JP6925746B2 - Membrane forming device and film forming method - Google Patents
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Description
本発明は、膜形成装置及び膜形成方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus and a film forming method.
タッチパネルの透明導電膜をパターニングするためのレジストパターンの形成に、フォトリソグラフィ技術またはスクリーン印刷技術が用いられている。フォトリソグラフィ技術を用いる方法では、高精細のパターンを形成することができるが、装置コスト、廃液処理コスト等が嵩む。スクリーン印刷技術を用いる方法では、装置コスト、廃液処理コストの点ではフォトリソグラフィ技術を用いる方法より有利であるが、高精細のパターンを形成することが困難である。インクジェット印刷技術を用いて高精細なレジストパターンを形成する技術が提案されている(特許文献1)。 Photolithography technology or screen printing technology is used to form a resist pattern for patterning a transparent conductive film of a touch panel. In the method using the photolithography technique, a high-definition pattern can be formed, but the equipment cost, the waste liquid treatment cost, and the like increase. The method using the screen printing technique is more advantageous than the method using the photolithography technique in terms of equipment cost and waste liquid treatment cost, but it is difficult to form a high-definition pattern. A technique for forming a high-definition resist pattern using an inkjet printing technique has been proposed (Patent Document 1).
透明導電膜等のエッチング時にエッチングマスクとして用いられる膜を高精細に形成する技術が求められている。特に、インクジェット印刷技術を用いて直線状の縁を持つ膜を形成する場合に、縁が直線から歪んでしまうという課題がある。本発明の目的は、インクジェット印刷技術を用いて、膜の直線状の縁の歪みを低減させることが可能な膜形成装置及び膜形成方法を提供することである。 There is a demand for a technique for forming a film used as an etching mask at the time of etching a transparent conductive film or the like with high definition. In particular, when a film having a linear edge is formed by using an inkjet printing technique, there is a problem that the edge is distorted from the straight line. An object of the present invention is to provide a film forming apparatus and a film forming method capable of reducing distortion of a linear edge of a film by using an inkjet printing technique.
本発明の一観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域のパターンを記憶する記憶装置と、
塗布対象物を支持する支持部と、
前記支持部に支持された塗布対象物の表面に向かってインクを吐出する複数のノズル孔を有するインク吐出装置と、
前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記支持部に対して固定された相互に直交するx方向及びy方向に移動させる機能を持つ移動機構と、
前記インク吐出装置と前記移動機構とを制御する制御装置と
を有し、
複数の前記ノズル孔は前記x方向に並んで配置されており、
前記制御装置は、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記記憶装置に記憶された前記塗布対象領域のパターンに基づいて、前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布する第1の制御と、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、 前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記y方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布する第2の制御と
を実行する機能を有する膜形成装置が提供される。
According to one aspect of the invention
A storage device that stores a pattern of an application target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction.
A support part that supports the object to be applied and
An ink ejection device having a plurality of nozzle holes for ejecting ink toward the surface of an object to be coated supported by the support portion, and an ink ejection device.
Movement having a function of moving one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device with respect to the other in the x-direction and the y-direction fixed to the support portion and orthogonal to each other. Mechanism and
It has a control device that controls the ink ejection device and the moving mechanism.
The plurality of nozzle holes are arranged side by side in the x direction.
The control device is
With the first direction parallel to the x direction, the coating object supported by the support portion and the ink ejection device based on the pattern of the coating target region stored in the storage device. A first method of applying ink to an edge of the application target area parallel to the first direction by ejecting ink from the ink ejection device while moving one of the two with respect to the other in the x direction. Control and
In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device is moved in the y direction with respect to the other. A film forming apparatus having a function of executing a second control of applying ink to an edge parallel to the second direction of the application target region by ejecting ink from the ink ejection device is provided.
本発明の他の観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を有するインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させている期間、及び前記y方向に移動させている期間の少なくとも一方の期間に、前記塗布対象領域の内側にインクを塗布する膜形成方法が提供される。
According to another aspect of the invention
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, the ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other, and the first direction of the coating target area is described. Apply ink to the edges parallel to the direction of 1
While in parallel with said x direction and said first direction, one of said object to be coated with the ink ejection device relative to the other, while moving in the y direction perpendicular to the x-direction, the coating Ink is applied to the edge of the target area parallel to the second direction.
The object to be coated with one period that is moved in the x direction relative to the other of the ink discharge device, and at least one of the periods is being moved in the y-direction, the inside of the coating target region A film forming method for applying ink to the ink is provided.
本発明のさらに他の観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を持つインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第1の方向に平行な縁に塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第2の方向に平行な縁に塗布し、
前記塗布対象物の内側に、複数の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する膜形成方法が提供される。
According to yet another aspect of the invention.
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. Of the plurality of nozzle holes, an ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other in a state where the first direction and the x direction are parallel to each other. The ink ejected from the same nozzle hole is applied to the edge parallel to the first direction, and the ink is applied to the edge parallel to the first direction.
With the first direction parallel to the x direction, a plurality of the object to be coated and the ink ejection device are moved with respect to the other in the y direction orthogonal to the x direction. The ink ejected from the same nozzle hole among the nozzle holes of the above is applied to the edge parallel to the second direction.
A film forming method for applying ink ejected from a plurality of nozzle holes to the inside of the coating object is provided.
塗布されたインクからなる膜の、第1の方向に平行な縁及び第2の方向に平行な縁の、直線からの歪みを少なくすることができる。 It is possible to reduce the distortion from the straight line of the edge parallel to the first direction and the edge parallel to the second direction of the film made of the applied ink.
