JP2013033879A - Drawing device and drawing method - Google Patents

Drawing device and drawing method Download PDF

Info

Publication number
JP2013033879A
JP2013033879A JP2011169830A JP2011169830A JP2013033879A JP 2013033879 A JP2013033879 A JP 2013033879A JP 2011169830 A JP2011169830 A JP 2011169830A JP 2011169830 A JP2011169830 A JP 2011169830A JP 2013033879 A JP2013033879 A JP 2013033879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
nozzle units
nozzle unit
unit
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011169830A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Okamoto
裕司 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2011169830A priority Critical patent/JP2013033879A/en
Publication of JP2013033879A publication Critical patent/JP2013033879A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten drawing time per one drawing target sheet.SOLUTION: First and second nozzle units having a plurality of nozzles for discharging droplets face a drawing target retained by a retention mechanism. A shift mechanism shifts the first and second nozzle units relatively to the drawing target in mutually intersected first and second directions. A control device controls the nozzle units and the shift mechanism. Each nozzle of the first and second nozzle units is disposed so as to land the droplets at points of impact arranged at equal intervals in the second direction. The first and second nozzle units are arranged apart from each other in the second direction. Control by the control device causes an interval adjustment mechanism to change the interval between the first and second nozzle units.

Description

本発明は、ノズルから液滴を吐出させて描画を行う描画装置及び描画方法に関する。   The present invention relates to a drawing apparatus and a drawing method for drawing by discharging droplets from a nozzle.

プリント配線板にソルダーレジストのパターンを形成する従来の方法について説明する。まず、表面に回路パターンが形成されたプリント配線板の全面に、感光性のソルダーレジストを塗布する。所定のマスクパターンを用いて、ソルダーレジスト膜を露光し、その後現像することにより、ソルダーレジストのパターンが形成される。   A conventional method for forming a solder resist pattern on a printed wiring board will be described. First, a photosensitive solder resist is applied to the entire surface of a printed wiring board having a circuit pattern formed on the surface. A solder resist pattern is formed by exposing the solder resist film using a predetermined mask pattern and then developing the solder resist film.

ソルダーレジストを液滴化して、プリント配線板の所望の領域にのみ液滴を付着させ、硬化させることにより、ソルダーレジストのパターンを形成する技術が注目されている。プリント配線板の表面に付着した液滴に紫外線を照射することにより、液滴を硬化させることができる。   Attention has been focused on a technique for forming a solder resist pattern by forming a solder resist into droplets, causing the droplets to adhere only to a desired region of the printed wiring board, and curing the solder resist. By irradiating the droplets attached to the surface of the printed wiring board with ultraviolet rays, the droplets can be cured.

特許第3544543号公報Japanese Patent No. 3544543

描画対象物1枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。   It is desired to shorten the drawing time per drawing object.

本発明の一観点によると、
描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第1及び第2のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第1及び第2のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第1の方向及び第2の方向に移動させる移動機構と、
前記第1及び第2のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第1及び第2のノズルユニットの各々のノズルは、前記第2の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第1及び第2のノズルユニットは、前記第2の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第1及び第2のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
A holding mechanism for holding the drawing object;
First and second nozzle units having a plurality of nozzles facing the drawing object held by the holding mechanism and discharging droplets to the drawing object;
A moving mechanism that moves the first and second nozzle units in a first direction and a second direction that intersect with each other relative to the drawing object held by the holding mechanism;
A control device for controlling the first and second nozzle units and the moving mechanism;
The nozzles of each of the first and second nozzle units are arranged to land droplets on landing points arranged at equal intervals in the second direction,
The first and second nozzle units are spaced apart in the second direction;
Furthermore, there is provided a drawing apparatus having an interval adjusting mechanism that changes the interval between the first and second nozzle units under the control of the control device.

本発明の他の観点によると、
外形及び寸法が同一で、第2の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも2つのノズルユニットを対向させ、1つの繰り返しパターンと1つのノズルユニットとの前記第2の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第2の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第2の方向と直交する第1の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
Preparing a drawing object in which a drawing pattern including a plurality of repeated patterns having the same outer shape and dimensions and spaced apart in the second direction is defined;
At least two nozzle units are made to face the drawing object, and the relative positional relationship between one repeating pattern and one nozzle unit in the second direction, and the second repeating pattern and the second nozzle unit. And the liquid droplets from the nozzle unit while moving the nozzle unit relative to the drawing object in a first direction perpendicular to the second direction. A drawing method including a step of performing main scanning for discharging the ink.

複数のノズルユニットを用いることにより、描画時間を短縮することができる。第1のノズルユニットと第2のノズルユニットとの間隔を変化させることにより、第1のノズルユニットと第2のノズルユニットとの相対位置関係を、描画すべきパターンの繰り返し周期に整合させることができる。これにより、描画品質のばらつきを抑制することができる。   By using a plurality of nozzle units, the drawing time can be shortened. By changing the interval between the first nozzle unit and the second nozzle unit, the relative positional relationship between the first nozzle unit and the second nozzle unit can be matched with the repetition cycle of the pattern to be drawn. it can. Thereby, variation in drawing quality can be suppressed.

