JP2006159108A - 複合積層体、これを用いたガス分離膜ならびにその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 多孔質支持体表面に、ピンホールのない金属ガラス溶射被膜が積層されている複合積層体。金属ガラスを多孔質支持体表面に高速フレーム溶射することにより、緻密でピンホールがなく、均一なアモルファス相からなる金属ガラス溶射被膜を多孔質支持体表面に強固かつ直接的に積層することができる。金属ガラスとして、水素などのガス選択透過性を有するものを用いれば、特に封口処理せずとも水素などガス分離膜として十分使用できる。また、本発明においては溶射被膜が均一なアモルファス相として得られるため、結晶質金属に比べて水素脆化が少なく、耐食性や強度にも優れる。また、高速フレーム溶射は大気中で行うことができるので製造が容易である。
【選択図】 図1
Description
水素選択透過性の金属膜を用いた水素分離膜は高純度水素製造に利用されており、その原理は、高圧力の原料ガス(水素を含有する混合ガス)を水素透過性金属膜の片面に接触させ、水素のみを透過させて高純度水素を反対側から得るというものである。PdやPd合金(Pd−Ag合金等)からなるPd系金属膜は、水素選択性が高く水素透過速度が速いため、水素分離膜としてよく用いられる。
また、圧延成型によって合金箔を作製しようとすると、特殊な圧延条件や焼鈍工程の繰り返しが必要となり生産コストは極めて高いものとなる。また、箔を作製する際に焼鈍を繰り返すと、箔中の元素分布が偏析する場合がある。また、このような作業は合金の酸化を防止するために不活性ガス雰囲気中で行われなければならないが、圧延工程や焼鈍工程を不活性ガス雰囲気中で行おうとすると装置が大型化する。
また、特許文献4などには、蒸着により金属多孔質支持体表面にPd系膜を形成することが記載されている。
しかしながら、メッキや蒸着などでは多孔質支持体表面に直接膜を形成できるが、多孔質体の細孔を完全に塞ぐには非常に時間がかかり生産性が悪い。また、細孔中心部で膜厚が薄くなって耐圧性が不十分であったり、ピンホールを完全になくすことが困難であるなどの問題があった。
減圧プラズマ溶射法では、減圧されたチャンバー内で無酸素雰囲気中で行うため、溶射材料の酸化はなく高純度の被膜が形成できるものの、一般に溶射被膜は気孔が多く、そのままで水素透過分離膜に適用することは困難である。
すなわち、本発明にかかる複合積層体は、多孔質支持体表面に、ピンホールのない金属ガラス溶射被膜が積層されていることを特徴とする。
また、金属ガラス溶射被膜の厚みが1〜1000μmであることが好適である。
また、多孔質支持体の細孔経が0.1〜1000μmの範囲であることが好適である。
また、本発明の複合積層体において、形状がチューブ状であることが好適である。
本発明にかかるガス分離膜は、前記何れかに記載の複合積層体を用いる。
また、本発明にかかる複合積層体の製造方法は、多孔質支持体表面に金属ガラスを高速フレーム溶射し、多孔質支持体表面にピンホールのない金属ガラス溶射被膜を積層することを特徴とする。
図2は、チューブ状の複合積層体10の一例を示し、チューブ状の多孔質支持体12の外側表面には水素ガス選択透過性を有する金属ガラス溶射被膜14が積層されている。このような複合積層体では、チューブ内の中空部が、金属ガラス溶射被膜14を透過し、多孔質支持体12を通過してきた高純度水素ガスの流路となる。
分離膜として用いる際の分離条件としては適宜設定可能であるが、例えば、供給される混合ガスの温度を500℃、混合ガス圧を1MPa、透過側の圧力を0.1MPaとすることができる。
