JP6910313B2 - 高周波デバイスおよび空中線 - Google Patents

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Description

本発明は、ヒートスプレッダを有する高周波デバイスおよび空中線に関する。
マイクロ波帯、ミリ波帯などの高周波帯で動作する高周波回路などの発熱部品を搭載する高周波デバイスでは、発熱部品の性能低下、信頼性低下などを抑制するために、放熱性能を確保することが重要である。
特許文献1に開示される高周波デバイスである半導体パッケージは、表面側キャップ部と、表面側キャップ部に接続される裏面側キャップ部と、表面側キャップ部と裏面側キャップ部との間に形成される空間に封止される発熱部品である半導体チップとを有する。半導体チップの裏面電極と裏面側貫通電極とが熱的に接続されることで、半導体チップが発した熱が裏面側貫通電極を介して半導体パッケージの外に放熱される。
特開2013−207132号公報
しかしながら、特許文献1に記載の半導体パッケージは、裏面側貫通電極の断面積が半導体チップに設けられた裏面電極の表面積に比べて小さい。このため、半導体チップと裏面側キャップ部との間の熱抵抗が大きくなって、半導体チップで発生した熱が裏面側キャップ部に伝わりにくくなり、半導体パッケージの放熱性能が低下してしまう場合があるという問題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、放熱性能を向上させることが可能な高周波デバイスおよび空中線を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る高周波デバイスは、第1の多層樹脂基板と、第1の多層樹脂基板に設けられる発熱部品と、発熱部品に接する第1のヒートスプレッダと、第1のヒートスプレッダに接する第2のヒートスプレッダと、第2のヒートスプレッダに接する導電膜と、を備え、第1のヒートスプレッダは、発熱部品と第2のヒートスプレッダとの間に設けられ、第2のヒートスプレッダは、第1の多層樹脂基板と平行な面の面積が第1のヒートスプレッダよりも大きい。導電膜は、第1の多層樹脂基板のグランドビアホールと電気的に接続され、導電膜は、第2のヒートスプレッダと接する面の裏面に複数の凹凸を有する。
本発明によれば、高周波デバイスの放熱性能を向上させることが可能であるという効果を奏する。
本発明の実施の形態1にかかる高周波デバイスの断面構成を示す図 図1に示す高周波デバイスを備える空中線の断面構成を示す図 図1に示す高周波デバイスの機能構成を示す図 本発明の実施の形態2にかかる高周波デバイスの断面構成を示す図 図4に示す高周波デバイスを備える空中線の断面構成を示す図 本発明の実施の形態3にかかる高周波デバイスの断面構成を示す図
以下に、本発明の実施の形態に係る高周波デバイスおよび空中線を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る高周波デバイス100の断面構成を示す図である。高周波デバイス100は、マイクロ波帯、ミリ波帯などの高周波帯で動作する。マイクロ波帯で動作する高周波デバイス100は、マイクロ波デバイスとも呼ばれる。
高周波デバイス100は、第1の多層樹脂基板であるデバイス用の多層樹脂基板1と、多層樹脂基板1に設けられるIC(Integrated Circuit)4およびIC6と、IC4に接するヒートスプレッダ5と、IC6に接するヒートスプレッダ7と、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7に接するヒートスプレッダ9とを有する。IC4およびIC6は、高周波帯で動作する高周波回路であり、通電時に熱を発する発熱部品の一例である。具体的にはIC4は、ドライバ増幅器(Driver Amplifier:DA)であり、IC6は、高出力増幅器(High Power Amplifier:HPA)である。
ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7は、発熱部品に接する第1のヒートスプレッダの一例である。ヒートスプレッダ9は、第1のヒートスプレッダに接する第2のヒートスプレッダの一例である。ヒートスプレッダ5は、IC4が発する熱を効率的に伝えるように、ヒートスプレッダ5のIC4に接する面は、面全体がIC4に接するように設けられることが望ましい。同様に、ヒートスプレッダ7のIC6に接する面は、面全体がIC6に接するように設けられることが望ましい。またヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7の全面がヒートスプレッダ9に接するように設けられることが望ましい。高周波デバイス100は、チップ部品8をさらに有する。チップ部品8は、多層樹脂基板1のIC4およびIC6が設けられている面に表面実装されている。チップ部品8は、RF(Radio Frequency)重畳波を抑圧するバイパスキャパシタである。
多層樹脂基板1は、第1の板面1aと、第2の板面1bとを有する。多層樹脂基板1の第2の板面1bには、IC4およびIC6が設けられる。本明細書では、多層樹脂基板1上でIC4およびIC6が並ぶ方向をX軸方向とし、多層樹脂基板1の板厚方向をY軸方向とし、多層樹脂基板1の板面内方向であって、X軸方向およびY軸方向に直交する方向をZ軸方向とする。
多層樹脂基板1には、複数のグランドビアホール11と、信号ビアホール12と、信号ビアホール13とが形成されている。多層樹脂基板1の第1の板面1aには、グランドパターン19と、信号入出力端子20と、信号入出力端子21とが設けられている。多層樹脂基板1の第2の板面1bには、グランドパターン14と、信号線路15と、パッド16と、パッド17と、複数のパッド18とが設けられている。