図1は、実施例による描画装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a drawing apparatus according to an embodiment. 図2Aは、ノズルユニットの斜視図であり、図2Bは、ノズルユニットの底面図である。FIG. 2A is a perspective view of the nozzle unit, and FIG. 2B is a bottom view of the nozzle unit. 図3は、ノズルと、ノズルの像との位置関係を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a positional relationship between the nozzle and the image of the nozzle. 図4Aは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に直交する視線で見た図であり、図4Bは、ノズルユニット及びプリント配線板を、走査方向に平行な視線で見た図である。FIG. 4A is a view of the nozzle unit and the printed wiring board viewed from a line of sight orthogonal to the scanning direction, and FIG. 4B is a view of the nozzle unit and the printed wiring board viewed from a line of sight parallel to the scanning direction. 図5は、描画対象物であるプリント配線板の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a printed wiring board that is a drawing object. 図6Aは、実施例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図6Bは、実施例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。6A is a diagram illustrating a positional relationship between a repeated pattern of the printed wiring board according to the embodiment and a nozzle unit, and FIG. 6B is a cross-sectional view of the printed wiring board after drawing manufactured by the method according to the embodiment. 図7Aは、比較例によるプリント配線板の繰り返しパターンと、ノズルユニットとの位置関係を示す図であり、図7Bは、比較例による方法で製造した描画後のプリント配線板の断面図である。FIG. 7A is a diagram showing a positional relationship between the repeated pattern of the printed wiring board according to the comparative example and the nozzle unit, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the printed wiring board after drawing manufactured by the method according to the comparative example. 実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図である。It is a bottom view of the nozzle unit of the drawing apparatus by the modification of an Example.

図1に、実施例による描画装置の概略図を示す。定盤20の上に、移動機構21により保持機構25が保持されている。移動機構21は、Xステージ22、Yステージ23、及びθステージ24を含む。水平面をXY面とし、鉛直方向をZ軸とするXYZ直交座標系を定義する。Xステージ22は、Yステージ23をX軸方向に移動させる。Yステージ23は、θステージ24をY方向に移動させる。θステージ24は、Z軸に平行な軸を回転中心として、保持機構25の回転方向の姿勢を変化させる。保持機構25は、描画対象であるプリント配線板50を保持する。保持機構25には、例えば真空チャックが用いられる。   FIG. 1 is a schematic diagram of a drawing apparatus according to an embodiment. A holding mechanism 25 is held on the surface plate 20 by a moving mechanism 21. The moving mechanism 21 includes an X stage 22, a Y stage 23, and a θ stage 24. An XYZ orthogonal coordinate system in which the horizontal plane is the XY plane and the vertical direction is the Z axis is defined. The X stage 22 moves the Y stage 23 in the X-axis direction. The Y stage 23 moves the θ stage 24 in the Y direction. The θ stage 24 changes the posture of the holding mechanism 25 in the rotation direction about an axis parallel to the Z axis. The holding mechanism 25 holds the printed wiring board 50 that is a drawing target. For the holding mechanism 25, for example, a vacuum chuck is used.

定盤20の上方に、支柱30によって梁31が支えられている。梁31に、ノズルユニット40及び撮像装置32が取り付けられている。ノズルユニット40は、Y方向に並んで複数個、例えば2個配置されている。間隔調節機構46により、ノズルユニット40の間隔を調節することができる。撮像装置32及びノズルユニット40は、保持機構25に保持されたプリント配線板50に対向する。撮像装置32は、プリント配線板50の表面に形成されている配線パターン、アライメントマーク等を撮像する。撮像結果が、制御装置33に入力される。ノズルユニット40は、複数のノズルから、プリント配線板50に向けて、紫外線硬化型樹脂、例えばソルダーレジストの液滴を吐出する。吐出された液滴が、プリント配線板50の表面に付着する。   A beam 31 is supported by a support 30 above the surface plate 20. A nozzle unit 40 and an imaging device 32 are attached to the beam 31. A plurality of, for example, two nozzle units 40 are arranged in the Y direction. The interval of the nozzle unit 40 can be adjusted by the interval adjusting mechanism 46. The imaging device 32 and the nozzle unit 40 face the printed wiring board 50 held by the holding mechanism 25. The imaging device 32 images a wiring pattern, an alignment mark, and the like formed on the surface of the printed wiring board 50. The imaging result is input to the control device 33. The nozzle unit 40 ejects droplets of an ultraviolet curable resin, for example, a solder resist, from a plurality of nozzles toward the printed wiring board 50. The discharged droplets adhere to the surface of the printed wiring board 50.

制御装置33が、Xステージ22、Yステージ23、θステージ24、保持機構25、及びノズルユニット40を制御する。記憶装置34に、描画すべきパターンのイメージデータが記憶されている。   The control device 33 controls the X stage 22, the Y stage 23, the θ stage 24, the holding mechanism 25, and the nozzle unit 40. The storage device 34 stores image data of a pattern to be drawn.

図1では、ノズルヘッド40を定盤20に対して固定し、保持機構25を移動させるように、移動機構21を配置したが、その逆に、保持機構25を定盤20に固定し、ノズルユニット40を保持機構25に対して移動させてもよい。   In FIG. 1, the moving mechanism 21 is arranged so that the nozzle head 40 is fixed to the surface plate 20 and the holding mechanism 25 is moved, but conversely, the holding mechanism 25 is fixed to the surface plate 20, and the nozzle The unit 40 may be moved with respect to the holding mechanism 25.

図2Aに、ノズルユニット40の各々の斜視図を示す。支持部材41の底面に、4個のノズルヘッド42A〜42Dが、X方向に配列するように取り付けられている。ノズルヘッド42A〜42Dが、X軸の負の向きに向かってこの順番に配列している。ノズルヘッド42A〜42Dの各々に、複数のノズル45が形成されている。   FIG. 2A shows a perspective view of each nozzle unit 40. Four nozzle heads 42 </ b> A to 42 </ b> D are attached to the bottom surface of the support member 41 so as to be arranged in the X direction. The nozzle heads 42A to 42D are arranged in this order toward the negative direction of the X axis. A plurality of nozzles 45 are formed in each of the nozzle heads 42A to 42D.

ノズルヘッド42Aと42Bとの間、ノズルヘッド42Bと42Cとの間、ノズルヘッド42Cと42Dとの間に、光源43が配置されている。さらに、ノズルヘッド42AよりもX軸の正の側の領域、及びノズルヘッド42DよりもX軸の負の側の領域に、光源43が配置されている。光源43は、プリント配線板50(図1)に紫外線を照射する。   A light source 43 is disposed between the nozzle heads 42A and 42B, between the nozzle heads 42B and 42C, and between the nozzle heads 42C and 42D. Further, the light source 43 is arranged in a region on the positive side of the X axis from the nozzle head 42A and a region on the negative side of the X axis from the nozzle head 42D. The light source 43 irradiates the printed wiring board 50 (FIG. 1) with ultraviolet rays.

