JP6925746B2 - Membrane forming device and film forming method - Google Patents

Membrane forming device and film forming method Download PDF

Info

Publication number
JP6925746B2
JP6925746B2 JP2017240421A JP2017240421A JP6925746B2 JP 6925746 B2 JP6925746 B2 JP 6925746B2 JP 2017240421 A JP2017240421 A JP 2017240421A JP 2017240421 A JP2017240421 A JP 2017240421A JP 6925746 B2 JP6925746 B2 JP 6925746B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
axis direction
parallel
ejection device
edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017240421A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019109573A (en
Inventor
礒 圭二
圭二 礒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2017240421A priority Critical patent/JP6925746B2/en
Priority to TW107127211A priority patent/TWI673180B/en
Priority to KR1020180093821A priority patent/KR102529026B1/en
Priority to CN201810914191.0A priority patent/CN109927413B/en
Publication of JP2019109573A publication Critical patent/JP2019109573A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6925746B2 publication Critical patent/JP6925746B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/80Etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/2018Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02107Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02225Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
    • H01L21/0226Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
    • H01L21/02282Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
    • H01L21/02288Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating printing, e.g. ink-jet printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274Photolithographic processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Description

本発明は、膜形成装置及び膜形成方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus and a film forming method.

タッチパネルの透明導電膜をパターニングするためのレジストパターンの形成に、フォトリソグラフィ技術またはスクリーン印刷技術が用いられている。フォトリソグラフィ技術を用いる方法では、高精細のパターンを形成することができるが、装置コスト、廃液処理コスト等が嵩む。スクリーン印刷技術を用いる方法では、装置コスト、廃液処理コストの点ではフォトリソグラフィ技術を用いる方法より有利であるが、高精細のパターンを形成することが困難である。インクジェット印刷技術を用いて高精細なレジストパターンを形成する技術が提案されている(特許文献1)。 Photolithography technology or screen printing technology is used to form a resist pattern for patterning a transparent conductive film of a touch panel. In the method using the photolithography technique, a high-definition pattern can be formed, but the equipment cost, the waste liquid treatment cost, and the like increase. The method using the screen printing technique is more advantageous than the method using the photolithography technique in terms of equipment cost and waste liquid treatment cost, but it is difficult to form a high-definition pattern. A technique for forming a high-definition resist pattern using an inkjet printing technique has been proposed (Patent Document 1).

特許第5797277号公報Japanese Patent No. 57977277

透明導電膜等のエッチング時にエッチングマスクとして用いられる膜を高精細に形成する技術が求められている。特に、インクジェット印刷技術を用いて直線状の縁を持つ膜を形成する場合に、縁が直線から歪んでしまうという課題がある。本発明の目的は、インクジェット印刷技術を用いて、膜の直線状の縁の歪みを低減させることが可能な膜形成装置及び膜形成方法を提供することである。 There is a demand for a technique for forming a film used as an etching mask at the time of etching a transparent conductive film or the like with high definition. In particular, when a film having a linear edge is formed by using an inkjet printing technique, there is a problem that the edge is distorted from the straight line. An object of the present invention is to provide a film forming apparatus and a film forming method capable of reducing distortion of a linear edge of a film by using an inkjet printing technique.

本発明の一観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域のパターンを記憶する記憶装置と、
塗布対象物を支持する支持部と、
前記支持部に支持された塗布対象物の表面に向かってインクを吐出する複数のノズル孔を有するインク吐出装置と、
前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記支持部に対して固定された相互に直交するx方向及びy方向に移動させる機能を持つ移動機構と、
前記インク吐出装置と前記移動機構とを制御する制御装置と
を有し、
複数の前記ノズル孔は前記x方向に並んで配置されており、
前記制御装置は、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記記憶装置に記憶された前記塗布対象領域のパターンに基づいて、前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布する第1の制御と、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、 前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記y方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布する第2の制御と
を実行する機能を有する膜形成装置が提供される。
According to one aspect of the invention
A storage device that stores a pattern of an application target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction.
A support part that supports the object to be applied and
An ink ejection device having a plurality of nozzle holes for ejecting ink toward the surface of an object to be coated supported by the support portion, and an ink ejection device.
Movement having a function of moving one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device with respect to the other in the x-direction and the y-direction fixed to the support portion and orthogonal to each other. Mechanism and
It has a control device that controls the ink ejection device and the moving mechanism.
The plurality of nozzle holes are arranged side by side in the x direction.
The control device is
With the first direction parallel to the x direction, the coating object supported by the support portion and the ink ejection device based on the pattern of the coating target region stored in the storage device. A first method of applying ink to an edge of the application target area parallel to the first direction by ejecting ink from the ink ejection device while moving one of the two with respect to the other in the x direction. Control and
In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device is moved in the y direction with respect to the other. A film forming apparatus having a function of executing a second control of applying ink to an edge parallel to the second direction of the application target region by ejecting ink from the ink ejection device is provided.

本発明の他の観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を有するインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させている期間、及び前記y方向に移動させている期間の少なくとも一方の期間に、前記塗布対象領域の内側にインクを塗布する膜形成方法が提供される。
According to another aspect of the invention
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, the ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other, and the first direction of the coating target area is described. Apply ink to the edges parallel to the direction of 1
While in parallel with said x direction and said first direction, one of said object to be coated with the ink ejection device relative to the other, while moving in the y direction perpendicular to the x-direction, the coating Ink is applied to the edge of the target area parallel to the second direction.
The object to be coated with one period that is moved in the x direction relative to the other of the ink discharge device, and at least one of the periods is being moved in the y-direction, the inside of the coating target region A film forming method for applying ink to the ink is provided.

本発明のさらに他の観点によると、
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を持つインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第1の方向に平行な縁に塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第2の方向に平行な縁に塗布し、
前記塗布対象物の内側に、複数の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する膜形成方法が提供される。
According to yet another aspect of the invention.
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. Of the plurality of nozzle holes, an ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other in a state where the first direction and the x direction are parallel to each other. The ink ejected from the same nozzle hole is applied to the edge parallel to the first direction, and the ink is applied to the edge parallel to the first direction.
With the first direction parallel to the x direction, a plurality of the object to be coated and the ink ejection device are moved with respect to the other in the y direction orthogonal to the x direction. The ink ejected from the same nozzle hole among the nozzle holes of the above is applied to the edge parallel to the second direction.
A film forming method for applying ink ejected from a plurality of nozzle holes to the inside of the coating object is provided.

塗布されたインクからなる膜の、第1の方向に平行な縁及び第2の方向に平行な縁の、直線からの歪みを少なくすることができる。 It is possible to reduce the distortion from the straight line of the edge parallel to the first direction and the edge parallel to the second direction of the film made of the applied ink.

図1は、実施例による膜形成装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a film forming apparatus according to an embodiment. 図2Aは、インク吐出装置の底面図であり、図2Bは、基板に対するインク吐出装置の移動の軌跡を示す平面図である。FIG. 2A is a bottom view of the ink ejection device, and FIG. 2B is a plan view showing a locus of movement of the ink ejection device with respect to the substrate. 図3Aは、基板の表面に画定された複数の塗布対象領域の平面図であり、図3Bは、矢印で示した方向に4回のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図であり、図3Cは、塗布されたインクによって形成された膜を拡大した平面図である。FIG. 3A is a plan view of a plurality of coating target areas defined on the surface of the substrate, and FIG. 3B is a plan view of the coating target area after executing four passes in the direction indicated by the arrow. FIG. 3C is an enlarged plan view of a film formed by the applied ink. 図4Aは、基板の表面に画定された複数の塗布対象領域の平面図であり、図4Bは、矢印で示した方向に4回のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図であり、図4Cは、基板のすべてのストリート内の塗布対象領域に対する図4Bのインク塗布処理が終了した後の手順を示す図であり、図4Dは、矢印で示した方向に4回のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図である。FIG. 4A is a plan view of a plurality of coating target areas defined on the surface of the substrate, and FIG. 4B is a plan view of the coating target area after executing four passes in the direction indicated by the arrow. FIG. 4C is a diagram showing a procedure after the ink application process of FIG. 4B is completed for the application target area in all the streets of the substrate, and FIG. 4D shows four passes in the direction indicated by the arrow. It is a top view of the area to be coated later. 図5Aは、図4Bに示した4回のパスを実行した後の塗布対象領域の頂点近傍と、ノズル孔との位置関係を示す図であり、図5Bは、図4Dに示した4回のパスを実行する直前の塗布対象領域の頂点近傍と、ノズル孔との位置関係を示す図である。FIG. 5A is a diagram showing the positional relationship between the vicinity of the apex of the coating target area and the nozzle hole after executing the four passes shown in FIG. 4B, and FIG. 5B is a diagram showing the positional relationship between the nozzle holes and the four passes shown in FIG. 4D. It is a figure which shows the positional relationship between the vicinity of the apex of the coating target area just before execution of a pass, and a nozzle hole. 図6Aは、他の実施例による膜形成方法で膜を形成する対象となる基板の表面に画定された複数の塗布対象領域の平面図であり、図6Bは、矢印で示した方向に4回のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図であり、図6Cは、矢印で示した方向(x軸方向及びu軸方向に平行な方向)に所定回数のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図である。FIG. 6A is a plan view of a plurality of application target regions defined on the surface of the substrate to be formed by the film formation method according to another embodiment, and FIG. 6B is taken four times in the direction indicated by the arrow. It is a plan view of the coating target area after executing the pass of, FIG. 6C is a coating target after executing a predetermined number of passes in the direction indicated by the arrow (direction parallel to the x-axis direction and the u-axis direction). It is a top view of the area. 図7A〜図7Cは、図6Cに示した複数回のパスの実行時にインクを塗布する画素と、インク吐出装置との位置関係を示す図である。7A to 7C are diagrams showing the positional relationship between the pixels to which the ink is applied and the ink ejection device when the plurality of passes shown in FIG. 6C are executed. 図8Aは、さらに他の実施例による膜形成装置の概略図であり、図8Bは、膜形成装置の概略平面図である。FIG. 8A is a schematic view of the film forming apparatus according to still another embodiment, and FIG. 8B is a schematic plan view of the film forming apparatus. 図9Aは、さらに他の実施例による膜形成装置の概略図であり、図9Bは、塗布対象領域のv軸方向に平行な縁にインクを塗布するときの基板及びインク吐出装置の移動の様子を示す平面図であり、図9Cは、塗布対象領域のv軸方向に平行な縁にインクを塗布するときの基板及びインク吐出装置の移動の様子を示す平面図である。FIG. 9A is a schematic view of the film forming apparatus according to still another embodiment, and FIG. 9B shows the movement of the substrate and the ink ejection apparatus when applying ink to the edge parallel to the v-axis direction of the application target region. 9C is a plan view showing the movement of the substrate and the ink ejection device when the ink is applied to the edge parallel to the v-axis direction of the application target region. 図10Aは、さらに他の実施例による膜形成方法で膜形成の対象となる基板の表面に画定された塗布対象領域のパターンを示す平面図であり、図10Bは、w軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図であり、図10Cは、u軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図であり、図10Dは、v軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域の平面図である。FIG. 10A is a plan view showing a pattern of a coating target region defined on the surface of the substrate to be film-formed by the film-forming method according to still another embodiment, and FIG. 10B is a path in the w-axis direction. 10C is a plan view of the coating target area after executing the pass in the u-axis direction, and FIG. 10D is a plan view of the coating target area after executing the pass in the v-axis direction. It is a top view of the target area.

