板Wの高速回転によって基板Wを乾燥させる乾燥工程が行われる(図4のステップS9)。
具体的には、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止された後、スピンモータ12が基板Wの回転速度を上昇させる。これにより、基板Wの上面全域を覆うIPAの液膜が徐々に薄くなる。遮断部材昇降ユニット15は、基板Wの加速が開始された後、遮断部材13を下側中間位置から下位置に下降させる。これにより、基板Wと遮断部材13との間隔が連続的に減少する。基板Wに付着している液体は、基板Wの高速回転により基板Wのまわりに飛散する。これにより、図6(e)に示すように、基板Wと遮断部材13との間の空間が窒素ガスで満たされた状態で基板Wが乾燥する。基板Wの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、スピンモータ12が回転を停止する。これにより、基板Wの回転が停止される。
具体的には、中心ノズル61からのIPAの吐出が停止された後、スピンモータ12が基板Wの回転速度を上昇させる。これにより、基板Wの上面全域を覆うIPAの液膜が徐々に薄くなる。遮断部材昇降ユニット15は、基板Wの加速が開始された後、遮断部材13を下側中間位置から下位置に下降させる。これにより、基板Wと遮断部材13との間隔が連続的に減少する。基板Wに付着している液体は、基板Wの高速回転により基板Wのまわりに飛散する。これにより、図6(e)に示すように、基板Wと遮断部材13との間の空間が窒素ガスで満たされた状態で基板Wが乾燥する。基板Wの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、スピンモータ12が回転を停止する。これにより、基板Wの回転が停止される。
次に、基板Wをチャンバー4から搬出する搬出工程が行われる(図4のステップS10)。
具体的には、上側気体バルブ71および下側気体バルブ60が閉じられ、遮断部材13の上側中央開口68とスピンベース10の下側中央開口57とからの窒素ガスの吐出が停止される。ガード昇降ユニット27は、全てのガード23を下位置まで下降させる。遮断部材昇降ユニット15は、遮断部材13を上位置まで上昇させる。搬送ロボットは、複数のチャックピン9が基板Wの把持を解除した後、スピンチャック8上の基板Wをハンドで支持する。その後、搬送ロボットは、基板Wをハンドで支持しながら、ハンドをチャンバー4の内部から退避させる。これにより、処理済みの基板Wがチャンバー4から搬出される。
具体的には、上側気体バルブ71および下側気体バルブ60が閉じられ、遮断部材13の上側中央開口68とスピンベース10の下側中央開口57とからの窒素ガスの吐出が停止される。ガード昇降ユニット27は、全てのガード23を下位置まで下降させる。遮断部材昇降ユニット15は、遮断部材13を上位置まで上昇させる。搬送ロボットは、複数のチャックピン9が基板Wの把持を解除した後、スピンチャック8上の基板Wをハンドで支持する。その後、搬送ロボットは、基板Wをハンドで支持しながら、ハンドをチャンバー4の内部から退避させる。これにより、処理済みの基板Wがチャンバー4から搬出される。
以上のように本実施形態では、DHFが基板Wに供給される(DHF供給工程)。これにより、基板Wの最表面Ws、凹部83の側面83s、および凹部83の底面83bから自然酸化膜が除去される。このとき、ポリシリコンの自然酸化膜が除去され、未酸化のポリシリコンの薄膜84が凹部83の側面83sで露出する。ポリシリコンの薄膜84の表面は、ポリシリコンの自然酸化膜で覆われていない疎水面である。
自然酸化膜が除去されたポリシリコンの薄膜84の表面は疎水性であるため、DHFを基板Wに供給した後に水を主成分とする水含有液を基板Wに供給しても、水含有液がポリシリコンの薄膜84に均一に供給されない場合がある。希釈アンモニア水は水含有液の一種であるため、IPAを供給せずに希釈アンモニア水を供給すると、希釈アンモニア水がポリシリコンの薄膜84に均一に供給されない場合がある。この場合、図8の上段に示すように、ポリシリコンの一部がエッチングされずに乾燥後の基板Wに残留し易い。
さらに、希釈アンモニア水に含まれる水酸化アンモニウムは、「2NH4OH+Si→Si(OH)2+H2+2NH3」の反応式にしたがって、シリコンと反応し、シリコンをエッチングする。この反応式から分かるように、シリコンがエッチングされると、水素ガスおよびアンモニアガスが発生し、希釈アンモニア水中に気泡が形成される。図8の上段に示すように、IPAを供給せずに希釈アンモニア水を供給すると、多数の大きな気泡が凹部83内に発生し、凹部83が気泡で詰まる場合がある。この場合、新しい希釈アンモニア水が凹部83に流入できなくなるため、ポリシリコンの残留量が増加してしまう。
これに対して、DHFを供給してから希釈アンモニア水を供給するまでにIPAを供給する場合は、イソプロピル基がIPAに含まれているので、ポリシリコンの薄膜84が疎水性であったとしても、IPAがポリシリコンの薄膜84に行き渡る。希釈アンモニア水は、ヒドロキシ基を含むIPAでポリシリコンの薄膜84がコーティングされた状態で基板Wに供給されるので、ポリシリコンの薄膜84に行き渡る。これにより、希釈アンモニア水をポリシリコンの薄膜84に均一に供給できる。