図2Bに、ノズルヘッド42A〜42D、及び光源43の底面図を示す。ノズルヘッド42Aの底面(プリント配線板50に対向する表面)に、2列のノズル列46a、46bが形成されている。ノズル列46a及びノズル列46bの各々は、Y軸方向にピッチ(周期)8Pで並ぶ複数のノズル45で構成される。ノズル列46bは、ノズル列46aに対して、X軸の負の方向にずれており、さらに、Y軸の負の方向にピッチ4Pだけずれている。すなわち、ノズルヘッド42Aのノズル45は、Y方向に関しては、ピッチ4Pで等間隔に分布している。ピッチ4Pは、例えば300dpiの解像度に相当するピッチ、すなわち約84.67μmである。   FIG. 2B shows a bottom view of the nozzle heads 42 </ b> A to 42 </ b> D and the light source 43. Two rows of nozzle rows 46a and 46b are formed on the bottom surface of the nozzle head 42A (the surface facing the printed wiring board 50). Each of the nozzle row 46a and the nozzle row 46b includes a plurality of nozzles 45 arranged at a pitch (period) 8P in the Y-axis direction. The nozzle row 46b is shifted in the negative direction of the X axis with respect to the nozzle row 46a, and is further shifted by the pitch 4P in the negative direction of the Y axis. That is, the nozzles 45 of the nozzle head 42A are distributed at equal intervals with a pitch 4P in the Y direction. The pitch 4P is, for example, a pitch corresponding to a resolution of 300 dpi, that is, about 84.67 μm.

ノズルヘッド42B〜42Dの構造は、ノズルヘッド42Aの構造と同一である。ノズルヘッド42B、42C、42Dは、それぞれノズルヘッド42Aに対して、Y軸の負の方向に2P、P、3Pだけずれるように機械的に位置決めされて、支持部材41(図2A)に取り付けられている。ノズルヘッド42A〜42Dの間、及び最も外側のノズルヘッド42A、42Dよりも外側に、光源43が配置されている。   The structure of the nozzle heads 42B to 42D is the same as the structure of the nozzle head 42A. The nozzle heads 42B, 42C, and 42D are mechanically positioned with respect to the nozzle head 42A so as to be shifted by 2P, P, and 3P in the negative direction of the Y axis, and are attached to the support member 41 (FIG. 2A). ing. A light source 43 is disposed between the nozzle heads 42A to 42D and outside the outermost nozzle heads 42A and 42D.

図3に示すように、ノズルヘッド42A〜42Dのノズル45を、X軸に垂直な仮想平面56に垂直投影した像55A〜55Dは、Y方向に、1200dpiの解像度に相当するピッチP、すなわち約21.17μのピッチで等間隔に配列する。このため、4個のノズルヘッド42A〜42Dを用いて、Y軸方向に関して1200dpiの解像度で描画を行うことができる。   As shown in FIG. 3, images 55A to 55D obtained by vertically projecting the nozzles 45 of the nozzle heads 42A to 42D onto a virtual plane 56 perpendicular to the X axis have a pitch P corresponding to a resolution of 1200 dpi in the Y direction, that is, about Arrange at equal intervals with a pitch of 21.17μ. For this reason, it is possible to perform drawing with a resolution of 1200 dpi in the Y-axis direction using the four nozzle heads 42A to 42D.

図4Aに、ノズルユニット40及びプリント配線板50を、Y軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。支持部材41の底面に、ノズルヘッド42A〜42D、及び光源43が取り付けられている。ノズルヘッド42A〜42Dに、プリント配線板50が対向する。   FIG. 4A is a schematic diagram when the nozzle unit 40 and the printed wiring board 50 are viewed from a line of sight parallel to the Y axis. Nozzle heads 42 </ b> A to 42 </ b> D and a light source 43 are attached to the bottom surface of the support member 41. The printed wiring board 50 faces the nozzle heads 42A to 42D.

ノズルヘッド42Aと42Bとの間に取り付けられた光源43は、プリント配線板50の表面のうち、ノズルヘッド42Aに対向する領域48Aと、ノズルヘッド42Bに対向する領域48Bとの間の領域に、光を照射する。同様に、ノズルヘッド42Bに対向する領域48B、ノズルヘッド42Cに対向する領域48C、及びノズルヘッド42Dに対向する領域48Dの間の領域も、対応するノズルヘッドの間に取り付けられた光源43により光照射される。   The light source 43 attached between the nozzle heads 42A and 42B is located on the surface of the printed wiring board 50 between the region 48A facing the nozzle head 42A and the region 48B facing the nozzle head 42B. Irradiate light. Similarly, the region 48B facing the nozzle head 42B, the region 48C facing the nozzle head 42C, and the region 48D facing the nozzle head 42D are also illuminated by the light source 43 attached between the corresponding nozzle heads. Irradiated.

ノズルヘッド42Aよりも外側(X軸の正の側)に取り付けられた光源43は、領域48AよりもX軸の正の側の領域に光を照射する。ノズルヘッド42Dよりも外側(X軸の負の側)に取り付けられた光源43は、領域48DよりもX軸の負の側の領域に光を照射する。   The light source 43 attached to the outside of the nozzle head 42A (the positive side of the X axis) irradiates light on the region on the positive side of the X axis with respect to the region 48A. The light source 43 attached to the outside of the nozzle head 42D (the negative side of the X axis) irradiates light to the region on the negative side of the X axis from the region 48D.