図1〜図5Bを参照して、実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。
図1は、実施例による膜形成装置の概略図である。基台20に移動機構21を介して支持部(テーブル)23が支持されている。支持部23の上面(支持面)に塗布対象物である基板50が支持される。支持部23の上面をxy面とし、その法線方向をz軸の正の向きとするxyz直交座標系を定義する。通常、xy面が水平になるように基台20が設置される。
The film forming apparatus and the film forming method according to the examples will be described with reference to FIGS. 1 to 5B.
FIG. 1 is a schematic view of a film forming apparatus according to an embodiment. The support portion (table) 23 is supported on the base 20 via the moving mechanism 21. The substrate 50, which is the object to be coated, is supported on the upper surface (support surface) of the support portion 23. An xyz Cartesian coordinate system is defined in which the upper surface of the support portion 23 is the xy plane and the normal direction thereof is the positive direction of the z axis. Normally, the base 20 is installed so that the xy plane is horizontal.

移動機構21は、x軸方向直動機構21A、y軸方向直動機構21B、及び回転機構21Cを含む。x軸方向直動機構21Aは、y軸方向直動機構21Bの案内レールをx軸方向に移動させる。y軸方向直動機構21Bは、回転機構21Cをy軸方向に移動させる。回転機構21Cは、z軸に平行な回転軸の周りに支持部23を回転させる。すなわち、移動機構21は、支持部23に支持された基板50を、x軸方向及びy軸方向の二方向に並進移動させる機能、及びz軸に平行な回転軸の周りに回転させる機能を持つ。 The moving mechanism 21 includes an x-axis direction linear motion mechanism 21A, a y-axis direction linear motion mechanism 21B, and a rotation mechanism 21C. The x-axis direction linear motion mechanism 21A moves the guide rail of the y-axis direction linear motion mechanism 21B in the x-axis direction. The y-axis direction linear motion mechanism 21B moves the rotation mechanism 21C in the y-axis direction. The rotation mechanism 21C rotates the support portion 23 around a rotation axis parallel to the z-axis. That is, the moving mechanism 21 has a function of translating the substrate 50 supported by the support portion 23 in two directions of the x-axis direction and the y-axis direction, and a function of rotating the substrate 50 around a rotation axis parallel to the z-axis. ..

支持部23に支持された基板50の上方にインク吐出装置26が配置されている。インク吐出装置26は、例えば門型フレーム24によって基台20に支持されている。インク吐出装置26は、基板50の方(下方)を向く複数のノズル孔を有している。インク吐出装置26は、複数のノズル孔から基板50に向かってインクを液滴化して吐出する。 The ink ejection device 26 is arranged above the substrate 50 supported by the support portion 23. The ink ejection device 26 is supported on the base 20 by, for example, a portal frame 24. The ink ejection device 26 has a plurality of nozzle holes facing the substrate 50 (downward). The ink ejection device 26 droplets and ejects ink from a plurality of nozzle holes toward the substrate 50.

基板50に向かって吐出するインクとして、例えば紫外線硬化型のインクが用いられる。基板50に塗布されたインクに紫外線を放射するための光源が、インク吐出装置26の側方に配置されている。熱硬化型のインクを用いる場合には、インク吐出装置26の側方に、基板50に塗布されたインクを加熱するための熱源が配置される。 As the ink to be ejected toward the substrate 50, for example, an ultraviolet curable ink is used. A light source for radiating ultraviolet rays to the ink applied to the substrate 50 is arranged on the side of the ink ejection device 26. When a thermosetting type ink is used, a heat source for heating the ink applied to the substrate 50 is arranged on the side of the ink ejection device 26.

記憶装置31に、インクを塗布する領域(塗布対象領域)の位置及び平面形状を定義する画像データが記憶されている。塗布対象領域は、例えば複数の画素によって定義され、画像データとしてビットマップデータが用いられる。入力装置35から制御装置30に、種々のコマンドやデータが入力される。入力装置35には、例えばキーボード、ポインティングデバイス、USBポート、通信装置等が用いられる。出力装置36に、膜形成装置の動作に関する種々の情報が出力される。出力装置36には、例えばディスプレイ、スピーカ、USBポート、通信装置等が用いられる。 The storage device 31 stores image data that defines the position and planar shape of the area to which the ink is applied (application target area). The coating target area is defined by, for example, a plurality of pixels, and bitmap data is used as the image data. Various commands and data are input from the input device 35 to the control device 30. For the input device 35, for example, a keyboard, a pointing device, a USB port, a communication device, or the like is used. Various information regarding the operation of the film forming apparatus is output to the output device 36. For the output device 36, for example, a display, a speaker, a USB port, a communication device, or the like is used.

制御装置30が、記憶装置31に記憶されている画像データに基づいて移動機構21及びインク吐出装置26を制御する。移動機構21を動作させて基板50を移動させながら、インク吐出装置26からインクを吐出させることにより、基板50の塗布対象領域にインクを塗布することができる。 The control device 30 controls the moving mechanism 21 and the ink ejection device 26 based on the image data stored in the storage device 31. By ejecting ink from the ink ejection device 26 while moving the substrate 50 by operating the moving mechanism 21, the ink can be applied to the area to be coated on the substrate 50.

図2Aは、インク吐出装置26の底面図である。インク吐出装置26の底面に複数のノズル孔27がx軸方向に等間隔に並んでいる。複数のノズル孔27は、直線状に配置してもよいし、千鳥状に配置してもよい。ノズル孔27のx軸方向のピッチPは、例えば解像度300dpiに相当する寸法(約85μm)である。一方の端のノズル孔27から他方の端のノズル孔27までの距離Lxは例えば50mmである。y軸方向に関してインク吐出装置26の両側に、インクを硬化させるための光源28が配置されている。 FIG. 2A is a bottom view of the ink ejection device 26. A plurality of nozzle holes 27 are arranged at equal intervals in the x-axis direction on the bottom surface of the ink ejection device 26. The plurality of nozzle holes 27 may be arranged in a straight line or in a staggered manner. The pitch P of the nozzle hole 27 in the x-axis direction has a dimension (about 85 μm) corresponding to, for example, a resolution of 300 dpi. The distance Lx from the nozzle hole 27 at one end to the nozzle hole 27 at the other end is, for example, 50 mm. Light sources 28 for curing ink are arranged on both sides of the ink ejection device 26 in the y-axis direction.

次に、図2Bを参照して、基板50にインクを塗布するときの基板50とインク吐出装置26との相対的な移動の様子について説明する。
図2Bは、基板50に対するインク吐出装置26の移動の軌跡を示す平面図である。例えば、平面形状が正方形または長方形の基板50が、その縁をx軸方向及びy軸方向に平行にして支持部23(図1)に支持されている。一例として、基板50の平面形状は、一辺の長さが500mmの正方形である。実際には、インク吐出装置26に対して基板50をx軸方向及びy軸方向に移動させることによりインクを塗布するが、以下の説明では、基板50の移動を、基板50に対するインク吐出装置26の相対的な移動として表現する場合がある。
Next, with reference to FIG. 2B, a state of relative movement between the substrate 50 and the ink ejection device 26 when ink is applied to the substrate 50 will be described.
FIG. 2B is a plan view showing a locus of movement of the ink ejection device 26 with respect to the substrate 50. For example, a substrate 50 having a square or rectangular planar shape is supported by a support portion 23 (FIG. 1) with its edges parallel to the x-axis direction and the y-axis direction. As an example, the planar shape of the substrate 50 is a square having a side length of 500 mm. Actually, ink is applied by moving the substrate 50 to the ink ejection device 26 in the x-axis direction and the y-axis direction. However, in the following description, the movement of the substrate 50 is referred to as the ink ejection device 26 to the substrate 50. It may be expressed as a relative movement of.

基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向に相対的に移動させると、x軸方向の幅がLxの帯状の領域(以下、ストリート51という。)にインクを塗布することができる。基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向の一端から他端まで通過させる手順を1回のy軸方向へのパスということとする。1回のy軸方向へのパスを実行することによって、x軸方向に関してピッチPに対応する解像度でインクを塗布することができる。1つのストリート51内でインク吐出装置26をx軸方向にピッチPの1/4だけずらしながら4回のパスを実行することにより、1つのストリート51内におけるx軸方向の解像度を4倍に高めることができる。例えば、ノズル孔27(図2A)のピッチPが300dpiに相当する場合、4回のパスを実行することによりx軸方向の解像度を1200dpiに高めることができる。 When the ink ejection device 26 is moved relative to the substrate 50 in the y-axis direction, ink can be applied to a band-shaped region having a width of Lx in the x-axis direction (hereinafter, referred to as a street 51). The procedure of passing the ink ejection device 26 through the substrate 50 from one end to the other end in the y-axis direction is referred to as one pass in the y-axis direction. By executing one pass in the y-axis direction, the ink can be applied at a resolution corresponding to the pitch P in the x-axis direction. By executing four passes while shifting the ink ejection device 26 in the x-axis direction by 1/4 of the pitch P in one street 51, the resolution in the x-axis direction in one street 51 is quadrupled. be able to. For example, when the pitch P of the nozzle hole 27 (FIG. 2A) corresponds to 300 dpi, the resolution in the x-axis direction can be increased to 1200 dpi by executing four passes.

1つのストリート51へのインクの塗布が終了すると、インク吐出装置26を基板50に対してx軸方向にLx(図2A)だけ相対的に移動させて、隣のストリート51へのインクの塗布を実行する。この処理を繰り返すことにより、基板50の全域の塗布対象領域にインクを塗布することができる。 When the application of ink to one street 51 is completed, the ink ejection device 26 is moved relative to the substrate 50 by Lx (FIG. 2A) in the x-axis direction to apply ink to the adjacent street 51. Run. By repeating this process, the ink can be applied to the entire area of the substrate 50 to be coated.

実施例について説明する前に、図3A〜図3Cを参照して、参考例による方法でインクの塗布を行う手順、及び塗布結果について説明する。 Before explaining the examples, the procedure for applying the ink by the method according to the reference example and the application result will be described with reference to FIGS. 3A to 3C.

図3Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図である。塗布対象領域55の各々は、x軸方向に平行な縁及びy軸方向に平行な縁を含む。一例として、塗布対象領域55の各々の平面形状は正方形または長方形である。 FIG. 3A is a plan view of a plurality of application target regions 55 defined on the surface of the substrate 50 (FIG. 2B). Each of the application target areas 55 includes an edge parallel to the x-axis direction and an edge parallel to the y-axis direction. As an example, each planar shape of the application target area 55 is a square or a rectangle.