なお、金属性の多孔質支持体を用いた場合、水素分離膜として高温で長期に運転した場合に、溶射被膜と金属製支持体との拡散反応により分離能が低下することがある。このような場合には、多孔質支持体12と溶射被膜14との間に相互拡散を抑制するバリア層を設けることができる。例えば、特許文献2では、CVD法などによりセラミックをバリア層として設けている。
また、溶射被膜14の表面には、水素透過性能等を改善するために、さらにPd膜などを公知の方法により被覆することもできる。
なお、図1の多孔質支持体12は、厚さ0.1mmのSUS430からなり、厚み方向に貫通する細孔16の断面形状(開口部形状)は長径50μm、短径10μmの長方形で、隣接する細孔同士の間隔は20μmであるが、これに限定されるものではない。
本発明においては、細孔径や断面形状、あるいは材質の異なる多孔質基材を通気性や機械的強度等を考慮して最良となるように適宜重ね合わせて使用することができる。例えば、溶射被膜に近いほど開口径が小さくなるように複数枚重ねて使用することができる。
近年、過冷却液体状態の温度幅が比較的広く、金属融体を0.1〜100K/s程度のゆっくりとした冷却速度で冷却しても、過冷却液体状態を経過してガラス相に凝固する合金が見い出され、これらは金属ガラスあるいはガラス合金(glassy alloy)と呼ばれて、従来のアモルファス合金とは区別されている。金属ガラスは、(1)3元系以上の金属ガラスからなる合金で、且つ(2)広い過冷却温度域を有する合金と定義されており、耐食性、耐摩耗性等に極めて高い性能を有し、より緩慢な冷却によって非晶質固体が得られるなどの特徴を有する。金属ガラス合金はアモルファス金属の一つとして考えられているが、最近ではナノクリスタルの集合体との見方もされている。
すなわち、金属ガラスをDSC(示差走査熱量計)を用いてその熱的挙動を調べると、温度上昇にともない、ガラス転移温度(Tg)を開始点としてブロードな広い吸熱温度領域が現れ、結晶化開始温度(Tx)でシャープな発熱ピークに転ずる。そしてさらに加熱すると、融点(Tm)で吸熱ピークが現れる。金属ガラスの種類によって、各温度は異なる。TgとTxの間の温度領域△Tx=Tx−Tgが過冷却液体領域であり、△Txが10〜130Kと非常に大きいことが金属ガラスの一つの特徴である。△Txが大きい程、結晶化に対する過冷却液体状態の安定性が高いことを意味する。
過冷却液体が安定化するための組成に関しては、(1)3成分以上の多元系であること、(2)主要3成分の原子径が互いに12%以上異なっていること、及び(3)主要3成分の混合熱が互いに負の値を有していること、が経験則として知られている(ガラス合金の発展経緯と合金系:機能材料、vol.22,No.6,p.5−9(2002))。
メタル−メタロイド系金属ガラス合金は、ΔTxが35K以上、組成によっては50K以上という大きな温度間隔を有していることが知られている。本発明においては△Txが20K以上、さらには40K以上の金属ガラスであることが好ましい。
金属の溶射被膜では一般に気孔が多く、そのため多孔質の基材上に溶射した場合には、溶射被膜を厚くしても、基材の孔を完全に塞ぐことは難しい。
本発明では、金属ガラス粒子を過冷却状態で多孔質支持体表面に衝突させることにより、多孔質支持体表面に緻密且つ均一なアモルファス相の金属ガラス皮膜を短時間で強固かつ容易に形成することができる。
過冷却液体領域では、金属ガラスは粘性流動を示し、粘性が低い。このため、過冷却液体状態にある金属ガラスが多孔質支持体表面に衝突すると、瞬時に薄く潰れて支持体表面に広がり、厚みが非常に薄い良好なスプラットを形成することができる。そして、このようなスプラットの堆積により、気孔が非常に少なくピンホールのない緻密な膜を形成することができる。