さらに、水酸化アンモニウムとシリコンとの反応が、ポリシリコンの薄膜84に付着しているIPAによって阻害されるので、単位時間あたりのガスの発生量が減少する。そのため、図8の下段に示すように、単位時間あたりの気泡の発生数が少ない。もしくは、小さい気泡だけしか発生し難い。気泡が小さければ、凹部83の入口83iを通じて気泡が凹部83の外に出て行き易い。したがって、凹部83が気泡で詰まり難い。同様に、気泡の発生数が少なければ、凹部83が気泡で詰まり難い。さらに、凹部83に出入りする希釈アンモニア水の流れが気泡で邪魔され難いので、凹部83内の希釈アンモニア水を新たな希釈アンモニア水に効率的に置換できる。
このように、ポリシリコンの薄膜84にIPAが付着している状態で、希釈アンモニア水を基板Wに供給するので、自然酸化膜が除去された後であっても、希釈アンモニア水をポリシリコンの薄膜84に行き渡らせることができる。さらに、単位時間あたりのガスの発生量を低減できるので、希釈アンモニア水がポリシリコンの薄膜84に均一に供給される状態を維持でき、活性の高い希釈アンモニア水をポリシリコンの薄膜84に供給し続けることができる。これにより、凹部83内のポリシリコンを効果的にエッチングでき、凹部83内に残留するポリシリコンを減らすことができる。
本実施形態では、希釈アンモニア水は、基板Wの表面全域がIPAの液膜で覆われている状態で、基板Wの表面内の着液位置に向けて吐出される。着液位置に位置するIPAは、基板Wの表面に着液した希釈アンモニア水によって着液位置のまわりに押し流される。これにより、概ね円形の希釈アンモニア水の液膜が基板Wの表面に形成される。その一方で、IPAの液膜は、希釈アンモニア水の液膜を取り囲む環状に変化する。希釈アンモニア水の吐出が継続されると、希釈アンモニア水の液膜の外周部が外方に広がり、基板Wの表面全域が希釈アンモニア水の液膜で覆われる。
図9に示すように、希釈アンモニア水の吐出を開始する前に基板Wの高速回転を開始すると、希釈アンモニア水が基板Wに供給される前に、IPAが基板Wの表面中央部からそのまわりに流れ、基板Wの表面中央部がIPAの液膜から露出する場合がある。その一方で、図10に示すように、IPAおよび希釈アンモニア水の両方が基板W上に位置しているときの基板Wの回転速度が低すぎると、基板Wの表面外周部が部分的に露出する場合がある。これは、基板W上のIPAが基板W上の希釈アンモニア水に向かって内方に流れるマランゴニ対流が発生するからである。
アンモニア水供給工程では、基板Wの回転速度を低回転速度VL1から高回転速度Vh2に上昇させながら希釈アンモニア水の吐出を開始し、基板Wの回転速度を高回転速度Vh2に維持しながら、希釈アンモニア水の吐出を継続する。希釈アンモニア水の吐出を開始したときの基板Wの回転速度が低いので、希釈アンモニア水が基板Wに供給される前に、基板Wの表面中央部がIPAの液膜から露出することはない。さらに、基板W上のIPAおよび希釈アンモニア水に加わる遠心力が徐々に増加するので、マランゴニ対流によって基板Wの表面外周部がIPAの液膜から露出することもない。したがって、基板Wの表面全域が液膜で覆われた状態を維持しながら、基板W上のIPAを希釈アンモニア水に置換することができる。
基板Wの表面外周部が部分的に露出しないのであれば、希釈アンモニア水の吐出が開始される時期は、基板Wの加速が開始される前であってもよい。しかしながら、この場合、基板W上のIPAの量は、希釈アンモニア水の吐出が開始されたときとその前とで殆ど変わらない。これに対して、基板Wの回転速度を低回転速度VL1から高回転速度Vh2に上昇させながら希釈アンモニア水の吐出を開始する場合は、基板Wの加速を開始してから希釈アンモニア水が基板Wに供給されるまでの間に、IPAが遠心力で基板Wから排出され、基板W上のIPAの量が減少する。
希釈アンモニア水は、基板W上のIPAと混ざり合う。基板W上のIPAの量が多いほど、基板W上の液体に含まれるアンモニアの濃度が低下する。基板Wの回転速度を低回転速度VL1から高回転速度Vh2に上昇させながら希釈アンモニア水の吐出を開始すれば、基板Wの加速が開始される前に希釈アンモニア水の吐出を開始する場合に比べて、アンモニアの濃度の低下量を減少させることができ、ポリシリコンのエッチングに要する時間を短縮できる。したがって、基板Wを回転方向に加速させながら、希釈アンモニア水の吐出を開始することが好ましい。
本実施形態では、ポリシリコンの薄膜84の一部が、凹部83の入口83iに配置されている。希釈アンモニア水に含まれる水酸化アンモニウムがポリシリコンと反応すると、ガスが発生する。したがって、凹部83の入口83iでガスが発生する。さらに、凹部83の中で発生した気泡は、凹部83の入口83iに向かって流れる。しかしながら、希釈アンモニア水を基板Wに供給する前に、ポリシリコンの薄膜84をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部83の入口83iが気泡で詰まることを抑制または防止できる。
本実施形態では、ポリシリコンの薄膜84が、凹部83の側面83sの広範囲に配置されている。したがって、ポリシリコンをエッチングする際に発生するガスの量が増加する。さらに、ポリシリコンが凹部83の深さ方向に長いので、ポリシリコンの薄膜84の底面は、凹部83の入口83iに比べて希釈アンモニア水が到達し難い凹部83の底面83bに近づく。しかしながら、希釈アンモニア水を基板Wに供給する前に、ポリシリコンの薄膜84をIPAでコーティングするので、単位時間あたりのガスの発生量を低減でき、凹部83が気泡で詰まることを抑制または防止できる。