図3Bは、矢印56で示した方向(y軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55の各々にインクが塗布されて、インクによる膜が形成されている。 FIG. 3B is a plan view of the coating target area 55 after executing four passes in the direction indicated by the arrow 56 (y-axis direction). Hatching is attached to the area where the ink is applied. Ink is applied to each of the application target areas 55 to form a film formed by the ink.

図3Cは、塗布されたインクによって形成された膜52を拡大した平面図である。形成された膜52の、y軸方向に平行な縁はほぼ直線状になっている。これに対し、x軸方向に平行な縁は波打っており、直線からの歪みが発生している。 FIG. 3C is an enlarged plan view of the film 52 formed by the applied ink. The edges of the formed film 52 parallel to the y-axis direction are substantially straight. On the other hand, the edge parallel to the x-axis direction is wavy, and distortion from a straight line is generated.

以下、y軸方向に平行な縁に歪みが発生する原因について説明する。基板50に対してインク吐出装置26をy軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布するため、y軸方向に平行な縁には、同一のノズル孔27(図2A)から吐出されたインクが塗布される。これに対し、x軸方向に平行な縁には、異なる複数のノズル孔27から吐出されたインクが塗布される。 Hereinafter, the cause of distortion occurring at the edge parallel to the y-axis direction will be described. Since the ink is applied while moving the ink ejection device 26 relative to the substrate 50 in the y-axis direction, the ink ejected from the same nozzle hole 27 (FIG. 2A) is applied to the edge parallel to the y-axis direction. Is applied. On the other hand, inks ejected from a plurality of different nozzle holes 27 are applied to the edges parallel to the x-axis direction.

ノズル孔27によって、インクの吐出方向にばらつきがある。同一のノズル孔27から吐出されたインクの液滴が着弾する位置は、目標位置から同一方向に同一距離だけずれる。このため、塗布対象領域55のy軸方向に平行な縁はほぼ直線になる。これに対し、異なるノズル孔27から吐出されたインクの液滴が着弾する位置と、目標位置との相対位置関係は同一にならない。このため、異なるノズル孔27から吐出されたインクによって形成されるx軸方向に平行な縁が、直線から歪んでしまう。 The ink ejection direction varies depending on the nozzle hole 27. The position where the ink droplets ejected from the same nozzle hole 27 land is deviated from the target position by the same distance in the same direction. Therefore, the edge of the coating target area 55 parallel to the y-axis direction becomes substantially a straight line. On the other hand, the relative positional relationship between the landing position of the ink droplets ejected from the different nozzle holes 27 and the target position is not the same. Therefore, the edges parallel to the x-axis direction formed by the inks ejected from the different nozzle holes 27 are distorted from the straight line.

次に、図4A〜図4D、図5A〜図5Bを参照して、実施例による方法でインクの塗布を行う手順について説明する。
図4Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図であり、図3Aに示した平面図と同一である。図4Aでは4つの塗布対象領域55を示しているが、実際にはより多くの塗布対象領域55が基板50の表面に分布している。なお、塗布対象領域55の位置及び形状は、記憶装置31(図1)に記憶された画像データによって定義されている。塗布対象領域55内に、仮想的に、画像データの画素に対応する複数の画素が定義される。
Next, the procedure for applying the ink by the method according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 4D and 5A to 5B.
FIG. 4A is a plan view of a plurality of application target regions 55 defined on the surface of the substrate 50 (FIG. 2B), and is the same as the plan view shown in FIG. 3A. Although FIG. 4A shows four coating target regions 55, more coating target regions 55 are actually distributed on the surface of the substrate 50. The position and shape of the coating target area 55 are defined by the image data stored in the storage device 31 (FIG. 1). A plurality of pixels corresponding to the pixels of the image data are virtually defined in the coating target area 55.

塗布対象領域55の表面に固定されたuv直交座標系を定義する。xyz直交座標系は、基台20(図1)に対して固定されている。インクの塗布前は、u軸方向及びv軸方向が、それぞれx軸方向及びy軸方向と平行である。複数の塗布対象領域55の各々は、u軸方向及びv軸方向に平行な縁を持つ。 An uv Cartesian coordinate system fixed to the surface of the coating target area 55 is defined. The xyz Cartesian coordinate system is fixed to the base 20 (FIG. 1). Before applying the ink, the u-axis direction and the v-axis direction are parallel to the x-axis direction and the y-axis direction, respectively. Each of the plurality of application target areas 55 has edges parallel to the u-axis direction and the v-axis direction.

図4Bは、矢印57で示した方向(v軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55のy軸方向に平行な縁55v、及び塗布対象領域55の内奥部にインクを塗布し、x軸方向に平行な縁55uにはインクを塗布しない。なお、正方形または長方形の塗布対象領域55の頂点の少なくとも1つの画素には、インクが塗布される。頂点の画素を含む頂点近傍の複数の画素にインクを塗布してもよい。 FIG. 4B is a plan view of the coating target area 55 after executing four passes in the direction indicated by the arrow 57 (v-axis direction). Hatching is attached to the area where the ink is applied. Ink is applied to the edge 55v parallel to the y-axis direction of the application target area 55 and the inner inner part of the application target area 55, and the ink is not applied to the edge 55u parallel to the x-axis direction. Ink is applied to at least one pixel at the apex of the square or rectangular application target area 55. Ink may be applied to a plurality of pixels in the vicinity of the apex including the pixel at the apex.

4回のパスを実行した後、u軸方向に平行な縁55u上の画素を含む未塗布領域59が残る。未塗布領域59のv軸方向の寸法(幅)は、画素1個分以上である。塗布対象領域55の頂点の画素にはインクが塗布されるため、未塗布領域59の両端は、v軸方向に平行な縁55vまで達していない。 After performing the four passes, the uncoated area 59 containing the pixels on the edge 55u parallel to the u-axis direction remains. The dimension (width) of the uncoated region 59 in the v-axis direction is one pixel or more. Since ink is applied to the pixels at the apex of the coating target region 55, both ends of the uncoated region 59 do not reach the edge 55v parallel to the v-axis direction.

図4Cは、基板50のすべてのストリート51(図2B)内の塗布対象領域55に対する図4Bのインク塗布処理が終了した後の手順を示す図である。制御装置30(図1)が回転機構21Cを制御して、支持部23を90°回転させる。回転後、塗布対象領域55の表面に固定されたu軸方向及びv軸方向が、それぞれy軸方向及びx軸方向と平行になる。 FIG. 4C is a diagram showing a procedure after the ink coating process of FIG. 4B is completed for the coating target area 55 in all the streets 51 (FIG. 2B) of the substrate 50. The control device 30 (FIG. 1) controls the rotation mechanism 21C to rotate the support portion 23 by 90 °. After the rotation, the u-axis direction and the v-axis direction fixed to the surface of the coating target area 55 become parallel to the y-axis direction and the x-axis direction, respectively.

図4Dは、矢印58で示した方向(u軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。この4回のパスによって、未塗布領域59(図4A)にインクを塗布する。図4B及び図4Dに示した処理で実行される複数回のパスにより、塗布対象領域55の内部の全域にインクが塗布される。 FIG. 4D is a plan view of the coating target area 55 after executing four passes in the direction indicated by the arrow 58 (u-axis direction). Hatching is attached to the area where the ink is applied. Ink is applied to the uncoated area 59 (FIG. 4A) by these four passes. The ink is applied to the entire inside of the application target area 55 by a plurality of passes performed by the processes shown in FIGS. 4B and 4D.

図5Aは、図4Bに示した4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の頂点近傍と、ノズル孔27との位置関係を示す図である。塗布対象領域55の位置及び形状が、正方格子状に並ぶ複数の画素60によって定義されている。図4Bに示した4回のパスを実行することによってインクが塗布された画素60にハッチングを付している。 FIG. 5A is a diagram showing the positional relationship between the vicinity of the apex of the coating target region 55 and the nozzle hole 27 after executing the four passes shown in FIG. 4B. The position and shape of the coating target area 55 are defined by a plurality of pixels 60 arranged in a square grid pattern. The ink-coated pixels 60 are hatched by performing the four passes shown in FIG. 4B.

なお、実際のインクの液滴は、塗布対象領域55の表面において、1つの画素60の大きさよりも広い領域を覆う。例えば、画素60のピッチは、解像度1200dpiに相当する約21μmであり、塗布対象領域55の表面に塗布されたインクの液滴の直径は約50μmである。このとき、インクの液滴の直径は約2.5個分の画素60の寸法に相当する。 The actual ink droplets cover a region wider than the size of one pixel 60 on the surface of the coating target region 55. For example, the pitch of the pixels 60 is about 21 μm, which corresponds to a resolution of 1200 dpi, and the diameter of the ink droplets applied to the surface of the application target area 55 is about 50 μm. At this time, the diameter of the ink droplet corresponds to the size of the pixel 60 for about 2.5 pixels.

4回のパスを実行することにより、v軸方向に平行な縁55v上の画素60にインクが塗布されるとともに、未塗布領域59以外の内奥部の画素60にもインクが塗布される。図5Aでは、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍に設定している。また、塗布対象領域55の頂点を含む所定個数(例えば2×2個)の画素60にインクを塗布している。 By executing the four passes, the ink is applied to the pixels 60 on the edge 55v parallel to the v-axis direction, and the ink is also applied to the pixels 60 in the inner part other than the unapplied area 59. In FIG. 5A, the width of the uncoated area 59 is set to twice the pixel pitch. Ink is applied to a predetermined number (for example, 2 × 2) of pixels 60 including the vertices of the application target region 55.

図5Aでは、1回目のパスでv軸方向に平行な縁55v上の画素60にインクを塗布する例を示したが、v軸方向に平行な縁55vの位置によっては、2回目〜4回目のいずれかのパスで、縁55v上の画素60にインクが塗布される場合もある。例えば、v軸方向に平行な縁55v上の画素60に、4回目のパスによってインクが塗布される場合には、v軸方向に平行な縁55v上の画素60に隣接する1画素分内側の画素60に、1回目のパスによってインクが塗布されることになる。 FIG. 5A shows an example in which ink is applied to the pixels 60 on the edge 55v parallel to the v-axis direction in the first pass, but the second to fourth times depending on the position of the edge 55v parallel to the v-axis direction. Ink may be applied to the pixel 60 on the edge 55v by any of the passes. For example, when ink is applied to the pixel 60 on the edge 55v parallel to the v-axis direction by the fourth pass, it is one pixel inside the pixel 60 on the edge 55v parallel to the v-axis direction. Ink is applied to the pixel 60 by the first pass.