図1〜図5Bを参照して、実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。
図1は、実施例による膜形成装置の概略図である。基台20に移動機構21を介して支持部(テーブル)23が支持されている。支持部23の上面(支持面)に塗布対象物である基板50が支持される。支持部23の上面をxy面とし、その法線方向をz軸の正の向きとするxyz直交座標系を定義する。通常、xy面が水平になるように基台20が設置される。
The film forming apparatus and the film forming method according to the examples will be described with reference to FIGS. 1 to 5B.
FIG. 1 is a schematic view of a film forming apparatus according to an embodiment. The support portion (table) 23 is supported on the
移動機構21は、x軸方向直動機構21A、y軸方向直動機構21B、及び回転機構21Cを含む。x軸方向直動機構21Aは、y軸方向直動機構21Bの案内レールをx軸方向に移動させる。y軸方向直動機構21Bは、回転機構21Cをy軸方向に移動させる。回転機構21Cは、z軸に平行な回転軸の周りに支持部23を回転させる。すなわち、移動機構21は、支持部23に支持された基板50を、x軸方向及びy軸方向の二方向に並進移動させる機能、及びz軸に平行な回転軸の周りに回転させる機能を持つ。
The moving
支持部23に支持された基板50の上方にインク吐出装置26が配置されている。インク吐出装置26は、例えば門型フレーム24によって基台20に支持されている。インク吐出装置26は、基板50の方(下方)を向く複数のノズル孔を有している。インク吐出装置26は、複数のノズル孔から基板50に向かってインクを液滴化して吐出する。
The
基板50に向かって吐出するインクとして、例えば紫外線硬化型のインクが用いられる。基板50に塗布されたインクに紫外線を放射するための光源が、インク吐出装置26の側方に配置されている。熱硬化型のインクを用いる場合には、インク吐出装置26の側方に、基板50に塗布されたインクを加熱するための熱源が配置される。
As the ink to be ejected toward the
記憶装置31に、インクを塗布する領域(塗布対象領域)の位置及び平面形状を定義する画像データが記憶されている。塗布対象領域は、例えば複数の画素によって定義され、画像データとしてビットマップデータが用いられる。入力装置35から制御装置30に、種々のコマンドやデータが入力される。入力装置35には、例えばキーボード、ポインティングデバイス、USBポート、通信装置等が用いられる。出力装置36に、膜形成装置の動作に関する種々の情報が出力される。出力装置36には、例えばディスプレイ、スピーカ、USBポート、通信装置等が用いられる。
The
制御装置30が、記憶装置31に記憶されている画像データに基づいて移動機構21及びインク吐出装置26を制御する。移動機構21を動作させて基板50を移動させながら、インク吐出装置26からインクを吐出させることにより、基板50の塗布対象領域にインクを塗布することができる。
The
図2Aは、インク吐出装置26の底面図である。インク吐出装置26の底面に複数のノズル孔27がx軸方向に等間隔に並んでいる。複数のノズル孔27は、直線状に配置してもよいし、千鳥状に配置してもよい。ノズル孔27のx軸方向のピッチPは、例えば解像度300dpiに相当する寸法(約85μm)である。一方の端のノズル孔27から他方の端のノズル孔27までの距離Lxは例えば50mmである。y軸方向に関してインク吐出装置26の両側に、インクを硬化させるための光源28が配置されている。
FIG. 2A is a bottom view of the
次に、図2Bを参照して、基板50にインクを塗布するときの基板50とインク吐出装置26との相対的な移動の様子について説明する。
図2Bは、基板50に対するインク吐出装置26の移動の軌跡を示す平面図である。例えば、平面形状が正方形または長方形の基板50が、その縁をx軸方向及びy軸方向に平行にして支持部23(図1)に支持されている。一例として、基板50の平面形状は、一辺の長さが500mmの正方形である。実際には、インク吐出装置26に対して基板50をx軸方向及びy軸方向に移動させることによりインクを塗布するが、以下の説明では、基板50の移動を、基板50に対するインク吐出装置26の相対的な移動として表現する場合がある。
Next, with reference to FIG. 2B, a state of relative movement between the
FIG. 2B is a plan view showing a locus of movement of the
基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向に相対的に移動させると、x軸方向の幅がLxの帯状の領域(以下、ストリート51という。)にインクを塗布することができる。基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向の一端から他端まで通過させる手順を1回のy軸方向へのパスということとする。1回のy軸方向へのパスを実行することによって、x軸方向に関してピッチPに対応する解像度でインクを塗布することができる。1つのストリート51内でインク吐出装置26をx軸方向にピッチPの1/4だけずらしながら4回のパスを実行することにより、1つのストリート51内におけるx軸方向の解像度を4倍に高めることができる。例えば、ノズル孔27(図2A)のピッチPが300dpiに相当する場合、4回のパスを実行することによりx軸方向の解像度を1200dpiに高めることができる。
When the
1つのストリート51へのインクの塗布が終了すると、インク吐出装置26を基板50に対してx軸方向にLx(図2A)だけ相対的に移動させて、隣のストリート51へのインクの塗布を実行する。この処理を繰り返すことにより、基板50の全域の塗布対象領域にインクを塗布することができる。
When the application of ink to one
実施例について説明する前に、図3A〜図3Cを参照して、参考例による方法でインクの塗布を行う手順、及び塗布結果について説明する。 Before explaining the examples, the procedure for applying the ink by the method according to the reference example and the application result will be described with reference to FIGS. 3A to 3C.