他の実施形態
本発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。
たとえば、IPAは、中心ノズル61以外のノズルから吐出されてもよい。IPAが、第1薬液ノズル31と同様のスキャンノズルから吐出されてもよい。
本発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。
たとえば、IPAは、中心ノズル61以外のノズルから吐出されてもよい。IPAが、第1薬液ノズル31と同様のスキャンノズルから吐出されてもよい。
室温のIPAを基板Wに供給するのであれば、溶剤ヒータ67を省略してもよい。
内部ノズル72が必要でなければ、内部ノズル72とこれに関連する構成(スキャンユニット77や第1ガード23Aの突出部24bなど)を省略してもよい。
前述の基板Wの処理の一例において、第1リンス液ノズル34が炭酸水を吐出しているとき、第1ノズル移動ユニット38は、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水が基板Wの上面中央部に着液する中央処理位置と、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水が基板Wの上面外周部に着液する外周処理位置と、の間で第1リンス液ノズル34を移動させてもよい。第1薬液ノズル31などの他のスキャンノズルについても同様である。
内部ノズル72が必要でなければ、内部ノズル72とこれに関連する構成(スキャンユニット77や第1ガード23Aの突出部24bなど)を省略してもよい。
前述の基板Wの処理の一例において、第1リンス液ノズル34が炭酸水を吐出しているとき、第1ノズル移動ユニット38は、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水が基板Wの上面中央部に着液する中央処理位置と、第1リンス液ノズル34から吐出された炭酸水が基板Wの上面外周部に着液する外周処理位置と、の間で第1リンス液ノズル34を移動させてもよい。第1薬液ノズル31などの他のスキャンノズルについても同様である。
図11に示すように、アンモニア水供給工程(図4のステップS6)を行った後、第3炭酸水供給工程(図4のステップS7)を行う前に、再び、第1IPA供給工程(図11の時刻T4〜時刻T5)およびアンモニア水供給工程(図11の時刻T6〜時刻T7)を行ってもよい。言い換えると、第2炭酸水供給工程(図4のステップS4)を行った後、第3炭酸水供給工程(図4のステップS7)を行う前に、第1IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を含む1つのサイクルを複数回行ってもよい。
この場合、IPAおよび希釈アンモニア水がこの順番で基板Wに供給された後、再び、IPAおよび希釈アンモニア水がこの順番で基板Wに供給される。ポリシリコンの薄膜84に付着しているIPAは、希釈アンモニア水の供給によって次第に減少していく。IPAを再び基板Wに供給することにより、ポリシリコンの薄膜84にIPAを補充できる。これにより、希釈アンモニア水をポリシリコンの薄膜84に行き渡らせることができる。
基板Wと遮断部材13との間の空間の密閉度を高めた状態で、第1IPA供給工程およびアンモニア水供給工程の一方または両方を行ってもよい。具体的には、図12および図13に示すように、少なくとも一つのガード23の上端23aを遮断部材13の下面13sと等しい高さまたは遮断部材13の下面13sよりも上方の高さに位置させた状態で、第1IPA供給工程およびアンモニア水供給工程の少なくとも一方を行ってもよい。
この場合、希釈アンモニア水は、図12に示すように、中心ノズル61から吐出されてもよいし、図13に示すように、基板Wと遮断部材13との間に位置する内部ノズル72から吐出されてもよい。中心ノズル61にIPAを吐出させる代わりに、中心ノズル61に希釈アンモニア水を吐出させ、基板Wと遮断部材13との間に位置する内部ノズル72にIPAを吐出させてもよい。
図12および図13に示すように、基板Wと遮断部材13との間の空間の密閉度を高めた状態で、第1IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を行う場合、基板Wの上面は、対向面の一例である遮断部材13の下面13sによって保護される。基板Wの外周面は、ガード23によって保護される。さらに、基板Wと遮断部材13の下面13sとの間の空間がガード23によって取り囲まれるので、この空間の密閉度を高めることができる。これにより、パーティクルを含む雰囲気から基板Wを保護しながら基板Wを処理できる。
制御装置3は、スピンモータ12(図1参照)を制御することにより、基板Wの表面全域が希釈アンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板Wの回転速度を上昇させてもよい。これに加えてまたはこれに代えて、制御装置3は、第2流量調整バルブ49(図1参照)の開度を増加させることにより、基板Wの表面全域が希釈アンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板Wの表面に向けて吐出される希釈アンモニア水の流量を増加させてもよい。