図5Bは、図4Dに示した4回のパスを実行する直前の塗布対象領域55の頂点近傍と、ノズル孔27との位置関係を示す図である。図5Bでは、基板50の表面のu軸方向がy軸方向と平行になる。図5Bでは、未塗布領域59の幅が画素ピッチの2倍であるため、2回のパスを実行することにより、未塗布領域59内のすべての画素60にインクを塗布することができる。 FIG. 5B is a diagram showing the positional relationship between the vicinity of the apex of the coating target area 55 immediately before executing the four passes shown in FIG. 4D and the nozzle hole 27. In FIG. 5B, the u-axis direction of the surface of the substrate 50 is parallel to the y-axis direction. In FIG. 5B, since the width of the uncoated area 59 is twice the pixel pitch, ink can be applied to all the pixels 60 in the uncoated area 59 by executing the two passes.

図5Bに示された未塗布領域59と、他の未塗布領域との位置関係によっては、この2回のパスですべての未塗布領域にインクを塗布できない場合がある。この場合には、3回目及び4回目のパスを実行することにより、すべての未塗布領域にインクを塗布することができる。 Depending on the positional relationship between the uncoated area 59 shown in FIG. 5B and the other uncoated areas, it may not be possible to apply ink to all the uncoated areas in these two passes. In this case, the ink can be applied to all the unapplied areas by executing the third and fourth passes.

次に、上記実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to the above examples will be described.

上記実施例では、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v(図4B)には、基板50に対してインク吐出装置26をv軸方向に相対的に移動させながらインクが塗布され、u軸方向に平行な縁55u(図4D)には、基板50に対してインク吐出装置26をu軸方向に相対的に移動させながらインクが塗布される。このため、u軸方向に平行な縁には、同一のノズル孔27から吐出されたインクが塗布され、v軸方向に平行な縁にも、同一のノズル孔27から吐出されたインクが塗布される。このため、インクによって形成された膜の縁を直線に近づけることができる。このため、インクで形成された膜の見栄えをよくすることができる。また、塗布されたインクの膜をエッチングマスクとして下層の膜をエッチングする場合、エッチング後の下層の膜の見栄えがよくなるという効果が得られる。 In the above embodiment, the edge 55v (FIG. 4B) parallel to the v-axis direction of the coating target region 55 is coated with ink while the ink ejection device 26 is relatively moved in the v-axis direction with respect to the substrate 50. Ink is applied to the edge 55u (FIG. 4D) parallel to the u-axis direction while moving the ink ejection device 26 relative to the substrate 50 in the u-axis direction. Therefore, the ink ejected from the same nozzle hole 27 is applied to the edge parallel to the u-axis direction, and the ink ejected from the same nozzle hole 27 is also applied to the edge parallel to the v-axis direction. NS. Therefore, the edge of the film formed by the ink can be brought close to a straight line. Therefore, the appearance of the film formed of the ink can be improved. Further, when the lower layer film is etched using the applied ink film as an etching mask, the effect of improving the appearance of the lower layer film after etching can be obtained.

複数の塗布対象領域55がu軸方向及びv軸方向に接近して配置されている場合、すなわち塗布対象領域55のu軸方向及びv軸方向の間隔が狭い場合でも、縁の歪みを少なくすることにより、隣り合う塗布対象領域55に塗布されたインクの膜が相互に連続してしまうことを抑制することができる。例えば、塗布されたインクの膜をエッチングマスクとして下層の導電膜をエッチングする場合、エッチング後の導電パターン同士の短絡故障を抑制することができる。 Even when a plurality of coating target areas 55 are arranged close to each other in the u-axis direction and the v-axis direction, that is, when the distance between the coating target areas 55 in the u-axis direction and the v-axis direction is narrow, the distortion of the edge is reduced. As a result, it is possible to prevent the ink films applied to the adjacent application target regions 55 from being continuous with each other. For example, when the conductive film of the lower layer is etched using the coated ink film as an etching mask, it is possible to suppress a short-circuit failure between the conductive patterns after etching.

次に、未塗布領域59(図4B)の幅の好ましい寸法について説明する。図4Bに示した塗布処理でインクによって形成された膜の、u軸方向に平行な縁には、複数のノズル孔27の特性のばらつきに起因する直線からの歪みが発生する。未塗布領域59の幅が狭すぎると、この歪みを修正することができない。この歪みを修正するために、未塗布領域59の幅を、発生し得る歪みの最大振幅以上にすることが好ましい。例えば、ノズル孔27から吐出されるインクの向きにばらつきがあったとしても、そのばらつきの幅が画素ピッチを超えることはない。従って、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍以上にすることによって、縁の歪みを十分修正することが可能である。 Next, a preferable dimension of the width of the uncoated region 59 (FIG. 4B) will be described. The edge of the film formed by the ink in the coating process shown in FIG. 4B, which is parallel to the u-axis direction, is distorted from a straight line due to variations in the characteristics of the plurality of nozzle holes 27. If the width of the uncoated area 59 is too narrow, this distortion cannot be corrected. In order to correct this distortion, it is preferable that the width of the uncoated area 59 is equal to or larger than the maximum amplitude of the distortion that can occur. For example, even if there is a variation in the direction of the ink ejected from the nozzle hole 27, the width of the variation does not exceed the pixel pitch. Therefore, by making the width of the uncoated area 59 more than twice the pixel pitch, it is possible to sufficiently correct the edge distortion.

なお、未塗布領域59(図4B)の平面形状を、u軸方向に長い長方形にする必要はなく、任意の形状でよい。図4Dに示した処理で、未塗布領域59内にインクを塗布すればよい。例えば、正方形または長方形の塗布対象領域55を2本の対角線で4等分して得られる三角形の領域のうち、u軸方向に平行な縁を含む2つの領域を未塗布領域59として残してもよい。 The planar shape of the uncoated region 59 (FIG. 4B) does not have to be a rectangle long in the u-axis direction, and may be any shape. Ink may be applied to the uncoated area 59 by the process shown in FIG. 4D. For example, of the triangular regions obtained by dividing the square or rectangular coating target region 55 into four equal parts by two diagonal lines, two regions including edges parallel to the u-axis direction may be left as uncoated regions 59. good.

上記実施例では、基板50を回転させる手順(図4C)が必要であるため、タクトタイムが長くなってしまうことが懸念される。以下に説明するように、従来の方法(図3B)で高品質のインク塗布を行うために必要なタクトタイムに比べて、実施例による方法でインクの塗布を行うタクトタイムが大幅に増加してしまうことはない。 In the above embodiment, since the procedure for rotating the substrate 50 (FIG. 4C) is required, there is a concern that the takt time will be long. As will be described below, the tact time required to apply the ink by the method according to the embodiment is significantly increased as compared with the tact time required to apply the high quality ink by the conventional method (FIG. 3B). It won't end up.

以下の説明では、基板50の寸法を500mm×500mmの正方形とし、インク吐出装置26に設けられた両端のノズル孔27の間隔Lx(図2A)を50mmとし、ノズル孔27のピッチP(図2A)を300dpi相当とし、基板50の移動速度を200mm/sとした例について説明する。 In the following description, the dimensions of the substrate 50 are a square of 500 mm × 500 mm, the distance Lx (FIG. 2A) between the nozzle holes 27 at both ends provided in the ink ejection device 26 is 50 mm, and the pitch P of the nozzle holes 27 (FIG. 2A). ) Is equivalent to 300 dpi, and the moving speed of the substrate 50 is 200 mm / s.

従来の方法(図3B)を用いてx軸方向に関する解像度を高くすると、塗布対象領域55のx軸方向に平行な縁の歪みがある程度小さくなることが判明した。例えば、y軸方向の解像度を1200dpiにし、x軸方向の解像度を2400dpiにすると、x軸方向に平行な縁の歪みがある程度小さくなる。x軸方向の分解能を2400dpiにするためには、1本のストリート51(図2B)の塗布処理に8回のパスを繰り返す必要がある。1回のパスを実行するときに、インク吐出装置26が基板50の上方を通過する時間は2.5秒であるが、加減速に約1秒が必要であるため、1回のパスに必要な時間は約3.5秒である。 It was found that when the resolution in the x-axis direction was increased by using the conventional method (FIG. 3B), the distortion of the edge parallel to the x-axis direction of the coating target area 55 was reduced to some extent. For example, if the resolution in the y-axis direction is 1200 dpi and the resolution in the x-axis direction is 2400 dpi, the distortion of the edge parallel to the x-axis direction becomes small to some extent. In order to make the resolution in the x-axis direction 2400 dpi, it is necessary to repeat eight passes in the coating process of one street 51 (FIG. 2B). When executing one pass, the time for the ink ejection device 26 to pass above the substrate 50 is 2.5 seconds, but it takes about 1 second for acceleration / deceleration, so it is necessary for one pass. The time is about 3.5 seconds.

1本のストリートに8回のパスが必要であるため、1本のストリートの塗布処理時間は約28秒である。1枚の基板50に10本のストリート51が画定されるため、1枚の基板50の塗布処理時間は約280秒になる。 Since one street requires eight passes, the coating process time for one street is about 28 seconds. Since 10 streets 51 are defined on one substrate 50, the coating processing time of one substrate 50 is about 280 seconds.

実施例による方法では、x軸方向に関する解像度を1200dpiまで落としても、塗布対象領域55の縁の十分な直線性が得られる。このため、1本のストリートの塗布処理に4回のパスを実行すればよい。加減速に必要な時間を加味しても、1本のストリート51の塗布処理時間は14秒である。10本のストリート51の塗布処理時間は140秒になる。実施例では、v軸方向に平行な縁にインクを塗布する処理(図4B)と、u軸方向に平行な縁にインクを塗布する処理(図4D)とを別々に実行するため、合計で280秒の処理時間が必要になる。基板50を回転させる処理に必要な時間は10秒以下である。回転に必要な時間が10秒であったとしても、1枚の基板50を処理する時間は約290秒である。 In the method according to the embodiment, even if the resolution in the x-axis direction is reduced to 1200 dpi, sufficient linearity of the edge of the coating target area 55 can be obtained. Therefore, it is sufficient to execute four passes for the coating process of one street. Even if the time required for acceleration / deceleration is taken into consideration, the coating processing time of one street 51 is 14 seconds. The coating processing time of the 10 streets 51 is 140 seconds. In the embodiment, the process of applying ink to the edge parallel to the v-axis direction (FIG. 4B) and the process of applying ink to the edge parallel to the u-axis direction (FIG. 4D) are separately executed, so that the total is total. A processing time of 280 seconds is required. The time required for the process of rotating the substrate 50 is 10 seconds or less. Even if the time required for rotation is 10 seconds, the time required to process one substrate 50 is about 290 seconds.

上述のように、実施例による塗布方法を採用した時のタクトタイムが、従来の方法を採用したときのタクトタイムに対して大幅に増加することはない。 As described above, the tact time when the coating method according to the embodiment is adopted does not significantly increase with respect to the tact time when the conventional method is adopted.