グランドビアホール11、信号ビアホール12および信号ビアホール13は、多層樹脂基板1を板厚方向に貫通する孔である。信号線路15は、入力RF線路、ゲートバイアス供給線路、出力RF線路などである。
Y軸方向において、複数のグランドビアホール11のそれぞれの第1の板面1a側の端部は、グランドパターン19と電気的に接続されており、複数のグランドビアホール11のそれぞれの第2の板面1b側の端部は、グランドパターン14と電気的に接続されている。またY軸方向において、信号ビアホール12の第1の板面1a側の端部は、信号入出力端子20と電気的に接続されており、信号ビアホール12の第2の板面1b側の端部は、パッド16と電気的に接続されている。Y軸方向において、信号ビアホール13の第1の板面1a側の端部は、信号入出力端子21と電気的に接続されており、信号ビアホール13の第2の板面1b側の端部は、パッド17と電気的に接続されている。信号線路15は、チップ部品8と電気的に接続されている。
複数のグランドビアホール11は、多層樹脂基板1の外周に沿って、信号線路15と、パッド16と、パッド17と、パッド18と、信号入出力端子20および信号入出力端子21などの信号パッドと、信号ビアホール12と、信号ビアホール13とを取り囲むように形成されている。
IC4のY軸方向の一端面を第1端面4aと称し、他端面を第2端面4bと称する。IC4の第1端面4aには、入出力端子41および入出力端子42が設けられている。入出力端子41は、微細接合剤30を介してパッド16と電気的に接続される。入出力端子42は、微細接合剤30を介してパッド18と電気的に接続される。微細接合剤30は、導電性の銅ピラー、ソルダーボールなどである。IC4は、例えば複数の微細接合剤30を介して多層樹脂基板1にフリップチップ実装される。これによりIC4と多層樹脂基板1との間に空間を生じる。なお、この空間には、微細接合剤30が存在しない部分において、後述する封止部50が充填されている。
IC4の第2端面4bには、ヒートスプレッダ5が設けられている。ヒートスプレッダ5のY軸方向の一端面を第1端面5aと称し、他端面を第2端面5bと称する。IC4は、ヒートスプレッダ5の第1端面5aに接している。このため、IC4とヒートスプレッダ5とは熱的に接続されている。以下、第1の部品と第2の部品とが「熱的に接続されている」とは、第1の部品と第2の部品との間に断熱部材が存在せず、第1の部品と第2の部品との間で熱移動が生じる状態を言う。以下、第1の部品と第2の部品とが「熱的に接続されている」とは、第1の部品と第2の部品とが直接接している状態、または、第1の部品と第2の部品との間に伝熱性を有する部品が介在している状態などである。例えばIC4の第2端面4bは、ヒートスプレッダ5の第1端面5aに直接接触する。或いはIC4の第2端面4bは、熱導電性接着剤または放熱シートを介在してヒートスプレッダ5の第1端面5aに当接する。第2端面4bは、第1端面4aの裏面であり、XZ面に平行である。第2端面5bは、第1端面5aの裏面であり、XZ面に平行である。
IC6のY軸方向の一端面を第1端面6aと称し、他端面を第2端面6bと称する。IC6の第1端面6aには、入出力端子61および入出力端子62が設けられている。入出力端子61は、微細接合剤30を介してパッド18と電気的に接続される。入出力端子62は、微細接合剤30を介してパッド17と電気的に接続される。IC6は、例えば複数の微細接合剤30を介して多層樹脂基板1にフリップチップ実装される。これによりIC6と多層樹脂基板1との間に空間を生じる。なお、この空間には、微細接合剤30が存在しない部分において、後述する封止部50が充填されている。
IC6の第2端面6bには、ヒートスプレッダ7が設けられている。ヒートスプレッダ7のY軸方向の一端面を第1端面7aと称し、他端面を第2端面7bと称する。IC6は、ヒートスプレッダ7の第1端面7aに接している。このため、IC6とヒートスプレッダ7とは熱的に接続されている。例えばIC6の第2端面6bは、ヒートスプレッダ7の第1端面7aに直接接触する。或いはIC6の第2端面6bは、熱導電性接着剤または放熱シートを介在してヒートスプレッダ7の第1端面7aに当接してもよい。IC6の第2端面6bが、熱導電性接着剤または放熱シートを介在してヒートスプレッダ7の第1端面7aに当接するよりも、IC6の第2端末6bがヒートスプレッダ7の第1端面7aに直接接触する方が、熱抵抗を小さくすることができる。第2端面6bは、第1端面6aの裏面であり、XZ面に平行である。第2端面7bは、第1端面7aの裏面であり、XZ面に平行である。
ヒートスプレッダ5の第2端面5bと、ヒートスプレッダ7の第2端面7bとは、ヒートスプレッダ9の第1端面9aに接している。このため、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7と、ヒートスプレッダ9とが熱的に接続されている。例えば、ヒートスプレッダ5の第2端面5bおよびヒートスプレッダ7の第2端面7bのそれぞれは、ヒートスプレッダ9の第1端面9aに直接接触する。或いは、ヒートスプレッダ5の第2端面5bおよびヒートスプレッダ7の第2端面7bのそれぞれは、熱伝導性接着剤または放熱シートを介在してヒートスプレッダ9の第1端面9aに当接してもよい。ヒートスプレッダ5の第2端面5bおよびヒートスプレッダ7の第2端面7bのそれぞれが、熱伝導性接着剤または放熱シートを介在してヒートスプレッダ9の第1端面9aに当接するよりも、ヒートスプレッダ5の第2端面5bおよびヒートスプレッダ7の第2端面7bのそれぞれが、ヒートスプレッダ9の第1端面9aに直接接触する方が、熱抵抗を小さくすることができる。
ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9は、導電性を有し、伝熱性が高い。多層樹脂基板1と平行な面において、ヒートスプレッダ5の第1端面5aの面積は、IC4の第2端面4bの面積と同程度であり、ヒートスプレッダ7の第1端面7aの面積は、IC6の第2端面6bの面積と同程度である。またヒートスプレッダ9は、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7のそれぞれよりも、多層樹脂基板1に平行な面の面積が大きい。多層樹脂基板1に平行な面とは、XZ面に平行な面であり、多層樹脂基板1の第1の板面1aおよび第2の板面1bに平行な面である。
IC4およびIC6は、微細接合剤30を介して多層樹脂基板1に接合されている。IC4およびIC6が接合された多層樹脂基板1上には、封止部50が成形されている。封止部50は、モールド樹脂であり、IC4、IC6、ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7、ヒートスプレッダ9、チップ部品8、信号線路15、パッド16、パッド17およびパッド18を内部に含むように成形されている。IC4、IC6、ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9の周囲は、封止部50で覆われている。
第2端面4bを除くIC4の外周面は、封止部50で覆われている。第2端面6bを除くIC6の外周面は、封止部50で覆われている。第1端面5aおよび第2端面5bを除くヒートスプレッダ5の外周面は、封止部50で覆われている。第1端面7aおよび第2端面7bを除くヒートスプレッダ7の外周面は、封止部50で覆われている。第1端面9aの一部および第2端面9bを除くヒートスプレッダ9の外周面は、封止部50で覆われている。封止部50の成形方法は、従来から採用されている工法であり、高周波デバイス100を安価に製造することが可能である。
ヒートスプレッダ9の第2端面9bを、封止部50で覆うことなく露出させるために、ヒートスプレッダ9の第2端面9bと、封止部50の表面とが同一平面となるように、樹脂材を、IC4、IC6、ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9の周囲にモールド成形することができる。或いは、IC4、IC6、ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9の周囲に樹脂材をモールド成形した後、ヒートスプレッダ9の第2端面9bと封止部50の表面とが同一平面となるように、封止部50を研磨してもよい。
封止部50の表面およびヒートスプレッダ9の第2端面9bには、導電膜2が形成されている。導電膜2は、無電解メッキまたは導電性接着剤など導電性を有する被膜である。メッキ被膜の材料は、Ni(ニッケル)、銀などである。導電性接着剤は、銀粒子を含むエポキシ材料などである。なお導電膜2として無電解メッキを用いる場合は、封止部50とヒートスプレッダ9との境界付近に、導電性接着剤または薄膜導電金属シートを接触させて、封止部50とヒートスプレッダ9との境界領域における電気的接続および電磁遮蔽機能、つまりシールド機能を強化してもよい。導電膜2は、多層樹脂基板1のグランドパターン14を介してグランドビアホール11と電気的に接続されている。
多層樹脂基板1と導電膜2との間には、空間3が形成されており、空間3に封止部50が充填されている。多層樹脂基板1に設けられた導電膜2の内側面2aは、ヒートスプレッダ9の第2端面9bと熱的に接続される。多層樹脂基板1に設けられた導電膜2のY軸方向の端部は、グランドパターン14と電気的に接続される。
上記の高周波デバイス100では、信号入出力端子20に送信信号が入力される。信号入出力端子20に入力された送信信号であるRF信号は、信号ビアホール12、パッド16、微細接合剤30および入出力端子41を介して、IC4に入力される。IC4に入力されたRF信号は、入出力端子42、微細接合剤30、パッド18、微細接合剤30および入出力端子61を介して、IC6に入力される。IC6に入力されたRF信号は、入出力端子62、微細接合剤30、パッド17および信号ビアホール13を介して、信号入出力端子21に伝送される。
パッド16、信号ビアホール12および信号入出力端子20は、同軸構造の信号端子部84を構成する。パッド17、信号ビアホール13および信号入出力端子21は、同軸構造の信号端子部85を構成する。
図2は、図1に示す高周波デバイス100を備える空中線500の断面構成を示す図である。図2に示す空中線500は、高周波モジュール200と、放熱板140と、弾性を有する放熱シート150と、制御基板160とを備える。高周波モジュール200、放熱シート150、放熱板140および制御基板160は、Y軸方向に記載された順で配置されており、放熱板140は、放熱シート150と制御基板160との間に設けられている。
高周波モジュール200は、第2の多層樹脂基板であるモジュール用の多層樹脂基板110と、複数の高周波デバイス100と、制御用IC120と、チップ部品130と、複数のアンテナ素子210とを備える。高周波モジュール200の備える高周波デバイス100がマイクロ波デバイスである場合、高周波モジュール200は、マイクロ波モジュールとも呼ばれる。
多層樹脂基板110の一端面を第1の板面110aと称し、他端面を第2の板面110bと称する。複数の高周波デバイス100と制御用IC120とチップ部品130とは、多層樹脂基板110の第1の板面110aに設けられている。制御用IC120およびチップ部品130は、多層樹脂基板110に表面実装されている。チップ部品130は、抵抗、コンデンサなどである。複数のアンテナ素子210は、多層樹脂基板110の第2の板面110bに設けられている。