基板Wの回転速度を上昇させると、基板W上の液体に加わる遠心力が増加し、基板W上での液体の流速が上昇する。同様に、基板Wの表面に向けて吐出される液体の流量を増加させると、基板W上での液体の流速が上昇する。したがって、回転方向への基板Wの加速および希釈アンモニア水の吐出流量の増加の少なくとも一方を実行することにより、基板W上での希釈アンモニア水の流速を上昇させることができ、凹部83からの気泡の排出を促進できる。これにより、アンモニア水供給工程において、希釈アンモニア水をポリシリコンの薄膜84に均一に供給し続けることができる。
また、図14に示すように、制御装置3は、スピンモータ12を制御することにより、基板Wの表面の少なくとも一部が希釈アンモニア水の液膜で覆われている状態で、基板Wの加速と基板Wの減速とを交互に行ってもよい。
これに加えてまたはこれに代えて、図14に示すように、制御装置3は、第2流量調整バルブ49の開度を変更することにより、希釈アンモニア水の吐出流量の増加と希釈アンモニア水の吐出流量の減少とを交互に行ってもよい。
これに加えてまたはこれに代えて、図14に示すように、制御装置3は、第2流量調整バルブ49の開度を変更することにより、希釈アンモニア水の吐出流量の増加と希釈アンモニア水の吐出流量の減少とを交互に行ってもよい。
図14では、基板Wの回転速度と希釈アンモニア水の吐出流量とが同じ時間に変更されるように描かれているが、基板Wの回転速度と希釈アンモニア水の吐出流量とは互いに異なる時期に変更されてもよい。
基板Wの回転速度を上昇させると、基板W上の液体に加わる遠心力が増加し、基板W上での液体の流速が上昇する。さらに、基板Wの回転速度を一定に維持すると、概ね安定した液流が基板W上に形成されるのに対し、基板Wの回転速度を変化させると、基板W上での液体の流れが変化する。したがって、基板Wを高速で回転させ続けるのではなく、回転方向に加速および減速させることにより、凹部83からの気泡の排出を促進できる。
基板Wの回転速度を上昇させると、基板W上の液体に加わる遠心力が増加し、基板W上での液体の流速が上昇する。さらに、基板Wの回転速度を一定に維持すると、概ね安定した液流が基板W上に形成されるのに対し、基板Wの回転速度を変化させると、基板W上での液体の流れが変化する。したがって、基板Wを高速で回転させ続けるのではなく、回転方向に加速および減速させることにより、凹部83からの気泡の排出を促進できる。
その一方で、基板Wの表面に向けて吐出される液体の流量を増加させると、基板W上での液体の流速が上昇する。さらに、液体の吐出流量を一定に維持すると、概ね安定した液流が基板W上に形成されるのに対し、液体の吐出流量を変化させると、基板W上での液体の流れが変化する。したがって、希釈アンモニア水を高流量で吐出し続けるのではなく変化させることにより、凹部83からの気泡の排出を促進できる。
基板処理装置1は、円板状の基板Wを処理する装置に限らず、多角形の基板Wを処理する装置であってもよい。
前述の全ての構成の2つ以上が組み合わされてもよい。前述の全ての工程の2つ以上が組み合わされてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
前述の全ての構成の2つ以上が組み合わされてもよい。前述の全ての工程の2つ以上が組み合わされてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
1 :基板処理装置
3 :制御装置
8 :スピンチャック(基板保持手段)
12 :スピンモータ(基板回転手段)
13 :遮断部材
13s :遮断部材の下面(対向面)
21 :処理カップ
23 :ガード
23a :ガードの上端
26 :カップ
31 :第1薬液ノズル(自然酸化膜除去手段)
41 :第2薬液ノズル(アンモニア水供給手段)
49 :第2流量調整バルブ(流量調整バルブ)
61 :中心ノズル(IPA供給手段)
61A :第1チューブ
61B :第2チューブ
65 :溶剤配管
66 :溶剤バルブ
67 :溶剤ヒータ
81 :母材
82 :薄膜
83 :凹部
83i :入口
83b :底面
83s :側面
83o :対向部
84 :ポリシリコンの薄膜
84s :先端面
A1 :回転軸線
Dt :厚み方向
Ds :平面方向
D1 :凹部の深さ
L1 :ポリシリコンの薄膜の長さ
Th1 :薄膜全体の厚み
W1 :凹部の幅
Vh1 :第1高回転速度
Vh2 :第2高回転速度(第2回転速度)
VL1 :低回転速度(第1回転速度)
W :基板
3 :制御装置
8 :スピンチャック(基板保持手段)
12 :スピンモータ(基板回転手段)
13 :遮断部材
13s :遮断部材の下面(対向面)
21 :処理カップ
23 :ガード
23a :ガードの上端
26 :カップ
31 :第1薬液ノズル(自然酸化膜除去手段)
41 :第2薬液ノズル(アンモニア水供給手段)
49 :第2流量調整バルブ(流量調整バルブ)
61 :中心ノズル(IPA供給手段)
61A :第1チューブ
61B :第2チューブ
65 :溶剤配管
66 :溶剤バルブ
67 :溶剤ヒータ
81 :母材
82 :薄膜