次に、上記実施例の変形例について説明する。上記実施例では、基台20(図1)に対してインク吐出装置26を静止させ、基板50を移動させたが、基板50及びインク吐出装置26の一方を他方に対して相対的に移動させればよい。例えば、基板50を静止させてインク吐出装置26を移動させてもよい。または、x軸方向に関しては、基板50を静止してインク吐出装置26を移動させ、y軸方向に関しては、その逆にインク吐出装置26を静止させ、基板50を移動させてもよい。 Next, a modified example of the above embodiment will be described. In the above embodiment, the ink ejection device 26 is stationary and the substrate 50 is moved with respect to the base 20 (FIG. 1), but one of the substrate 50 and the ink ejection device 26 is moved relative to the other. Just do it. For example, the substrate 50 may be stationary and the ink ejection device 26 may be moved. Alternatively, the substrate 50 may be stationary and the ink ejection device 26 may be moved in the x-axis direction, and vice versa, the ink ejection device 26 may be stationary and the substrate 50 may be moved in the y-axis direction.

上記実施例では、u軸方向とv軸方向とが直交するが、両者は必ずしも直交する必要はなく、交差していればよい。例えば、塗布対象領域55の各々の平面形状が平行四辺形であってもよい。このとき、図4Cに示した回転処理において、u軸方向とv軸方向とのなす角度だけ基板50を回転させればよい。 In the above embodiment, the u-axis direction and the v-axis direction are orthogonal to each other, but the two do not necessarily have to be orthogonal to each other and may intersect with each other. For example, each planar shape of the application target area 55 may be a parallelogram. At this time, in the rotation process shown in FIG. 4C, the substrate 50 may be rotated by an angle formed by the u-axis direction and the v-axis direction.

また、上記実施例では、インク吐出装置26を1つのインクジェットヘッドで構成したが、複数のインクジェットヘッドでインク吐出装置26を構成してもよい。例えば、複数のインクジェットヘッドをx軸方向に並べて配置すると、1回のパスで複数のストリート51(図2B)の塗布処理を行うことができる。また、n個のインクジェットヘッドをy軸方向に並べるとともに、x軸方向にノズル孔27のピッチP(図2A)の1/n倍だけずらすことにより、1回のパスで塗布可能な解像度をn倍に高めることができる。 Further, in the above embodiment, the ink ejection device 26 is configured by one inkjet head, but the ink ejection device 26 may be configured by a plurality of inkjet heads. For example, when a plurality of inkjet heads are arranged side by side in the x-axis direction, a plurality of streets 51 (FIG. 2B) can be coated in one pass. Further, by arranging n inkjet heads in the y-axis direction and shifting them by 1 / n times the pitch P (FIG. 2A) of the nozzle holes 27 in the x-axis direction, the resolution that can be applied in one pass is n. Can be doubled.

次に、図6A〜図7Cを参照して、他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 6A to 7C, a film forming apparatus and a film forming method according to another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted.

図6Aは、基板50(図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55の平面図であり、図4Aに示した平面図と同一である。 FIG. 6A is a plan view of a plurality of application target regions 55 defined on the surface of the substrate 50 (FIG. 2B), and is the same as the plan view shown in FIG. 4A.

図6Bは、矢印61で示した方向(y軸方向及びv軸方向)に4回のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。この4回のパスを実行した後のインクが塗布された領域の状態は、図4Bに示したものと同一である。塗布対象領域55内に未塗布領域59が残っている。 FIG. 6B is a plan view of the coating target area 55 after executing four passes in the directions indicated by the arrows 61 (y-axis direction and v-axis direction). Hatching is attached to the area where the ink is applied. The state of the ink-coated area after performing these four passes is the same as that shown in FIG. 4B. The uncoated area 59 remains in the application target area 55.

図6Cは、矢印62で示した方向(x軸方向及びu軸方向に平行な方向)に所定回数のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。この塗布処理により、未塗布領域59(図6B)にインクが塗布され、その結果、塗布対象領域55の内部の全域にインクが塗布される。インク吐出装置26のノズル孔27(図2A)はx軸方向に並んでいるため、x軸方向への1回のパスを実行することにより、x軸方向に平行な1行分の画素60にのみインクが塗布される。 FIG. 6C is a plan view of the coating target area 55 after executing a predetermined number of passes in the directions indicated by the arrows 62 (directions parallel to the x-axis direction and the u-axis direction). By this coating process, the ink is applied to the uncoated area 59 (FIG. 6B), and as a result, the ink is applied to the entire inside of the application target area 55. Since the nozzle holes 27 (FIG. 2A) of the ink ejection device 26 are arranged in the x-axis direction, by executing one pass in the x-axis direction, one row of pixels 60 parallel to the x-axis direction can be obtained. Only ink is applied.

図7A〜図7Cは、図6Cに示した複数回のパスの実行時にインクを塗布する画素と、インク吐出装置26との位置関係を示す図である。 7A to 7C are diagrams showing the positional relationship between the pixels to which ink is applied when the plurality of passes shown in FIG. 6C are executed and the ink ejection device 26.

図7Aに示すように、未塗布領域59の複数の画素60のうちu軸方向に並ぶ1行分の画素60のy軸方向の位置に、ノズル孔27のy軸方向の位置が一致するようにインク吐出装置26を移動させる。この状態で、基板50に対してインク吐出装置26を相対的にx軸方向に移動させるパスを1回実行する。これにより、未塗布領域59内の1行分の画素60にインクを塗布する。1行分の複数の画素60へのインクの塗布には、複数のノズル孔27のいずれを用いることも可能である。ただし、ノズル孔27の特性のばらつきの影響を受けないようにするために、1行分の複数の画素に対して同一のノズル孔27を用いることが好ましい。 As shown in FIG. 7A, the position of the nozzle hole 27 in the y-axis direction coincides with the position of one row of pixels 60 arranged in the u-axis direction among the plurality of pixels 60 in the uncoated area 59 in the y-axis direction. The ink ejection device 26 is moved to. In this state, a pass for moving the ink ejection device 26 relative to the substrate 50 in the x-axis direction is executed once. As a result, the ink is applied to the pixels 60 for one line in the uncoated area 59. Any of the plurality of nozzle holes 27 can be used for applying the ink to the plurality of pixels 60 for one line. However, in order not to be affected by variations in the characteristics of the nozzle holes 27, it is preferable to use the same nozzle holes 27 for a plurality of pixels in one row.

図7Bに示すように、未塗布領域59の複数の画素60のうちインクが塗布されていない1行分の画素60のy軸方向の位置に、ノズル孔27のy軸方向の位置が一致するように、インク吐出装置26を基板50に対して相対的に移動させる。 As shown in FIG. 7B, the position of the nozzle hole 27 in the y-axis direction coincides with the position in the y-axis direction of the pixel 60 for one row in which the ink is not applied among the plurality of pixels 60 in the uncoated area 59. As described above, the ink ejection device 26 is moved relative to the substrate 50.

図7Cに示すように、基板50に対してインク吐出装置26を相対的にx軸方向に移動させるパスを1回実行する。これにより、未塗布領域59内の1行分の画素60にインクを塗布する。 As shown in FIG. 7C, a pass for moving the ink ejection device 26 relative to the substrate 50 in the x-axis direction is executed once. As a result, the ink is applied to the pixels 60 for one line in the uncoated area 59.

x軸方向への1回のパスを実行することにより、1行分の画素60にインクを塗布することができる。すべての未塗布領域59(図6B)内のすべての画素60にインクが塗布されるまで、インク吐出装置26のy軸方向の位置を変えてx軸方向へのパスを繰り返し実行する。 By executing one pass in the x-axis direction, ink can be applied to the pixels 60 for one line. The position of the ink ejection device 26 in the y-axis direction is changed and the path in the x-axis direction is repeatedly executed until all the pixels 60 in all the uncoated areas 59 (FIG. 6B) are coated with ink.

次に、図6A〜図7Cに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 6A to 7C will be described.

本実施例においても、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v(図6B)には、インク吐出装置26をv軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布する。さらに、u軸方向に平行な縁55u(図6C)には、インク吐出装置26をu軸方向に相対的に移動させながらインクを塗布する。このため、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55の縁の直線からの歪みを小さくすることができる。 Also in this embodiment, ink is applied to the edge 55v (FIG. 6B) of the coating target region 55 parallel to the v-axis direction while the ink ejection device 26 is relatively moved in the v-axis direction. Further, ink is applied to the edge 55u (FIG. 6C) parallel to the u-axis direction while the ink ejection device 26 is relatively moved in the u-axis direction. Therefore, similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 to 5B, the distortion from the straight line of the edge of the coating target region 55 can be reduced.

また、本実施例では基板50を回転させる必要がないため、移動機構21(図1)に回転機能を持たせる必要がない。 Further, in this embodiment, since it is not necessary to rotate the substrate 50, it is not necessary to give the moving mechanism 21 (FIG. 1) a rotation function.

次に、未塗布領域59(図4B)の幅の好ましい寸法について説明する。本実施例においても、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍以上にすることが好ましい。また、本実施例では、u軸方向へのパス(図6C)を実行する際に、1行分の画素60にしかインクを塗布することができない。図6Cに示した塗布処理に必要なパス数を減らしてタクトタイムの短縮を図るために、未塗布領域59の幅をなるべく狭くすることが好ましい。従って、未塗布領域59の幅を、画素ピッチの2倍にすることが好ましい。 Next, a preferable dimension of the width of the uncoated region 59 (FIG. 4B) will be described. Also in this embodiment, it is preferable that the width of the uncoated region 59 is at least twice the pixel pitch, as in the examples shown in FIGS. 1 to 5B. Further, in this embodiment, when the path in the u-axis direction (FIG. 6C) is executed, the ink can be applied only to the pixels 60 for one line. In order to reduce the number of passes required for the coating process shown in FIG. 6C and shorten the tact time, it is preferable to make the width of the uncoated region 59 as narrow as possible. Therefore, it is preferable to make the width of the uncoated area 59 twice the pixel pitch.

次に、本実施例の変形例について説明する。本実施例では、図6Bに示した塗布処理、及び図6Cに示した塗布処理において、インク吐出装置26の姿勢を変化させなかった。図6Bに示した塗布処理が終了した後、図6Cに示した塗布処理を行う前に、インク吐出装置26を90°回転させてもよい。そうすると、図6Cに示した塗布処理を行うときに、複数のノズル孔27(図2A)がv軸方向に並ぶようになる。このため、図7A及び図7Cに示した処理において、1回のパスを実行することによって複数行の画素60にインクを塗布することができる。その結果、パスの実行回数を低減させることができる。 Next, a modified example of this embodiment will be described. In this embodiment, the posture of the ink ejection device 26 was not changed in the coating process shown in FIG. 6B and the coating process shown in FIG. 6C. After the coating process shown in FIG. 6B is completed and before the coating process shown in FIG. 6C is performed, the ink ejection device 26 may be rotated by 90 °. Then, when the coating process shown in FIG. 6C is performed, the plurality of nozzle holes 27 (FIG. 2A) are arranged in the v-axis direction. Therefore, in the processes shown in FIGS. 7A and 7C, ink can be applied to the pixels 60 in a plurality of rows by executing one pass. As a result, the number of times the path is executed can be reduced.