放熱シート150は、Y軸方向の一端面が放熱板140に接しており、Y軸方向の他端面が複数の高周波デバイス100の導電膜2に接している。放熱シート150は、高い弾性力を有すると共に高い熱伝導性を有するシートである。放熱シート150の弾性率は、高周波デバイス100が放熱シート150と接触する面である導電膜2の弾性率よりも小さいことが望ましい。放熱シート150の材料は、カーボン、銀などの高熱伝導材が埋め込まれたシリコンゴムなどである。
多層樹脂基板110および制御基板160は、放熱シート150および放熱板140を介して、第1のコネクタである電源制御コネクタ170と、第2のコネクタであるRFコネクタ180とにより相互に接続されている。
多層樹脂基板110は、Y軸方向に圧力が加えられながら放熱板140にねじなどの固定部品を用いて固定されているため、高周波デバイス100の導電膜2が弾性を有する放熱シート150に押し当てられた状態となる。このような構成をとることで、高周波デバイス100の導電膜2、放熱シート150および放熱板140が熱的に接続される。
多層樹脂基板110には、同軸構造の信号端子部115および信号端子部121と、内層信号線路であるRF伝送線路116およびRF伝送線路117とが設けられている。RFコネクタ180と高周波デバイス100とは、RF伝送線路116および信号端子部115を介して相互に接続される。アンテナ素子210と高周波デバイス100とは、RF伝送線路117および信号端子部121を介して相互に接続されている。
制御基板160では、高周波モジュール200に供給される電源と制御信号とが生成される。制御基板160で生成された電源および制御信号は、電源制御コネクタ170を介して多層樹脂基板110上の高周波デバイス100に入力される。
高周波モジュール200の送信入力信号であるRF信号および高周波モジュール200の受信出力信号であるRF信号は、RFコネクタ180を介して、アンテナ素子210と送受信機600との間で伝送され、またはアンテナ素子210と分配合成回路700との間で伝送される。送受信機600と分配合成回路700との間の接続順は任意である。
送受信機600から出力されるRF送信信号は、RFコネクタ180と、RF伝送線路116と、信号端子部115とを介して、図1に示す信号入出力端子20に伝送される。図1に示す信号入出力端子21から出力されたRF送信信号は、RF伝送線路117を介してアンテナ素子210へ伝送され、アンテナ素子210から出力される。
アンテナ素子210で受信されたRF受信信号は、RF伝送線路117を介して、図1に示す信号入出力端子21へ伝送され、図1に示す信号入出力端子20およびRFコネクタ180を介して、送受信機600に伝送される。
本実施の形態では、多層樹脂基板110の第1の板面110aに複数の高周波デバイス100が設けられ、第2の板面110bにアンテナ素子210が設けられている。このため、アンテナ一体型の高周波モジュール200を実現することができ、部品点数を削減することができる。
図3は、図1に示す高周波デバイス100の機能構成を示す図である。高周波モジュール200には、複数の高周波デバイス100が設けられている。複数の高周波デバイス100のそれぞれには、アンテナ素子210および送受信機600が接続されている。
複数の高周波デバイス100のそれぞれは、上述した高出力増幅器HPAおよびドライバ増幅器DA以外にも、低雑音増幅器LNA(Low Noise Amplifier)、サーキュレータCIR(CIrculatoR)、移相器PS(Phase Shifter)などを備える。送受信機600から出力されるRF送信信号は、移相器PS、ドライバ増幅器DA、高出力増幅器HPAおよびサーキュレータCIRを介して、アンテナ素子210に伝送される。アンテナ素子210で受信されたRF受信信号は、サーキュレータCIR、低雑音増幅器LNAおよび移相器PSを介して、送受信機600に伝送される。移相器PSは、送受信機600側の送受切替回路であり、サーキュレータCIRは、アンテナ素子210側の送受切替回路である。ここで、アンテナ素子210側の送受切替回路には、サーキュレータCIRの代わりにスイッチSW(SWitch)が用いられてもよい。
以上説明したように本発明の実施の形態1にかかる高周波デバイス100は、第1の多層樹脂基板である多層樹脂基板1と、第1の多層樹脂基板に設けられる発熱部品であるIC4およびIC6と、発熱部品に接する第1のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ5,7と、第1のヒートスプレッダに接する第2のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ9とを有する。ヒートスプレッダ5はIC4とヒートスプレッダ9との間に配置され、ヒートスプレッダ7はIC6とヒートスプレッダ9との間に配置される。ヒートスプレッダ9は、多層樹脂基板1と平行な面の面積が、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7のそれぞれよりも大きい。このため、発熱部品であるIC4およびIC6が発した熱は、第1のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ5または7を介して、第2のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ9に伝わる。また、ヒートスプレッダ9が放熱面と接触することによって、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7のそれぞれを放熱面と直接接触させるよりも、放熱面との接触面積を大きくすることが可能になる。したがって、放熱性能を向上させることが可能になる。