プリント配線板50を、X軸の負の向きに移動させながら、ノズルヘッド42A〜42Dから液滴を吐出させて描画を行う場合について説明する。ノズルヘッド42A〜42Dから吐出されてプリント配線板50に付着した液滴は、着弾した時点の液滴の位置よりも前方(X軸の負の方向)の光源から光が照射されることによって硬化する。   A case will be described in which drawing is performed by ejecting liquid droplets from the nozzle heads 42A to 42D while moving the printed wiring board 50 in the negative direction of the X axis. The droplets ejected from the nozzle heads 42A to 42D and adhered to the printed wiring board 50 are cured by being irradiated with light from a light source ahead (in the negative direction of the X axis) from the position of the droplet at the time of landing. To do.

各ノズルヘッド42A〜42Dの各々の前方に光源43が配置されているため、液滴がプリント配線板50に付着してから短時間のうちに、液滴を硬化させることができる。また、各ノズルヘッド42A〜42DのX軸の正の側にも、光源43が配置されているため、プリント配線板50をX軸の正の方向に移動させながら描画を行う際にも、液滴の付着から硬化までの時間を短くすることができる。   Since the light source 43 is disposed in front of each of the nozzle heads 42 </ b> A to 42 </ b> D, the droplets can be cured within a short time after the droplets adhere to the printed wiring board 50. Further, since the light source 43 is also arranged on the positive side of the X axis of each of the nozzle heads 42A to 42D, the liquid is also used when drawing while moving the printed wiring board 50 in the positive direction of the X axis. The time from the adhesion of the droplet to the curing can be shortened.

図4Bに、ノズルユニット40及びプリント配線板50を、X軸に平行な視線でみたときの概略図を示す。   FIG. 4B is a schematic diagram when the nozzle unit 40 and the printed wiring board 50 are viewed from a line of sight parallel to the X axis.

Y方向に間隔を隔てて第1のノズルユニット40A及び第2のノズルユニット40Bが配置されている。第1のノズルユニット40Aと第2のノズルユニット40Bとの間隔は、間隔調節機構46により調節することができる。具体的には、第1のノズルユニット40Aと第2のノズルユニット40Bとを、独立してY方向に移動させることができる。間隔調節機構46は、制御装置33により制御される。   The first nozzle unit 40A and the second nozzle unit 40B are arranged at an interval in the Y direction. The interval between the first nozzle unit 40A and the second nozzle unit 40B can be adjusted by the interval adjusting mechanism 46. Specifically, the first nozzle unit 40A and the second nozzle unit 40B can be independently moved in the Y direction. The interval adjusting mechanism 46 is controlled by the control device 33.

図5に、プリント配線板50に描画すべきパターンの一例を示す。複数の繰り返しパターン51がX方向及びY方向に行列状に配置されている。Y方向の繰り返し周期をLとする。描画が終了すると、プリント配線板50が製品ごとに分割される。1つの繰り返しパターン51が、1つの製品の基板に対応する。複数の繰り返しパターン51の外形及び寸法は同一である。また、全ての繰り返しパターン51は、その内部に、同一の描画パターンを含んでいる。各繰り返しパターン51の内部に配置されたパターンの外側の領域に、ソルダーレジストが塗布される。   FIG. 5 shows an example of a pattern to be drawn on the printed wiring board 50. A plurality of repetitive patterns 51 are arranged in a matrix in the X direction and the Y direction. Let the repetition period in the Y direction be L. When drawing is completed, the printed wiring board 50 is divided for each product. One repeating pattern 51 corresponds to one product substrate. The external shapes and dimensions of the plurality of repeating patterns 51 are the same. Moreover, all the repeating patterns 51 include the same drawing pattern therein. A solder resist is applied to a region outside the pattern arranged inside each repeating pattern 51.

図6Aを参照して、実施例による描画方法について説明する。制御装置33(図1)は、記憶装置34に記憶されている描画すべきパターンのイメージデータから、繰り返しパターン51の繰返し周期Lを算出する。なお、予め、パターンの設計データから繰り返し周期Lを求めておき、繰り返し周期Lを制御装置33に入力するようにしてもよい。   A drawing method according to the embodiment will be described with reference to FIG. 6A. The control device 33 (FIG. 1) calculates the repetition period L of the repeated pattern 51 from the image data of the pattern to be drawn stored in the storage device 34. The repetition period L may be obtained in advance from the pattern design data, and the repetition period L may be input to the control device 33.

第1のノズルユニット40AをX方向に移動させながら、ノズルから液滴を吐出させることによって、X方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。同様に、第2のノズルユニット40Bでも、X方向に延在する帯状の領域に描画を行うことができる。   By moving the first nozzle unit 40A in the X direction and ejecting liquid droplets from the nozzle, it is possible to perform drawing in a band-like region extending in the X direction. Similarly, even in the second nozzle unit 40B, it is possible to perform drawing in a band-like region extending in the X direction.

描画パターンを定義するピクセルの、Y方向の中心間距離が、ノズルの像55A〜55DのピッチP(図3)に等しい場合には、ノズルユニット40をX軸に平行に、片方向に移動させることによって、ノズルユニット40に対応する帯状の領域内の描画が完了する。ノズルの像55A〜55DのピッチPが、ピクセルの中心間距離のm倍(mは正の整数)である場合には、ノズルユニット40をY方向に距離(P/m)ずつずらせながら、X方向にm回移動させることによって、ノズルユニット40に対応する帯状の領域内の描画が完了する。例えば、m=2の場合には、1つのノズルユニット40を1往復させることによって、帯状の領域内の描画が完了する。ノズルユニット40をX方向にm回移動させて、ノズルユニット40に対応する帯状の領域内の描画を完了させる処理を、「1回の主走査」ということとする。   When the distance between the centers of the pixels defining the drawing pattern in the Y direction is equal to the pitch P (FIG. 3) of the nozzle images 55A to 55D, the nozzle unit 40 is moved in one direction parallel to the X axis. Thus, the drawing in the band-shaped area corresponding to the nozzle unit 40 is completed. When the pitch P of the nozzle images 55A to 55D is m times the distance between the centers of the pixels (m is a positive integer), the nozzle unit 40 is shifted by a distance (P / m) in the Y direction. By moving m times in the direction, drawing in the band-like region corresponding to the nozzle unit 40 is completed. For example, when m = 2, the drawing in the band-like region is completed by reciprocating one nozzle unit 40 once. The process of moving the nozzle unit 40 m times in the X direction to complete the drawing in the band-like region corresponding to the nozzle unit 40 is referred to as “one main scan”.