次に、図8A及び図8Bを参照して、さらに他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。図1〜図5Bに示した実施例では、塗布対象物がリジッドな基板50であったが、本実施例では、塗布対象物がフレキシブルな基板50である。 Next, with reference to FIGS. 8A and 8B, a film forming apparatus and a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted. In the examples shown in FIGS. 1 to 5B, the object to be coated was the rigid substrate 50, but in this embodiment, the object to be coated is the flexible substrate 50.

図8Aは、本実施例による膜形成装置の概略図である。塗布対象物であるフレキシブルな基板50が繰り出しロール71から繰り出され、巻き取りロール72に巻き取られる。移動機構73が制御装置30によって制御されることにより、繰り出しロール71及び巻き取りロール72を回転させる。繰り出しロール71から繰り出されて巻き取りロール72に巻き取られる間の基板50の上方にインク吐出装置26が配置されている。基板50の送り方向をy軸方向とし、基板50の幅方向をx軸方向とし、鉛直上方をz軸の正方向とするxyz直交座標系を定義する。 FIG. 8A is a schematic view of the film forming apparatus according to this embodiment. The flexible substrate 50, which is the object to be coated, is unwound from the feeding roll 71 and wound on the winding roll 72. The moving mechanism 73 is controlled by the control device 30 to rotate the feeding roll 71 and the winding roll 72. The ink ejection device 26 is arranged above the substrate 50 while being unwound from the feeding roll 71 and being wound by the take-up roll 72. An xyz Cartesian coordinate system is defined in which the feed direction of the substrate 50 is the y-axis direction, the width direction of the substrate 50 is the x-axis direction, and the vertical upper direction is the positive direction of the z-axis.

インク吐出装置26は、基板50に対向する2つのインクジェットヘッド26A及び26Bを含む。一方のインクジェットヘッド26Aは、x軸方向に並ぶ複数のノズル孔を有する。もう一方のインクジェットヘッド26Bは、y軸方向に並ぶ複数のノズル孔を有する。また、インクジェットヘッド26Bは直動機構74によって支持されており、基板50に対してx軸方向に並進移動することができる構成とされている。 The ink ejection device 26 includes two inkjet heads 26A and 26B facing the substrate 50. One inkjet head 26A has a plurality of nozzle holes arranged in the x-axis direction. The other inkjet head 26B has a plurality of nozzle holes arranged in the y-axis direction. Further, the inkjet head 26B is supported by a linear motion mechanism 74, and has a configuration capable of translating in the x-axis direction with respect to the substrate 50.

図8Bは、本実施例による膜形成装置の概略平面図である。繰り出しロール71と巻き取りロール72との間で、基板50がy軸方向に送られる。一方のインクジェットヘッド26Aは、基板50の幅方向(x軸方向)に関して一方の縁から他方の縁まで達しており、幅方向の全域にインクを塗布することができる。もう一方のインクジェットヘッド26Bは、基板50の幅方向(x軸方向)に関して一方の縁から他方の縁まで移動可能である。基板50の表面に、幅方向をu軸方向とし、送り方向をv軸方向とするuv直交座標系を定義する。 FIG. 8B is a schematic plan view of the film forming apparatus according to this embodiment. The substrate 50 is fed in the y-axis direction between the feeding roll 71 and the winding roll 72. One inkjet head 26A reaches from one edge to the other edge in the width direction (x-axis direction) of the substrate 50, and ink can be applied to the entire width direction. The other inkjet head 26B is movable from one edge to the other in the width direction (x-axis direction) of the substrate 50. A uv Cartesian coordinate system is defined on the surface of the substrate 50 with the width direction as the u-axis direction and the feed direction as the v-axis direction.

基板50の表面に複数の塗布対象領域55が画定されている。図8Bでは、一部の塗布対象領域55のみを示している。塗布対象領域55は、u軸方向に平行な縁55u及びv軸方向に平行な縁55vを含む。塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方を通過するときに、インクジェットヘッド26Aからインクを吐出させ、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v及び内奥部にインクを塗布する。この塗布処理は、図4Bに示した処理と実質的に同一である。この段階では、塗布対象領域55のu軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59が残されている。 A plurality of coating target regions 55 are defined on the surface of the substrate 50. In FIG. 8B, only a part of the application target area 55 is shown. The coating target area 55 includes an edge 55u parallel to the u-axis direction and an edge 55v parallel to the v-axis direction. When the coating target region 55 passes below the inkjet head 26A, ink is ejected from the inkjet head 26A, and the ink is applied to the edge 55v parallel to the v-axis direction of the coating target region 55 and the inner inner portion. This coating process is substantially the same as the process shown in FIG. 4B. At this stage, an uncoated region 59 is left along the edge 55u parallel to the u-axis direction of the coating target region 55.

基板50の送りを停止させた状態で、インクジェットヘッド26Bをx軸方向(u軸方向)に移動させることにより、未塗布領域59にインクを塗布する。この塗布処理における基板50とインク吐出装置26との相対的な移動は、図4Dに示した処理における相対的な移動と実質的に同一である。 Ink is applied to the uncoated area 59 by moving the inkjet head 26B in the x-axis direction (u-axis direction) with the feed of the substrate 50 stopped. The relative movement of the substrate 50 and the ink ejection device 26 in this coating process is substantially the same as the relative movement in the process shown in FIG. 4D.

次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。本実施例においても、図1〜図5Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55に塗布されたインクによって形成される膜の縁を直線に近づけることができる。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described. In this embodiment as well, similarly to the examples shown in FIGS. 1 to 5B, the edge of the film formed by the ink applied to the application target region 55 can be brought close to a straight line.

次に、上記実施例の変形例について説明する。
上記実施例では、塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方を1回通過するときに、インクの塗布を行った。u軸方向に関する解像度を高めるために、インクジェットヘッド26Aを、ノズル孔のピッチより短い距離だけu軸方向にずらしながら、塗布対象領域55がインクジェットヘッド26Aの下方をv軸方向に往復するように基板50の送り制御を行ってもよい。すなわち、v軸方向のパスを複数回実行してもよい。さらに、v軸方向に関する解像度を高めるために、基板50を、ノズル孔のピッチより短い距離だけv軸方向に移動させながら、インクジェットヘッド26Bをu軸方向に複数回移動させてもよい。すなわち、u軸方向のパスを複数回実行してもよい。
Next, a modified example of the above embodiment will be described.
In the above embodiment, the ink was applied when the application target area 55 passed below the inkjet head 26A once. In order to increase the resolution in the u-axis direction, the substrate is shifted in the u-axis direction by a distance shorter than the pitch of the nozzle holes so that the coating target area 55 reciprocates below the inkjet head 26A in the v-axis direction. 50 feed control may be performed. That is, the path in the v-axis direction may be executed a plurality of times. Further, in order to increase the resolution in the v-axis direction, the inkjet head 26B may be moved a plurality of times in the u-axis direction while moving the substrate 50 in the v-axis direction by a distance shorter than the pitch of the nozzle holes. That is, the path in the u-axis direction may be executed a plurality of times.

また、上記実施例では、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときに、インクジェットヘッド26Aに対して基板50をv軸方向に送ったが、基板50を静止させてインクジェットヘッド26Aをv軸方向に移動させてもよい。 Further, in the above embodiment, when the ink is applied to the edge 55v parallel to the v-axis direction of the coating target area 55, the substrate 50 is sent to the inkjet head 26A in the v-axis direction, but the substrate 50 is made stationary. The inkjet head 26A may be moved in the v-axis direction.

次に、図9A〜図9Cを参照して、さらに他の実施例による膜形成装置及び膜形成方法について説明する。以下、図8A及び図8Bに示した膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 9A to 9C, a film forming apparatus and a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method shown in FIGS. 8A and 8B will be omitted.

図9Aは、本実施例による膜形成装置の概略図である。図8A及び図8Bに示した実施例では、インク吐出装置26が2つのインクジェットヘッド26A、26Bを含んでいたが、本実施例では、インク吐出装置26が1つのインクジェットヘッドで構成される。インク吐出装置26は、直動機構74によってx軸方向に並進移動可能である。 FIG. 9A is a schematic view of the film forming apparatus according to this embodiment. In the embodiment shown in FIGS. 8A and 8B, the ink ejection device 26 includes two inkjet heads 26A and 26B, but in this embodiment, the ink ejection device 26 is composed of one inkjet head. The ink ejection device 26 can be translated in the x-axis direction by the linear motion mechanism 74.

図9Bは、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときの基板50及びインク吐出装置26の移動の様子を示す平面図である。基板50をv軸方向に送ることにより、1回のパスを実行する。インク吐出装置26をu軸方向にずらしながら複数回のパスを実行することにより、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55v及び内奥部にインクを塗布する。この塗布処理は、図6Bに示した塗布処理と実質的に同一である。この塗布処理が終了した時点で、u軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59が残る。 FIG. 9B is a plan view showing the movement of the substrate 50 and the ink ejection device 26 when the ink is applied to the edge 55v parallel to the v-axis direction of the application target area 55. One pass is performed by feeding the substrate 50 in the v-axis direction. By executing a plurality of passes while shifting the ink ejection device 26 in the u-axis direction, ink is applied to the edge 55v parallel to the v-axis direction of the coating target area 55 and the inner inner portion. This coating process is substantially the same as the coating process shown in FIG. 6B. When this coating process is completed, an uncoated region 59 along the edge 55u parallel to the u-axis direction remains.

図9Cは、塗布対象領域55のv軸方向に平行な縁55vにインクを塗布するときの基板50及びインク吐出装置26の移動の様子を示す平面図である。未塗布領域59をインク吐出装置26の下方に配置した状態で、インク吐出装置26をu軸方向に移動させる1回のパスを実行する。基板50をv軸方向に送りながら複数回のパスを実行することにより、未塗布領域59にインクを塗布する。この処理は、図6Cに示した塗布処理と実質的に同一である。 FIG. 9C is a plan view showing the movement of the substrate 50 and the ink ejection device 26 when the ink is applied to the edge 55v parallel to the v-axis direction of the application target area 55. With the uncoated area 59 arranged below the ink ejection device 26, one pass for moving the ink ejection device 26 in the u-axis direction is executed. Ink is applied to the uncoated area 59 by executing a plurality of passes while feeding the substrate 50 in the v-axis direction. This process is substantially the same as the coating process shown in FIG. 6C.

次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。本実施例においても、図6A〜図6Bに示した実施例と同様に、塗布対象領域55に塗布されたインクによって形成される膜の縁を直線に近づけることができる。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described. In this embodiment as well, similarly to the examples shown in FIGS. 6A to 6B, the edge of the film formed by the ink applied to the application target area 55 can be brought close to a straight line.