図3Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図である。塗布対象領域55の各々は、x軸方向に平行な縁及びy軸方向に平行な縁を含む。一例として、塗布対象領域55の各々の平面形状は正方形または長方形である。
FIG. 3A is a plan view of a plurality of
図3Bは、矢印56で示した方向(y軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55の各々にインクが塗布されて、インクによる膜が形成されている。
FIG. 3B is a plan view of the
図3Cは、塗布されたインクによって形成された膜52を拡大した平面図である。形成された膜52の、y軸方向に平行な縁はほぼ直線状になっている。これに対し、x軸方向に平行な縁は波打っており、直線からの歪みが発生している。
FIG. 3C is an enlarged plan view of the
以下、y軸方向に平行な縁に歪みが発生する原因について説明する。基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布するため、y軸方向に平行な縁には、同一のノズル孔27(図2A)から吐出されたインクが塗布される。これに対し、x軸方向に平行な縁には、異なる複数のノズル孔27から吐出されたインクが塗布される。
Hereinafter, the cause of distortion occurring at the edge parallel to the y-axis direction will be described. Since the ink is applied while moving the
ノズル孔27によって、インクの吐出方向にばらつきがある。同一のノズル孔27から吐出されたインクの液滴が着弾する位置は、目標位置から同一方向に同一距離だけずれる。このため、塗布対象領域55のy軸方向に平行な縁はほぼ直線になる。これに対し、異なるノズル孔27から吐出されたインクの液滴が着弾する位置と、目標位置との相対位置関係は同一にならない。このため、異なるノズル孔27から吐出されたインクによって形成されるx軸方向に平行な縁が、直線から歪んでしまう。
The ink ejection direction varies depending on the
次に、図4A〜図4D、図5A〜図5Bを参照して、実施例による方法でインクの塗布を行う手順について説明する。
図4Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図であり、図3Aに示した平面図と同一である。図4Aでは4つの塗布対象領域55を示しているが、実際にはより多くの塗布対象領域55が基板50の表面に分布している。なお、塗布対象領域55の位置及び形状は、記憶装置31(図1)に記憶された画像データによって定義されている。塗布対象領域55内に、仮想的に、画像データの画素に対応する複数の画素が定義される。
Next, the procedure for applying the ink by the method according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 4D and 5A to 5B.
FIG. 4A is a plan view of a plurality of
塗布対象領域55の表面に固定されたuv直交座標系を定義する。xyz直交座標系は、基台20(図1)に対して固定されている。インクの塗布前は、u軸方向及びv軸方向が、それぞれx軸方向及びy軸方向と平行である。複数の塗布対象領域55の各々は、u軸方向及びv軸方向に平行な縁を持つ。
An uv Cartesian coordinate system fixed to the surface of the
図4Bは、矢印57で示した方向(v軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55のy軸方向に平行な縁55v、及び塗布対象領域55の内奥部にインクを塗布し、x軸方向に平行な縁55uにはインクを塗布しない。なお、正方形または長方形の塗布対象領域55の頂点の少なくとも1つの画素には、インクが塗布される。頂点の画素を含む頂点近傍の複数の画素にインクを塗布してもよい。
FIG. 4B is a plan view of the
4回のパスを実行した後、u軸方向に平行な縁55u上の画素を含む未塗布領域59が残る。未塗布領域59のv軸方向の寸法(幅)は、画素1個分以上である。塗布対象領域55の頂点の画素にはインクが塗布されるため、未塗布領域59の両端は、v軸方向に平行な縁55vまで達していない。
After performing the four passes, the
図4Cは、基板50のすべてのストリート51(図2B)内の塗布対象領域55に対する図4Bのインク塗布処理が終了した後の手順を示す図である。制御装置30(図1)が回転機構21Cを制御して、支持部23を90°回転させる。回転後、塗布対象領域55の表面に固定されたu軸方向及びv軸方向が、それぞれy軸方向及びx軸方向と平行になる。
FIG. 4C is a diagram showing a procedure after the ink coating process of FIG. 4B is completed for the
図4Dは、矢印58で示した方向(u軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。この4回のパスによって、未塗布領域59(図4A)にインクを塗布する。図4B及び図4Dに示した処理で実行される複数回のパスにより、塗布対象領域55の内部の全域にインクが塗布される。
FIG. 4D is a plan view of the
図5Aは、図4Bに示した4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の頂点近傍と、ノズル孔27との位置関係を示す図である。塗布対象領域55の位置及び形状が、正方格子状に並ぶ複数の画素60によって定義されている。図4Bに示した4回のパスを実行することによってインクが塗布された画素60にハッチングを付している。
FIG. 5A is a diagram showing the positional relationship between the vicinity of the apex of the
なお、実際のインクの液滴は、塗布対象領域55の表面において、1つの画素60の大きさよりも広い領域を覆う。例えば、画素60のピッチは、解像度1200dpiに相当する約21μmであり、塗布対象領域55の表面に塗布されたインクの液滴の直径は約50μmである。このとき、インクの液滴の直径は約2.5個分の画素60の寸法に相当する。
The actual ink droplets cover a region wider than the size of one
4回のパスを実行することにより、v軸方向に平行な縁55v上の画素60にインクが塗布されるとともに、未塗布領域59以外の内奥部の画素60にもインクが塗布される。図5Aでは、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍に設定している。また、塗布対象領域55の頂点を含む所定個数(例えば2×2個)の画素60にインクを塗布している。
By executing the four passes, the ink is applied to the
図5Aでは、1回目のパスでv軸方向に平行な縁55v上の画素60にインクを塗布する例を示したが、v軸方向に平行な縁55vの位置によっては、2回目〜4回目のいずれかのパスで、縁55v上の画素60にインクが塗布される場合もある。例えば、v軸方向に平行な縁55v上の画素60に、4回目のパスによってインクが塗布される場合には、v軸方向に平行な縁55v上の画素60に隣接する1画素分内側の画素60に、1回目のパスによってインクが塗布されることになる。
FIG. 5A shows an example in which ink is applied to the
図5Bは、図4Dに示した4回のパスを実行する直前の塗布対象領域55の頂点近傍と、ノズル孔27との位置関係を示す図である。図5Bでは、基板50の表面のu軸方向がy軸方向と平行になる。図5Bでは、未塗布領域59の幅が画素ピッチの2倍であるため、2回のパスを実行することにより、未塗布領域59内のすべての画素60にインクを塗布することができる。
FIG. 5B is a diagram showing the positional relationship between the vicinity of the apex of the
図5Bに示された未塗布領域59と、他の未塗布領域との位置関係によっては、この2回のパスですべての未塗布領域にインクを塗布できない場合がある。この場合には、3回目及び4回目のパスを実行することにより、すべての未塗布領域にインクを塗布することができる。
Depending on the positional relationship between the
次に、上記実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to the above examples will be described.