83 :凹部
83i :入口
83b :底面
83s :側面
83o :対向部
84 :ポリシリコンの薄膜
84s :先端面
A1 :回転軸線
Dt :厚み方向
Ds :平面方向
D1 :凹部の深さ
L1 :ポリシリコンの薄膜の長さ
Th1 :薄膜全体の厚み
W1 :凹部の幅
Vh1 :第1高回転速度
Vh2 :第2高回転速度(第2回転速度)
VL1 :低回転速度(第1回転速度)
W :基板
Claims (16)
- 基板に設けられた凹部の側面で露出する第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去工程と、
前記第14族元素の自然酸化膜が除去された後に、前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給工程と、
前記IPAが前記第14族元素の薄膜に接触した後に、前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給工程と、を含む、基板処理方法。 - 前記IPA供給工程は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに第2回転速度よりも小さい第1回転速度で前記基板を回転させながら、前記基板の表面全域に前記IPAの液膜を保持する液膜保持工程を含み、
前記アンモニア水供給工程は、前記基板の回転速度を前記第1回転速度から前記第2回転速度に上昇させながら、前記基板に供給される前記アンモニア水の吐出を開始するアンモニア水吐出開始工程と、前記アンモニア水吐出開始工程の後に、前記基板の回転速度を前記第2回転速度に維持しながら、前記アンモニア水の吐出を継続するアンモニア水吐出継続工程とを含む、請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を含む1つのサイクルを複数回行う、請求項1または2に記載の基板処理方法。
- 前記アンモニア水供給工程は、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の回転速度を上昇させる加速工程と、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる流量増加工程と、のうちの少なくとも一つを含む、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第1加速工程と、前記第1加速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を低下させる第1減速工程と、前記第1減速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第2加速工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第1流量増加工程と、前記第1流量増加工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を減少させる第1流量減少工程と、前記第1流量減少工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第2流量増加工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程の少なくとも一方が行われているときに、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持しながら、前記基板の直径以上の外径を有する対向面を前記基板の表面に対向させ、前記基板を取り囲む筒状のガードの上端を前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置させる密閉工程をさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記第14族元素の薄膜は、前記凹部の入口から前記凹部の底面に向かって延びている、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記凹部の側面は、前記凹部の深さ方向に直交する幅方向に対向する一対の対向部を含み、
前記凹部の深さ方向への前記第14族元素の薄膜の長さは、前記凹部の幅方向への前記一対の対向部の間隔よりも長い、請求項1〜8のいずれか一項に記載の基板処理方法。 - 基板に設けられた凹部の側面で露出する第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去手段と、
前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給手段と、
前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給手段と、
前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、およびアンモニア水供給手段を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
前記基板に設けられた前記凹部の側面で露出する前記第14族元素の自然酸化膜を除去することにより、前記第14族元素の薄膜を前記凹部の側面で露出させる自然酸化膜除去工程と、