次に、図10A〜図10Dを参照して、さらに他の実施例による膜形成方法について説明する。以下、図1〜図5Bに示した実施例による膜形成装置及び膜形成方法と共通の構成については説明を省略する。 Next, with reference to FIGS. 10A to 10D, a film forming method according to still another embodiment will be described. Hereinafter, the description of the common configuration with the film forming apparatus and the film forming method according to the examples shown in FIGS. 1 to 5B will be omitted.

図10Aは、基板50(図1、図2B)の表面に画定された複数の塗布対象領域55のパターンを示す平面図である。図1〜図5Bに示した実施例では、塗布対象領域55(図4A)が、u軸方向及びv軸方向の二方向に平行な縁55u、55vを有する正方形または長方形であった。これに対し、本実施例では、塗布対象領域55が、u軸方向、v軸方向、及びw軸方向の三方向にそれぞれ平行な縁55u、55v、55wを有する。例えば、塗布対象領域55の各々の平面形状は等脚台形である。等脚台形が上下反転しながらw軸方向、及びw軸方向と直交する方向に並んでいる。 FIG. 10A is a plan view showing a pattern of a plurality of application target regions 55 defined on the surface of the substrate 50 (FIGS. 1 and 2B). In the embodiment shown in FIGS. 1 to 5B, the coating target area 55 (FIG. 4A) was a square or rectangle having edges 55u and 55v parallel to the u-axis direction and the v-axis direction. On the other hand, in this embodiment, the coating target region 55 has edges 55u, 55v, 55w parallel to the three directions of the u-axis direction, the v-axis direction, and the w-axis direction, respectively. For example, each planar shape of the application target area 55 is an isosceles trapezoid. The isosceles trapezoids are arranged upside down in the w-axis direction and in the direction orthogonal to the w-axis direction.

本実施例では、w軸方向に平行な縁55w、u軸方向に平行な縁55u、及びv軸方向に平行な縁55vに、それぞれw軸方向のパス、u軸方向のパス、及びv軸方向のパスを実行することによりインクを塗布する。初期状態では、w軸方向がy軸方向と平行になっている。 In this embodiment, the edge 55w parallel to the w-axis direction, the edge 55u parallel to the u-axis direction, and the edge 55v parallel to the v-axis direction have a path in the w-axis direction, a path in the u-axis direction, and a v-axis, respectively. Apply ink by performing a directional pass. In the initial state, the w-axis direction is parallel to the y-axis direction.

図10Bは、インク吐出装置26をw軸方向(y軸方向)に相対的に移動させるw軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。インクが塗布された領域にハッチングを付している。塗布対象領域55のw軸方向に平行な縁55w、及び塗布対象領域55の内奥部にインクを塗布し、u軸方向に平行な縁55u及びv軸方向に平行な縁55vにはインクを塗布しない。これにより、インクが塗布されていない未塗布領域59が残る。未塗布領域59は、例えば、u軸方向に平行な縁55uに沿う帯状の領域、及びv軸方向に平行な縁55vに沿う帯状の領域で構成される。 FIG. 10B is a plan view of the coating target region 55 after executing the path in the w-axis direction in which the ink ejection device 26 is relatively moved in the w-axis direction (y-axis direction). Hatching is attached to the area where the ink is applied. Ink is applied to the edge 55w parallel to the w-axis direction of the application target area 55 and the inner inner part of the application target area 55, and ink is applied to the edge 55u parallel to the u-axis direction and the edge 55v parallel to the v-axis direction. Do not apply. As a result, the uncoated area 59 to which the ink has not been applied remains. The uncoated region 59 is composed of, for example, a band-shaped region along the edge 55u parallel to the u-axis direction and a band-shaped region along the edge 55v parallel to the v-axis direction.

w軸方向のパスを実行した後、制御装置30(図1)は回転機構21Cを制御して、u軸方向がy軸方向と平行になるように基板50を回転させる。この状態で、インク吐出装置26をy軸方向に移動させることにより、u軸方向のパスを実行する。 After executing the path in the w-axis direction, the control device 30 (FIG. 1) controls the rotation mechanism 21C to rotate the substrate 50 so that the u-axis direction is parallel to the y-axis direction. In this state, the ink ejection device 26 is moved in the y-axis direction to execute the path in the u-axis direction.

図10Cは、u軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。u軸方向のパスを実行することにより、u軸方向に平行な縁55uに沿う未塗布領域59にインクが塗布される。 FIG. 10C is a plan view of the coating target region 55 after executing the path in the u-axis direction. By executing the pass in the u-axis direction, the ink is applied to the uncoated region 59 along the edge 55u parallel to the u-axis direction.

u軸方向のパスを実行した後、制御装置30(図1)は回転機構21Cを制御して、v軸方向がy軸方向と平行になるように基板50を回転させる。この状態で、インク吐出装置26をy軸方向に移動させることにより、v軸方向のパスを実行する。 After executing the pass in the u-axis direction, the control device 30 (FIG. 1) controls the rotation mechanism 21C to rotate the substrate 50 so that the v-axis direction is parallel to the y-axis direction. In this state, the ink ejection device 26 is moved in the y-axis direction to execute the path in the v-axis direction.

図10Dは、v軸方向のパスを実行した後の塗布対象領域55の平面図である。v軸方向のパスを実行することにより、v軸方向に平行な縁55vに沿う未塗布領域59にインクが塗布される。 FIG. 10D is a plan view of the coating target region 55 after executing the path in the v-axis direction. By executing the pass in the v-axis direction, the ink is applied to the uncoated region 59 along the edge 55v parallel to the v-axis direction.

次に、本実施例による膜形成装置及び膜形成方法を採用することにより得られる優れた効果について説明する。 Next, the excellent effect obtained by adopting the film forming apparatus and the film forming method according to this example will be described.

本実施例においては、インクによって形成された膜の、w軸方向に平行な縁55w、u軸方向に平行な縁55u、及びv軸方向に平行な縁55vの直線からの歪みを抑制することができる。縁の直線性を高めるために、塗布対象領域55のパターンを定義する複数の画素を、u軸方向、v軸方向、及びw軸方向に平行に配列させるとよい。 In this embodiment, the distortion of the film formed by the ink from the straight line of the edge 55w parallel to the w-axis direction, the edge 55u parallel to the u-axis direction, and the edge 55v parallel to the v-axis direction is suppressed. Can be done. In order to improve the linearity of the edge, it is preferable to arrange a plurality of pixels defining the pattern of the coating target area 55 parallel to the u-axis direction, the v-axis direction, and the w-axis direction.

本実施例では、塗布対象領域55の平面形状を等脚台形にしたが、三方向にそれぞれ平行な縁を持つその他の形状にしてもよい。例えば、塗布対象領域55の平面形状を正六角形にし、ハニカム構造を構成するように配置してもよい。塗布対象領域55の平面形状を、その他の多角形にしてもよい。 In this embodiment, the planar shape of the coating target area 55 is an isosceles trapezoid, but other shapes having parallel edges in each of the three directions may be used. For example, the planar shape of the coating target region 55 may be a regular hexagon and arranged so as to form a honeycomb structure. The planar shape of the application target area 55 may be another polygonal shape.

上述の各実施例は例示であり、異なる実施例で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。複数の実施例の同様の構成による同様の作用効果については実施例ごとには逐次言及しない。さらに、本発明は上述の実施例に制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 It goes without saying that each of the above embodiments is exemplary and the configurations shown in different examples can be partially replaced or combined. Similar effects and effects due to the same configuration of a plurality of examples will not be mentioned sequentially for each example. Furthermore, the present invention is not limited to the above-mentioned examples. For example, it will be obvious to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, etc. are possible.

20 基台
21 移動機構
21A x軸方向直動機構
21B y軸方向直動機構
21C 回転機構
23 支持部
24 門型フレーム
26 インク吐出装置
26A、26B インクジェットヘッド
27 ノズル孔
28 光源
30 制御装置
31 記憶装置
35 入力装置
36 出力装置
50 基板(塗布対象物)
51 ストリート
52 膜
55 塗布対象領域
55u u軸方向に平行な縁
55v v軸方向に平行な縁
55w w軸方向に平行な縁
56、57、58 パスの方向を示す矢印
59 未塗布領域
60 画素
61、62 パスの方向を示す矢印
71 繰り出しロール
72 巻き取りロール
73 移動機構
74 直動機構
20 Base 21 Moving mechanism 21A x-axis direction linear motion mechanism 21B y-axis direction linear motion mechanism 21C Rotation mechanism 23 Support part 24 Gate type frame 26 Ink ejection device 26A, 26B Ink ejection device 27 Nozzle hole 28 Light source 30 Control device 31 Storage device 35 Input device 36 Output device 50 Substrate (object to be coated)
51 Street 52 Film 55 Coating target area 55u u Edge parallel to the axis 55v v Edge parallel to the axis 55w w Edge parallel to the axis 56, 57, 58 Arrow 59 indicating the direction of the path 59 Uncoated area 60 pixels 61 , 62 Arrows indicating the direction of the pass 71 Feeding roll 72 Winding roll 73 Moving mechanism 74 Linear mechanism

Claims (4)