1回の主走査で描画を行う領域を「単位走査領域」ということとする。単位走査領域の最大幅をWとする。最大幅Wは、図3のノズルの像55A〜55Dのうち、両端のノズルの像の間隔に、ピッチPを加えた長さと等しい。ノズル45の総数をNとすると、W=N×Pと表される。単位走査領域の最大幅Wは、繰り返しパターン51の繰り返し周期Lよりも狭い。   An area where drawing is performed in one main scan is referred to as a “unit scan area”. Let W be the maximum width of the unit scan area. The maximum width W is equal to the length obtained by adding the pitch P to the interval between the nozzle images at both ends of the nozzle images 55A to 55D in FIG. When the total number of nozzles 45 is N, W = N × P. The maximum width W of the unit scanning area is narrower than the repetition period L of the repeating pattern 51.

制御装置33は、間隔調節機構46(図4B)を制御して、第1のノズルユニット40Aと第2のノズルユニット40BとのY方向に関する相対位置関係を、繰り返し周期Lに整合させる。具体的には、一例として、第1のノズルユニット40Aに対する第2のノズルユニット40BのY方向へのずれ量を、繰り返し周期Lと同一にする。このとき、1列目の繰り返しパターン51と第1のノズルユニット40AとのY方向に関する相対位置関係は、2列目の繰り返しパターン51と第2のノズルユニット40BとのY方向に関する相対位置関係と同一である。   The control device 33 controls the interval adjusting mechanism 46 (FIG. 4B) to match the relative positional relationship in the Y direction between the first nozzle unit 40A and the second nozzle unit 40B with the repetition period L. Specifically, as an example, the amount of deviation of the second nozzle unit 40B in the Y direction with respect to the first nozzle unit 40A is made the same as the repetition period L. At this time, the relative positional relationship in the Y direction between the repetitive pattern 51 in the first row and the first nozzle unit 40A is the relative positional relationship in the Y direction between the repetitive pattern 51 in the second row and the second nozzle unit 40B. Are the same.

なお、第1のノズルユニット40Aに対する第2のノズルユニット40BのY方向へのずれ量を、繰り返し周期Lの整数倍にしてもよい。   Note that the shift amount in the Y direction of the second nozzle unit 40B relative to the first nozzle unit 40A may be an integral multiple of the repetition period L.

1列目の繰り返しパターン51が配置された領域を、複数個、図6Aにおいては3個の単位走査領域60A(1)〜60A(3)に区分し、2列目の繰り返しパターン51が配置された領域を、3個の単位走査領域60B(1)〜60B(3)に区分する。単位走査領域60A(1)〜60A(3)をY方向に繰り返し周期Lだけずらすと、単位走査領域60B(1)〜60B(3)と一致する。   A plurality of regions in which the first-row repeating pattern 51 is arranged are divided into three unit scanning regions 60A (1) to 60A (3) in FIG. 6A, and the second-row repeating pattern 51 is arranged. The region is divided into three unit scanning regions 60B (1) to 60B (3). When the unit scanning regions 60A (1) to 60A (3) are shifted by the repetition period L in the Y direction, they coincide with the unit scanning regions 60B (1) to 60B (3).

繰り返し周期Lが、単位走査領域の最大幅Wで割り切れるとは限らない。割り切れない場合には、1列目の繰り返しパターン51を区分した3個の単位走査領域60A(1)〜60A(3)の少なくとも1つの幅は、Wよりも狭くなる。図6Aでは、単位走査領域60A(3)の幅がWよりも狭い例を示している。なお、単位走査領域60A(1)〜60A(3)の各々の幅を、L/3としてもよい。   The repetition period L is not always divisible by the maximum width W of the unit scanning area. If it is not divisible, at least one of the three unit scan areas 60A (1) to 60A (3) dividing the repetitive pattern 51 in the first column is narrower than W. FIG. 6A shows an example in which the width of the unit scanning area 60A (3) is narrower than W. Note that the width of each of the unit scan regions 60A (1) to 60A (3) may be L / 3.

第1及び第2のノズルユニット40A、40Bによって1回目の主走査を行うことにより、単位走査領域60A(1)及び60B(1)内の描画が完了する。1回目の主走査のときの第1及び第2のノズルユニット40A、40Bの位置を実線で示す。第1及び第2のノズルユニット40A、40BをY方向にWだけずらして2回目の主走査を行う。これにより、単位走査領域60A(2)及び60B(2)内の描画が完了する。さらに、3回目の主走査を行うことにより、単位走査領域60A(3)及び60B(3)内の描画が完了する。2回目および3回目の主走査のときの第1及び第2のノズルユニット40A、40Bの位置を破線で示す。   By performing the first main scan by the first and second nozzle units 40A and 40B, the drawing in the unit scan areas 60A (1) and 60B (1) is completed. The positions of the first and second nozzle units 40A and 40B at the time of the first main scanning are indicated by solid lines. The first and second nozzle units 40A and 40B are shifted by W in the Y direction to perform the second main scan. Thereby, the drawing in the unit scan areas 60A (2) and 60B (2) is completed. Furthermore, by performing the third main scan, the drawing in the unit scan areas 60A (3) and 60B (3) is completed. The positions of the first and second nozzle units 40A and 40B at the second and third main scans are indicated by broken lines.