前記第14族元素の自然酸化膜が除去された後に、前記第14族元素の薄膜に液状のIPAを接触させるIPA供給工程と、
前記IPAが前記第14族元素の薄膜に接触した後に、前記基板にアンモニア水を供給することにより、前記第14族元素の薄膜をエッチングするアンモニア水供給工程と、を実行する、基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段をさらに備え、
前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および、基板回転手段を制御し、
前記IPA供給工程は、第2回転速度よりも小さい第1回転速度で前記基板を回転させながら、前記基板の表面全域に前記IPAの液膜を保持する液膜保持工程を含み、
前記アンモニア水供給工程は、前記基板の回転速度を前記第1回転速度から前記第2回転速度に上昇させながら、前記基板に供給される前記アンモニア水の吐出を開始するアンモニア水吐出開始工程と、前記アンモニア水吐出開始工程の後に、前記基板の回転速度を前記第2回転速度に維持しながら、前記アンモニア水の吐出を継続するアンモニア水吐出継続工程とを含む、請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記制御装置は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程を含む1つのサイクルを複数回行う、請求項10または11に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段と、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を変更する流量調整バルブと、をさらに備え、
前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、基板回転手段、および、流量調整バルブを制御し、
前記アンモニア水供給工程は、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の回転速度を上昇させる加速工程と、前記基板の表面全域が前記アンモニア水の液膜で覆われている状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる流量増加工程と、のうちの少なくとも一つを含む、請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記基板の中央部に直交する回転軸線まわりに前記基板を回転させる基板回転手段をさらに備え、
前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および基板回転手段を制御し、
前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第1加速工程と、前記第1加速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を低下させる第1減速工程と、前記第1減速工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の回転速度を上昇させる第2加速工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を変更する流量調整バルブをさらに備え、
前記制御装置は、前記自然酸化膜除去手段、IPA供給手段、アンモニア水供給手段、および流量調整バルブを制御し、
前記アンモニア水供給工程は、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第1流量増加工程と、前記第1流量増加工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を減少させる第1流量減少工程と、前記第1流量減少工程の後、前記アンモニア水の液膜が前記基板の表面にある状態で、前記基板の表面に向けて吐出される前記アンモニア水の流量を増加させる第2流量増加工程と、を含む1つのルーチンを1回以上行うルーチン実行工程を含む、請求項10に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置は、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板の直径以上の外径を有しており、前記基板の表面に対向する対向面と、前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置する上端を含み、前記基板を取り囲む筒状のガードと、をさらに備え、
前記制御装置は、前記IPA供給工程およびアンモニア水供給工程の少なくとも一方が行われているときに、前記基板の表面が上に向けられた状態で前記基板を水平に保持しながら、前記対向面を前記基板の表面に対向させ、前記ガードの上端を前記対向面と等しい高さまたは前記対向面よりも上方の高さに位置させる密閉工程をさらに実行する、請求項10〜15のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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