なお、高周波デバイス100を製造する際には、ヒートスプレッダ5上にIC4を搭載した後、反転させて、多層樹脂基板1にフリップチップ実装を行う。同様に、ヒートスプレッダ7上にIC6を搭載した後、反転させて、多層樹脂基板1にフリップチップ実装を行う。このように多層樹脂基板1上に複数の高周波回路が搭載される場合、1つのヒートスプレッダに複数の高周波回路を搭載した後、フリップチップ実装を行うと、多層樹脂基板1の接続パッドの位置と高周波回路の位置とを合わせることが困難になる。したがって、多層樹脂基板1の接続パッドにずれなくフリップチップ実装するために、1つの高周波回路に対して1つのヒートスプレッダを設けることが望ましい。この場合、実装スペースの制約から、高周波回路と直接接する第1のヒートスプレッダのサイズを大きくすることは困難である。このため、本実施の形態では、高周波回路と直接接する第1のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ5,7の面積を大きくするのではなく、第1のヒートスプレッダと接し、第1のヒートスプレッダよりも面積が大きい第2のヒートスプレッダを設けた。
また本発明の実施の形態1にかかる高周波デバイス100は、複数の発熱部品であるIC4およびIC6と、IC4およびIC6のそれぞれに対応して設けられる複数の第1のヒートスプレッダであるヒートスプレッダ5,7とを備える。ヒートスプレッダ5,7のそれぞれは、対応する発熱部品であるIC4およびIC6のそれぞれに接し、ヒートスプレッダ9は、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7に接している。このように複数の発熱部品が搭載されており、発熱部品の面積と同程度の面積のヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7を放熱面に直接接触させると、接触熱抵抗が大きく放熱性能が低下してしまうような場合であっても、ヒートスプレッダ9を使用することで、放熱面との接触面積を大きくすることが可能になり、放熱性能を向上させることが可能になる。
また、複数の高周波デバイス100の間で高さにばらつきがあったり、多層樹脂基板110が反っていたり、高周波デバイス100と多層樹脂基板110との接合層の高さにばらつきがあったりして、複数の高周波デバイス100のそれぞれの導電膜2のY軸方向の位置が異なる場合であっても、放熱シート150が弾性を有しているため、導電膜2と放熱シート150との間を熱的に接続することができる。
また高周波デバイス100は、IC4、IC6、ヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9の周囲が封止部50で覆われている。このため、高周波デバイス100が放熱シート150に押し付けられた状態で固定された場合でも、導電膜2を介してIC4およびIC6に加えられる圧力が封止部50にも分散され、IC4およびIC6に設けられた端子に加わる機械的なストレスが軽減される。したがって、IC4およびIC6と放熱シート150との間の熱抵抗を低下させるために高周波デバイス100が放熱シート150に押し付けられた状態で固定された場合でも、多層樹脂基板1とIC4およびIC6との機械的な接続強度の低下を抑制することができ、高周波デバイス100の寿命の低下を抑制することができる。
また高周波デバイス100では、封止部50およびヒートスプレッダ9の周囲が導電膜2で覆われ、多層樹脂基板1のグランドビアホール11と導電膜2とが電気的に接続され、さらに同軸構造の信号端子部84および信号端子部85が、多層樹脂基板110に形成された同軸構造の信号端子部115および信号端子部121のそれぞれと接続されている。このため、IC4およびIC6から放射された電磁波は、高周波デバイス100の内部に閉じ込められる。したがって、多層樹脂基板110の全体をシールドで覆う必要がなく、構造を簡単にすることができる。
また高周波デバイス100では、複数の発熱部品であるIC4およびIC6が、高周波デバイス100に格納されている。この場合、高周波デバイス100のサイズは10mm角程度になる。ここで、導電性材料で覆われるパッケージ内にヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9が設けられていない場合、共振周波数は10GHz帯近くまで低下する。具体的には、10mm×10mm×1mmのモールド樹脂である封止部50の外周の全体を導体で覆い、封止部50の誘電率が3.5である場合、最低次の共振周波数は11.33GHzである。実施の形態1では、グランド電位の導電性のヒートスプレッダ5、ヒートスプレッダ7およびヒートスプレッダ9によってパッケージ内が短絡されるため、共振周波数を動作周波数よりも高く設定することが可能になる。したがって、高周波デバイス100内部でのRF信号結合による発振を抑制することができる。
また高周波デバイス100とアンテナ素子210との間の損失は最小化することが望ましいのに対して、高周波デバイス100と送受信機600との間では一定の損失が許容される。このため、空中線500の製造時においては、RF線路を多層樹脂基板110内に引き回して配線し、放熱性能への影響が小さい位置で複数のRFコネクタ180をまとめた後に、放熱板140に貫通させることができる。このような構成をとることで、ヒートスプレッダ9の放熱性能を優先した放熱板140の設計が可能になる。また空中線500の仕様によっては、多層樹脂基板110内でRF信号の伝送経路を分配および合成することによって、放熱板140に貫通するRFコネクタ数を低減させることができる。
また空中線500では、放熱板140、高周波モジュール200およびアンテナ素子210が層状に配置されているため、空中線500の厚み方向であるY軸方向の大きさを低減することができ、小型かつ軽量な空中線500を実現することが可能である。
実施の形態2.