上記実施例では、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v(図4B)には、基板50に対してインク吐出装置26をv軸方向に相対的に移動させながらインクが塗布され、u軸方向に平行な縁55u(図4D)には、基板50に対してインク吐出装置26をu軸方向に相対的に移動させながらインクが塗布される。このため、u軸方向に平行な縁には、同一のノズル孔27から吐出されたインクが塗布され、v軸方向に平行な縁にも、同一のノズル孔27から吐出されたインクが塗布される。このため、インクによって形成された膜の縁を直線に近づけることができる。このため、インクで形成された膜の見栄えをよくすることができる。また、塗布されたインクの膜をエッチングマスクとして下層の膜をエッチングする場合、エッチング後の下層の膜の見栄えがよくなるという効果が得られる。
In the above embodiment, the
複数の塗布対象領域55がu軸方向及びv軸方向に接近して配置されている場合、すなわち塗布対象領域55のu軸方向及びv軸方向の間隔が狭い場合でも、縁の歪みを少なくすることにより、隣り合う塗布対象領域55に塗布されたインクの膜が相互に連続してしまうことを抑制することができる。例えば、塗布されたインクの膜をエッチングマスクとして下層の導電膜をエッチングする場合、エッチング後の導電パターン同士の短絡故障を抑制することができる。
Even when a plurality of
次に、未塗布領域59(図4B)の幅の好ましい寸法について説明する。図4Bに示した塗布処理でインクによって形成された膜の、u軸方向に平行な縁には、複数のノズル孔27の特性のばらつきに起因する直線からの歪みが発生する。未塗布領域59の幅が狭すぎると、この歪みを修正することができない。この歪みを修正するために、未塗布領域59の幅を、発生し得る歪みの最大振幅以上にすることが好ましい。例えば、ノズル孔27から吐出されるインクの向きにばらつきがあったとしても、そのばらつきの幅が画素ピッチを超えることはない。従って、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍以上にすることによって、縁の歪みを十分修正することが可能である。
Next, a preferable dimension of the width of the uncoated region 59 (FIG. 4B) will be described. The edge of the film formed by the ink in the coating process shown in FIG. 4B, which is parallel to the u-axis direction, is distorted from a straight line due to variations in the characteristics of the plurality of nozzle holes 27. If the width of the
なお、未塗布領域59(図4B)の平面形状を、u軸方向に長い長方形にする必要はなく、任意の形状でよい。図4Dに示した処理で、未塗布領域59内にインクを塗布すればよい。例えば、正方形または長方形の塗布対象領域55を2本の対角線で4等分して得られる三角形の領域のうち、u軸方向に平行な縁を含む2つの領域を未塗布領域59として残してもよい。
The planar shape of the uncoated region 59 (FIG. 4B) does not have to be a rectangle long in the u-axis direction, and may be any shape. Ink may be applied to the
上記実施例では、基板50を回転させる手順(図4C)が必要であるため、タクトタイムが長くなってしまうことが懸念される。以下に説明するように、従来の方法(図3B)で高品質のインク塗布を行うために必要なタクトタイムに比べて、実施例による方法でインクの塗布を行うタクトタイムが大幅に増加してしまうことはない。 In the above embodiment, since the procedure for rotating the substrate 50 (FIG. 4C) is required, there is a concern that the takt time will be long. As will be described below, the tact time required to apply the ink by the method according to the embodiment is significantly increased as compared with the tact time required to apply the high quality ink by the conventional method (FIG. 3B). It won't end up.