3回目の主走査のときに、第1のノズルユニット40Aで描画することができる領域が、1回目の主走査で第2のノズルユニット40Bによって描画された単位走査領域60B(1)と部分的に重複する場合がある。この場合、重複する領域については、第1のノズルユニット40Aによる描画は行わない。   An area that can be drawn by the first nozzle unit 40A at the time of the third main scan is partially different from the unit scan area 60B (1) drawn by the second nozzle unit 40B at the first main scan. May overlap. In this case, the overlapping region is not drawn by the first nozzle unit 40A.

図6Bに、描画後のソルダーレジスト膜53の断面図を示す。単位走査領域60A(3)、60B(3)の幅が、他の単位走査領域の幅よりも狭い。このため、3回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数は、1回目及び2回目の主走査で液滴を吐出させるノズルの数よりも少ない。ソルダーレジストを吐出させるノズルの数を少なく設定して主走査を行うと、ノズルから吐出される液滴の体積が大きくなる傾向を示す。これは、ソルダーレジストが、一般の印刷用インクに比べて粘度が高いためであると考えられる。   FIG. 6B shows a cross-sectional view of the solder resist film 53 after drawing. The widths of the unit scan areas 60A (3) and 60B (3) are narrower than the widths of the other unit scan areas. For this reason, the number of nozzles that eject droplets in the third main scan is smaller than the number of nozzles that eject droplets in the first and second main scans. When main scanning is performed with a small number of nozzles for discharging the solder resist, the volume of droplets discharged from the nozzles tends to increase. This is presumably because the solder resist has a higher viscosity than general printing ink.

単位走査領域60A(3)、60B(3)の幅が、他の単位走査領域の幅より狭いため、単位走査領域60A(3)、60B(3)に形成されるソルダーレジスト膜53の膜厚が、他の単位走査領域に形成されるソルダーレジスト膜53の膜厚より厚くなる。繰り返しパターン51ごとのソルダーレジスト膜53の膜厚の分布は、全ての繰り返しパターン51について同一になる。1つの繰り返しパターン51が1つの製品に対応するため、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきは小さくなる。   Since the width of the unit scanning regions 60A (3) and 60B (3) is narrower than the width of the other unit scanning regions, the film thickness of the solder resist film 53 formed in the unit scanning regions 60A (3) and 60B (3). However, it becomes thicker than the film thickness of the solder resist film 53 formed in other unit scanning regions. The distribution of the thickness of the solder resist film 53 for each repeated pattern 51 is the same for all the repeated patterns 51. Since one repetitive pattern 51 corresponds to one product, the variation in the quality of the solder resist film between products is reduced.

また、実施例では、2つのノズルユニット40を用いて描画を行うため、描画時間を短くすることができる。   In the embodiment, since drawing is performed using the two nozzle units 40, the drawing time can be shortened.

図7Aに、比較例による方法で描画を行うときの繰り返しパターン51と単位走査領域60A(1)〜60A(3)、60B(1)〜60B(3)との位置関係を示す。比較例においては、第1のノズルユニット40Aと第2のノズルユニット40Bとの、Y方向のずれ量が、単位走査領域の最大幅Wの3倍に固定されている。   FIG. 7A shows the positional relationship between the repetitive pattern 51 and the unit scanning regions 60A (1) to 60A (3) and 60B (1) to 60B (3) when drawing is performed by the method according to the comparative example. In the comparative example, the amount of deviation in the Y direction between the first nozzle unit 40A and the second nozzle unit 40B is fixed to three times the maximum width W of the unit scanning region.

単位走査領域60A(3)は、隣り合う2つの列の繰り返しパターン51と部分的に重なる。1列目の繰り返しパターン51と、2列目の繰り返しパターン51とでは、単位走査領域の境界線と、繰り返しパターン51との位置関係が異なる。   The unit scan region 60A (3) partially overlaps the repeating pattern 51 of two adjacent columns. The repetitive pattern 51 in the first column and the repetitive pattern 51 in the second column differ in the positional relationship between the boundary line of the unit scanning region and the repetitive pattern 51.

図7Bに、比較例による方法で形成されたソルダーレジスト膜53の断面図を示す。単位走査領域60A(3)を走査するときには、1列目の繰り返しパターン51と2列目の繰り返しパターン51との間の余白部分に液滴が塗布されない。このため、単位走査領域60A(3)を走査するときに使用するノズルの数が、他の単位走査領域を走査するときに比べて少なくなる。従って、単位走査領域60A(3)内のソルダーレジスト膜53の膜厚が、他の領域に比べて厚くなる。   FIG. 7B shows a cross-sectional view of the solder resist film 53 formed by the method according to the comparative example. When the unit scan region 60A (3) is scanned, no liquid droplet is applied to the blank portion between the repetitive pattern 51 in the first row and the repetitive pattern 51 in the second row. For this reason, the number of nozzles used when scanning the unit scan region 60A (3) is smaller than when scanning other unit scan regions. Therefore, the thickness of the solder resist film 53 in the unit scanning region 60A (3) is thicker than other regions.

1列目の繰り返しパターン51内の膜厚分布と、2列目の繰り返しパターン51内の膜厚分布とは異なる。このため製品間で、ソルダーレジスト膜の品質のばらつきが大きくなる。   The film thickness distribution in the repeating pattern 51 in the first column is different from the film thickness distribution in the repeating pattern 51 in the second column. For this reason, the quality of the solder resist film varies greatly among products.

実施例による描画装置及び描画方法を採用することにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間でのばらつきを抑制することができる。   By adopting the drawing apparatus and the drawing method according to the embodiment, the quality of the solder resist film can be suppressed from product to product.

