JP6924990B2 - 溶射皮膜及び溶射皮膜部材 - Google Patents
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Description
(1)試験方法
本発明品(実施例)として、電気式溶射部の先端に図1に示す二重円筒部2を設け、不活性ガス噴射部3より、流速300〜600m/s程度で、流量400〜1200L/min程度の不活性ガスを流すことで溶融粒子を急速冷却させつつ、酸化抑制した溶射皮膜を100μm以上になるよう作製する。基材にはSS400鋼板を使用し、事前にアルミナグリッドにより表面をブラスト処理する。Ti皮膜の溶射材料はトーホーテック社製チタン粉 TC−150を使用し、Zr基金属ガラス皮膜の溶射材料はガスアトマイズ粉 Zr55−Al10−Cu30−Ni5(原子%)を使用する。Ti皮膜を実施例1とし、Zr基金属ガラス皮膜を実施例2とする。従来技術(比較例)として、電気式溶射部の先端に二重円管部を設けない通常の溶射法にて上記同様の溶射材料を用いTi皮膜とZr基金属ガラス皮膜を作製する。Ti皮膜を比較例1とし、Zr基金属ガラス皮膜を比較例2とする。
作製した溶射皮膜の結晶粒径測定としてEBSDによる分析を行い、画像解析により結晶粒径を評価した結果を表3に示す。本発明品(実施例1、2)の結晶粒径は300nm以下である。実施例2に関してはアモルファス相を形成しているため、結晶は存在していない。一方、比較例2に関しては酸化、窒化及び急冷がされていない影響により、結晶化していた。
作製したZr基金属ガラス皮膜がアモルファス相を形成しているか確認するため、実施例2と比較例2の溶射皮膜のX線回折測定を行った。結果を図2に示す。実施例2はアモルファス相特有のハローピークが確認されるが、比較例2は結晶相特有の鋭いピークが確認される。
作製したZr基金属ガラス皮膜のアモルファス化率を評価するため、実施例2と比較例2の溶射皮膜のDSC測定を行った。なお単ロール法で作製したアモルファス箔のアモルファス化率を100%とし算術を行った。結果を表4に示す。共にX線回折測定の結果を支持するものであり、実施例2は高いアモルファス相を有する溶射皮膜であることが確認される。
(1)試験方法
本発明品(実施例)として、電気式溶射部の先端に図1に示す二重円筒部2を設け、不活性ガス噴射部3より、流速300〜600m/s程度で、流量400〜1200L/min程度の不活性ガスを流すことで溶融粒子を急速冷却させつつ、酸化抑制した溶射皮膜を100μm以上になるよう作製する。基材にはSS400鋼板を使用し、事前にアルミナグリッドにより表面をブラスト処理する。Zr基金属ガラス皮膜の溶射材料は表5に示したガスアトマイズ粉を使用する。本発明品を実施例3〜7とする。
作製した溶射皮膜の結晶粒径測定としてEBSDによる分析を行い、画像解析により結晶粒径を評価した。本発明品(実施例3〜7)の結晶粒径はいずれもアモルファス相を形成しているため、結晶は存在していない。
作製したZr基金属ガラス皮膜がアモルファス相を形成しているか確認するため、溶射皮膜のX線回折測定を行った。実施例3〜7はいずれもアモルファス相特有のハローピークが確認される。代表として実施例3の結果を図3に示す。
1A プラズマ発生器
2 二重円筒部
2A 内筒体
2B 外筒体
3 不活性ガス噴射部
3A ガス通過路
3B 不活性ガス供給部
4 ガス供給部
5 材料供給部
Claims (5)
- Ti、Zrのいずれか1つ以上の元素を含有し、その合計含有量が20質量%以上である溶射皮膜であって、皮膜組織がアモルファス相を有し金属ガラスであり、かつ皮膜組織の結晶粒径が300nm以下、皮膜中の酸素量が1質量%以下、皮膜中の窒素量が1質量%以下である溶射皮膜。
- 皮膜組織のアモルファス相の割合が90%以上である請求項1に記載の溶射皮膜。
- 皮膜膜厚が10〜10000μmである請求項1又は2に記載の溶射皮膜。
- 皮膜中の空孔率が1%未満である請求項1〜3のいずれかに記載の溶射皮膜。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の溶射皮膜を備える溶射皮膜部材。
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