以下の説明では、基板50の寸法を500mm×500mmの正方形とし、インク吐出装置26に設けられた両端のノズル孔27の間隔Lx(図2A)を50mmとし、ノズル孔27のピッチP(図2A)を300dpi相当とし、基板50の移動速度を200mm/sとした例について説明する。
In the following description, the dimensions of the
従来の方法(図3B)を用いてx軸方向に関する解像度を高くすると、塗布対象領域55のx軸方向に平行な縁の歪みがある程度小さくなることが判明した。例えば、y軸方向の解像度を1200dpiにし、x軸方向の解像度を2400dpiにすると、x軸方向に平行な縁の歪みがある程度小さくなる。x軸方向の分解能を2400dpiにするためには、1本のストリート51(図2B)の塗布処理に8回のパスを繰り返す必要がある。1回のパスを実行するときに、インク吐出装置26が基板50の上方を通過する時間は2.5秒であるが、加減速に約1秒が必要であるため、1回のパスに必要な時間は約3.5秒である。
It was found that when the resolution in the x-axis direction was increased by using the conventional method (FIG. 3B), the distortion of the edge parallel to the x-axis direction of the
1本のストリートに8回のパスが必要であるため、1本のストリートの塗布処理時間は約28秒である。1枚の基板50に10本のストリート51が画定されるため、1枚の基板50の塗布処理時間は約280秒になる。
Since one street requires eight passes, the coating process time for one street is about 28 seconds. Since 10
実施例による方法では、x軸方向に関する解像度を1200dpiまで落としても、塗布対象領域55の縁の十分な直線性が得られる。このため、1本のストリートの塗布処理に4回のパスを実行すればよい。加減速に必要な時間を加味しても、1本のストリート51の塗布処理時間は14秒である。10本のストリート51の塗布処理時間は140秒になる。実施例では、v軸方向に平行な縁にインクを塗布する処理(図4B)と、u軸方向に平行な縁にインクを塗布する処理(図4D)とを別々に実行するため、合計で280秒の処理時間が必要になる。基板50を回転させる処理に必要な時間は10秒以下である。回転に必要な時間が10秒であったとしても、1枚の基板50を処理する時間は約290秒である。
In the method according to the embodiment, even if the resolution in the x-axis direction is reduced to 1200 dpi, sufficient linearity of the edge of the
上述のように、実施例による塗布方法を採用した時のタクトタイムが、従来の方法を採用したときのタクトタイムに対して大幅に増加することはない。 As described above, the tact time when the coating method according to the embodiment is adopted does not significantly increase with respect to the tact time when the conventional method is adopted.
次に、上記実施例の変形例について説明する。上記実施例では、基台20(図1)に対してインク吐出装置26を静止させ、基板50を移動させたが、基板50及びインク吐出装置26の一方を他方に対して相対的に移動させればよい。例えば、基板50を静止させてインク吐出装置26を移動させてもよい。または、x軸方向に関しては、基板50を静止してインク吐出装置26を移動させ、y軸方向に関しては、その逆にインク吐出装置26を静止させ、基板50を移動させてもよい。
Next, a modified example of the above embodiment will be described. In the above embodiment, the
上記実施例では、u軸方向とv軸方向とが直交するが、両者は必ずしも直交する必要はなく、交差していればよい。例えば、塗布対象領域55の各々の平面形状が平行四辺形であってもよい。このとき、図4Cに示した回転処理において、u軸方向とv軸方向とのなす角度だけ基板50を回転させればよい。
In the above embodiment, the u-axis direction and the v-axis direction are orthogonal to each other, but the two do not necessarily have to be orthogonal to each other and may intersect with each other. For example, each planar shape of the
また、上記実施例では、インク吐出装置26を1つのインクジェットヘッドで構成したが、複数のインクジェットヘッドでインク吐出装置26を構成してもよい。例えば、複数のインクジェットヘッドをx軸方向に並べて配置すると、1回のパスで複数のストリート51(図2B)の塗布処理を行うことができる。また、n個のインクジェットヘッドをy軸方向に並べるとともに、x軸方向にノズル孔27のピッチP(図2A)の1/n倍だけずらすことにより、1回のパスで塗布可能な解像度をn倍に高めることができる。
Further, in the above embodiment, the
次に、図6A〜図7Cを参照して、他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 6A to 7C, a film forming apparatus and a film forming method according to another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted.
図6Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図であり、図4Aに示した平面図と同一である。
FIG. 6A is a plan view of a plurality of
図6Bは、矢印61で示した方向(y軸方向及びv軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。この4回のパスを実行した後のインクが塗布された領域の状態は、図4Bに示したものと同一である。塗布対象領域55内に未塗布領域59が残っている。
FIG. 6B is a plan view of the
図6Cは、矢印62で示した方向(x軸方向及びu軸方向に平行な方向)に所定回数のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。この塗布処理により、未塗布領域59(図6B)にインクが塗布され、その結果、塗布対象領域55の内部の全域にインクが塗布される。インク吐出装置26のノズル孔27(図2A)はx軸方向に並んでいるため、x軸方向への1回のパスを実行することにより、x軸方向に平行な1行分の画素60にのみインクが塗布される。
FIG. 6C is a plan view of the
図7A〜図7Cは、図6Cに示した複数回のパスの実行時にインクを塗布する画素と、インク吐出装置26との位置関係を示す図である。
7A to 7C are diagrams showing the positional relationship between the pixels to which ink is applied when the plurality of passes shown in FIG. 6C are executed and the
図7Aに示すように、未塗布領域59の複数の画素60のうちu軸方向に並ぶ1行分の画素60のy軸方向の位置に、ノズル孔27のy軸方向の位置が一致するようにインク吐出装置26を移動させる。この状態で、基板50に対してインク吐出装置26を相対的にx軸方向に移動させるパスを1回実行する。これにより、未塗布領域59内の1行分の画素60にインクを塗布する。1行分の複数の画素60へのインクの塗布には、複数のノズル孔27のいずれを用いることも可能である。ただし、ノズル孔27の特性のばらつきの影響を受けないようにするために、1行分の複数の画素に対して同一のノズル孔27を用いることが好ましい。
As shown in FIG. 7A, the position of the
図7Bに示すように、未塗布領域59の複数の画素60のうちインクが塗布されていない1行分の画素60のy軸方向の位置に、ノズル孔27のy軸方向の位置が一致するように、インク吐出装置26を基板50に対して相対的に移動させる。
As shown in FIG. 7B, the position of the
図7Cに示すように、基板50に対してインク吐出装置26を相対的にx軸方向に移動させるパスを1回実行する。これにより、未塗布領域59内の1行分の画素60にインクを塗布する。
As shown in FIG. 7C, a pass for moving the
x軸方向への1回のパスを実行することにより、1行分の画素60にインクを塗布することができる。すべての未塗布領域59(図6B)内のすべての画素60にインクが塗布されるまで、インク吐出装置26のy軸方向の位置を変えてx軸方向へのパスを繰り返し実行する。
By executing one pass in the x-axis direction, ink can be applied to the
次に、図6A〜図7Cに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 6A to 7C will be described.