上記実施例では、ノズルユニット40を2個配置したが、ノズルユニット40を3個以上配置してもよい。このとき、1つの繰り返しパターン51と、それに対応するノズルユニット40とのY方向に関する相対位置関係と、他の1つの繰り返しパターン51と、それに対応するノズルユニット40とのY方向に関する相対位置関係とを同一にする。この状態で、ノズルユニット40を、描画対象物50に対して、相対的にX方向に移動させながら、ノズルユニットから液滴を吐出させる。これにより、ソルダーレジスト膜の品質の、製品間のばらつきを抑制することができる。   In the above embodiment, two nozzle units 40 are arranged, but three or more nozzle units 40 may be arranged. At this time, the relative positional relationship in the Y direction between one repetitive pattern 51 and the corresponding nozzle unit 40, and the relative positional relationship in the Y direction between the other one repetitive pattern 51 and the corresponding nozzle unit 40, Are the same. In this state, droplets are ejected from the nozzle unit while moving the nozzle unit 40 in the X direction relative to the drawing object 50. Thereby, the dispersion | variation between products of the quality of a soldering resist film | membrane can be suppressed.

図5では、同一の繰り返しパターン51がX方向及びY方向に行列状に配置されている例を示したが、X方向に関しては、必ずしも同一のパターンが周期的に配置されている必要はない。例えば、図5において、1行目に配置された繰り返しパターン51と2行目に配置された繰り返しパターン51とは、各繰り返しパターン51の内部のパターンや外形の寸法が同一である必要はない。ただし、外形の寸法が同一でない場合であっても、1行目の繰り返しパターン51と2行目の繰り返しパターン51とは、Y方向に関して同一の繰返し周期Lで配列している必要がある。   FIG. 5 shows an example in which the same repetitive pattern 51 is arranged in a matrix in the X direction and the Y direction. However, the same pattern does not necessarily have to be periodically arranged in the X direction. For example, in FIG. 5, the repetitive pattern 51 arranged in the first row and the repetitive pattern 51 arranged in the second row do not have to have the same internal pattern and outer dimensions. However, even if the dimensions of the outer shape are not the same, the repeating pattern 51 on the first line and the repeating pattern 51 on the second line need to be arranged with the same repetition period L in the Y direction.

図8に、実施例の変形例による描画装置のノズルユニットの底面図を示す。以下、実施例との相違点に着目して説明し、同一の構成については説明を省略する。   FIG. 8 shows a bottom view of a nozzle unit of a drawing apparatus according to a modification of the embodiment. Hereinafter, description will be made by paying attention to differences from the embodiment, and description of the same configuration will be omitted.

上記実施例では、ノズルヘッド42A〜42Dの各々に、2列のノズル列46a、46bが形成されていたが、変形例では、1列のノズル列46が形成されている。ノズル列46は、ピッチ4PでY方向に配列した複数のノズル45で構成される。実施例では、2本のノズル列46a、46bからの吐出時刻をずらせることにより、1本の直線上に液滴を着弾させたが、変形例では、1つのノズルヘッド内のノズル45から、同時に液滴を吐出させればよい。   In the above embodiment, two nozzle rows 46a and 46b are formed in each of the nozzle heads 42A to 42D. However, in a modified example, one nozzle row 46 is formed. The nozzle row 46 includes a plurality of nozzles 45 arranged in the Y direction at a pitch of 4P. In the embodiment, the liquid droplets are landed on one straight line by shifting the discharge time from the two nozzle rows 46a and 46b. However, in the modified example, from the nozzle 45 in one nozzle head, What is necessary is just to discharge a droplet simultaneously.

1つのノズルヘッド42A、42B、42Cまたは42Dのノズル45が、300dpiに相当するピッチで配列している場合、変形例においても、4個のノズルヘッド42A〜42Dを用いて1200dpiの解像度で描画を行うことができる。   When the nozzles 45 of one nozzle head 42A, 42B, 42C or 42D are arranged at a pitch corresponding to 300 dpi, even in the modified example, drawing is performed at a resolution of 1200 dpi using the four nozzle heads 42A to 42D. It can be carried out.

なお、ピッチPで1列に配列した複数のノズル45を有する1つのノズルヘッドによりノズルユニット40を構成してもよい。   The nozzle unit 40 may be configured by a single nozzle head having a plurality of nozzles 45 arranged in a line at a pitch P.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

20 定盤
21 移動機構
22 Xステージ
23 Yステージ
24 θステージ
25 保持機構
30 支柱
31 梁
32 撮像装置
33 制御装置
34 記憶装置
40 ノズルユニット
40A 第1のノズルユニット
40B 第2のノズルユニット
41 支持部材
42A、42B、42C、42D ノズルヘッド
43 光源
45 ノズル
46 間隔調節機構
50 プリント配線板(描画対象物)
51 繰り返しパターン
53 ソルダーレジスト膜
60A 第1のノズルユニットの単位走査領域
60B 第2のノズルユニットの単位走査領域
20 Surface plate 21 Moving mechanism 22 X stage 23 Y stage 24 θ stage 25 Holding mechanism 30 Support column 31 Beam 32 Imaging device 33 Control device 34 Storage device 40 Nozzle unit 40A First nozzle unit 40B Second nozzle unit 41 Support member 42A , 42B, 42C, 42D Nozzle head 43 Light source 45 Nozzle 46 Spacing adjustment mechanism 50 Printed wiring board (drawing object)
51 Repeat Pattern 53 Solder Resist Film 60A Unit Scanning Area 60B of First Nozzle Unit Unit Scanning Area of Second Nozzle Unit

Claims (4)