図4は、本発明の実施の形態2にかかる高周波デバイス100−1の断面構成を示す図である。高周波デバイス100−1は、高周波デバイス100のヒートスプレッダ7の代わりに、ヒートスプレッダ7Aを有し、高周波デバイス100のIC6の代わりに、第1の半導体基板320および第2の半導体基板310を含む発熱部品を有する。以下、高周波デバイス100と異なる点について主に説明する。
第1の半導体基板320には、窒化ガリウムなどを材料とするトランジスタが設けられ、第2の半導体基板310には、ガリウムヒ素などを材料とする整合回路が設けられる。第1の半導体基板320に設けられるトランジスタは、高耐電力および高電圧の電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタなど高出力高周波信号を増幅出力するトランジスタである。第2の半導体基板310にはトランジスタが設けられてもよいが、第1の半導体基板320よりも低電圧のトランジスタが設けられるので、第1の半導体基板320よりも第2の半導体基板310の方が発熱量が低い。
第1の半導体基板320は、Y軸方向の一端面がヒートスプレッダ7Aと接しており、ヒートスプレッダ7Aと熱的に接続されている。第1の半導体基板320のY軸方向の他端面には、信号パッド320aが設けられている。
第2の半導体基板310は、一端面に信号パッド310aが設けられている。信号パッド310aは、第1の半導体基板320に設けられた信号パッド320aと微細接合剤330を用いてフリップチップ接合される。第2の半導体基板310の信号パッド310aが設けられる一端面には、導電性の表面パターン313および表面パターン314が形成されている。また第2の半導体基板310には、板厚方向に貫通するスルーホール315およびスルーホール316が設けられている。表面パターン313の一端は信号パッド310aに接続され、他端はスルーホール315の一端に接続される。スルーホール315の他端は、第2の半導体基板310の他端面に設けられた入出力端子311に接続される。入出力端子311は、微細接合剤30を用いて多層樹脂基板1上のパッド18と接続される。表面パターン314の一端は信号パッド310aに接続され、他端はスルーホール316の一端に接続される。スルーホール316の他端は、第2の半導体基板310の他端面に設けられた入出力端子312に接続される。入出力端子312は、微細接合剤30を用いて、多層樹脂基板1上のパッド17と接続される。
第2の半導体基板310に設けられた入出力端子311は、スルーホール315を介して表面パターン313と電気的に接続される。また入出力端子311は、微細接合剤30を介して、多層樹脂基板1上のパッド18と電気的に接続される。
第2の半導体基板310に設けられた入出力端子312は、スルーホール316を介して表面パターン314と電気的に接続される。また入出力端子312は、微細接合剤30を介して、多層樹脂基板1上のパッド17と電気的に接続される。
図5は、図4に示す高周波デバイス100−1を備える空中線500−1の断面構成を示す図である。空中線500−1は、空中線500の高周波モジュール200の代わりに、高周波デバイス100−1を有する高周波モジュール200−1を備える。
高周波モジュール200−1は、アンテナ基板450と、導電性シャーシ420と、多層樹脂基板110とを備える。導電性シャーシ420には、部品実装部となる溝部421が形成される。導電性シャーシ420を削出して溝部421を形成してもよいし、穴の開いた複数の基板を積層して、複数の基板を蝋付けまたは拡散接合することで導電性シャーシ420を形成し、複数の基板に設けられた複数の穴が連通して形成される空間を溝部421としてもよいし、金属粉の焼結による3次元造形によって溝部421を有する導電性シャーシ420を形成してもよい。アンテナ基板450、導電性シャーシ420および多層樹脂基板110は、Y軸方向にアンテナ基板450、導電性シャーシ420、多層樹脂基板110の順で配置される。
多層樹脂基板110の第1の板面110aには、複数の高周波デバイス100−1と、制御用IC120と、チップ部品130とが設けられている。多層樹脂基板110の第2の板面110bには、複数のサーキュレータ400と、制御IC410とが表面実装されている。サーキュレータ400は、導電性シャーシ420の溝部421に格納され、多層樹脂基板110の第2の板面110b上のグランド面と導電性シャーシ420とを電気的に接続することにより、シールド構造になる。
導電性シャーシ420には、RFコネクタ470が設けられ、アンテナ基板450に設けられたアンテナ素子210は、RFコネクタ470と電気的に接続される。多層樹脂基板110には、内層信号線路であるRF伝送線路118およびRF伝送線路119が設けられている。サーキュレータ400は、RF伝送線路118を介してRFコネクタ470に接続される。またサーキュレータ400は、RF伝送線路119を介して高周波デバイス100−1に接続される。