本実施例においても、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v(図6B)には、インク吐出装置26をv軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布する。さらに、u軸方向に平行な縁55u(図6C)には、インク吐出装置26をu軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布する。このため、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55の縁の直線からの歪みを小さくすることができる。
Also in this embodiment, ink is applied to the
また、本実施例では基板50を回転させる必要がないため、移動機構21(図1)に回転機能を持たせる必要がない。
Further, in this embodiment, since it is not necessary to rotate the
次に、未塗布領域59(図4B)の幅の好ましい寸法について説明する。本実施例においても、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍以上にすることが好ましい。また、本実施例では、u軸方向へのパス(図6C)を実行する際に、1行分の画素60にしかインクを塗布することができない。図6Cに示した塗布処理に必要なパス数を減らしてタクトタイムの短縮を図るために、未塗布領域59の幅をなるべく狭くすることが好ましい。従って、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍にすることが好ましい。
Next, a preferable dimension of the width of the uncoated region 59 (FIG. 4B) will be described. Also in this embodiment, it is preferable that the width of the
次に、本実施例の変形例について説明する。本実施例では、図6Bに示した塗布処理、及び図6Cに示した塗布処理において、インク吐出装置26の姿勢を変化させなかった。図6Bに示した塗布処理が終了した後、図6Cに示した塗布処理を行う前に、インク吐出装置26を90°回転させてもよい。そうすると、図6Cに示した塗布処理を行うときに、複数のノズル孔27(図2A)がv軸方向に並ぶようになる。このため、図7A及び図7Cに示した処理において、1回のパスを実行することによって複数行の画素60にインクを塗布することができる。その結果、パスの実行回数を低減させることができる。
Next, a modified example of this embodiment will be described. In this embodiment, the posture of the
次に、図8A及び図8Bを参照して、さらに他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。図1〜図5Bに示した実施例では、塗布対象物がリジッドな基板50であったが、本実施例では、塗布対象物がフレキシブルな基板50である。
Next, with reference to FIGS. 8A and 8B, a film forming apparatus and a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted. In the examples shown in FIGS. 1 to 5B, the object to be coated was the
図8Aは、本実施例による膜形成装置の概略図である。塗布対象物であるフレキシブルな基板50が繰り出しロール71から繰り出され、巻き取りロール72に巻き取られる。移動機構73が制御装置30によって制御されることにより、繰り出しロール71及び巻き取りロール72を回転させる。繰り出しロール71から繰り出されて巻き取りロール72に巻き取られる間の基板50の上方にインク吐出装置26が配置されている。基板50の送り方向をy軸方向とし、基板50の幅方向をx軸方向とし、鉛直上方をz軸の正方向とするxyz直交座標系を定義する。
FIG. 8A is a schematic view of the film forming apparatus according to this embodiment. The
インク吐出装置26は、基板50に対向する2つのインクジェットヘッド26A及び26Bを含む。一方のインクジェットヘッド26Aは、x軸方向に並ぶ複数のノズル孔を有する。もう一方のインクジェットヘッド26Bは、y軸方向に並ぶ複数のノズル孔を有する。また、インクジェットヘッド26Bは直動機構74によって支持されており、基板50に対してx軸方向に並進移動することができる構成とされている。
The
図8Bは、本実施例による膜形成装置の概略平面図である。繰り出しロール71と巻き取りロール72との間で、基板50がy軸方向に送られる。一方のインクジェットヘッド26Aは、基板50の幅方向(x軸方向)に関して一方の縁から他方の縁まで達しており、幅方向の全域にインクを塗布することができる。もう一方のインクジェットヘッド26Bは、基板50の幅方向(x軸方向)に関して一方の縁から他方の縁まで移動可能である。基板50の表面に、幅方向をu軸方向とし、送り方向をv軸方向とするuv直交座標系を定義する。
FIG. 8B is a schematic plan view of the film forming apparatus according to this embodiment. The
基板50の表面に複数の塗布対象領域55が画定されている。図8Bでは、一部の塗布対象領域55のみを示している。塗布対象領域55は、u軸方向に平行な縁55u及びv軸方向に平行な縁55vを含む。塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方を通過するときに、インクジェットヘッド26Aからインクを吐出させ、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v及び内奥部にインクを塗布する。この塗布処理は、図4Bに示した処理と実質的に同一である。この段階では、塗布対象領域55のu軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59が残されている。
A plurality of
基板50の送りを停止させた状態で、インクジェットヘッド26Bをx軸方向(u軸方向)に移動させることにより、未塗布領域59にインクを塗布する。この塗布処理における基板50とインク吐出装置26との相対的な移動は、図4Dに示した処理における相対的な移動と実質的に同一である。
Ink is applied to the
次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。本実施例においても、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55に塗布されたインクによって形成される膜の縁を直線に近づけることができる。
Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described. In this embodiment as well, similarly to the examples shown in FIGS. 1 to 5B, the edge of the film formed by the ink applied to the
次に、上記実施例の変形例について説明する。
上記実施例では、塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方を1回通過するときに、インクの塗布を行った。u軸方向に関する解像度を高めるために、インクジェットヘッド26Aを、ノズル孔のピッチより短い距離だけu軸方向にずらしながら、塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方をv軸方向に往復するように基板50の送り制御を行ってもよい。すなわち、v軸方向のパスを複数回実行してもよい。さらに、v軸方向に関する解像度を高めるために、基板50を、ノズル孔のピッチより短い距離だけv軸方向に移動させながら、インクジェットヘッド26Bをu軸方向に複数回移動させてもよい。すなわち、u軸方向のパスを複数回実行してもよい。
Next, a modified example of the above embodiment will be described.