描画対象物を保持する保持機構と、
前記保持機構に保持された描画対象物に対向し、描画対象物に液滴を吐出複数のノズルを有する第1及び第2のノズルユニットと、
前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第1及び第2のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第1の方向及び第2の方向に移動させる移動機構と、
前記第1及び第2のノズルユニット及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第1及び第2のノズルユニットの各々のノズルは、前記第2の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されており、
前記第1及び第2のノズルユニットは、前記第2の方向に間隔を隔てて配置されており、
さらに、前記制御装置からの制御により、前記第1及び第2のノズルユニットの間隔を変化させる間隔調節機構を有する描画装置。
A holding mechanism for holding the drawing object;
First and second nozzle units having a plurality of nozzles facing the drawing object held by the holding mechanism and discharging droplets to the drawing object;
A moving mechanism that moves the first and second nozzle units in a first direction and a second direction that intersect with each other relative to the drawing object held by the holding mechanism;
A control device for controlling the first and second nozzle units and the moving mechanism;
The nozzles of each of the first and second nozzle units are arranged to land droplets on landing points arranged at equal intervals in the second direction,
The first and second nozzle units are spaced apart in the second direction;
Furthermore, the drawing apparatus which has the space | interval adjustment mechanism which changes the space | interval of the said 1st and 2nd nozzle unit by control from the said control apparatus.
前記描画対象物に描画すべき描画パターンは、外形及び寸法が同一で、前記第2の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含み、
前記制御措置は、
前記第1及び第2のノズルユニットの、前記第2の方向に関する相対位置が、前記繰り返しパターンが前記第2の方向に並ぶ繰り返し周期に整合するように、前記間隔調節機構を制御し、
前記第1及び第2のノズルユニットの、前記第2の方向に関する相対位置が前記繰り返し周期に整合した状態で、前記第1及び第2のノズルユニットを、前記保持機構に保持された描画対象物に対して、前記第1の方向の相対的に移動させながら描画を行う請求項1に記載の描画装置。
The drawing pattern to be drawn on the drawing object includes a plurality of repetitive patterns having the same outer shape and dimensions and arranged at intervals in the second direction,
The control measures are:
Controlling the interval adjusting mechanism so that the relative positions of the first and second nozzle units in the second direction are aligned with a repetition period in which the repetition pattern is aligned in the second direction;
A drawing object in which the first and second nozzle units are held by the holding mechanism in a state where the relative positions of the first and second nozzle units in the second direction are aligned with the repetition period. The drawing apparatus according to claim 1, wherein the drawing is performed while relatively moving in the first direction.
外形及び寸法が同一で、第2の方向に間隔を隔てて配置された複数の繰り返しパターンを含む描画パターンが画定された描画対象物を準備する工程と、
前記描画対象物に少なくとも2つのノズルユニットを対向させ、1つの繰り返しパターンと1つのノズルユニットとの前記第2の方向に関する相対位置関係と、他の繰り返しパターンと他のノズルユニットとの前記第2の方向に関する相対位置関係とを同一にし、前記ノズルユニットを、前記描画対象物に対して、相対的に前記第2の方向と直交する第1の方向に移動させながら、前記ノズルユニットから液滴を吐出させる主走査を行う工程と
を有する描画方法。
Preparing a drawing object in which a drawing pattern including a plurality of repeated patterns having the same outer shape and dimensions and spaced apart in the second direction is defined;
At least two nozzle units are made to face the drawing object, and the relative positional relationship between one repeating pattern and one nozzle unit in the second direction, and the second repeating pattern and the second nozzle unit. And the liquid droplets from the nozzle unit while moving the nozzle unit relative to the drawing object in a first direction perpendicular to the second direction. A drawing method including a step of performing main scanning for discharging the ink.
1つの前記ノズルユニットを前記第1の方向に相対的に移動させることによって描画することができる領域の前記第2の方向の幅は、前記繰り返しパターンの各々の前記第2の方向の寸法よりも小さく、
前記ノズルユニットの前記第2の方向に関する位置を変えて、前記主走査を複数回行う請求項3に記載の描画方法。
The width in the second direction of the region that can be drawn by relatively moving one nozzle unit in the first direction is larger than the dimension in the second direction of each of the repeated patterns. small,
The drawing method according to claim 3, wherein the main scanning is performed a plurality of times by changing a position of the nozzle unit in the second direction.
JP2011169830A 2011-08-03 2011-08-03 Drawing device and drawing method Withdrawn JP2013033879A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011169830A JP2013033879A (en) 2011-08-03 2011-08-03 Drawing device and drawing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011169830A JP2013033879A (en) 2011-08-03 2011-08-03 Drawing device and drawing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013033879A true JP2013033879A (en) 2013-02-14

Family

ID=47789502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011169830A Withdrawn JP2013033879A (en) 2011-08-03 2011-08-03 Drawing device and drawing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013033879A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6341840B1 (en) Method of printing a substrate and a printing system containing a printing device suitable for use of the method
US20160082654A1 (en) Three-dimensional object forming device and three-dimensional object forming method
US7347530B2 (en) Inkjet printing of color filters
TWI522021B (en) Film forming method and thin film forming apparatus
JP6057406B2 (en) Thin film forming apparatus and thin film forming method
JP2007144635A (en) Inkjet recorder
JP2019198834A (en) Ink coating device and ink coating method
US9315024B2 (en) Droplet discharging method and droplet discharging apparatus
KR101446950B1 (en) Inkjet head assembly and printing method using the same
JP5638137B2 (en) Substrate manufacturing method and substrate manufacturing apparatus
WO2018030256A1 (en) Film formation method and film formation apparatus
KR20140135606A (en) Ink jet apparatus and head layout method for ink jet apparatus
KR20140067895A (en) Substrate manufacturing method and substrate manufacturing apparatus
JP2009175487A (en) Liquid material discharging device and method
JP2013033879A (en) Drawing device and drawing method
US8201910B2 (en) Line drawing method
KR102012378B1 (en) Printing head assembly, printing apparatus and method for aligning printing head
KR20150130836A (en) Ink-jet marking method and ink-jet marking system
JP2009233612A (en) Drawing method, inkjet head, drawing apparatus, method of manufacturing printed board and method of manufacturing color filter
JP5728702B2 (en) Filter manufacturing apparatus and filter manufacturing method
KR102660786B1 (en) Inkjet print system and inkjet printing method using the same
JP7495276B2 (en) Printing data generating device and ink application device control device
JP2021079359A (en) Ink coating controller and ink coating method
JP2009172510A (en) Apparatus and method for ejecting liquid
JP2007253348A (en) Printing method and printer

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20141007