第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域のパターンを記憶する記憶装置と、
塗布対象物を支持する支持部と、
前記支持部に支持された塗布対象物の表面に向かってインクを吐出する複数のノズル孔を有するインク吐出装置と、
前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記支持部に対して固定された相互に直交するx方向及びy方向に移動させる機能を持つ移動機構と、
前記インク吐出装置と前記移動機構とを制御する制御装置と
を有し、
複数の前記ノズル孔は前記x方向に並んで配置されており、
前記制御装置は、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記記憶装置に記憶された前記塗布対象領域のパターンに基づいて、前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布する第1の制御と、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、 前記支持部に支持された塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記y方向に移動させながら、前記インク吐出装置からインクを吐出させることにより、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布する第2の制御と
を実行する機能を有する膜形成装置。
A storage device that stores a pattern of an application target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction.
A support part that supports the object to be applied and
An ink ejection device having a plurality of nozzle holes for ejecting ink toward the surface of an object to be coated supported by the support portion, and an ink ejection device.
Movement having a function of moving one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device with respect to the other in the x-direction and the y-direction fixed to the support portion and orthogonal to each other. Mechanism and
It has a control device that controls the ink ejection device and the moving mechanism.
The plurality of nozzle holes are arranged side by side in the x direction.
The control device is
With the first direction parallel to the x direction, the coating object supported by the support portion and the ink ejection device based on the pattern of the coating target area stored in the storage device. A first method of applying ink to an edge of the application target area parallel to the first direction by ejecting ink from the ink ejection device while moving one of the two with respect to the other in the x direction. Control and
In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, one of the coating object supported by the support portion and the ink ejection device is moved in the y direction with respect to the other. A film forming apparatus having a function of ejecting ink from an ink ejection device to perform a second control of applying ink to an edge parallel to the second direction of the coating target region.
前記制御装置は、
前記第1の制御において、前記第1の方向に平行な縁に、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布し、
前記第2の制御において、前記第2の方向に平行な縁にも、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する請求項1に記載の膜形成装置。
The control device is
In the first control, parallel edges in the first direction, applying the ink ejected from the same of the nozzle hole of the plurality of the nozzle holes,
The film forming apparatus according to claim 1 , wherein in the second control, ink ejected from the same nozzle hole among the plurality of nozzle holes is applied to an edge parallel to the second direction.
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を有するインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第1の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、前記塗布対象領域の前記第2の方向に平行な縁にインクを塗布し、
前記塗布対象物と前記インク吐出装置との一方を他方に対して前記x方向に移動させている期間、及び前記y方向に移動させている期間の少なくとも一方の期間に、前記塗布対象領域の内側にインクを塗布する膜形成方法。
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. In a state where the first direction and the x direction are parallel to each other, the ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other, and the first direction of the coating target area is described. Apply ink to the edges parallel to the direction of 1
While in parallel with said x direction and said first direction, one of said object to be coated with the ink ejection device relative to the other, while moving in the y direction perpendicular to the x-direction, the coating Ink is applied to the edge of the target area parallel to the second direction.
The object to be coated with one period that is moved in the x direction relative to the other of the ink discharge device, and at least one of the periods is being moved in the y-direction, the inside of the coating target region A film forming method for applying ink to the surface.
第1の方向に平行な縁と、前記第1の方向に対して直交する第2の方向に平行な縁とを含む塗布対象領域が表面に画定された塗布対象物と、x方向に並んだ複数のノズル孔を持つインク吐出装置とを、前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、一方を他方に対して前記x方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第1の方向に平行な縁に塗布し、
前記第1の方向と前記x方向とを平行にした状態で、前記塗布対象物と、前記インク吐出装置との一方を他方に対して、前記x方向と直交するy方向に移動させながら、複数の前記ノズル孔のうち同一の前記ノズル孔から吐出されたインクを前記第2の方向に平行な縁に塗布し、
前記塗布対象物の内側に、複数の前記ノズル孔から吐出されたインクを塗布する膜形成方法。
A coating target area including an edge parallel to the first direction and an edge parallel to the second direction orthogonal to the first direction is aligned with the coating target object defined on the surface in the x direction. Of the plurality of nozzle holes, an ink ejection device having a plurality of nozzle holes is moved in the x direction with respect to the other in a state where the first direction and the x direction are parallel to each other. The ink ejected from the same nozzle hole is applied to the edge parallel to the first direction, and the ink is applied to the edge parallel to the first direction.
With the first direction parallel to the x direction, a plurality of the object to be coated and the ink ejection device are moved with respect to the other in the y direction orthogonal to the x direction. The ink ejected from the same nozzle hole among the nozzle holes of the above is applied to the edge parallel to the second direction.
A film forming method for applying ink ejected from a plurality of nozzle holes to the inside of an object to be coated.
JP2017240421A 2017-12-15 2017-12-15 Membrane forming device and film forming method Active JP6925746B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017240421A JP6925746B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Membrane forming device and film forming method
TW107127211A TWI673180B (en) 2017-12-15 2018-08-06 Film forming device and film forming method
KR1020180093821A KR102529026B1 (en) 2017-12-15 2018-08-10 Film forming apparatus and film forming method
CN201810914191.0A CN109927413B (en) 2017-12-15 2018-08-13 Film forming apparatus and film forming method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017240421A JP6925746B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Membrane forming device and film forming method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019109573A JP2019109573A (en) 2019-07-04
JP6925746B2 true JP6925746B2 (en) 2021-08-25

Family

ID=66984502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017240421A Active JP6925746B2 (en) 2017-12-15 2017-12-15 Membrane forming device and film forming method

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6925746B2 (en)
KR (1) KR102529026B1 (en)
CN (1) CN109927413B (en)
TW (1) TWI673180B (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112937077A (en) * 2021-04-16 2021-06-11 赵成刚 High-precision silk-screen printing laser plate-making machine
CN115008900B (en) * 2022-05-13 2023-06-16 华中科技大学 Flexible display jet printing film edge straightness control method and system

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100212089B1 (en) * 1994-09-09 1999-08-02 모리시타 요이찌 Apparatus and method for forming thin film
CN1136790A (en) * 1994-10-12 1996-11-27 中国涂料株式会社 Steel sheet for large structure, having primary rust-proofing paint film formed thereon, application method of primary rust-proofing paint on steel sheet and coated steel sheet for large structure
JP3058257B2 (en) * 1996-02-16 2000-07-04 キヤノン株式会社 Method for manufacturing color filter, apparatus for manufacturing color filter, method for manufacturing display device, and method for manufacturing apparatus provided with display device
JP2002292840A (en) * 2001-03-30 2002-10-09 Brother Ind Ltd Ink jet recording method and recorder
JP3849545B2 (en) * 2002-02-26 2006-11-22 セイコーエプソン株式会社 Thin film forming apparatus and thin film forming method, circuit pattern manufacturing apparatus, circuit pattern manufacturing method and electronic apparatus, resist pattern manufacturing apparatus and resist pattern manufacturing method
JP2003329828A (en) * 2002-03-06 2003-11-19 Seiko Epson Corp Liquid material ejecting method, liquid material ejecting apparatus, color filter manufacturing method, color filter, liquid crystal display, electroluminescence device, plasma display panel manufacturing method, and plasma display
KR100618578B1 (en) * 2002-12-20 2006-08-31 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Dispenser of liquid crystal display panel and dispensing method using the same
WO2004103709A1 (en) * 2003-05-22 2004-12-02 Seiko Epson Corporation Liquid jetting device and liquid jetting method
JP4311084B2 (en) * 2003-06-02 2009-08-12 セイコーエプソン株式会社 Thin film pattern manufacturing method, organic electroluminescent device manufacturing method, color filter manufacturing method, plasma display panel manufacturing method, liquid crystal display panel manufacturing method
JP4419015B2 (en) * 2004-03-04 2010-02-24 リコープリンティングシステムズ株式会社 Inkjet coating method and apparatus
JP4980644B2 (en) * 2005-05-30 2012-07-18 東京エレクトロン株式会社 Coating method and coating apparatus
NL1030357C2 (en) * 2005-11-04 2007-05-07 Otb Group Bv Method and device for manufacturing a color filter and / or a black matrix and a display provided with such a color filter and / or such a black matrix.
CN101430396B (en) * 2005-11-11 2011-08-31 精工爱普生株式会社 Ejection method, method of manufacturing color filter, electro-optical apparatus, and electronic apparatus
EP1925736B1 (en) * 2006-11-27 2009-06-17 Joseph Voegele AG Method for producing a sprayed layer and paving machine with spraying system
US7901036B2 (en) * 2007-11-12 2011-03-08 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Print head unit and method for manufacturing patterned layer on substrate with the same
JP2010036488A (en) * 2008-08-06 2010-02-18 Fuji Xerox Co Ltd Droplet discharge apparatus
JP2010201288A (en) * 2009-02-27 2010-09-16 Shibaura Mechatronics Corp Method of applying solution and device for applying solution
EP2468509B1 (en) * 2009-08-21 2015-01-21 Mimaki Engineering Co., Ltd. Inkjet printer and inkjet printing method
JP2011051225A (en) * 2009-09-01 2011-03-17 Olympus Corp Inspection method for defective recording in image recorder
JP5832779B2 (en) * 2011-05-12 2015-12-16 芝浦メカトロニクス株式会社 Droplet coating apparatus and droplet coating method
TWI511794B (en) * 2011-08-05 2015-12-11 Sumitomo Heavy Industries A film pattern forming apparatus, a film pattern forming method, and a device adjusting method
JP5944132B2 (en) * 2011-10-05 2016-07-05 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ Coating method and coating apparatus
JP5797277B2 (en) 2011-12-14 2015-10-21 住友重機械工業株式会社 Touch panel manufacturing method and substrate manufacturing apparatus
JP2014104385A (en) * 2012-11-26 2014-06-09 Sumitomo Heavy Ind Ltd Substrate manufacturing method and apparatus
KR20160108303A (en) * 2014-01-10 2016-09-19 이시이 효키 가부시키가이샤 Film formation device and film formation method
US10479119B2 (en) * 2014-01-16 2019-11-19 Konica Minolta, Inc. Two-dimensional image-forming apparatus, three-dimensional fabrication apparatus, two-dimensional image-forming method and three-dimensional fabrication method
CN105499069B (en) * 2014-10-10 2019-03-08 住友重机械工业株式会社 Membrane formation device and film forming method
JP6752577B2 (en) 2016-01-14 2020-09-09 東レエンジニアリング株式会社 Inkjet coating equipment and inkjet coating method
CN105676546A (en) * 2016-04-12 2016-06-15 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 Display substrate, display device and spraying device
CN205553568U (en) * 2016-04-27 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 Ink -jet printer
CN106864039B (en) * 2017-02-16 2018-04-27 京东方科技集团股份有限公司 A kind of nozzle, inkjet printing methods and continuous inkjet Method of printing
CN107497643A (en) * 2017-09-14 2017-12-22 苏州市铂汉塑胶五金有限公司 Production integration spraying coating process

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190072397A (en) 2019-06-25
CN109927413B (en) 2020-12-11
TWI673180B (en) 2019-10-01
JP2019109573A (en) 2019-07-04
CN109927413A (en) 2019-06-25
TW201927582A (en) 2019-07-16
KR102529026B1 (en) 2023-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060292291A1 (en) System and methods for inkjet printing for flat panel displays
TW201946697A (en) Ink coating device and ink coating method in which a relative moving speed between a coating target and an ink jetting head is different in coating an edge region and an interior region
JP6925746B2 (en) Membrane forming device and film forming method
TWI593468B (en) Thin film forming apparatus and thin film forming method
JP6925749B2 (en) Membrane forming method and film forming apparatus
WO2018030256A1 (en) Film formation method and film formation apparatus
EP3797027B1 (en) Additive plate making system and method
JP6952243B2 (en) Printing method and printing equipment
JP2007234811A (en) Ink jet coating device
JP6289880B2 (en) Thin film forming method and thin film forming apparatus
JP7464378B2 (en) Ink application control device and ink application method
TWI771005B (en) Ink coating device, its control device, and ink coating method
KR20150130836A (en) Ink-jet marking method and ink-jet marking system
JP5840078B2 (en) Thin film forming apparatus and thin film forming method
JP7428541B2 (en) Ink coating device, ink coating device control device, and ink coating method
JP2021189854A (en) Print data generation apparatus and control apparatus of ink application apparatus
US7592044B2 (en) Method for manufacturing patterned layer on substrate
JP2010197914A (en) Method and device for forming pattern
KR20120079733A (en) Tft printing apparatus and method of manufacturing the tft using the same
JP2013033879A (en) Drawing device and drawing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200715

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210430

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210518

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210630

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210803

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6925746

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150