In the above embodiment, the ink was applied when the
また、上記実施例では、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときに、インクジェットヘッド26Aに対して基板50をv軸方向に送ったが、基板50を静止させてインクジェットヘッド26Aをv軸方向に移動させてもよい。
Further, in the above embodiment, when the ink is applied to the
次に、図9A〜図9Cを参照して、さらに他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図8A及び図8Bに示した膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 9A to 9C, a film forming apparatus and a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method shown in FIGS. 8A and 8B will be omitted.
図9Aは、本実施例による膜形成装置の概略図である。図8A及び図8Bに示した実施例では、インク吐出装置26が2つのインクジェットヘッド26A、26Bを含んでいたが、本実施例では、インク吐出装置26が1つのインクジェットヘッドで構成される。インク吐出装置26は、直動機構74によってx軸方向に並進移動可能である。
FIG. 9A is a schematic view of the film forming apparatus according to this embodiment. In the embodiment shown in FIGS. 8A and 8B, the
図9Bは、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときの基板50及びインク吐出装置26の移動の様子を示す平面図である。基板50をv軸方向に送ることにより、1回のパスを実行する。インク吐出装置26をu軸方向にずらしながら複数回のパスを実行することにより、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v及び内奥部にインクを塗布する。この塗布処理は、図6Bに示した塗布処理と実質的に同一である。この塗布処理が終了した時点で、u軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59が残る。
FIG. 9B is a plan view showing the movement of the
図9Cは、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときの基板50及びインク吐出装置26の移動の様子を示す平面図である。未塗布領域59をインク吐出装置26の下方に配置した状態で、インク吐出装置26をu軸方向に移動させる1回のパスを実行する。基板50をv軸方向に送りながら複数回のパスを実行することにより、未塗布領域59にインクを塗布する。この処理は、図6Cに示した塗布処理と実質的に同一である。
FIG. 9C is a plan view showing the movement of the
次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。本実施例においても、図6A〜図6Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55に塗布されたインクによって形成される膜の縁を直線に近づけることができる。
Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described. In this embodiment as well, similarly to the examples shown in FIGS. 6A to 6B, the edge of the film formed by the ink applied to the
次に、図10A〜図10Dを参照して、さらに他の実施例による膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 10A to 10D, a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted.
図10Aは、基板50(図1、図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55のパターンを示す平面図である。図1〜図5Bに示した実施例では、塗布対象領域55(図4A)が、u軸方向及びv軸方向の二方向に平行な縁55u、55vを有する正方形または長方形であった。これに対し、本実施例では、塗布対象領域55が、u軸方向、v軸方向、及びw軸方向の三方向にそれぞれ平行な縁55u、55v、55wを有する。例えば、塗布対象領域55の各々の平面形状は等脚台形である。等脚台形が上下反転しながらw軸方向、及びw軸方向と直交する方向に並んでいる。
FIG. 10A is a plan view showing a pattern of a plurality of
本実施例では、w軸方向に平行な縁55w、u軸方向に平行な縁55u、及びv軸方向に平行な縁55vに、それぞれw軸方向のパス、u軸方向のパス、及びv軸方向のパスを実行することによりインクを塗布する。初期状態では、w軸方向がy軸方向と平行になっている。
In this embodiment, the
図10Bは、インク吐出装置26をw軸方向(y軸方向)に相対的に移動させるw軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55のw軸方向に平行な縁55w、及び塗布対象領域55の内奥部にインクを塗布し、u軸方向に平行な縁55u及びv軸方向に平行な縁55vにはインクを塗布しない。これにより、インクが塗布されていない未塗布領域59が残る。未塗布領域59は、例えば、u軸方向に平行な縁55uに沿う帯状の領域、及びv軸方向に平行な縁55vに沿う帯状の領域で構成される。
FIG. 10B is a plan view of the
w軸方向のパスを実行した後、制御装置30(図1)は回転機構21Cを制御して、u軸方向がy軸方向と平行になるように基板50を回転させる。この状態で、インク吐出装置26をy軸方向に移動させることにより、u軸方向のパスを実行する。
After executing the path in the w-axis direction, the control device 30 (FIG. 1) controls the
図10Cは、u軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。u軸方向のパスを実行することにより、u軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59にインクが塗布される。
FIG. 10C is a plan view of the
u軸方向のパスを実行した後、制御装置30(図1)は回転機構21Cを制御して、v軸方向がy軸方向と平行になるように基板50を回転させる。この状態で、インク吐出装置26をy軸方向に移動させることにより、v軸方向のパスを実行する。
After executing the pass in the u-axis direction, the control device 30 (FIG. 1) controls the
図10Dは、v軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。v軸方向のパスを実行することにより、v軸方向に平行な縁55vに沿う未塗布領域59にインクが塗布される。
FIG. 10D is a plan view of the
次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described.