以上説明したように、本発明の実施の形態2にかかる高周波デバイス100−1は、実施の形態1における発熱部品であるIC6の代わりに、第1の半導体基板320および第2の半導体基板310から構成される発熱部品が設けられる。その他の構成については実施の形態1と同様であり、本実施の形態においても、ヒートスプレッダ9が放熱面と接触することになり、ヒートスプレッダ5およびヒートスプレッダ7のそれぞれを放熱面と直接接触させるよりも、放熱面との接触面積を大きくすることが可能になる。したがって、放熱性能を向上させることが可能になる。
高周波デバイス100−1では、第1の半導体基板320にトランジスタのみ実装されているため、チップ面積を小さくすることができる。また第2の半導体基板310に整合回路が構成されているため、第1の半導体基板320にトランジスタ整合回路がモノリシックに製造される図1のIC6と比較して、高周波デバイス100−1の製造コストを低減することが可能である。
空中線500−1では、高周波デバイス100−1の外部にサーキュレータ400が用いられている。サーキュレータ400は、多層樹脂基板110のY軸方向の他端面、つまり多層樹脂基板110のアンテナ素子210が設けられる側の面に設けられている。このような構成によってアンテナ素子210が設けられる面における負荷インピーダンスの変動に起因するIC4のと特性変化を低減することができる。
また、空中線500−1のサーキュレータ400は、導電性シャーシ420に設けられる溝部421に格納されているが、高周波デバイス100および高周波デバイス100−1と同様のシールド構造をサーキュレータ400に施すことにより、導電性シャーシ420の溝部421のシールド構造を簡易化することができる。またサーキュレータ400を高周波デバイス100−1と同一面に実装することで、溝部421を省略することも可能である。
空中線500−1では、アンテナ素子210と放熱板140との間に多層樹脂基板110が配置される。このため、多層樹脂基板110とアンテナ基板450との間に放熱板140が配置される場合と比較して、RF配線およびRFコネクタ180を配置する際の制約が軽減され、放熱性能が向上する。
実施の形態3.
図6は、本発明の実施の形態3にかかる高周波デバイス100−2の断面構成を示す図である。高周波デバイス100−2の構成は、実施の形態1にかかる高周波デバイス100と導電膜2の表面形状が異なり、その他の構成要素については同様であるため、ここでは説明を省略し、差異点について主に説明する。また、高周波デバイス100の代わりに高周波デバイス100−2を使用した空中線500を構成することも可能である。
導電膜2のヒートスプレッダ9と接している面の裏面は、複数の凹凸を有する。凹凸は、導電膜2の表面の全体に渡って設けられることが望ましい。放熱シート150との接触面積を拡大するために、導電膜2には細かい凹凸が多数設けられることが望ましい。このような構成をとることで、放熱シート150との接触面積が拡大し、ヒートスプレッダ9と放熱シート150の接触熱抵抗をさらに低減することが可能になる。したがって、IC4およびIC6で発生した熱を効率的に放熱板140へ伝えることができる。
以上の実施の形態に示した構成は、本発明の内容の一例を示すものであり、別の公知の技術と組み合わせることも可能であるし、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、構成の一部を省略、変更することも可能である。
1,110 多層樹脂基板、1a,110a 第1の板面、1b,110b 第2の板面、2 導電膜、2a 内側面、3 空間、4,6 IC、4a,5a,6a,7a,9a 第1端面、4b,5b,6b,7b,9b 第2端面、5,7,7A,9 ヒートスプレッダ、8,130 チップ部品、11 グランドビアホール、12,13 信号ビアホール、14,19 グランドパターン、15 信号線路、16,17,18 パッド、20,21 信号入出力端子、30,330 微細接合剤、41,42,61,62,311,312 入出力端子、50 封止部、84,85,115,121 信号端子部、100,100−1,100−2 高周波デバイス、116,117,118,119 RF伝送線路、120 制御用IC、140 放熱板、150 放熱シート、160 制御基板、170 電源制御コネクタ、180,470 RFコネクタ、200,200−1 高周波モジュール、210 アンテナ素子、310 第2の半導体基板、310a,320a 信号パッド、313,314 表面パターン、315,316 スルーホール、320 第1の半導体基板、400,CIR サーキュレータ、410 制御IC、420 導電性シャーシ、421 溝部、450 アンテナ基板、500,500−1 空中線、600 送受信機、700 分配合成回路、DA ドライバ増幅器、HPA 高出力増幅器、LNA 低雑音増幅器、PS 移相器。