溶射被膜と支持体表面とは強固に接合する。また、溶射における衝突時には溶射粒子の一部が多孔質支持体の細孔の開口部付近で内部に若干侵入するので、アンカーとしての役目も果たす。
アモルファス金属は結晶質金属に比べて水素脆化が少なく、耐食性や強度にも優れる。金属ガラス被膜中に結晶相が含まれる場合には、このような金属ガラスの優れた性能が損なわれる。
従って、本発明の方法によれば、溶射により、均一な金属ガラスのアモルファス固体相からなり、且つピンホールのない緻密な金属皮膜を多孔質支持体表面に強固かつ容易に得ることができる。
本発明においては、金属ガラス皮膜中の気孔は非常に少ない(気孔率は10容積%以下、好ましくは2容積%以下)。また、気孔径は皮膜の膜厚よりもごく小さく、皮膜を貫通するような連続気孔は存在しない。
図3は、高速フレーム溶射(HVOF)装置の一例の概略図である。同図に示すように、HVOF装置は溶射ガン30を備え、該溶射ガン30の基部(図中左方)から燃料パイプ32及び酸素パイプ34を介してそれぞれ燃料及び酸素が供給され、溶射ガン30のフレーム端(図中右方)には高速の燃焼炎(ガスフレーム)36が形成される。そして、この溶射ガン30のフレーム端に近接して溶射材料供給パイプ38が設けられ、該パイプ38から溶射材料粉末が搬送ガス(N2ガスなど)により圧送供給される。
燃料としては、灯油、アセチレン、水素、プロパン、プロピレン等を用いることができる。
溶射粉末の粒径は、特に問題のない限り制限されないが、10〜80μm、さらには20〜50μmが好適に使用できる。溶射粒子はミクロンオーダーで大きく、これが衝突により基材表面で薄く潰れて多孔質支持体の細孔を広く覆うことができるため、気相法などに比べ極めて短時間で細孔を完全に塞ぐことができる。
このような方法により金属、合金、セラミック、樹脂などの材料表面に金属ガラスを溶射し、緻密な金属ガラスのアモルファス溶射皮膜を形成することができる。特に銅、ステンレスなどの耐熱性、熱容量、熱伝導の高い金属材料には好適に溶射できる。
溶射による積層では、支持体に直接金属膜を形成できるので、金属箔を支持体と接合するための工程は不要である。
また、積層体をチューブ状としたい場合には、チューブ状の多孔質支持体に直接溶射してもよいし、シート状や板状の多孔質支持体に溶射した後、これをチューブ状に成形してもよい。
なお、金属ガラス溶射皮膜は均一の膜厚に形成してもよいし、必要に応じて傾斜膜とすることもできる。
12 多孔質支持体
14 金属ガラス溶射被膜
16 細孔
30 溶射ガン
32 燃料パイプ
34 酸素パイプ
36 ガスフレーム
38 溶射材料供給パイプ
40 溶射粒子
42 基材
44 溶射皮膜
Claims (8)
- 多孔質支持体表面に、ピンホールのない金属ガラス溶射被膜が積層されていることを特徴とする複合積層体。
- 請求項1記載の複合積層体において、金属ガラス溶射被膜がガス選択透過性を有することを特徴とする複合積層体。
- 請求項2記載の複合積層体において、選択されるガスが水素であることを特徴とする複合積層体。
- 請求項1〜3の何れかに記載の複合積層体において、金属ガラス溶射被膜の厚みが1〜1000μmであることを特徴とする複合積層体。
- 請求項1〜4の何れかに記載の複合積層体において、多孔質支持体の細孔径が0.1〜1000μmの範囲であることを特徴とする複合積層体。
- 請求項1〜5の何れかに記載の複合積層体において、形状がチューブ状であることを特徴とする複合積層体。
- 請求項2〜6の何れかに記載の複合積層体を用いたガス分離膜。
- 多孔質支持体表面に金属ガラスを高速フレーム溶射し、多孔質支持体表面にピンホールのない金属ガラス溶射被膜を積層することを特徴とする複合積層体の製造方法。
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