本実施例においては、インクによって形成された膜の、w軸方向に平行な縁55w、u軸方向に平行な縁55u、及びv軸方向に平行な縁55vの直線からの歪みを抑制することができる。縁の直線性を高めるために、塗布対象領域55のパターンを定義する複数の画素を、u軸方向、v軸方向、及びw軸方向に平行に配列させるとよい。
In this embodiment, the distortion of the film formed by the ink from the straight line of the
本実施例では、塗布対象領域55の平面形状を等脚台形にしたが、三方向にそれぞれ平行な縁を持つその他の形状にしてもよい。例えば、塗布対象領域55の平面形状を正六角形にし、ハニカム構造を構成するように配置してもよい。塗布対象領域55の平面形状を、その他の多角形にしてもよい。
In this embodiment, the planar shape of the
上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 It goes without saying that each of the above embodiments is exemplary and the configurations shown in different examples can be partially replaced or combined. Similar effects and effects due to the same configuration of a plurality of examples will not be mentioned sequentially for each example. Furthermore, the present invention is not limited to the above-mentioned examples. For example, it will be obvious to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, etc. are possible.
20 基台
21 移動機構
21A x軸方向直動機構
21B y軸方向直動機構
21C 回転機構
23 支持部
24 門型フレーム
26 インク吐出装置
26A、26B インクジェットヘッド
27 ノズル孔
28 光源
30 制御装置
31 記憶装置
35 入力装置
36 出力装置
50 基板(塗布対象物)
51 ストリート
52 膜
55 塗布対象領域
55u u軸方向に平行な縁
55v v軸方向に平行な縁
55w w軸方向に平行な縁
56、57、58 パスの方向を示す矢印
59 未塗布領域
60 画素
61、62 パスの方向を示す矢印
71 繰り出しロール
72 巻き取りロール
73 移動機構
74 直動機構
20
51
Claims (4)
塗布対象物を支持する支持部と、
前記支持部に支持された塗布対象物の表面に向かってインクを吐出する複数のノズル孔を有するインク吐出装置と、
前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記支持部に対して固定された相互に直交するx方向及びy方向に移動させる機能を持つ移動機構と、
前記インク吐出装置と前記移動機構とを制御する制御装置と
を有し、
複数の前記ノズル孔は前記x方向に並んで配置されており、
前記制御装置は、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記記憶装置に記憶された前記塗布対象領域のパターンに基づいて、前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布する第1の制御と、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、 前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記y方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布する第2の制御と
を実行する機能を有する膜形成装置。 A storage device that stores a pattern of an application target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction.
A support part that supports the object to be applied and
An ink ejection device having a plurality of nozzle holes for ejecting ink toward the surface of an object to be coated supported by the support portion, and an ink ejection device.
Movement having a function of moving one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device with respect to the other in the x-direction and the y-direction fixed to the support portion and orthogonal to each other. Mechanism and
It has a control device that controls the ink ejection device and the moving mechanism.
The plurality of nozzle holes are arranged side by side in the x direction.
The control device is
With the first direction parallel to the x direction, the coating object supported by the support portion and the ink ejection device based on the pattern of the coating target area stored in the storage device. A first method of applying ink to an edge of the application target area parallel to the first direction by ejecting ink from the ink ejection device while moving one of the two with respect to the other in the x direction. Control and
In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device is moved in the y direction with respect to the other. A film forming apparatus having a function of ejecting ink from an ink ejection device to perform a second control of applying ink to an edge parallel to the second direction of the coating target region.
前記第1の制御において、前記第1の方向に平行な縁に、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布し、
前記第2の制御において、前記第2の方向に平行な縁にも、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する請求項1に記載の膜形成装置。 The control device is
In the first control, parallel edges in the first direction, applying the ink ejected from the same of the nozzle hole of the plurality of the nozzle holes,
The film forming apparatus according to claim 1 , wherein in the second control, ink ejected from the same nozzle hole among the plurality of nozzle holes is applied to an edge parallel to the second direction.
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させている期間、及び前記y方向に移動させている期間の少なくとも一方の期間に、前記塗布対象領域の内側にインクを塗布する膜形成方法。 A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, the ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other, and the first direction of the coating target area is described. Apply ink to the edges parallel to the direction of 1
While in parallel with said x direction and said first direction, one of said object to be coated with the ink ejection device relative to the other, while moving in the y direction perpendicular to the x-direction, the coating Ink is applied to the edge of the target area parallel to the second direction.
The object to be coated with one period that is moved in the x direction relative to the other of the ink discharge device, and at least one of the periods is being moved in the y-direction, the inside of the coating target region A film forming method for applying ink to the surface.
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第2の方向に平行な縁に塗布し、
前記塗布対象物の内側に、複数の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する膜形成方法。
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. Of the plurality of nozzle holes, an ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other in a state where the first direction and the x direction are parallel to each other. The ink ejected from the same nozzle hole is applied to the edge parallel to the first direction, and the ink is applied to the edge parallel to the first direction.
With the first direction parallel to the x direction, a plurality of the object to be coated and the ink ejection device are moved with respect to the other in the y direction orthogonal to the x direction. The ink ejected from the same nozzle hole among the nozzle holes of the above is applied to the edge parallel to the second direction.
A film forming method for applying ink ejected from a plurality of nozzle holes to the inside of an object to be coated.
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