Claims (12)

  1. 第1の多層樹脂基板と、
    前記第1の多層樹脂基板に設けられる発熱部品と、
    前記発熱部品に接する第1のヒートスプレッダと、
    前記第1のヒートスプレッダに接する第2のヒートスプレッダと、
    前記第2のヒートスプレッダに接する導電膜と、
    を備え、
    前記第1のヒートスプレッダは、前記発熱部品と前記第2のヒートスプレッダとの間に設けられ、
    前記導電膜は、前記第1の多層樹脂基板のグランドビアホールと電気的に接続され、
    前記導電膜は、前記第2のヒートスプレッダと接する面の裏面に複数の凹凸を有し、
    前記第2のヒートスプレッダは、前記第1の多層樹脂基板と平行な面の面積が前記第1のヒートスプレッダよりも大きいことを特徴とする高周波デバイス。
  2. 複数の前記発熱部品と、
    複数の前記発熱部品のそれぞれに対応して設けられる複数の前記第1のヒートスプレッダと、
    を備え、
    複数の前記第1のヒートスプレッダのそれぞれは、対応する前記発熱部品に接し、
    前記第2のヒートスプレッダは、複数の前記第1のヒートスプレッダに接することを特徴とする請求項1に記載の高周波デバイス。
  3. 前記発熱部品は、高周波帯で動作する高周波回路であることを特徴とする請求項1に記載の高周波デバイス。
  4. 前記発熱部品は、前記第1のヒートスプレッダに接する第1の半導体基板と、前記第1の半導体基板と前記第1の多層樹脂基板との間に設けられる第2の半導体基板とを含むことを特徴とする請求項1に記載の高周波デバイス。
  5. 前記第1の半導体基板には、トランジスタが設けられていることを特徴とする請求項4に記載の高周波デバイス。
  6. 前記トランジスタは、窒素ガリウムから形成されていることを特徴とする請求項5に記載の高周波デバイス。
  7. 前記第2の半導体基板には、ガリウムヒ素から形成される回路が設けられることを特徴とする請求項4から6のいずれか1項に記載の高周波デバイス。
  8. 前記発熱部品、前記第1のヒートスプレッダ、および前記第2のヒートスプレッダの周囲を覆う樹脂、
    をさらに備えることを特徴とする請求項1からのいずれか1項に記載の高周波デバイス。
  9. 第1の多層樹脂基板と、前記第1の多層樹脂基板に設けられる発熱部品と、前記発熱部品に接する第1のヒートスプレッダと、前記第1のヒートスプレッダに接する第2のヒートスプレッダと、を備える高周波デバイスと、
    前記高周波デバイスと電気的に接続される第2の多層樹脂基板と、
    前記高周波デバイスの前記第2のヒートスプレッダに接する放熱シートと、
    前記放熱シートに接する放熱板と、
    前記高周波デバイスと電気的に接続される制御基板と、
    前記高周波デバイスと電気的に接続され、高周波信号を送受信する送受信機と、
    を備え
    前記第1のヒートスプレッダは、前記発熱部品と前記第2のヒートスプレッダとの間に設けられ、
    前記第2のヒートスプレッダは、前記第1の多層樹脂基板と平行な面の面積が前記第1のヒートスプレッダよりも大きく、
    前記放熱板は、前記放熱シートと前記制御基板との間に設けられることを特徴とする空中線。
  10. 前記放熱シートの弾性率は、前記高周波デバイスが前記放熱シートに接触する面の弾性率よりも小さいことを特徴とする請求項に記載の空中線。
  11. 導電性シャーシと、
    複数のアンテナ素子を有するアンテナ基板と、
    を備え、
    前記第2の多層樹脂基板は、前記高周波デバイスと前記導電性シャーシとの間に設けられ、
    前記導電性シャーシは、前記第2の多層樹脂基板と前記アンテナ基板との間に設けられ、
    複数の前記アンテナ素子は、前記高周波デバイスを介して、前記送受信機と接続されることを特徴とする請求項に記載の空中線。
  12. 前記導電性シャーシは、前記第2の多層樹脂基板に実装された部品を格納する溝部を有し、
    前記導電性シャーシの前記溝部が形成される面は、前記第2の多層樹脂基板のグランド面に接し、
    複数の前記アンテナ素子は、前記導電性シャーシに設けられた高周波コネクタと、前記高周波デバイスとを介して、前記送受信機と相互に接続されることを特徴とする請求項11に記載の空中線。
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